JP3002865B2 - Gas plasma processing equipment - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【発明の技術分野】この発明は、汚染された空気や排気
ガス中のＮＯX，ＳＯX，Ｈg蒸気，Ｃｌ2，炭化水素蒸気
或はフレオンガス等の気相物質を酸化して、それらを除
去するためのプラズマ処理装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention oxidizes and removes gaseous substances such as NO x , SO x , Hg vapor, Cl 2 , hydrocarbon vapor or freon gas in polluted air and exhaust gas. The present invention relates to a plasma processing apparatus for performing
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、空気や排気ガス中の上記各種有害
ガスを除去するために、高周波コロナ放電によるプラズ
マを使用することが考えられているが、その場合は一般
的に、コロナ放電極と誘導電極間の静電容量が大きくな
り、その高周波高圧電源の容量も大きくせざるを得ない
ので、両電極間に火花放電を生ずるときは容易にアーク
に移転し極めて危険である。2. Description of the Related Art Conventionally, in order to remove the above-mentioned various harmful gases in air and exhaust gas, it has been considered to use plasma by high-frequency corona discharge. Since the capacitance between the induction electrodes increases and the capacity of the high-frequency high-voltage power supply must be increased, when a spark discharge occurs between the electrodes, the arc is easily transferred to an arc, which is extremely dangerous.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、空
気や排気ガス中の各種有害ガスを高周波コロナ放電を利
用して除去する際に、放電極及びそれに接続したパルス
成形コンデンサを分割することで、各コロナ放電体、及
び各成形コンデンサの容量を小さくして、立ち上りの早
い高電圧パルスを印加すると共に、火花放電の発生によ
る危険を防止することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to divide a discharge electrode and a pulse forming capacitor connected to the discharge electrode when removing various harmful gases in air or exhaust gas using high frequency corona discharge. In each corona discharge,
And reduce the capacitance of each molded capacitor so that
In addition to applying a high-voltage pulse, it is possible to prevent danger caused by spark discharge.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明のガスプラズマ処
理装置は、ガス状物質の入口及び出口を有する金属製ケ
ーシング内にコロナ放電素子及びこれに対向して一定の
距離だけ離れて設けた誘導電極よりなるコロナ放電体を
収め、該コロナ放電素子にパルス形成コンデンサと高圧
電源及び高速スイッチとからなるパルス電源の該パルス
形成コンデンサの出力端を、また該誘導電極を該金属製
ケーシングと共にパルス電源の接地側に接続するガスプ
ラズマ処理装置において、該コロナ放電体のコロナ放電
素子を複数に分割し、かつ該パルス形成コンデンサを各
コロナ放電素子に対応して分割し、前記それぞれのコロ
ナ放電素子に前記夫々のパルス形成コンデンサの出力端
を接続するものである。SUMMARY OF THE INVENTION A gas plasma processing apparatus according to the present invention includes a corona discharge element and a guide provided at a predetermined distance from the corona discharge element in a metal casing having an inlet and an outlet for a gaseous substance. A corona discharge element comprising an electrode is accommodated, and the output end of the pulse forming capacitor of a pulse power supply comprising a pulse forming capacitor, a high voltage power supply and a high-speed switch is stored in the corona discharge element. In the gas plasma processing apparatus connected to the ground side, the corona discharge element of the corona discharge body is divided into a plurality, and the pulse forming capacitor is divided corresponding to each corona discharge element. The output terminals of the respective pulse forming capacitors are connected.
【０００５】この点について更に述べれば、空気中の有
害物質例えば工場の内部あるいはトンネルの内部等にお
ける汚染された空気や排気ガス中のＮＯX，ＳＯX，Ｈg
蒸気，Ｃｌ2，炭化水素蒸気等を除去する場合は、その
汚染された空気の通路を介して、複数の放電極とこれに
対向する対向電極を設けて、該各放電極毎に個別のパル
ス成形コンデンサの出力側を結合し、またその入力側を
スパークギャップを介して前記対向電極と結合し、更に
該パルス成形コンデンサの出力側をパルス成形抵抗を介
して前記対向電極と結合するものである。[0005] In addition Stated this regard, NO X in has been in the air and exhaust gas pollution in the interior of internal or tunnel of harmful substances such as plant air, SO X, Hg
When removing vapor, Cl 2 , hydrocarbon vapor, etc., a plurality of discharge electrodes and a counter electrode facing the discharge electrodes are provided through the path of the contaminated air, and individual pulses are provided for each discharge electrode. The output side of the forming capacitor is connected, the input side is connected to the counter electrode via a spark gap, and the output side of the pulse forming capacitor is connected to the counter electrode via a pulse forming resistor. .
【０００６】また、本発明のガスプラズマ処理装置は、
該誘導電極が円筒状をなし、該ケーシングを兼ねたもの
である。Further, the gas plasma processing apparatus of the present invention
The induction electrode has a cylindrical shape and also serves as the casing.
【０００７】更に本発明のガスプラズマ処理装置は、複
数の円盤状コロナ放電極をその中心において支持棒に間
隔を隔てて串刺しにして、互いに独立したコロナ放電極
を、それぞれ独立の円筒状ケーシングを兼ねた誘導電極
の中心軸に該支持棒を位置せしめて同心的に配設し、該
コロナ放電極体にそれぞれ互いに独立したパルス成形コ
ンデンサ、及びインダクタンスを順次介入して高圧電源
の一端に接続し、該誘導電極と該高圧電源に接続し、該
各パルス成形コンデンサの上記高圧電源の一端に接続さ
れた入力側と、前記高圧電源の他端側を高速スイッチを
介して接続すると共に、該各パルス成形コンデンサの出
力側を、インピーダンスを介して前記誘導電極及び高圧
電源の他端側に接続するものである。Further, in the gas plasma processing apparatus of the present invention, a plurality of disk-shaped corona discharge electrodes are skewered at intervals with a support bar at the center thereof to form independent corona discharge electrodes into independent cylindrical casings. The support rod is positioned concentrically on the central axis of the induction electrode which also serves as a concentric electrode, and the corona discharge electrode body is connected to one end of a high voltage power supply by sequentially interposing pulse forming capacitors and inductances which are independent of each other. Connected to the induction electrode and the high-voltage power supply, the input side of each of the pulse shaping capacitors connected to one end of the high-voltage power supply, and the other end of the high-voltage power supply connected via a high-speed switch. The output side of the pulse shaping capacitor is connected to the induction electrode and the other end of the high voltage power supply via an impedance.
【０００８】また更に、本発明のガスプラズマ処理装置
は、コロナ放電極が長形箔状電極、線状の金属線、もし
くは多数の先端部を備えた電極で形成されているもので
ある。Further, in the gas plasma processing apparatus of the present invention, the corona discharge electrode is formed of a long foil electrode, a linear metal wire, or an electrode having a large number of tips.
【０００９】更に本発明のガスプラズマ処理装置は、該
誘導電極が該ケーシング内に垂直かつ互いに間隔を隔て
て平行に配設された複数個の金属板、又は金属円筒であ
り、該互いに独立したコロナ放電体のそれぞれが、該金
属板誘導電極、又は金属円筒誘導電極の中間にこれと平
行に配設された少なくとも１ヶの長形のコロナ放電極よ
りなるものである。Further, in the gas plasma processing apparatus according to the present invention, the induction electrode is a plurality of metal plates or metal cylinders arranged in the casing vertically and parallel to each other at a distance from each other. Each of the corona dischargers comprises at least one long corona discharge electrode disposed in parallel with the metal plate induction electrode or the metal cylindrical induction electrode.
【００１０】[0010]
【作用】上記本発明のプラズマ処理装置を用いて清浄処
理される空気等のプラズマ処理を行う場合は、該空気等
を、互いに独立した多数のコロナ放電極と、これらに対
向する単数または幾つかに分割された誘導電極の間を通
過させて、各パルス成形コンデンサの出口側に直列的に
接続されたインピーダンスを介して高圧直流電源によっ
て電圧を印加し、小容量づつ多数に分割されている各パ
ルス成形コンデンサの特性上、それらの各コンデンサが
充分高圧に充電するまでは火花放電せず、それが充分高
圧に充電した際前記高速スイッチ間に火花放電が生ずる
と同時に、該コロナ放電極と誘導電極間に極短パルス電
圧が生じ、その際生ずるプラズマによってその間に存在
する空気や排気ガスをプラズマ処理するものである。な
おこの際前記インピーダンスを流れる電流は該極短パル
ス放電の電流の量に比べて実用上無視される。When performing plasma processing of air or the like to be cleaned using the plasma processing apparatus of the present invention, the air or the like is separated from a number of corona discharge electrodes independent of each other and a single or several corona discharge electrodes facing these electrodes. The voltage is applied by a high-voltage DC power supply through an impedance serially connected to the outlet side of each pulse shaping capacitor by passing between the induction electrodes divided into a plurality of divided capacitors. Due to the characteristics of the pulse shaping capacitors, no spark discharge occurs until each of the capacitors is charged to a sufficiently high voltage. When the capacitors are charged to a sufficiently high voltage, a spark discharge occurs between the high-speed switches, and at the same time, the induction with the corona discharge electrode. An extremely short pulse voltage is generated between the electrodes, and the plasma generated at that time is used to perform a plasma treatment on air and exhaust gas present between the electrodes. At this time, the current flowing through the impedance is practically neglected compared to the amount of the current of the ultrashort pulse discharge.
【００１１】この際互いに独立したパルス成形コンデン
サの充電量が極短パルス放電する間、電源から前記各コ
ンデンサに充電する電流は、その間に介入されいるイン
ダクタンスまたはインピーダンスによって実用上阻止さ
れる。このようにして各パルス成形コンデンサの充電量
が放電され、それが再び充電するまで前記極短パルス放
電を断続的に繰り返すものである。At this time, while the charge amounts of the independent pulse shaping capacitors are discharged in a very short pulse, the current charging the capacitors from the power supply is practically blocked by the inductance or impedance interposed therebetween. In this way, the charge amount of each pulse shaping capacitor is discharged, and the ultrashort pulse discharge is intermittently repeated until it is charged again.
【００１２】[0012]
【実施例】この発明の実施例を添付図面によって説明す
ると、図１に示すガスのプラズマ処理装置は、互いに独
立した複数の放電素子、即ちコロナ放電極１とこれらに
対向する誘導電極２を処理物質３を介して設け、該各コ
ロナ放電極１にそれぞれ互いに独立したパルス形成コン
デンサ４及びインダクタンス５を順次介入して整流器６
ｄ付き高圧電源６の一端６ｐを接続し、該各パルス成形
コンデンサ４の入力側４ｉと前記高圧電源６の他端６ｎ
を火花スイッチ７等の高速スイッチを介して接続すると
共に、該各パルス成形コンデンサ４の出力側４ｏと、前
記高圧電源６の他端６ｎ及び前記誘導電極２を充電抵抗
８等のインピーダンスを介して接続するものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. A gas plasma processing apparatus shown in FIG. 1 processes a plurality of discharge elements independent of each other , that is, a corona discharge electrode 1 and an induction electrode 2 opposed thereto. A rectifier 6 is provided by interposing a pulse forming capacitor 4 and an inductance 5 independently of each other on each corona discharge electrode 1 in this order.
d, one end 6p of the high-voltage power supply 6 is connected to the input side 4i of each pulse shaping capacitor 4 and the other end 6n of the high-voltage power supply 6
Are connected via a high-speed switch such as a spark switch 7, and the output side 4 o of each pulse forming capacitor 4, the other end 6 n of the high-voltage power supply 6 and the induction electrode 2 are connected via impedances such as a charging resistor 8. Connect.
【００１３】整流器６の一端６ｐは順次インダクタンス
５を介してパルス成形コンデンサ４、充電抵抗８、高圧
電源６の他端６ｎに至る電気回路を形成し、各パルス成
形コンデンサ４を充電する。そのパルス成形コンデンサ
４は多数に分割されてその容量が小さく分割されている
ので、それぞれの各コンデンサ４が高圧に充電される迄
火花スイッチ７は放電しないが、これが十分高圧になっ
たときは該火花スイッチ７が放電してそのスイッチ７を
閉じるので前記コンデンサ４の出力側４ｏに接続された
コロナ放電極１と誘導電極２の間に、極短パルス電圧が
生じ、その際生ずるプラズマによってその間に存在する
処理物質３をプラズマ処理するものである。One end 6p of the rectifier 6 forms an electric circuit which sequentially reaches the pulse shaping capacitor 4, the charging resistor 8, and the other end 6n of the high voltage power supply 6 via the inductance 5, and charges each pulse shaping capacitor 4. Since the pulse shaping capacitor 4 is divided into a large number and its capacity is divided into small portions, the spark switch 7 does not discharge until each of the capacitors 4 is charged to a high voltage. Since the spark switch 7 discharges and closes the switch 7, an extremely short pulse voltage is generated between the corona discharge electrode 1 and the induction electrode 2 connected to the output 4o of the capacitor 4, and a plasma generated at that time causes a voltage between them. The existing processing substance 3 is subjected to plasma processing.
【００１４】なおこの際に前記充電抵抗体８を流れる電
流の量は該極短パルス放電の電流の量に比べて実際上無
視され、また各互いに独立したパルス成形コンデンサ４
が極短パルス放電する間、高圧電源６から前記各コンデ
ンサ４に充電する電流はその間に介入されているインダ
クタンス５または図示を省略されている抵抗体によって
実用上阻止される。At this time, the amount of current flowing through the charging resistor 8 is practically ignored compared to the amount of current of the ultrashort pulse discharge, and each of the pulse forming capacitors 4 is independent of each other.
During the extremely short pulse discharge, the current charging the capacitors 4 from the high voltage power supply 6 is practically blocked by the inductance 5 interposed therebetween or a resistor (not shown).
【００１５】このようにして各パルス成形コンデンサ４
の充電量が放電され、それが再び充電するまで前記極短
パルス放電は停止し、これを繰り返すことによって前記
パルス放電を断続的に繰り返すものであり、そしてこの
間に処理物質３は充分にプラズマ処理されるものであ
る。Thus, each pulse shaping capacitor 4
Is discharged, and the ultrashort pulse discharge is stopped until it is recharged, and the pulse discharge is intermittently repeated by repeating the pulse discharge. Is what is done.
【００１６】図２のガスプラズマ処理装置は、互いに独
立した複数の円盤状のコロナ放電極１の外側に被処理ガ
ス１１を介して円筒状誘導電極２を同心的に配設し、該
各円盤状コロナ放電極１にそれぞれ互いに独立したパル
ス成形コンデンサ４及びインダクタンス５を順次介入し
て高圧電源の一端６ｐを接続し、該各パルス成形コンデ
ンサ４の入力側４ｉと前記高圧電源の他端側６ｎを火花
スイッチ７を介して接続すると共に、該各パルス成形コ
ンデンサ４の出力側４ｏと前記高圧電源の他端側６ｎ及
び前記円筒形誘導電極２を充電抵抗８を介して接続する
ものである。In the gas plasma processing apparatus shown in FIG. 2, a cylindrical induction electrode 2 is concentrically disposed outside a plurality of disk-shaped corona discharge electrodes 1 via a gas 11 to be processed. One end 6p of the high-voltage power supply is connected to each of the pulse-shaped corona discharge electrodes 1 by sequentially interposing a pulse forming capacitor 4 and an inductance 5 which are independent from each other, and the input side 4i of each pulse forming capacitor 4 and the other end 6n of the high-voltage power supply are connected. Are connected via a spark switch 7, and the output 4 o of each pulse forming capacitor 4 is connected to the other end 6 n of the high-voltage power supply and the cylindrical induction electrode 2 via a charging resistor 8.
【００１７】この実施例は前記円筒形誘導電極２の一端
の入口１５から被処理ガス１１を送り込んで、その他端
の出口１６から排出し、その間に該ガス中の有害物質、
例えば工場の内部あるいはトンネルの内部等における汚
染された空気中や排気ガスのＮＯX，ＳＯX，Ｈg蒸気，
Ｃｌ2，炭化水素蒸気等をコロナ放電極１と円筒形誘導
電極２の間に印加される極短パルス電圧によって生ずる
プラズマによって除去するものである。In this embodiment, the gas to be treated 11 is fed from an inlet 15 at one end of the cylindrical induction electrode 2 and discharged from an outlet 16 at the other end.
For example, NO x , SO x , Hg vapor of polluted air and exhaust gas inside a factory or inside a tunnel,
Cl 2 , hydrocarbon vapor and the like are removed by plasma generated by an extremely short pulse voltage applied between the corona discharge electrode 1 and the cylindrical induction electrode 2.
【００１８】図３のガスプラズマ処理装置は、互いに独
立した複数の箔状無端帯を重垂１７で垂下した状態のコ
ロナ放電極１の外側に被処理ガス１１を介して円筒状誘
導電極２を同心的に配設し、該各コロナ放電極１にそれ
ぞれ互いに独立したパルス成形コンデンサ４及びインダ
クタンス５を順次介入して高圧電源の一端６ｐを接続
し、該各パルス成形コンデンサ４の入力側４ｉと前記高
圧電源の他端側６ｎを火花スイッチ７を介して接続する
と共に、該各パルス成形コンデンサ４の出力側４ｏと前
記高圧電源の他端側６ｎ及び前記円筒形誘導電極２を充
電抵抗８を介して接続するものである。In the gas plasma processing apparatus shown in FIG. 3, a cylindrical induction electrode 2 is provided via a gas 11 to be processed outside a corona discharge electrode 1 in which a plurality of endless strips independent of each other are hung by a double hanger 17. Concentrically arranged, each of the corona discharge electrodes 1 is connected to one end 6p of a high-voltage power supply by intervening a pulse shaping capacitor 4 and an inductance 5 which are independent of each other. The other end 6n of the high-voltage power supply is connected via a spark switch 7, and the output side 4o of each pulse shaping capacitor 4, the other end 6n of the high-voltage power supply and the cylindrical induction electrode 2 are connected to a charging resistor 8. Is to connect through.
【００１９】この実施例は前記図２の場合と同様に、前
記円筒形誘導電極２の一端の入口１５から被処理ガス１
１を送り込んで、その他端の出口１６から排出し、その
間に該ガス中の有害物質をプラズマによって除去するも
のである。In this embodiment, as in the case of FIG. 2, the gas 1 to be treated is supplied through the inlet 15 at one end of the cylindrical induction electrode 2.
1 is discharged and discharged from the outlet 16 at the other end, during which harmful substances in the gas are removed by plasma.
【００２０】図４及び図５に示すガスプラズマ処理装置
は、互いに独立した複数の垂下した状態の線状コロナ放
電極１の外側に被処理ガス１１を介して筒状誘導電極２
を配設し、該各線状コロナ放電極１にそれぞれ互いに独
立したパルス成形コンデンサ４及びインダクタンス５を
順次介入して高圧電源の一端６ｐを接続し、該各パルス
成形コンデンサ４の入力側４ｉと前記高圧電源の他端側
６ｎを火花スイッチ７を介して接続すると共に、該各パ
ルス成形コンデンサ４の出力側４ｏと前記高圧電源の他
端側６ｎ及び前記円筒形誘導電極２を充電抵抗８を介し
て接続するものである。The gas plasma processing apparatus shown in FIGS. 4 and 5 has a cylindrical induction electrode 2 outside a plurality of hanging linear corona discharge electrodes 1 via a gas 11 to be processed.
And one end 6p of a high-voltage power supply is connected to each linear corona discharge electrode 1 by sequentially interposing a pulse shaping capacitor 4 and an inductance 5 which are independent from each other, and the input side 4i of each pulse shaping capacitor 4 and the aforementioned The other end 6n of the high-voltage power supply is connected via a spark switch 7, and the output 4o of each pulse forming capacitor 4 and the other end 6n of the high-voltage power supply and the cylindrical induction electrode 2 are connected via a charging resistor 8. Is to connect.
【００２１】この実施例も前記図２の場合と同様に、前
記円筒形誘導電極２の一端の入口１５から被処理ガス１
１を送り込んで、その他端の出口１６から排出し、その
間に該ガス中の有害物質を極短パルス電圧による電界１
７中に生ずるプラズマによって除去するものである。In this embodiment, as in the case of FIG. 2, the gas to be treated 1 is introduced through the inlet 15 at one end of the cylindrical induction electrode 2.
1 and discharged from the outlet 16 at the other end, during which harmful substances in the gas are removed by an electric field 1 by an extremely short pulse voltage.
7 to be removed by the plasma generated in.
【００２２】図６のガスプラズマ処理装置は互いに独立
した複数の垂下した状態の線状コロナ放電極１の外側に
被処理ガス１１を介して一対の板状誘導電極２を配設し
たものであり、其の他の構造は図４、図５と同様であ
る。The gas plasma processing apparatus shown in FIG. 6 has a pair of plate-like induction electrodes 2 disposed outside a plurality of hanging linear corona discharge electrodes 1 via a gas 11 to be processed. The other structures are the same as those shown in FIGS.
【００２３】図７のガスプラズマ処理装置は前述の各実
施例と同様であるので図示していないが、互いに独立し
た複数のコロナ放電極の外側に、清浄ガス２１の入口２
２と出口２３をそれぞれ形成する円筒状誘導電極を同心
的に配設してなるオゾナイザ１８の該各コロナ放電極に
それぞれ互いに独立した前記各実施例と同様のパルス成
形コンデンサ４及びインダクタンス５を順次介入して高
圧電源６の一端を接続し、該各パルス成形コンデンサ４
の入力側と前記高圧電源６の他端側を火花スイッチを介
して接続すると共に、該各パルス成形コンデンサ４の出
力側と前記高圧電源６の他端側及び前記円筒形誘導電極
を充電抵抗を介して接続し、前記清浄空気の出口２３を
被処理ガス１１のダクト２０内のノズル２４に連通し、
ここからプラズマガスを噴出してその被処理ガス１１の
ダクト２０内を通過する被処理ガス１１をプラズマ処理
して清浄ガス化するものである。The gas plasma processing apparatus of FIG. 7 is not shown because it is the same as each of the above-mentioned embodiments, but the inlet 2 of the clean gas 21 is provided outside a plurality of corona discharge electrodes independent of each other.
The corona discharge electrodes of the ozonizer 18 having concentrically arranged cylindrical induction electrodes forming the outlet 2 and the outlet 23 respectively include a pulse forming capacitor 4 and an inductance 5 which are independent of each other and are the same as those of the above embodiments. One end of the high voltage power supply 6 is connected by intervening, and each pulse shaping capacitor 4 is connected.
And the other end of the high-voltage power supply 6 is connected via a spark switch, and the output side of each pulse forming capacitor 4 and the other end of the high-voltage power supply 6 and the cylindrical induction electrode are connected to a charging resistor. And the outlet 23 of the clean air communicates with the nozzle 24 in the duct 20 for the gas to be treated 11,
The plasma gas is ejected from this, and the gas 11 to be processed passing through the duct 20 of the gas to be processed 11 is subjected to plasma processing to be converted into a clean gas.
【００２４】以上、この発明を各実施例で説明したが、
これらの実施例の図面中同一の図面符号で示された部分
はその部分の名称及び機能についてもまた同様である。
そしてまたこの発明はそれらの図面に記載されたものに
限定されるものでなく、本発明の要旨の範囲内で多少の
付加及び変更を行って実施することが可能である。As described above, the present invention has been described in each embodiment.
In the drawings of these embodiments, the parts indicated by the same reference numerals have the same names and functions.
Further, the present invention is not limited to those described in the drawings, and can be implemented with some additions and changes within the scope of the present invention.
【００２５】[0025]
【発明の効果】この発明は上述のとおりであるので、空
気中の各種有毒ガスを極短パルス放電を利用して極めて
能率的に除去することができる。Since the present invention is as described above, various toxic gases in the air can be removed very efficiently by utilizing ultrashort pulse discharge.
【００２６】さらに本発明は、コロナ放電素子と、これ
に対向する誘導電極からなる複数の放電体における該コ
ロナ放電素子に、パルス成形コンデンサと高圧電源及び
高速スイッチとからなるパルス電源の該パルス成型コン
デンサの出口側をそれぞれ接続したので、コロナ放電体
の容量を小さく分割して立ち上りを早くし、立ち上りの
早い高電圧パルスを印加することができる。また、各成
型コンデンサの容量を小さくして、立ち上りの早い高電
圧パルスを印加できると共に、プラズマ処理の際の火花
放電の発生を防止し、極めて高圧の下でしかも極短放電
としてプラズマ処理を行うことができ、従来のようにプ
ラズマガス処理を低電圧で行うことによる非能率を防止
することができる。The present invention further provides a corona discharge element,
In a plurality of discharge bodies comprising induction electrodes facing
Rona discharge element, pulse forming capacitor and high voltage power supply and
The pulse forming controller of the pulse power supply consisting of a high-speed switch
Since the outlet sides of the densa were connected, corona discharge
To reduce the capacity of the
A fast high voltage pulse can be applied. Also,
Type capacitor to reduce the
A pressure pulse can be applied , spark discharge during plasma processing can be prevented, and plasma processing can be performed under extremely high pressure and as a very short discharge. The inefficiency due to this can be prevented.
【図１】本発明の実施例における電気回路図である。FIG. 1 is an electric circuit diagram according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例を示す斜面図である。FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of the present invention.
【図３】本発明の他の実施例を示す斜面図である。FIG. 3 is a perspective view showing another embodiment of the present invention.
【図４】本発明の更に他の実施例を示す縦断面図であ
る。FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing still another embodiment of the present invention.
【図５】図４のＶ−Ｖ線部の断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line VV of FIG. 4;
【図６】図４のＶ−Ｖ線部における他の実施例を示す縦
断面図である。FIG. 6 is a vertical sectional view showing another embodiment taken along the line VV in FIG. 4;
【図７】本発明の更にまた他の実施例の一部切断正面図
である。 １ コロナ放電極 ２ 誘導電極 ３ 処理物質 ４ パルス成形コンデンサ ５ インダクタンス ６ 高圧電源 ７ 火花スイッチ ８ 充電抵抗 １１ 被処理ガスFIG. 7 is a partially cut front view of still another embodiment of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Corona discharge electrode 2 Induction electrode 3 Processing material 4 Pulse forming capacitor 5 Inductance 6 High voltage power supply 7 Spark switch 8 Charging resistance 11 Gas to be treated
Claims (6)
ケーシング内にコロナ放電素子及びこれに対向して一定
の距離だけ離れて設けた誘導電極よりなるコロナ放電体
を収め、該コロナ放電素子にパルス形成コンデンサと高
圧電源及び高速スイッチとからなるパルス電源の該パル
ス形成コンデンサの出力端を、また該誘導電極を該金属
製ケーシングと共にパルス電源の接地側に接続するガス
プラズマ処理装置において、該コロナ放電体のコロナ放
電素子を複数に分割し、かつ該パルス形成コンデンサを
各コロナ放電素子に対応して分割し、前記それぞれのコ
ロナ放電素子に前記夫々のパルス形成コンデンサの出力
端を接続することを特徴とするガスプラズマ処理装置。1. A corona discharge element and a fixed element facing the same in a metal casing having an inlet and an outlet for a gaseous substance.
Corona discharge body consisting of induction electrodes provided at a distance of
With a pulse-forming capacitor in the corona discharge element.
Pulse power supply consisting of a high-voltage switch and a high-speed switch
The output end of the capacitor and the induction electrode to the metal
Gas connected to the ground side of the pulse power supply together with the casing made of
In a plasma processing apparatus, a corona discharge of the corona discharge body is performed.
And the pulse forming capacitor is divided into a plurality of elements.
Divide corresponding to each corona discharge element, and
The output of each of the pulse forming capacitors is connected to a Rona discharge element.
A gas plasma processing apparatus characterized by connecting ends .
グを兼ねたことを特徴とする前記請求項１記載のガスプ
ラズマ処理装置。2. The gas plasma processing apparatus according to claim 1, wherein said induction electrode has a cylindrical shape and also serves as said casing.
おいて支持棒に間隔を隔てて串刺しにして、互いに独立
したコロナ放電極を、それぞれ独立の円筒状ケーシング
を兼ねた誘導電極の中心軸に該支持棒を位置せしめて同
心的に配設し、該コロナ放電極体にそれぞれ互いに独立
したパルス成形コンデンサ、及びインダクタンスを順次
介入して高圧電源の一端に接続し、該誘導電極を該高圧
電源の他端に接続し、該各パルス成形コンデンサの上記
高圧電源の一端に接続された入力側と、前記高圧電源の
他端側を高速スイッチを介して接続すると共に、該各パ
ルス成形コンデンサの出力側を、インピーダンスを介し
て前記誘導電極及び高圧電源の他端側に接続することを
特徴とする請求項１記載のガスプラズマ処理装置。3. A plurality of disc-shaped corona discharge electrodes are skewered at intervals at a support bar at the center thereof, and mutually independent corona discharge electrodes are provided on the center axis of an induction electrode serving also as an independent cylindrical casing. The support rod is positioned and arranged concentrically, and the corona discharge electrode body is connected to one end of a high voltage power supply by sequentially interposing a pulse forming capacitor and an inductance which are independent of each other, and connecting the induction electrode to the high voltage power supply. And the other end of the high-voltage power supply is connected to the other end of the high-voltage power supply via a high-speed switch. 2. The gas plasma processing apparatus according to claim 1, wherein a side of the gas plasma processing apparatus is connected to the other end of the induction electrode and the high-voltage power supply via an impedance.
属線、もしくは多数の先端部を備えた電極であることを
特徴とする前記請求項３記載のガスプラズマ処理装置。4. The gas plasma processing apparatus according to claim 3, wherein the corona discharge electrode is a long foil electrode, a linear metal wire, or an electrode having a large number of tips.
に間隔を隔てて平行に配設された複数個の金属板、又は
金属円筒であり、互いに独立したコロナ放電体のそれぞ
れが、前記金属板誘導電極、又は金属円筒誘導電極の中
間にこれと平行に配設された少なくとも一個の長形のコ
ロナ放電極よりなることを特徴とする請求項１記載のガ
スプラズマ処理装置。5. An induction electrode comprising a plurality of metal plates or metal cylinders arranged vertically in a casing and parallel to each other with a space between each other, and each of the corona discharge members independent of each other is provided by the metal plate induction. 2. The gas plasma processing apparatus according to claim 1, further comprising at least one elongated corona discharge electrode disposed in parallel with the electrode or the metal cylindrical induction electrode.
属線、もしくは多数の先端部を備えた電極であることを
特徴とする前記請求項５記載のガスプラズマ処理装置。6. The gas plasma processing apparatus according to claim 5, wherein the corona discharge electrode is a long foil electrode, a linear metal wire, or an electrode having a large number of tips.
Priority Applications (1)
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| JP8259147A JP3002865B2 (en) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | Gas plasma processing equipment |
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| JP8259147A JP3002865B2 (en) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | Gas plasma processing equipment |
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