JP3005802B2 - イオンビーム装置及びそのガス導入装置 - Google Patents
イオンビーム装置及びそのガス導入装置Info
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、イオンビームフォトマスク修正装置、イオ
ンビームIC加工装置等、イオンビーム装置に用いられる
ガス導入装置に利用される。
ンビームIC加工装置等、イオンビーム装置に用いられる
ガス導入装置に利用される。
本発明は、イオンビーム装置に用いられる、ガス導入
装置において、ガス源の補充、またはガス源の変更の際
に、ガス導入ラインにストップバルブを設けることで、
装置全体を大気にすることなく、短時間でガス源の変
更、補充することが可能となった。
装置において、ガス源の補充、またはガス源の変更の際
に、ガス導入ラインにストップバルブを設けることで、
装置全体を大気にすることなく、短時間でガス源の変
更、補充することが可能となった。
従来、ガス源の補充、変更はガス導入装置のヒータを
切って大気温まで冷却するのを待ち、次にイオンビーム
装置の真空排気システムを停止して、試料室を大気にし
てから行っていた。また既存のストップバルブでは、サ
イズ及び機能がないことから使用できなかった。
切って大気温まで冷却するのを待ち、次にイオンビーム
装置の真空排気システムを停止して、試料室を大気にし
てから行っていた。また既存のストップバルブでは、サ
イズ及び機能がないことから使用できなかった。
しかし、この方法では、ガス導入装置の冷却時間、イ
オンビーム装置を大気にするまでの時間、さらに、これ
らが大きな割合を占めることになるが、イオンビーム装
置を再排気して基準真空度まで到達する時間が長く、装
置の停止時間が長すぎていた。
オンビーム装置を大気にするまでの時間、さらに、これ
らが大きな割合を占めることになるが、イオンビーム装
置を再排気して基準真空度まで到達する時間が長く、装
置の停止時間が長すぎていた。
本発明は、上記問題点を解決することを目的とするス
トップバルブ付ガス導入装置及びそれを用いたイオンビ
ーム装置に関するもので、ヒータ機能を有するストップ
バルブを設けることにより短時間で簡単にガス源の補充
及び変更ができることを特徴とする。すなわち、ストッ
プバルブ機械を設けたイオンビーム装置のガス導入装置
であって、上記ストップバルブ機構は、ヒータを有し、
かつ、ガスの流入路と流出路とこれら両者の中間にあっ
てガスの流通・遮断を行うストッパとからなるストップ
バルブ本体と、ガス源につながるノズルとからなり、上
記ノズルは上記流入路に挿脱自在に取り付けられるよう
にした。。
トップバルブ付ガス導入装置及びそれを用いたイオンビ
ーム装置に関するもので、ヒータ機能を有するストップ
バルブを設けることにより短時間で簡単にガス源の補充
及び変更ができることを特徴とする。すなわち、ストッ
プバルブ機械を設けたイオンビーム装置のガス導入装置
であって、上記ストップバルブ機構は、ヒータを有し、
かつ、ガスの流入路と流出路とこれら両者の中間にあっ
てガスの流通・遮断を行うストッパとからなるストップ
バルブ本体と、ガス源につながるノズルとからなり、上
記ノズルは上記流入路に挿脱自在に取り付けられるよう
にした。。
上記構成のストップバルブ付ガス導入装置によれば、
ガス源の補充及び変更を短時間で行うことができ、装置
の稼働率を上げることができる。又、ストップバルブ内
にヒータを内蔵することによりガスを析出を防ぐことが
できる。
ガス源の補充及び変更を短時間で行うことができ、装置
の稼働率を上げることができる。又、ストップバルブ内
にヒータを内蔵することによりガスを析出を防ぐことが
できる。
以下図によって説明する。ガス導入装置と本体13とガ
ス源14はストッパ２の移動により導入ラインを開閉する
ストップバルブボディ１を介して接続されている。を持
つ。第１図は閉の状態を示す。ガス導入ラインはストッ
パ２の先端にある“O"リング７によって閉じられる。ス
トッパ２が“O"リング７を押しつける力は送りネジ３に
よって発生する。送りネジ３は、押え板４によって回転
方向は自由であるが軸方向への移動を規制されているた
め、送りネジ３を反時計方向に回転させるとストッパ２
は前進し、“O"リング７をカベに押しつけてガス導入ラ
インは閉じられる。
ス源14はストッパ２の移動により導入ラインを開閉する
ストップバルブボディ１を介して接続されている。を持
つ。第１図は閉の状態を示す。ガス導入ラインはストッ
パ２の先端にある“O"リング７によって閉じられる。ス
トッパ２が“O"リング７を押しつける力は送りネジ３に
よって発生する。送りネジ３は、押え板４によって回転
方向は自由であるが軸方向への移動を規制されているた
め、送りネジ３を反時計方向に回転させるとストッパ２
は前進し、“O"リング７をカベに押しつけてガス導入ラ
インは閉じられる。
この状態で、ナット11を取りガス源につながるノズル
10をストップバルブ本体１から引き抜くことができる。
10をストップバルブ本体１から引き抜くことができる。
ガス源の補充、変更を行った後ノズル10を再セットす
る。“O"リング９はノズル10と、ストップバルブボディ
１の真空シール用である。又、ストップバルブボディ１
には、ヒータ12が取付けられている。これは、加熱、昇
華されてきたガスが、ストップバルブ内で析出するのを
防ぐ為である。
る。“O"リング９はノズル10と、ストップバルブボディ
１の真空シール用である。又、ストップバルブボディ１
には、ヒータ12が取付けられている。これは、加熱、昇
華されてきたガスが、ストップバルブ内で析出するのを
防ぐ為である。
次に再排気時の機構を示す。ガス源14と、本体13を開
くため送りネジ３を時計方向に回転させると、ストッパ
２は後退してガス導入ラインを開く。この時の真空シー
ルは、“O"リング８によって行う。通常、ノズル内及び
バルブ内にある空気は直接、試料室内に入れると、真空
度が大幅に悪くなる為、別排気後バルブを開くが、本発
明のバブルはノズル10の中の空気のみであり、直接真空
内に導入しても、数秒の真空度の低下で復帰することが
できる。
くため送りネジ３を時計方向に回転させると、ストッパ
２は後退してガス導入ラインを開く。この時の真空シー
ルは、“O"リング８によって行う。通常、ノズル内及び
バルブ内にある空気は直接、試料室内に入れると、真空
度が大幅に悪くなる為、別排気後バルブを開くが、本発
明のバブルはノズル10の中の空気のみであり、直接真空
内に導入しても、数秒の真空度の低下で復帰することが
できる。
本発明のストップバルブ付ガス導入装置を使うことに
より、本体の冷却時間、イオンビーム装置を大気にする
時間、再排気して基準真空度に到達するまでの時間が、
省略できる為、ガス源の補充、変更の時間を大幅に短縮
することが可能となった。
より、本体の冷却時間、イオンビーム装置を大気にする
時間、再排気して基準真空度に到達するまでの時間が、
省略できる為、ガス源の補充、変更の時間を大幅に短縮
することが可能となった。
第１図は本発明にかかわるストップバルブの実施例を示
す断面図、第２図は第１図の底面図である。 １……ストップバルブボディ ２……ストッパ ３……送りネジ ４……押え板 ５……固定ネジ ６〜９……Ｏリング 10……ノズル 11……ナット 12……ヒータ 13……ガス導入装置本体 14……ガス源
す断面図、第２図は第１図の底面図である。 １……ストップバルブボディ ２……ストッパ ３……送りネジ ４……押え板 ５……固定ネジ ６〜９……Ｏリング 10……ノズル 11……ナット 12……ヒータ 13……ガス導入装置本体 14……ガス源
Claims (2)
- 【請求項１】ガス源からのガスを導入するためのガス導
入ラインを有するガス導入装置を備えたイオンビーム装
置において、上記ガス導入装置は、ストップバルブ本体
と、ガス源からのガスを導入するためのノズルとからな
り、上記ストップバルブ本体は、上記ガス源と上記イオ
ンビーム装置との間のガス導入ラインと、該ガス導入ラ
インを開閉するストッパと、ストップバルブ本体内での
ガスの析出を防ぐためのヒータとを有し、上記ノズル
は、上記ガス導入ラインに挿脱可能に取り付けられ、上
記ストッパは、上記ガス源の補充、変更を行うために上
記ノズルを引き抜くとき、上記ガス導入ラインを閉じて
おり、ガス源の補充、変更を行い上記ノズルを挿入した
あと上記ガス導入ラインが開いているように移動可能に
設けられ、イオンビーム装置の真空を破壊することな
く、ガス源の補充を可能にしたイオンビーム装置。 - 【請求項２】ストップバルブ機構を設けたイオンビーム
装置のガス導入装置であって、上記ストップバルブ機構
は、ストップバルブ本体と、ガス源につながるノズルと
からなり、 上記ストップバルブ本体は、 ストップバルブ本体内でのガスの析出を防ぐためのヒー
タと、 ガスの流入路と流出路と、 これら両者の中間にあって上記ガスの流入路と流出路の
開閉を行うストッパとを有し、 上記ノズルは上記流入路に挿脱自在に取り付けられ、 上記ストッパは、上記ガス源の補充、変更を行うために
上記ノズルを引き抜くとき、上記流入路および流出路を
閉じておき、ガス源の補充、変更を行い上記ノズルを挿
入したあと上記流入路および流出路を開いておけるよう
に移動可能にしたことを特徴とするイオンビーム装置の
ガス導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1308424A JP3005802B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | イオンビーム装置及びそのガス導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1308424A JP3005802B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | イオンビーム装置及びそのガス導入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03166723A JPH03166723A (ja) | 1991-07-18 |
| JP3005802B2 true JP3005802B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=17980891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1308424A Expired - Fee Related JP3005802B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | イオンビーム装置及びそのガス導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3005802B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2501839B1 (en) * | 2009-11-16 | 2016-01-27 | FEI Company | Gas delivery for beam processing systems |
-
1989
- 1989-11-27 JP JP1308424A patent/JP3005802B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03166723A (ja) | 1991-07-18 |
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