JP3003311B2 - 指紋センサ - Google Patents

指紋センサ

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、圧電薄膜を利用した指
紋センサに関し、特に指の指紋パターンを検出するため
のセンサ部の構成に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、情報システムの発展、普及、多様
化に伴って、「万人不同」、「終生不変」という指紋情
報を用いた情報セキュリティが注目を集めている。現
在、実用化されている指紋照合システムは、各種端末に
組み込むためには形状も大きく高価であり、今後、情報
システム機器に組み込み可能な、小型化あるいはカード
形状の指紋センサが切望されている。
【0003】従来の指紋検出方法は、指先をガラス面な
どに押し当てて、その部分を光源で照射し、その反射光
をCCD等により光電変換して電気出力信号とし、この
電気出力信号を処理することにより、指紋を検出してい
る(例えば特開昭60−114979号公報)。この様
な光学式の指紋センサ以外には、感圧シートにマトリッ
クス電極を形成し、感圧シートの抵抗値を電気的に取り
出すこよにより、指紋パターンを圧力的に検出する方法
(例えば特開昭63−204374号公報)なども提案
されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の光
学式指紋センサにおいては、光源およびその電源やレン
ズなどを含む光学系とCCDなどの光電変換素子が必要
であるため、センサ部が大型化すると共にコスト高とな
るという問題点を有していた。また上記の感圧式指紋セ
ンサにおいては、感圧シートを用いているためセンサ部
の構成が簡素であり薄型化が可能であるが、センシング
に感圧導電ゴムを用いるため、再現性、クリープなど信
頼性に欠けるという問題点を有していた。
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、小型化が可能でかつ高分解能で信頼性の高い指紋セ
ンサを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の指紋センサは、複数個のセンサ素子と、各セ
ンサ素子の出力信号を増幅する増幅素子またはインピー
ダンス変換するインピーダンス変換素子と、増幅素子ま
たはインピーダンス変換素子の出力を順次走査するスイ
ッチング素子とを備え、上記センサ素子は圧電薄膜より
構成されていることを特徴とする。
【0007】
【作用】この構成によって、圧電薄膜よりなる圧電素子
が指紋の山部(隆線)と接触し、各圧電素子における圧
電効果により、指紋の山部と接触している各圧電素子の
圧力が電気出力信号として検出される。この圧電素子は
マトリックス状に複数個配置されており、各圧電素子は
増幅素子またはインピーダンス変換素子とスイッチング
素子とを備えているため、指の指紋パターンに応じた圧
力分布を検出するこができる。
【0008】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
【0009】図1は、本発明の指紋センサのマトリック
ス単位つまり1つのセンサ素子部分の構成を示す平面図
である。同図において、1は上下面に電極を備えた圧電
薄膜より構成されるセンサ素子であり、2はこのセンサ
素子1を走査するためのスイッチング用のMOS型電界
効果トランジスタ(以下FETと記す)であり、3はこ
のセンサ素子1の出力信号のインピーダンスを低くして
信号処理しやすくするためのインピーダンス変換用FE
Tであり、また3はセンサ素子1の出力信号を増幅する
増幅用FETであってもよい。
【0010】圧電薄膜より構成されるセンサ素子1の出
力は非常に小さく、しかも出力インピーダンスがきわめ
て大きいので、センサ素子1の出力を正確に読み出すた
めには、出力の増幅かインピーダンスの変換またはこれ
らの両方が必要であり、本実施例の指紋センサの特徴と
しては、このセンサ素子1と1対1に対応するスイッチ
ング用FET2と増幅用FETまたはインピーダンス変
換用FET3を同一の半導体基板上に構成している。
【0011】同実施例において、センサ素子1は、真空
蒸着法あるいはスパッタリング法により、アルミニウム
等からなる下面電極4を形成し、この電極上にスパッタ
リング法により酸化亜鉛あるいはジルコンチタン酸鉛か
らなる一辺が約30μmで厚さが約1μmの圧電薄膜5
を形成し、さらにこの圧電薄膜5上に真空蒸着法あるい
はスパッタリング法により、アルミニウム等からなる上
面電極6を形成し、さらに上面電極6上には図示しない
絶縁性保護膜を被覆形成することにより構成されてい
る。
【0012】ここで、センサ素子1が指紋パターンの山
部と接触し、圧電薄膜5に圧力が加えられた際に、下面
電極4と上面電極6との間に発生する電位差つまり出力
電圧は、圧電材料の圧電定数に比例し、圧電材料の厚み
に反比例するため、この圧電薄膜の材料としては、厚さ
が均一でしかも薄く、圧電定数の大きな材料である必要
がある。これに加えて、成膜の容易性、成膜温度、膜の
均一性などを考慮すると、酸化亜鉛あるいはジルコンチ
タン酸鉛が望ましく、これらの厚みとしては1μm程度
が適している。
【0013】また、スイッチング用FET2および増幅
用またはインピーダンス変換用FET3は、単結晶シリ
コン基板7上にイオン注入法により形成されたn型ある
いはp型のソースおよびドレインと多結晶シリコンゲー
トにより構成され、増幅用またはインピーダンス変換用
FET3のゲート8からセンサ部の下面電極4が取り出
され、ソース9からセンサ部の上面電極6が取り出さ
れ、ドレイン10は電極11を介してスイッチング用F
ETのドレイン12と接続され、かつこの電極11を介
してドレイン抵抗13が接続されており、電極14は図
示しない電源のプラス側に接続されている。
【0014】ドレイン抵抗13の大きさにより、センサ
出力の増幅かインピーダンス変換が実現される(当然増
幅とインピーダンス変換の両方の機能を実現することも
できる)。またスイッチング用FET2のゲート15に
は電極16を介して制御信号が印加され、ソース17か
ら電極18を介して出力信号を検出している。
【0015】ここで、指紋の山部の構造(隆線構造)
は、空間周波数2〜3本/mmの細かいパターンであ
り、指紋の谷部(谷線)の幅は狭い所では100μm程
度になるため、指紋パターンを再現性良く正確に入力す
るためには、センサとして50μm(20本/mm)程
度の分解能が必要になってくる。従って、検出面積を2
0×20〜25×25mmとし分解能を50μmとする
と、400×400〜500×500個(16万画素〜
25万画素)のセンサ単位を構成する必要がある。
【0016】つまり、図1に示した一辺が約30μmの
センサ素子1と、スイッチング用FET2と、増幅用ま
たはインピーダンス変換用FET3とにより構成される
一辺が約50μmの1つのセンサ単位(図中の斜線部領
域)を、図2に示した様にマトリックス状に複数個配置
することにより、本実施例の指紋センサを構成してい
る。
【0017】上記構成とすることにより、指紋の山部と
谷部とを、十分な精度で検出することが可能となり、指
の指紋パターンに応じた圧力分布を精度良く検出するこ
とができる。なお、上記実施例においては、1つのセン
サ単位をマトリックス状に整列配置しているが、これに
限定されるものではなく、例えば千鳥形状に配列させる
ことも可能である。
【0018】また、同実施例においては、電気出力信号
の検出手段として、単結晶シリコンのFETアレイを用
いたが、この理由について説明する。上記FETアレイ
以外の検出方法としては、CCDにより出力信号を転送
する方法もあるが、最小取扱電荷が約6.3×10−1
7Cであるため、圧電薄膜による小さな出力電荷を正確
に検出するための充分な調が得られないという問題点
がある。
【0019】さらに、アモルファスシリコンあるいは多
結晶シリコンの薄膜トランジスタ(TET)を用いてス
イッチング素子を構成する方法もあるが、両者とも単結
晶シリコンのFETに比較して、漏れ電流が大きいた
め、μsecオーダの非常に短時間の間に出力信号を読
み出す必要があるという問題点がある。
【0020】これに比較して、単結晶シリコン上に増幅
素子またはインピーダンス変換素子とスイッチング素子
とを構成することにより、単結晶シリコンはアモルファ
スシリコンあるいは多結晶シリコンと比較して、漏れ電
流が102 〜104 倍程度少なく、出力信号の読み取り
時間がmsec〜secオーダになるため、圧電薄膜に
よる小さな出力電荷を正確に検出することが可能とな
る。
【0021】次に、この指紋センサの出力信号の検出方
法を説明する。説明を簡略化するために、3行×3列の
マトリックス状の検出素子から構成される指紋センサの
回路図を図3に示す。
【0022】同図において、まず制御端子C1 、C2
3 のうち1つの制御端子例えばC 1 に正電圧を加え、
他の制御端子C2 、C3 を0電圧にすると、制御端子C
1 に接続されているスイッチング用FET211、21
2、213のみがオン状態となり、インピーダンス変換
用FET311、312、313によりセンサ素子11
1、112、113の出力をインピーダンス変換して、
ドレイン抵抗411、412、413を介してセンサ素
子111、112、113の出力信号の読み出しが可能
な状態となる。
【0023】次に出力端子R1 、R2 、R3 のうち1つ
の出力端子例えばR1 を選択することにより、センサ素
子111の出力信号のみが読み出されることになる。こ
の様に、制御端子C1 、C2 、C3 を用いて行を選択
し、出力端子R1 、R2 、R3を用いて列を選択するこ
とにより、この行と列との交差する部分に接続された特
定のセンサ素子の出力信号を順次読み出すことが可能と
なる。
【0024】なお、上記実施例においては、センサ部本
体の構成のみについて記載したが、上記回路構成以外に
も、制御端子を用いて行を選択する回路と出力端子を用
いて列を選択する回路および出力信号の処理回路が別途
必要であるが、これらの周辺回路構成については、特に
限定されるものではなく、本実施例においては、センサ
基板として半導体基板を用いているため、上記周辺回路
部をセンサの周辺部に一体形成することも可能である。
【0025】
【発明の効果】以上のように本発明は、マトリックス状
に配置された複数個の圧電薄膜センサと、上記各圧電薄
膜センサの出力信号を増幅またはインピーダンス変換す
る増幅素子またはインピーダンス変換素子と、上記増幅
素子またはインピーダンス変換素子の出力を順次走査す
るスイチング素子とを同一の半導体基板上に構成するこ
とにより、各圧電薄膜センサによる指の指紋パターンに
応じた圧力分布を精度良く検出することができるため、
小型化が可能でありかつ高分解能で指紋パターンを検出
することができる優れた指紋センサを実現できるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における指紋センサの1つの
センサ素子部分の平面図
【図2】同実施例センサの全体構成を示す平面図
【図3】同実施例センサの回路図
【符号の説明】
1 センサ素子 2 スイッチング用FET 3 インピーダンス変換用FET 4 下面電極 5 圧電薄膜 6 上面電極 7 シリコン基板 8 インピーダンス変換用FETのゲート 9 インピーダンス変換用FETのソース 10 インピーダンス変換用FETのドレイン 11、14、16、18 電極 12 スイッチング用FETのドレイン 13 ドレイン抵抗 15 スイッチング用FETのゲート 17 スイッチング用FETのソース 111、112、113 センサ素子 121、122、123 センサ素子 131、132、133 センサ素子 211、212、213 スイッチング用FET 221、222、223 スイッチング用FET 231、232、233 スイッチング用FET 311、312、313 インピーダンス用FET 321、322、323 インピーダンス用FET 331、332、333 インピーダンス用FET 411、412、413 ドレイン抵抗 421、422、423 ドレイン抵抗 431、432、433 ドレイン抵抗 C1 、C2 、C3 制御端子 R1 、R2 、R3 出力端子 V 電源端子 G アース
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川崎 修 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−253624(JP,A) 特開 昭58−27277(JP,A) 特開 平5−61966(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06T 1/00 G06F 3/03 315 G06F 3/03 345

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 指紋情報を電気出力信号に変換する指紋
    センサであって、複数個のセンサ素子と、上記各センサ
    素子の出力信号を増幅する増幅素子またはインピーダン
    ス変換するインピーダンス変換素子と、上記増幅素子ま
    たはインピーダンス変換素子の出力を順次走査するスイ
    ッチング素子とを備え、上記センサ素子は圧電薄膜より
    構成されていることを特徴とする指紋センサ。
  2. 【請求項2】 圧電薄膜が酸化亜鉛薄膜であることを特
    徴とする請求項1に記載の指紋センサ。
  3. 【請求項3】 圧電薄膜がジルコンチタン酸鉛薄膜であ
    ることを特徴とする請求項1に記載の指紋センサ。
  4. 【請求項4】 センサ素子と、増幅素子またはインピー
    ダンス変換素子と、スイッチング素子とが同一の半導体
    基板上に構成されていることを特徴とする請求項1に記
    載の指紋センサ。
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