JP3020753B2 - 電子ビーム連続照射設備 - Google Patents
電子ビーム連続照射設備Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電子ビーム連続照射
設備に関し、とくに連続して走行する金属ストリップ
(以下ストリップと記述する)に対して、効果的な電子
ビームの連続照射を可能ならしめようとするものであ
る。
設備に関し、とくに連続して走行する金属ストリップ
(以下ストリップと記述する)に対して、効果的な電子
ビームの連続照射を可能ならしめようとするものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、電磁鋼板の鉄損特性を改善する技
術として磁区細分化技術が脚光を浴びている。かかる磁
区細分化技術の一つとして、電磁鋼板の表面、あるいは
セラミック被膜さらには絶縁被膜を被成した電磁鋼板の
表面に、電子ビームを照射することによって局部的な微
小歪を導入し、もって磁区の細分化を図る技術が知られ
ている(例えば特開昭63-96218号公報、同63−186826号
公報、特開平1−281708号公報、特公平2-40724号公
報)。しかしながら上記の技術はいずれも、実験室レベ
ルでのテストであり、切り板をバッチ式真空室に入れて
電子ビーム照射を行ったものがほとんどであった。
術として磁区細分化技術が脚光を浴びている。かかる磁
区細分化技術の一つとして、電磁鋼板の表面、あるいは
セラミック被膜さらには絶縁被膜を被成した電磁鋼板の
表面に、電子ビームを照射することによって局部的な微
小歪を導入し、もって磁区の細分化を図る技術が知られ
ている(例えば特開昭63-96218号公報、同63−186826号
公報、特開平1−281708号公報、特公平2-40724号公
報)。しかしながら上記の技術はいずれも、実験室レベ
ルでのテストであり、切り板をバッチ式真空室に入れて
電子ビーム照射を行ったものがほとんどであった。
【0003】これに対し、ストリップの連続的処理を目
的として、特開昭64-230号公報、特開平3-87319号公報
及び同4−131376号公報に示されるような差圧室の利用
が考えられている。しかしながらかような設備について
も、実験室レベルを脱せず、実生産を効率的に行う上で
必要な前後設備については、その必要機能を含めて実際
的な検討は全く行われていないのが現状である。
的として、特開昭64-230号公報、特開平3-87319号公報
及び同4−131376号公報に示されるような差圧室の利用
が考えられている。しかしながらかような設備について
も、実験室レベルを脱せず、実生産を効率的に行う上で
必要な前後設備については、その必要機能を含めて実際
的な検討は全く行われていないのが現状である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記の実
情に鑑み開発されたもので、素材ストリップの特性や電
子ビーム照射処理の特性を考慮し、実生産を可能ならし
める電子ビーム連続照射設備を提案することを目的とす
る。
情に鑑み開発されたもので、素材ストリップの特性や電
子ビーム照射処理の特性を考慮し、実生産を可能ならし
める電子ビーム連続照射設備を提案することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわちこの発明の要旨
構成は次のとおりである。 1.ストリップを水平かつ平坦な状態で連続的に真空室
に導入して連続的に電子ビームを照射する電子ビーム照
射室とその前後に設置した差圧式真空シール装置とで電
子ビーム照射装置を構成し、その上流及び下流側にそれ
ぞれ、該電子ビーム照射装置に対するストリップの連続
的な導通を司るペイオフリール及びテンションリールを
配設すると共に、該ペイオフリール及びテンションリー
ルの近傍にそれぞれ入側シャー及び出側シャーを設け、
かつ該入側シャーの下流に溶接機を配設したことを特徴
とする電子ビーム連続照射設備(第1発明)。
構成は次のとおりである。 1.ストリップを水平かつ平坦な状態で連続的に真空室
に導入して連続的に電子ビームを照射する電子ビーム照
射室とその前後に設置した差圧式真空シール装置とで電
子ビーム照射装置を構成し、その上流及び下流側にそれ
ぞれ、該電子ビーム照射装置に対するストリップの連続
的な導通を司るペイオフリール及びテンションリールを
配設すると共に、該ペイオフリール及びテンションリー
ルの近傍にそれぞれ入側シャー及び出側シャーを設け、
かつ該入側シャーの下流に溶接機を配設したことを特徴
とする電子ビーム連続照射設備(第1発明)。
【0006】2.上記1において、溶接機が突き合わせ
溶接機である電子ビーム連続照射設備。
溶接機である電子ビーム連続照射設備。
【0007】3.上記1又は2において、電子ビーム照
射装置の入側及び出側にそれぞれ少なくとも1組のブラ
イドルロールを設けてなる電子ビーム連続照射設備(第
2発明)。
射装置の入側及び出側にそれぞれ少なくとも1組のブラ
イドルロールを設けてなる電子ビーム連続照射設備(第
2発明)。
【0008】4.上記1,2又は3において、電子ビー
ム照射装置の入側に少なくとも1台のストリップセンタ
リング設備を配設してなる電子ビーム連続照射設備(第
3発明)。
ム照射装置の入側に少なくとも1台のストリップセンタ
リング設備を配設してなる電子ビーム連続照射設備(第
3発明)。
【0009】5.上記1,2,3又は4において、電子
ビーム照射装置の入側にストリップ前処理装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備(第4発明)。
ビーム照射装置の入側にストリップ前処理装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備(第4発明)。
【0010】6.上記5において、ストリップ前処理装
置がサイドトリマである電子ビーム連続照射設備。
置がサイドトリマである電子ビーム連続照射設備。
【0011】7.上記5において、ストリップ前処理装
置が乾燥装置である電子ビーム連続照射設備。
置が乾燥装置である電子ビーム連続照射設備。
【0012】8.上記1〜7のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の出側にストリップの検査装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備(第5発明)。
ビーム照射装置の出側にストリップの検査装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備(第5発明)。
【0013】9. 上記8において、ストリップの検査装
置が連続鉄損測定装置である電子ビーム連続照射設備。
置が連続鉄損測定装置である電子ビーム連続照射設備。
【0014】10. 上記8において、ストリップの検査装
置が表面疵検査装置である電子ビーム連続照射設備。
置が表面疵検査装置である電子ビーム連続照射設備。
【0015】11. 上記1〜10のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の入側及び出側にそれぞれストリップ・
ルーピング設備を設置してなる電子ビーム連続照射設備
(第6発明)。
ビーム照射装置の入側及び出側にそれぞれストリップ・
ルーピング設備を設置してなる電子ビーム連続照射設備
(第6発明)。
【0016】12. 上記1〜11のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の電子ビーム照射室とその前後に設置し
た差圧式真空シール装置との間にそれぞれX線遮蔽装置
を配設してなる電子ビーム連続照射設備(第7発明)。
ビーム照射装置の電子ビーム照射室とその前後に設置し
た差圧式真空シール装置との間にそれぞれX線遮蔽装置
を配設してなる電子ビーム連続照射設備(第7発明)。
【0017】13. 上記1〜12のいずれかにおいて、電子
ビーム照射室がアイドルターゲットをそなえてなる電子
ビーム連続照射設備(第8発明)。
ビーム照射室がアイドルターゲットをそなえてなる電子
ビーム連続照射設備(第8発明)。
【0018】14. 上記8〜12のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置とストリップの検査装置は階上に配設す
る一方、他の装置は階下に配設する2階構造とし、しか
もペイオフリールとテンションリールを近接配置として
なる電子ビーム連続照射設備。
ビーム照射装置とストリップの検査装置は階上に配設す
る一方、他の装置は階下に配設する2階構造とし、しか
もペイオフリールとテンションリールを近接配置として
なる電子ビーム連続照射設備。
【0019】図1に、この発明に従う電子ビーム連続照
射設備の好適例を模式で示す。図中、番号1が電子ビー
ム照射装置であり、この設備は電子ビーム照射室2とそ
の前後に設置した差圧式真空シール装置3,3′からな
る。4はペイオフリール、5はテンションリールであ
り、6,6′はそれぞれペイオフリール4、テンション
リール5の近傍に設けた入側シャー及び出側シャー、そ
して7が入側シャー6の下流に設けた溶接機である。
8,8′はブライドルロール、9はストリップセンタリ
ング設備、10はストリップ前処理装置、11はストリップ
検査装置であり、12, 12′はストリップ・ルーピング設
備、13, 13′はX線遮蔽装置である。
射設備の好適例を模式で示す。図中、番号1が電子ビー
ム照射装置であり、この設備は電子ビーム照射室2とそ
の前後に設置した差圧式真空シール装置3,3′からな
る。4はペイオフリール、5はテンションリールであ
り、6,6′はそれぞれペイオフリール4、テンション
リール5の近傍に設けた入側シャー及び出側シャー、そ
して7が入側シャー6の下流に設けた溶接機である。
8,8′はブライドルロール、9はストリップセンタリ
ング設備、10はストリップ前処理装置、11はストリップ
検査装置であり、12, 12′はストリップ・ルーピング設
備、13, 13′はX線遮蔽装置である。
【0020】以下、各発明について具体的に説明する。第1発明 第1発明は、水平かつ平坦な状態で連続的に真空室に導
入したストリップsに連続的に電子ビームを照射する電
子ビーム照射室2とその前後に設置した差圧式真空シー
ル装置3,3′とで構成した電子ビーム照射装置1の上
流及び下流側にそれぞれ、ペイオフリール4及びテンシ
ョンリール5を配設すると共に、これらペイオフリール
4及びテンションリール5の近傍にそれぞれ入側シャー
6、出側シャー6′を設け、かつこの入側シャー6の下
流に溶接機7を配設したものである。このような構成と
することにより、ストリップsの連続的な巻戻し、巻取
りが可能となり、もって電子ビーム照射装置1に対する
ストリップsの安定した導通が実現される。また、先行
ストリップと後続するストリップの接続が可能となり、
ひいては多数のストリップコイルの連続処理が実現され
る。
入したストリップsに連続的に電子ビームを照射する電
子ビーム照射室2とその前後に設置した差圧式真空シー
ル装置3,3′とで構成した電子ビーム照射装置1の上
流及び下流側にそれぞれ、ペイオフリール4及びテンシ
ョンリール5を配設すると共に、これらペイオフリール
4及びテンションリール5の近傍にそれぞれ入側シャー
6、出側シャー6′を設け、かつこの入側シャー6の下
流に溶接機7を配設したものである。このような構成と
することにより、ストリップsの連続的な巻戻し、巻取
りが可能となり、もって電子ビーム照射装置1に対する
ストリップsの安定した導通が実現される。また、先行
ストリップと後続するストリップの接続が可能となり、
ひいては多数のストリップコイルの連続処理が実現され
る。
【0021】ここに、ストリップの真空室への導入状態
を水平かつ平坦な状態に限定したのは、被処理材が破断
し易いけい素鋼板の場合は平坦パスとすることが、また
電子銃による板面走査の精度、確率の面からは水平・平
坦パスが不可欠だからである。なお、溶接機としては、
レーザビーム溶接機のような突き合わせ溶接機が好適で
ある。というのは、電子ビーム照射装置1の差圧シール
機構としては、シールバー方式及びピンチロール方式が
考えられるが、いずれにしても高度な真空を保つために
は、そのギャップ設定は最小限に止める必要があり、こ
の観点からは溶接部における板厚変動が小さい突き合わ
せ溶接が最適だからである。なおピンチロール方式に限
って言えば、ナローラップシーム溶接までは通板可能で
ある。
を水平かつ平坦な状態に限定したのは、被処理材が破断
し易いけい素鋼板の場合は平坦パスとすることが、また
電子銃による板面走査の精度、確率の面からは水平・平
坦パスが不可欠だからである。なお、溶接機としては、
レーザビーム溶接機のような突き合わせ溶接機が好適で
ある。というのは、電子ビーム照射装置1の差圧シール
機構としては、シールバー方式及びピンチロール方式が
考えられるが、いずれにしても高度な真空を保つために
は、そのギャップ設定は最小限に止める必要があり、こ
の観点からは溶接部における板厚変動が小さい突き合わ
せ溶接が最適だからである。なおピンチロール方式に限
って言えば、ナローラップシーム溶接までは通板可能で
ある。
【0022】第2発明 良好な電子ビーム照射を行うためには、板面を平坦に維
持することは勿論であるが、処理中におけるストリップ
の蛇行を極力低減する必要があり、一般的には、電子ビ
ーム照射装置1内におけるストリップ張力を上げれば、
通板は安定する。そこで第2発明では、電子ビーム照射
装置1の入側及び出側にそれぞれ少なくとも1組のブラ
イドルロール8,8′を設けることにより、高張力通板
を可能ならしめたものである。
持することは勿論であるが、処理中におけるストリップ
の蛇行を極力低減する必要があり、一般的には、電子ビ
ーム照射装置1内におけるストリップ張力を上げれば、
通板は安定する。そこで第2発明では、電子ビーム照射
装置1の入側及び出側にそれぞれ少なくとも1組のブラ
イドルロール8,8′を設けることにより、高張力通板
を可能ならしめたものである。
【0023】第3発明 第3発明は、上述したところと同様の理由により、電子
ビーム照射処理の安定化を図るために、電子ビーム照射
装置1の入側に少なくとも1台のストリップセンタリン
グ設備9を配置したものである。
ビーム照射処理の安定化を図るために、電子ビーム照射
装置1の入側に少なくとも1台のストリップセンタリン
グ設備9を配置したものである。
【0024】第4発明 第4発明は、電子ビーム照射室2内及び差圧式真空シー
ル装置3,3′内で安定した処理が行えるように、電子
ビーム照射装置1の入側にストリップ前処理装置10を設
けたものである。ここに代表的な前処理としては、サイ
ドトリマとストリップの乾燥処理とがある。以下、各処
理について説明する。
ル装置3,3′内で安定した処理が行えるように、電子
ビーム照射装置1の入側にストリップ前処理装置10を設
けたものである。ここに代表的な前処理としては、サイ
ドトリマとストリップの乾燥処理とがある。以下、各処
理について説明する。
【0025】方向性電磁鋼板は、複雑な製造工程を経る
過程で平坦度が損なわれ、特に側縁部には耳波と呼ばれ
る平坦度不良が発生し易い。この耳波は、差圧式真空シ
ール装置3,3′内通過時にひっかけや破断等のトラブ
ル発生の原因となる。また電子ビーム照射処理中におけ
るパスラインの変動要因ともなるために、電子ビーム照
射処理前にサイドトリミングにより除去することが望ま
しい。しかしながら事前にスリッタを通す等の対応は、
工程の増加を招き、納期やコストの面で不利が生じる。
この点、電子ビーム照射装置1の入側にストリップ前処
理装置10としてサイドトリマを設置すれば、上記の問題
が有利に解消されるわけである。
過程で平坦度が損なわれ、特に側縁部には耳波と呼ばれ
る平坦度不良が発生し易い。この耳波は、差圧式真空シ
ール装置3,3′内通過時にひっかけや破断等のトラブ
ル発生の原因となる。また電子ビーム照射処理中におけ
るパスラインの変動要因ともなるために、電子ビーム照
射処理前にサイドトリミングにより除去することが望ま
しい。しかしながら事前にスリッタを通す等の対応は、
工程の増加を招き、納期やコストの面で不利が生じる。
この点、電子ビーム照射装置1の入側にストリップ前処
理装置10としてサイドトリマを設置すれば、上記の問題
が有利に解消されるわけである。
【0026】また電子ビーム照射処理は真空中で行われ
るため、処理室は常時真空に引かれている。この時、排
ガス量の内分け(発生ガス量)で最大のものはストリッ
プの持込みガスである。この原因は、ストリップ表面に
吸着されている水分などの気化性物質である。特にスト
リップ表面に絶縁被膜を有する場合は、この絶縁被膜が
微視的にはポーラスな組織であることから、この中に吸
着された水分が電子ビーム照射により表に出て来ること
によるものと考えられている。しかも日本の夏は一般に
高温多湿であり、この時期には被膜中に多量の水分が吸
着していると考えられる。一方、真空排気系は、排気量
に比例してポンプ、配管等が大きくなるため、この吸着
量に応じて真空排気設備を整備することは、設備コスト
及びランニングコストの増大を招く。しかしながら、電
子ビーム照射処理前にかような吸着物を除去しておけ
ば、上記の問題は解消する。そこで、電子ビーム照射装
置1の入側にストリップ前処理装置10として乾燥装置を
設置するのである。
るため、処理室は常時真空に引かれている。この時、排
ガス量の内分け(発生ガス量)で最大のものはストリッ
プの持込みガスである。この原因は、ストリップ表面に
吸着されている水分などの気化性物質である。特にスト
リップ表面に絶縁被膜を有する場合は、この絶縁被膜が
微視的にはポーラスな組織であることから、この中に吸
着された水分が電子ビーム照射により表に出て来ること
によるものと考えられている。しかも日本の夏は一般に
高温多湿であり、この時期には被膜中に多量の水分が吸
着していると考えられる。一方、真空排気系は、排気量
に比例してポンプ、配管等が大きくなるため、この吸着
量に応じて真空排気設備を整備することは、設備コスト
及びランニングコストの増大を招く。しかしながら、電
子ビーム照射処理前にかような吸着物を除去しておけ
ば、上記の問題は解消する。そこで、電子ビーム照射装
置1の入側にストリップ前処理装置10として乾燥装置を
設置するのである。
【0027】第5発明 電子ビーム照射処理は、ストリップの特性改善を目的と
して実施するものであるから、処理後のストリップ特性
が目標値に達しているかどうかを調べることは重要であ
る。また電子ビーム照射処理は、その副作用で表面に疵
が生じることがあるので、表面性状に問題がないかどう
かを検査することも重要である。そこで第5発明では、
電子ビーム照射装置1の出側に、連続鉄損測定装置や表
面疵検査装置などのストリップの検査装置11を設けるこ
とにしたのである。なおかかる装置で測定された結果
は、電子ビーム照射処理にフィードバックして、所望の
特性及び表面性状が得られるよう、処理条件の制御に利
用する。
して実施するものであるから、処理後のストリップ特性
が目標値に達しているかどうかを調べることは重要であ
る。また電子ビーム照射処理は、その副作用で表面に疵
が生じることがあるので、表面性状に問題がないかどう
かを検査することも重要である。そこで第5発明では、
電子ビーム照射装置1の出側に、連続鉄損測定装置や表
面疵検査装置などのストリップの検査装置11を設けるこ
とにしたのである。なおかかる装置で測定された結果
は、電子ビーム照射処理にフィードバックして、所望の
特性及び表面性状が得られるよう、処理条件の制御に利
用する。
【0028】第6発明 第6発明は、中央セクションでの非定常な間けつ送りな
どに起因した照射ピッチのずれ等の不具合を防止するた
め、またストリップコイルの装入・搬出の際のライン停
止による生産性の低下を防止するために、電子ビーム照
射装置1の入側及び出側にそれぞれストリップ・ルーピ
ング設備12, 12′を設置したものである。
どに起因した照射ピッチのずれ等の不具合を防止するた
め、またストリップコイルの装入・搬出の際のライン停
止による生産性の低下を防止するために、電子ビーム照
射装置1の入側及び出側にそれぞれストリップ・ルーピ
ング設備12, 12′を設置したものである。
【0029】第7発明 第7発明は、電子ビーム照射装置1の電子ビーム照射室
2とその前後に設置した差圧式真空シール装置3,3′
との間にそれぞれX線遮蔽装置13, 13′を配設したもの
である。図2に示すように、ストリップsの表面に電子
ビーム14を照射するとX線15が生じるが、このX線15は
人体に有害であるので遮蔽する必要がある。そのため電
子ビーム照射装置2の内部は、鉛等の内張り16を施して
X線の外部への漏洩を防止しているが、この方法では不
十分で、鋼板の板面に沿って前後方向に放射されるX線
を完全に遮蔽することはできない。というのはストリッ
プは、前述したとおり、水平、平坦パスでしかもゴムロ
ールで挟んで搬送されているからである。そこで第7発
明では、X線の外部への漏洩を問題のないレベルまで低
減させるために、電子ビーム照射室2と差圧式真空シー
ル装置3,3′との間にX線遮蔽装置13, 13′を設ける
ことにしたのである。なお、かかるX線遮蔽装置の配置
位置としては、差圧式真空シール装置3,3′の両外側
も考えられるけれども、差圧式真空シール装置3,3′
の両外側に配設する場合には、差圧式真空シール装置の
内部についても鉛で内張りするという煩雑な処理が必要
となる。
2とその前後に設置した差圧式真空シール装置3,3′
との間にそれぞれX線遮蔽装置13, 13′を配設したもの
である。図2に示すように、ストリップsの表面に電子
ビーム14を照射するとX線15が生じるが、このX線15は
人体に有害であるので遮蔽する必要がある。そのため電
子ビーム照射装置2の内部は、鉛等の内張り16を施して
X線の外部への漏洩を防止しているが、この方法では不
十分で、鋼板の板面に沿って前後方向に放射されるX線
を完全に遮蔽することはできない。というのはストリッ
プは、前述したとおり、水平、平坦パスでしかもゴムロ
ールで挟んで搬送されているからである。そこで第7発
明では、X線の外部への漏洩を問題のないレベルまで低
減させるために、電子ビーム照射室2と差圧式真空シー
ル装置3,3′との間にX線遮蔽装置13, 13′を設ける
ことにしたのである。なお、かかるX線遮蔽装置の配置
位置としては、差圧式真空シール装置3,3′の両外側
も考えられるけれども、差圧式真空シール装置3,3′
の両外側に配設する場合には、差圧式真空シール装置の
内部についても鉛で内張りするという煩雑な処理が必要
となる。
【0030】第8発明 第8発明は、電子ビーム照射室2の内部にアイドルター
ゲットを設けることにより、必要に応じた生産量の調整
を可能ならしめたものである。この発明に従う電子ビー
ム照射は、強く絞った電子ビームをストリップに対し、
その幅方向に特定のピッチで走査するところに特長があ
り、ここに1本の線状痕の形成に要するビーム照射時間
は、ストリップの特性改善効果が最大となるエネルギ入
力量から決定され、また照射ピッチも同様理由で決定さ
れる。また電子銃は、一般にその特性上、電子ビームの
走査は偏向コイルによって極めて迅速に行うことが可能
な反面、電子ビームの起動、停止操作は簡単にはできな
いため、ビーム照射は連続照射で行うことが必要とされ
る。一方、かかる電子ビーム照射によるストリップの特
性改善技術を、実生産ラインに適用する場合を考える
と、ストリップの搬送速度は、本来、その製品生産量に
基づいて決定されるべきものであるが、電子ビームによ
る線状痕1本当たりの照射時間及び照射ピッチは、上述
したとおり製品の品質から決定されるため、製品品質を
考えるとストリップ搬送速度は一義的に決定されてしま
い、生産量を調整することができなくなる。そこで第8
発明では、図3に示すように、電子ビーム照射室2の内
部に、電子ビーム14を受けるアイドルターゲット17を設
け、ストリップsに対する必要照射時以外は、このアイ
ドルターゲット17で電子ビームを受けることにより、ス
トリップ搬送速度のビーム照射条件からの規制をなく
し、必要に応じた生産量の調整を可能ならしめるのであ
る。
ゲットを設けることにより、必要に応じた生産量の調整
を可能ならしめたものである。この発明に従う電子ビー
ム照射は、強く絞った電子ビームをストリップに対し、
その幅方向に特定のピッチで走査するところに特長があ
り、ここに1本の線状痕の形成に要するビーム照射時間
は、ストリップの特性改善効果が最大となるエネルギ入
力量から決定され、また照射ピッチも同様理由で決定さ
れる。また電子銃は、一般にその特性上、電子ビームの
走査は偏向コイルによって極めて迅速に行うことが可能
な反面、電子ビームの起動、停止操作は簡単にはできな
いため、ビーム照射は連続照射で行うことが必要とされ
る。一方、かかる電子ビーム照射によるストリップの特
性改善技術を、実生産ラインに適用する場合を考える
と、ストリップの搬送速度は、本来、その製品生産量に
基づいて決定されるべきものであるが、電子ビームによ
る線状痕1本当たりの照射時間及び照射ピッチは、上述
したとおり製品の品質から決定されるため、製品品質を
考えるとストリップ搬送速度は一義的に決定されてしま
い、生産量を調整することができなくなる。そこで第8
発明では、図3に示すように、電子ビーム照射室2の内
部に、電子ビーム14を受けるアイドルターゲット17を設
け、ストリップsに対する必要照射時以外は、このアイ
ドルターゲット17で電子ビームを受けることにより、ス
トリップ搬送速度のビーム照射条件からの規制をなく
し、必要に応じた生産量の調整を可能ならしめるのであ
る。
【0031】
【作用】次に、この発明設備を用いた最適処理方法につ
いて説明する。さてストリップコイルはまず、ペイオフ
リール4で巻戻され、入側シャー6にて先,後端が切断
される。とくに先行コイルの後端と後行コイルの先端と
を溶接機7で接続すれば、コイルの連続供給が可能とな
る。ここに溶接方式としては、溶接部が差圧式真空シー
ル装置3,3′で狭いクリアランスを通過するのに支障
のない厚みとなるレーザ突き合わせ方式又はナローラッ
プシーム方式とすることが好ましいことは、前述したと
おりである。
いて説明する。さてストリップコイルはまず、ペイオフ
リール4で巻戻され、入側シャー6にて先,後端が切断
される。とくに先行コイルの後端と後行コイルの先端と
を溶接機7で接続すれば、コイルの連続供給が可能とな
る。ここに溶接方式としては、溶接部が差圧式真空シー
ル装置3,3′で狭いクリアランスを通過するのに支障
のない厚みとなるレーザ突き合わせ方式又はナローラッ
プシーム方式とすることが好ましいことは、前述したと
おりである。
【0032】ストリップsは、ブライドルロール8,
8′により、電子ビーム照射装置1にて蛇行が発生しな
い程度の張力が付与される。またストリップsは、サイ
ドトリマでエッジ耳波部を切り落とすことにより、差圧
式真空シール装置3,3′における板破断等のトラブル
を防止すると共に、電子ビーム照射室2内でのパスライ
ン変動による照射不良も併せて防止する。さらに乾燥装
置にて、ストリップ表面に吸着している水分を乾燥する
ことにより、電子ビーム照射装置1におけるガス発生を
低減することができる。そして電子ビーム照射装置1に
入る前に、センタリング設備9(ステアリングロール)
にてストリップsのセンタリングを行い、電子ビーム照
射装置1での照射不良を未然に防止する。
8′により、電子ビーム照射装置1にて蛇行が発生しな
い程度の張力が付与される。またストリップsは、サイ
ドトリマでエッジ耳波部を切り落とすことにより、差圧
式真空シール装置3,3′における板破断等のトラブル
を防止すると共に、電子ビーム照射室2内でのパスライ
ン変動による照射不良も併せて防止する。さらに乾燥装
置にて、ストリップ表面に吸着している水分を乾燥する
ことにより、電子ビーム照射装置1におけるガス発生を
低減することができる。そして電子ビーム照射装置1に
入る前に、センタリング設備9(ステアリングロール)
にてストリップsのセンタリングを行い、電子ビーム照
射装置1での照射不良を未然に防止する。
【0033】また、電子ビーム照射に伴い発生したX線
については、人体に害を与えないように、X線遮蔽装置
13, 13′にて外部への漏洩を防止する。さらに、ストリ
ップsに対する必要照射時以外は、電子ビーム照射室2
内に設けたアイドルターゲット17で電子ビームを受ける
ことにより、必要生産量に応じたストリップ搬送速度が
維持される。
については、人体に害を与えないように、X線遮蔽装置
13, 13′にて外部への漏洩を防止する。さらに、ストリ
ップsに対する必要照射時以外は、電子ビーム照射室2
内に設けたアイドルターゲット17で電子ビームを受ける
ことにより、必要生産量に応じたストリップ搬送速度が
維持される。
【0034】次に、電子ビーム照射処理を終えたストリ
ップsは、検査装置11にて、鉄損値及び表面性状を調査
する。この調査によって異常が発見された場合は、その
調査結果を電子ビーム照射処理にフィードバックし、処
理条件を適切な条件に設定し直す。検査後、テンション
リール5にて再度コイルに巻取りつつ、出側シャー6′
にて適当な長さに切断する。なお電子ビーム照射装置1
の入、出側に、ルーピング設備12, 12′を設置すること
により、コイルの装入、払出し時においても、電子ビー
ム照射処理の連続操業が可能となり、生産性の向上と共
に、インチングに伴う照射不良(照射ピッチのずれ)の
発生を防止することができる。
ップsは、検査装置11にて、鉄損値及び表面性状を調査
する。この調査によって異常が発見された場合は、その
調査結果を電子ビーム照射処理にフィードバックし、処
理条件を適切な条件に設定し直す。検査後、テンション
リール5にて再度コイルに巻取りつつ、出側シャー6′
にて適当な長さに切断する。なお電子ビーム照射装置1
の入、出側に、ルーピング設備12, 12′を設置すること
により、コイルの装入、払出し時においても、電子ビー
ム照射処理の連続操業が可能となり、生産性の向上と共
に、インチングに伴う照射不良(照射ピッチのずれ)の
発生を防止することができる。
【0035】
【発明の効果】かくしてこの発明によれば、連続走行す
るストリップに対し、実際上、極めて安定して電子ビー
ム照射を行うことができ、ひいては実生産において、か
かる電子ビーム照射技術の利用を現実のものとすること
ができる。
るストリップに対し、実際上、極めて安定して電子ビー
ム照射を行うことができ、ひいては実生産において、か
かる電子ビーム照射技術の利用を現実のものとすること
ができる。
【図1】この発明に従う電子ビーム連続照射設備の模式
図である。
図である。
【図2】電子ビーム照射に伴うX線の発生状況を示した
図である。
図である。
【図3】アイドルターゲットをそなえる電子ビーム照射
室の模式図である。
室の模式図である。
1 電子ビーム照射装置 2 電子ビーム照射室 3,3′差圧式真空シール装置 4 ペイオフリール 5 テンションリール 6 入側シャー 6′出側シャー 7 溶接機 8,8′ブライドルロール 9 ストリップセンタリング設備 10 ストリップ前処理装置 11 ストリップ検査装置 12, 12′ストリップ・ルーピング設備 13, 13′X線遮蔽装置 14 電子ビーム 15 X線 16 鉛内張り 17 アイドルターゲット
フロントページの続き (72)発明者 岡本 改造 岡山県倉敷市水島川崎通1丁目(番地な し) 川崎製鉄株式会社 水島製鉄所内 (72)発明者 日名 英司 岡山県倉敷市水島川崎通1丁目(番地な し) 川崎製鉄株式会社 水島製鉄所内 (56)参考文献 特開 平1−172570(JP,A) 特開 平4−176867(JP,A) 実開 平2−11612(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G21K 5/04 G21K 5/00 G21K 5/10
Claims (14)
- 【請求項1】 金属ストリップを水平かつ平坦な状態で
連続的に真空室に導入して連続的に電子ビームを照射す
る電子ビーム照射室とその前後に設置した差圧式真空シ
ール装置とで電子ビーム照射装置を構成し、その上流及
び下流側にそれぞれ、該電子ビーム照射装置に対する金
属ストリップの連続的な導通を司るペイオフリール及び
テンションリールを配設すると共に、該ペイオフリール
及びテンションリールの近傍にそれぞれ入側シャー及び
出側シャーを設け、かつ該入側シャーの下流に溶接機を
配設したことを特徴とする電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項2】 請求項1において、溶接機が突き合わせ
溶接機である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、電子ビーム照
射装置の入側及び出側にそれぞれ少なくとも1組のブラ
イドルロールを設けてなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項4】 請求項1,2又は3において、電子ビー
ム照射装置の入側に少なくとも1台のストリップセンタ
リング設備を配設してなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項5】 請求項1,2,3又は4において、電子
ビーム照射装置の入側にストリップ前処理装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項6】 請求項5において、ストリップ前処理装
置がサイドトリマである電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項7】 請求項5において、ストリップ前処理装
置が乾燥装置である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項8】 請求項1〜7のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の出側にストリップの検査装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項9】 請求項8において、ストリップの検査装
置が連続鉄損測定装置である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項10】 請求項8において、ストリップの検査
装置が表面疵検査装置である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項11】 請求項1〜10のいずれかにおいて、電
子ビーム照射装置の出側あるいは入側及び出側にそれぞ
れストリップ・ルーピング設備を設置してなる電子ビー
ム連続照射設備。 - 【請求項12】 請求項1〜11のいずれかにおいて、電
子ビーム照射室とその前後に設置した差圧式真空シール
装置との間にそれぞれX線遮蔽装置を配設してなる電子
ビーム連続照射設備。 - 【請求項13】 請求項1〜12のいずれかにおいて、電
子ビーム照射室がアイドルターゲットをそなえてなる電
子ビーム連続照射設備。 - 【請求項14】 請求項8〜12のいずれかにおいて、電
子ビーム照射装置とストリップの検査装置は階上に配設
する一方、他の装置は階下に配設する2階構造とし、し
かもペイオフリールとテンションリールを近接配置とし
てなる電子ビーム連続照射設備。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4261979A JP3020753B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 電子ビーム連続照射設備 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4261979A JP3020753B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 電子ビーム連続照射設備 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06109900A JPH06109900A (ja) | 1994-04-22 |
JP3020753B2 true JP3020753B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=17369323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4261979A Expired - Fee Related JP3020753B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 電子ビーム連続照射設備 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3020753B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6233334B2 (ja) * | 2015-03-04 | 2017-11-22 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼帯の連続電解エッチング方法および方向性電磁鋼帯の連続電解エッチング装置 |
JP6471682B2 (ja) * | 2015-12-04 | 2019-02-20 | Jfeスチール株式会社 | 電子ビーム照射装置 |
JP6465054B2 (ja) | 2016-03-15 | 2019-02-06 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の製造方法および製造設備列 |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP4261979A patent/JP3020753B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06109900A (ja) | 1994-04-22 |
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