JP2996100B2 - Manufacturing method of magnetic recording medium - Google Patents
Manufacturing method of magnetic recording mediumInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録媒体に関し、特に、高密度磁気記録に好適な磁気記
録媒体に関する。The present invention relates to a magnetic recording medium such as a magnetic disk and, more particularly, to a magnetic recording medium suitable for high-density magnetic recording.
【０００２】[0002]
【従来の技術】現在、実用に供されている磁気ディスク
等の磁気記録媒体には、２種類ある。１つは、強磁性粒
子を有機樹脂から成るバインダ−中に分散させ、これを
基板（又はベ−ス）上に塗布して得られる塗布型磁気記
録媒体（以下、塗布媒体とも称す）であり、他は強磁性
金属膜を基板（又はベ−ス）上に成膜して得られる薄膜
磁気記録媒体（以下、薄膜媒体とも称す）である。塗布
媒体は、優れた耐久性と低変調ノイズという長所を有す
るが、高密度磁気記録が困難であるという欠点がある。
一方、薄膜媒体は、高密度磁気記録には適するが、耐久
性に問題があり、また、連続膜であることに起因する高
変調ノイズも解決すべき問題である。2. Description of the Related Art Currently, there are two types of magnetic recording media, such as magnetic disks, which are put into practical use. One is a coating type magnetic recording medium (hereinafter also referred to as a coating medium) obtained by dispersing ferromagnetic particles in a binder made of an organic resin and coating the dispersion on a substrate (or base). The other is a thin film magnetic recording medium (hereinafter, also referred to as a thin film medium) obtained by forming a ferromagnetic metal film on a substrate (or base). The coating medium has the advantages of excellent durability and low modulation noise, but has the disadvantage that high-density magnetic recording is difficult.
On the other hand, a thin film medium is suitable for high-density magnetic recording, but has a problem in durability, and also has a problem to solve high modulation noise caused by a continuous film.
【０００３】そこで、塗布型媒体と薄膜媒体の両者の長
所を生かし、さらに保護膜が不必要な磁気記録媒体とし
て、Ｓ．Ｈ．Ｌｉｏｕ等によって提案されたのが、Ｇｒ
ａ−ｎｕｌａｒ Ｍｅｔａｌ Ｆｉｌｍ（以下、グラニ
ュラ薄膜とも称す）である（Ｓ．Ｈ．Ｌｉｏｕ ａｎｄ
Ｃ．Ｌ．Ｃｈｉｅｎ：Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔ
ｔ．５２（６），８ Ｆｅｂ．１９８８、Ｙ．Ｋａｎａ
ｉ ａｎｄ Ｓ．Ｈ．Ｃｈａｒａｐ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐ
ｈｙｓ．６９（８），１５ Ａｐｒ．１９９１）。Ｓ．
Ｈ．Ｌｉｏｕ等は、ＦｅとＳｉＯ2 からなる複合タ−ゲ
ットを用いたＲＦマグネトロンスパッタ法によって、非
晶質ＳｉＯ2 母材中に埋め込まれた微細な磁気粒子であ
るＦｅからなる室温での保磁力１１２５Ｏｅを有するグ
ラニュラ薄膜を得ている。Therefore, taking advantage of the advantages of both the coating type medium and the thin film medium, S.M. H. Liou et al. Proposed Gr.
a-null Metal Film (hereinafter also referred to as a granular thin film) (SH Liou and
C. L. Chien: Appl. Phys. Let
t. 52 (6), 8 Feb. 1988, Y. Kana
i and S.I. H. Charap: J.A. Appl. P
hys. 69 (8), 15 Apr. 1991). S.
H. Liou et al. Have a coercive force at room temperature of 1125 Oe made of Fe, which is fine magnetic particles embedded in an amorphous SiO 2 base material, by an RF magnetron sputtering method using a composite target made of Fe and SiO 2. Is obtained.
【０００４】このグラニュラ薄膜を、磁気記録媒体とし
て使用するとき、母材が硬質の非晶質ＳｉＯ2 であるこ
とにより、磁気記録再生の際に摺接する磁気ヘッドか
ら、必然的に磁気ヘッドと媒体間のスペ−シングも小さ
くすることが可能と考えられ、変調ノイズの小さい高磁
気記録密度を有する磁気記録媒体として、更なる高特性
が期待されている。When this granular thin film is used as a magnetic recording medium, since the base material is hard amorphous SiO 2, it is inevitable that the magnetic head that slides during magnetic recording / reproducing will be in contact with the magnetic head. It is considered possible to reduce the spacing between them, and further higher characteristics are expected as a magnetic recording medium having a high magnetic recording density with small modulation noise.
【０００５】そこで、本出願人は、先に、高周波バイア
ス（以下、単にＲＦバイアスと称す）を印加して薄膜を
形成した後、高熱処理を施して磁気記録媒体を得る製造
法の提案をした（特願平５−２６５７２７号（平成５年
９月２９日出願））。Accordingly, the present applicant has previously proposed a manufacturing method for obtaining a magnetic recording medium by forming a thin film by applying a high frequency bias (hereinafter simply referred to as an RF bias) and then performing a high heat treatment. (Japanese Patent Application No. 5-265727 (filed on September 29, 1993)).
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記出願の
製造法によれば、高磁気記録密度を有する磁気記録媒体
として、更なる高特性の期待が持てるものの、高熱処理
という後工程が増えると共に、高熱処理を施すために、
使用する基板も制約を受け、高価格化につながてしま
う、と言う問題点が生じるものであった。However, according to the manufacturing method of the application, although a magnetic recording medium having a high magnetic recording density can be expected to have higher characteristics, the number of post-processes called high heat treatment increases, and In order to perform high heat treatment,
There is a problem that the substrate to be used is also restricted, which leads to an increase in price.
【０００７】そこで、本発明は上記の点に着目して成さ
れたものであり、保磁力の向上を図り、高密度磁気記録
に適し、変調ノイズが小く、耐久性に優れ、しかも、製
造工程が簡略化でき、基板材料に制約されることのない
安価な磁気記録媒体を提供することにある。Therefore, the present invention has been made in view of the above points, and aims at improving the coercive force, suitable for high-density magnetic recording, small in modulation noise, excellent in durability, and manufactured. An object of the present invention is to provide an inexpensive magnetic recording medium whose process can be simplified and is not restricted by the material of the substrate.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するための手段として、以下の方法を提供するもので
ある。即ち、所定温度に加熱した非磁性基板上に非磁性
絶縁体及び強磁性体から成る複合磁性層をスパッタリン
グ法により形成する磁気記録媒体の製造方法において、
スパッタリングガスとしてＮｅガスを用い、前記非磁性
絶縁体及び強磁性体から成る複合タ−ゲットに高周波電
力を印加すると共に、前記非磁性基板にバイアス高周波
電力を印加して前記複合磁性層を形成するようにしたこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。The present invention provides the following method as means for achieving the above object. That is, in a method for manufacturing a magnetic recording medium, a composite magnetic layer comprising a nonmagnetic insulator and a ferromagnetic material is formed on a nonmagnetic substrate heated to a predetermined temperature by a sputtering method.
Using a Ne gas as a sputtering gas, a high frequency power is applied to the composite target comprising the nonmagnetic insulator and the ferromagnetic material, and a bias high frequency power is applied to the nonmagnetic substrate to form the composite magnetic layer. A method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that:
【０００９】[0009]
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の一実施例に
つき説明する。まず、本発明の実施例に係る方法を適用
するためのスパッタリング装置につき説明する。図１は
その概略構成図である。同図において、１０は真空層
で、図示しない真空排気系によって内部が真空にされる
ようになっている。また、１１はガス導入口で、Ｎｅガ
スが導入される。この真空層１０は電気的に接地され、
内部には略直径６インチのタ−ゲット４が配置されてい
る。このタ−ゲット４は真空層１０とは絶縁された図示
しない電極に固定されている略直径６インチのタ−ゲッ
ト４が配置されている。タ−ゲット４の材質は、磁気記
録媒体の母材を構成する絶縁体であり、このタ−ゲット
４上には、所定の形状のチップ５が所定の枚数配置され
ており、チップ５の材質は磁気記録媒体内の磁気粒子と
なる磁性体である。電極には、電流導電端子３を通し
て、電源周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源２が接続
されており、高周波電源２は、ここには図示しないマッ
チングボックスを介して、接地されている。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, a sputtering apparatus for applying the method according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic configuration diagram thereof. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a vacuum layer, the inside of which is evacuated by a vacuum exhaust system (not shown). Reference numeral 11 denotes a gas introduction port into which Ne gas is introduced. This vacuum layer 10 is electrically grounded,
A target 4 having a diameter of approximately 6 inches is disposed inside. The target 4 has a diameter of about 6 inches and is fixed to an electrode (not shown) insulated from the vacuum layer 10. The material of the target 4 is an insulator constituting the base material of the magnetic recording medium. Is a magnetic material that becomes magnetic particles in the magnetic recording medium. A high-frequency power supply 2 having a power supply frequency of 13.56 MHz is connected to the electrodes through a current conductive terminal 3, and the high-frequency power supply 2 is grounded via a matching box (not shown).
【００１０】一方、真空層１０内には、タ−ゲット４に
向かい合って真空層１０とは電気的に絶縁されて固定保
持されている電極７が配置されている。電極７のタ−ゲ
ット４側には、磁気記録媒体を形成するための非磁性基
板６を取り付けることができるようになっている（電極
７は基板ホルダ−を兼ねる）。また、電極７には、電流
導入端子８を通して、電源周波数１３．５６ＭＨｚのバ
イアス用高周波電源９が接地されており、このバイアス
用高周波電源９は、ここには図示しないマッチングボッ
クスを介して、接地されている。On the other hand, an electrode 7 is disposed in the vacuum layer 10 so as to face the target 4 and to be electrically insulated from the vacuum layer 10 and fixedly held therein. A non-magnetic substrate 6 for forming a magnetic recording medium can be mounted on the target 4 side of the electrode 7 (the electrode 7 also serves as a substrate holder). The electrode 7 is grounded via a current introducing terminal 8 to a bias RF power source 9 having a power frequency of 13.56 MHz. The bias RF power source 9 is grounded via a matching box (not shown). Have been.
【００１１】このスパッタリング装置によれば、高周波
電源２より供給される電力によりチップ５及びタ−ゲッ
ト４がスパッタされ、非磁性基板６に印加されるバイア
ス用高周波電源９からの電力により、非磁性基板６上で
エッチングされながら成膜する構造になっている。According to this sputtering apparatus, the chip 5 and the target 4 are sputtered by the power supplied from the high-frequency power supply 2, and the non-magnetic substrate is sputtered by the power from the high-frequency power supply 9 for bias applied to the non-magnetic substrate 6. The structure is such that a film is formed while being etched on the substrate 6.
【００１２】次に、このスパッタリング装置を使用し
て、本実施例の磁気記録媒体の製造方法につき説明す
る。非磁性基板６として、直径９５ｍｍのガラス基板を
使用した。タ−ゲット４には、直径６インチのＳｉＯ2
を使用した。チップ５には、Ｆｅ（サイズは５×５×１
ｍｍである）を使用した。まず、非磁性基板６を、スパ
ッタリング装置の基板ホルダ−（電極７であり、この時
の表面積は４９０ｃｍ2 であった）の所定の位置にセッ
トし、タ−ゲット４の表面に対して、略２０％の面積比
率で、所定枚数のチップ５をタ−ゲット上に配置し、真
空排気を行った。到達真空度は、１×１０-4Ｐａであっ
た。Next, a method for manufacturing the magnetic recording medium of this embodiment using this sputtering apparatus will be described. As the non-magnetic substrate 6, a glass substrate having a diameter of 95 mm was used. The target 4 is made of SiO 2 having a diameter of 6 inches.
It was used. The chip 5 has Fe (size 5 × 5 × 1).
mm). First, the non-magnetic substrate 6 is set at a predetermined position on a substrate holder (the electrode 7, the surface area of which is 490 cm 2 at this time) of the sputtering apparatus. A predetermined number of chips 5 were placed on the target at an area ratio of 20%, and the vacuum evacuation was performed. The ultimate vacuum was 1 × 10 −4 Pa.
【００１３】次に、Ｎｅガス圧力を１Ｐａ、基板加熱温
度を３００℃、タ−ゲット基板間を５０ｍｍ、スパッタ
リング電力（高周波２からの電力）を３００Ｗとするス
パッタ条件で、グラニュラ薄膜を１００ｎｍ成膜した。
この時、非磁性基板６に印加したバイアス高周波電力
（バイアス高周波電源９からの電力）は、０Ｗ、４０
Ｗ、８０Ｗ及び１２０Ｗの４種類とし、それぞれについ
て成膜し、グラニュラ薄膜からなる磁気記録媒体を得
た。尚、高周波電力の位相合わせは特に行ってはいな
い。Next, a 100 nm granular thin film is formed under the sputtering conditions of Ne gas pressure of 1 Pa, substrate heating temperature of 300 ° C., target substrate distance of 50 mm, and sputtering power (power from high frequency 2) of 300 W. did.
At this time, the high-frequency bias power applied to the non-magnetic substrate 6 (the power from the high-frequency bias power supply 9) is 0 W
Four types of W, 80 W and 120 W were formed, and a film was formed for each of them to obtain a magnetic recording medium composed of a granular thin film. The phase adjustment of the high-frequency power is not particularly performed.
【００１４】図２は、本実施例の方法により製造された
磁気記録媒体のＲＦバイアスパワ−（Ｗ）と保磁力（Ｏ
ｅ）との関係を示した図である。同図に示したように、
ＲＦバイアスパワ−は１２０Ｗでピ−クを示し、その時
の保磁力は１１５０（Ｏｅ）となっている。ＲＦバイア
スパワ−を余り大きくしてしまうと、成膜速度が遅く成
るため、ＲＦバイアスパワ−の最適値は８０Ｗが適当と
思われる。FIG. 2 shows the RF bias power (W) and the coercive force (O) of the magnetic recording medium manufactured by the method of this embodiment.
FIG. 11 is a diagram showing a relationship with FIG. As shown in the figure,
The RF bias power shows a peak at 120 W, and the coercive force at that time is 1150 (Oe). If the RF bias power is too large, the film forming rate will be slow. Therefore, the optimum value of the RF bias power seems to be 80 W.
【００１５】図３は、本実施例の比較例１として作成し
た磁気記録媒体の前記図２と同様の図である。この比較
例１の磁気記録媒体は、スパッタリングガスとしてＡｒ
ガスを用いた他は、前記実施例と同様の製造方法で成膜
したものである。同図に示すように、ＲＦバイアスパワ
−が１２０Ｗのところでピ−クを示し、その時の保磁力
が８１０（Ｏｅ）で、全体的に前記実施例の場合に比
べ、低い保磁力となっている。FIG. 3 is a view similar to FIG. 2 of the magnetic recording medium prepared as Comparative Example 1 of the present embodiment. The magnetic recording medium of Comparative Example 1 uses Ar gas as a sputtering gas.
Except that gas was used, a film was formed by the same manufacturing method as in the above embodiment. As shown in the figure, a peak is shown when the RF bias power is 120 W, and the coercive force at that time is 810 (Oe), which is a lower coercive force as compared with the case of the above embodiment.
【００１６】また、図４は、同様に比較例２として作成
した磁気記録媒体の前記と同様の関係図である。この時
の磁気記録媒体は、スパッタリングガスとしてＸｅガス
を用いた他は、前記実施例と同様の製造方法で成膜した
ものである。この磁気記録媒体の場合には、ＲＦバイア
スパワ−が８０Ｗのところでピ−クを示し、その時の保
磁力が３００（Ｏｅ）で、前記実施例に比べ、はるかに
低い値となっている。このように本実施例の方法によれ
ば、保磁力の点において、他の比較例のものより優れて
いることが分かる。FIG. 4 is a relational diagram similar to the above for a magnetic recording medium similarly produced as Comparative Example 2. At this time, the magnetic recording medium was formed by the same manufacturing method as in the above-mentioned embodiment except that Xe gas was used as the sputtering gas. In the case of this magnetic recording medium, a peak is shown when the RF bias power is 80 W, and the coercive force at that time is 300 (Oe), which is much lower than that of the embodiment. As described above, according to the method of the present example, it is understood that the coercive force is superior to those of the other comparative examples.
【００１７】次に、ノイズの面において検証してみる。
図５（ａ）は、本実施例の製造方法によって作製された
磁気記録媒体の概略断面図で、図５（ｂ）はノイズスペ
クトラムを示した図である。この図５（ｂ）は変調ノイ
ズ（信号を記録した時のノイズ）、システムノイズ及び
ＤＣ消去ノイズ（信号を記録してＤＣ消去した後のノイ
ズ）について示した図である。横軸に周波数を、縦軸に
電圧を示した図である。Next, verification will be made in terms of noise.
FIG. 5A is a schematic cross-sectional view of a magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, and FIG. 5B is a diagram illustrating a noise spectrum. FIG. 5B is a diagram showing modulation noise (noise when a signal is recorded), system noise, and DC erasing noise (noise after a signal is recorded and DC-erased). FIG. 3 is a diagram showing a frequency on a horizontal axis and a voltage on a vertical axis.
【００１８】この時の測定には次の構成の薄膜ヘッドを
使用した。 トラック幅 ８μｍ コイル巻き数 ５０タ−ン ギャップ長 ０．３μｍ 薄膜ヘッドの媒体に対する浮上量 ０．０５μｍ（線
速度：７．６ｍ／ｓ） 記録密度 ４３．４ｋＦＣＩ 記録周波数帯域 ２０ＭＨｚ Ｒｅｓ．Ｂ．Ｗ．（Resolution Band Width ） １０
０ｋＨｚ Ｖｉｄ．Ｂ．Ｗ．（Video Band Width ） ３０
０ＨｚFor the measurement at this time, a thin film head having the following configuration was used. Track width 8 μm Number of coil turns 50 Turn gap length 0.3 μm Flying height of the thin film head with respect to the medium 0.05 μm (linear velocity: 7.6 m / s) Recording density 43.4 kFCI Recording frequency band 20 MHz Res. B. W. (Resolution Band Width) 10
0 kHz Vid. B. W. (Video Band Width) 30
0Hz
【００１９】図５（ｂ）によれば、各３つのノイズが重
なっており、それぞれが判別しにくい。即ち、媒体ノイ
ズが極端に低いこと示している。According to FIG. 5B, each of the three noises overlaps, and it is difficult to distinguish each of them. That is, it indicates that the medium noise is extremely low.
【００２０】一方、図６は図５に対応する比較例で、図
６（ａ）は、一般的な薄膜磁気記録媒体の概略構成図
で、図６（ｂ）はそれのノイズスペクトラムである。同
図によれば、システムノイズに対し、ＤＣノイズ及び変
調ノイズがはっきりと現われ、特に、変調ノイズにおい
ては低周波数領域に多く現われている。このことから、
本実施例の製造方法より成る磁気記録媒体は、ノイズ面
からも従来の記録媒体に比べ、優れていることが分か
る。FIG. 6 is a comparative example corresponding to FIG. 5, and FIG. 6A is a schematic configuration diagram of a general thin film magnetic recording medium, and FIG. 6B is a noise spectrum thereof. According to the figure, DC noise and modulation noise clearly appear with respect to system noise, and particularly, modulation noise appears more frequently in a low frequency region. From this,
It can be seen that the magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method of this embodiment is superior to the conventional recording medium also in terms of noise.
【００２１】従って、上述した検証結果から本実施例の
製造方法によれば、保磁力の面からも、ノイズの面から
も、優れた結果が得られ、特に、高保磁力を得るため
に、成膜後に基板を高温加熱する工程もなく、製造が簡
略化されると共に、基板材料に制約を受けること無く、
安価な磁気記録媒体を提供できる。尚、本実施例では、
磁気記録媒体を磁気ディスクの具体例で示したが、磁気
テ−プであっても、当然に適用できるものである。Therefore, according to the manufacturing method of the present embodiment, excellent results can be obtained in terms of coercive force as well as noise in view of the above verification results. There is no step of heating the substrate to a high temperature after the film, simplifying the production and without restricting the substrate material.
An inexpensive magnetic recording medium can be provided. In this embodiment,
Although the magnetic recording medium has been shown as a specific example of a magnetic disk, it is naturally applicable to a magnetic tape.
【００２２】[0022]
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、保磁力の向
上が図れ、高密度磁気記録に適し、変調ノイズが小く、
耐久性に優れた磁気記録媒体を提供できる。特に、高保
磁力を得るために、成膜後に基板を高温加熱する工程も
なく、製造が簡略化されると共に、基板材料に制約を受
けること無く、安価な磁気記録媒体を提供できる等の効
果を奏する。According to the manufacturing method of the present invention, the coercive force can be improved, suitable for high-density magnetic recording, the modulation noise is small,
A magnetic recording medium with excellent durability can be provided. Particularly, in order to obtain a high coercive force, there is no step of heating the substrate to a high temperature after the film formation, the production is simplified, and an effect is provided that an inexpensive magnetic recording medium can be provided without being restricted by the substrate material. Play.
【図１】本発明の実施例に係る方法を適用するためのス
パッタリング装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a sputtering apparatus for applying a method according to an embodiment of the present invention.
【図２】本実施例の方法により製造された磁気記録媒体
の高周波（ＲＦ）バイアスパワ−（Ｗ）と保磁力（Ｏ
ｅ）との関係を示した図である。FIG. 2 shows a high frequency (RF) bias power (W) and a coercive force (O) of a magnetic recording medium manufactured by the method of the present embodiment.
FIG. 11 is a diagram showing a relationship with FIG.
【図３】比較例１として作成した磁気記録媒体の図２と
同様の図である。FIG. 3 is a diagram similar to FIG. 2 of a magnetic recording medium created as Comparative Example 1.
【図４】比較例２として作成した磁気記録媒体の図２と
同様の図である。FIG. 4 is a view similar to FIG. 2 of a magnetic recording medium created as Comparative Example 2.
【図５】（ａ）は、本実施例の製造方法によって作製さ
れた磁気記録媒体の概略断面図である。（ｂ）は、その
ノイズスペクトラムを示した図である。FIG. 5A is a schematic cross-sectional view of a magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment. (B) is a diagram showing the noise spectrum.
【図６】（ａ）は、一般的な薄膜磁気記録媒体の概略構
成図である。（ｂ）は、そのノイズスペクトラムを示し
た図である。FIG. 6A is a schematic configuration diagram of a general thin-film magnetic recording medium. (B) is a diagram showing the noise spectrum.
２ 高周波電源 ４ タ−ゲット ５ チップ ６ 非磁性基板 ７ 電極 ９ バイアス用高周波電源 １０ 真空層 １１ ガス導入口 2 High frequency power supply 4 Target 5 Chip 6 Non-magnetic substrate 7 Electrode 9 High frequency power supply for bias 10 Vacuum layer 11 Gas inlet
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｆ 41/18 Ｈ０１Ｆ 41/18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01F 41/18 H01F 41/18
Claims (1)
絶縁体及び強磁性体から成る複合磁性層をスパッタリン
グ法により形成する磁気記録媒体の製造方法において、 スパッタリングガスとしてＮｅガスを用い、前記非磁性
絶縁体及び強磁性体から成る複合タ−ゲットに高周波電
力を印加すると共に、前記非磁性基板にバイアス高周波
電力を印加して前記複合磁性層を形成するようにしたこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。In a method for manufacturing a magnetic recording medium, a composite magnetic layer comprising a nonmagnetic insulator and a ferromagnetic material is formed on a nonmagnetic substrate heated to a predetermined temperature by a sputtering method, wherein Ne gas is used as a sputtering gas. A high frequency power is applied to the composite target comprising the non-magnetic insulator and the ferromagnetic material, and a bias high frequency power is applied to the non-magnetic substrate to form the composite magnetic layer. A method for manufacturing a magnetic recording medium.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6197359A JP2996100B2 (en) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | Manufacturing method of magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP6197359A JP2996100B2 (en) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | Manufacturing method of magnetic recording medium |
Publications (2)
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| JPH0845073A JPH0845073A (en) | 1996-02-16 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2000020937A (en) | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium and magnetic storage device using the same |
-
1994
- 1994-07-29 JP JP6197359A patent/JP2996100B2/en not_active Expired - Fee Related
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