JP2995067B2 - Draining / drying device and draining / drying method using chlorine-based organic solvent - Google Patents
Draining / drying device and draining / drying method using chlorine-based organic solventInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、水切り・乾燥方法及びその装置に関し、詳
しくは、塩素系有機溶剤を使用して、水で湿潤した加工
部品等の被水切り・乾燥物の水切り・乾燥を行う方法及
び当該方法に適用する装置に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method and apparatus for draining and drying, and more particularly, to a method for draining and draining processed parts and the like wetted with water using a chlorine-based organic solvent. The present invention relates to a method for draining and drying a dried product and an apparatus applied to the method.
機械部品、電子機器部品等は、その加工の過程、例え
ば、メッキ工程或いは研磨工程において水洗が行われる
が、この工程を経て水で湿潤した（水が付着した）部品
は、その後の工程等に供するために水切り・乾燥を行う
必要がある。Mechanical parts, electronic equipment parts, and the like are washed with water in the process of processing, for example, a plating step or a polishing step, and the parts wetted with water (water adhered) through this step are subjected to subsequent steps and the like. It is necessary to drain and dry in order to serve.
現在、この水切り・乾燥には界面活性剤を含む1,1,2
−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン（フロン−1
13）を使用する方法が広く採用されている。Currently, this draining and drying includes surfactants including 1,1,2
-Trichloro-1,2,2-trifluoroethane (CFC-1
13) The method of using is widely adopted.
しかし、フロン−113は、フロン−11及びフロン−12
と共に、成層圏のオゾン層を破壊し、その結果として生
態系へ重大な影響を及ぼすことが指摘され、その生産、
放出を規制し、使用量を削減し、或いは生産・使用を禁
止しようとする全世界的な動きが活発化している。この
ため、フロン−113に代わる新たな溶剤を使用する水切
り・乾燥方法の開発が強く望まれている。However, Freon-113 is not Freon-11 and Freon-12.
At the same time, it has been pointed out that the ozone layer in the stratosphere is destroyed, resulting in serious effects on ecosystems.
There is a growing worldwide movement to regulate emissions, reduce usage, or ban production and use. Therefore, development of a draining / drying method using a new solvent instead of CFC-113 is strongly desired.
フロンより洗浄力が強いトリクロロエチレン、パーク
ロロエチレン、或いは1,1,1−トリクロロエタン等の塩
素系有機溶剤は、大気中における寿命が短く、オゾン層
に対する影響が少ないことから、フロンの代わりに使用
可能なものとして注目されている。Chlorinated organic solvents such as trichloroethylene, perchlorethylene, and 1,1,1-trichloroethane, which have a higher detergency than chlorofluorocarbons, can be used in place of chlorofluorocarbons because they have a short life in the atmosphere and have little effect on the ozone layer. Is attracting attention.
しかしながら、上記塩素系有機溶剤は、洗浄力の点で
はフロンより優れているものの、フロンに比して化学的
に不安定であるあため、分解して機械部品等の発錆の原
因となる塩化水素を発生しやすい欠点がある。また、場
合によって水溶性の汚れがワークに残るという欠点もあ
る。However, the above-mentioned chlorine-based organic solvent is superior to chlorofluorocarbon in terms of detergency, but is chemically unstable compared to chlorofluorocarbon, so it is decomposed and causes rusting of machine parts and the like. There is a disadvantage that hydrogen is easily generated. There is also a drawback that water-soluble stains may remain on the work in some cases.
従って、本発明の目的は、塩素系有機溶剤を使用して
被水切り・乾燥物の水切り・乾燥を行うに際し、該塩素
系有機溶剤の分解を抑制するとともに、水溶性の汚れが
被水切り・乾燥物の表面に残ることを確実に防止できる
水切り・乾燥方法及びそれに適用する水切り・乾燥装置
を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention is to suppress the decomposition of the chlorine-based organic solvent when draining and drying the dried and dried product using a chlorine-based organic solvent, and to remove water-soluble stains by draining and drying. An object of the present invention is to provide a draining / drying method and a draining / drying apparatus applicable to the draining / drying method, which can surely prevent remaining on the surface of an object.
本発明は、安定剤及び界面活性剤を含有する５〜50℃
の、トリクロロエチレン又はパークロロエチレンから選
択される塩素系有機溶剤に、被水切り・乾燥物を浸漬
し、該被水切り・乾燥物に対する水切りを行なった後、
何れも安定剤を含有する、沸騰塩素系有機溶剤及び冷塩
素系有機溶剤に順次上記被水切り・乾燥物を浸漬し、更
に、上記被水切り・乾燥物を塩素系有機溶剤の高濃度加
熱蒸気中に位置させ、その表面に塩素系有機溶剤蒸気を
凝縮させて該被水切り・乾燥物の乾燥を行うことを特徴
とする、塩素系有機溶剤を使用する水切り・乾燥方法を
提供することにより、上記目的を達成したものである。The present invention comprises a stabilizer and a surfactant at 5 to 50 ° C.
The, after immersing the drained / dried material in a chlorine-based organic solvent selected from trichlorethylene or perchlorethylene, and after draining the drained / dried material,
Both contain stabilizers, immerse the drained and dried product in boiling chlorine-based organic solvent and cold chlorine-based organic solvent sequentially, and further, the water-dried and dried product is heated in a high-concentration heated steam of chlorine-based organic solvent. By condensing the chlorine-based organic solvent vapor on the surface thereof and drying the dried and dried product, by providing a draining and drying method using a chlorine-based organic solvent, The purpose has been achieved.
また、本発明は、上記水切り・乾燥方法に適用して好
適な水切り・乾燥装置として以下の装置を提供するもの
である。Further, the present invention provides the following apparatus as a suitable draining / drying apparatus applied to the above-mentioned draining / drying method.
水切り浴槽及び該水切り浴槽に連接された水分離槽、
沸騰浴槽、冷浴槽並びに蒸気槽がそれぞれ周壁内底部に
配設され、且つ該周壁内上部には、冷却コイルが配設さ
れており、 上記水切り浴槽には、安定剤及び界面活性剤を含有す
る、トリクロロエチレン又はパークロロエチレンから選
択される塩素系有機溶剤が５〜５℃で貯留され、 上記水分離槽には、上記水切り浴槽を塩素系有機溶剤
と共にオーバーフローした水が貯留されると同時に、分
離して上層に位置する水が分取・除去され、下層に位置
する塩素系有機溶剤が上記水切り浴槽に還流されるよう
になされ、 上記沸騰浴槽には、安定剤を含む沸騰塩素系有機溶剤
が貯留されるとともに、上記冷浴槽に貯留されている安
定剤を含む塩素系有機溶剤がオーバーフローして流入さ
れるようになされ、且つ該沸騰浴槽からは、塩素系有機
溶剤の一部が上記蒸気槽に流出するようになされ、 上記冷浴槽には、上記冷却コイルで凝縮された塩素系
有機溶剤が流入されるようになされていることを特徴と
する、塩素系有機溶剤を使用する水切り・乾燥装置。A draining tub and a water separation tank connected to the draining tub,
A boiling tub, a cooling tub, and a steam tub are respectively disposed at the bottom of the inner peripheral wall, and a cooling coil is disposed at an upper portion of the inner peripheral wall. The drainage tub contains a stabilizer and a surfactant. , A chlorine-based organic solvent selected from trichlorethylene or perchlorethylene is stored at 5 to 5 ° C., and water that overflows the drainage bath with the chlorine-based organic solvent is stored in the water separation tank, and separated at the same time. Then, the water located in the upper layer is separated and removed, and the chlorine-based organic solvent located in the lower layer is returned to the drainage bath. The boiling chlorine-containing organic solvent containing the stabilizer contains a boiling chlorine-based organic solvent. While being stored, the chlorine-based organic solvent containing the stabilizer stored in the cold bath is made to overflow and flow in, and from the boiling bath, the chlorine-based organic solvent is removed. The chlorinated organic solvent condensed in the cooling coil is introduced into the cold tub, and the chlorinated organic solvent is used in the cold tub. Draining and drying equipment.
本発明においては、塩素系有機溶剤が安定化されてい
るため、塩素系有機溶剤の分解に起因する被水切り・乾
燥物（以下、ワークともいう）等に対する発錆が防止さ
れ、且つ水切りを塩素系有機溶剤と水との共沸温度以下
で行うため、ワーク表面に水溶性の汚れが残存すること
が防止される。In the present invention, since the chlorine-based organic solvent is stabilized, rusting of the drained / dried material (hereinafter also referred to as a work) or the like due to the decomposition of the chlorine-based organic solvent is prevented, and the drainage is performed with chlorine. Since the temperature is lower than the azeotropic temperature of the system organic solvent and water, water-soluble stains are prevented from remaining on the work surface.
以下、本発明について詳細に説明するが、初めに図面
を参照しながら、水切り・乾燥装置について説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, a drainer / dryer will be described with reference to the drawings.
第１図は、本発明の一実施例である水切り・乾燥装置
を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a drainer / dryer according to an embodiment of the present invention.
本発明の水切り・乾燥装置は、水切り浴槽１及び該水
切り浴槽１に連接された水分離槽２、沸騰浴槽３、冷浴
槽４並びに蒸気槽５がそれぞれ周壁６の内側底部に配設
され、且つ該周壁６の内側上部には、常時冷却水等の冷
媒が流れている冷却コイル７が配設されており、全体が
一体化されてなるものである。In the draining / drying device of the present invention, a draining tub 1 and a water separation tank 2, a boiling tub 3, a cooling tub 4, and a steam tank 5 connected to the draining tub 1 are respectively disposed on the inner bottom of the peripheral wall 6, and A cooling coil 7 in which a coolant such as cooling water is constantly flowing is disposed on the upper inside of the peripheral wall 6, and is integrally formed as a whole.
上記水切り浴槽１には、安定剤及び界面活性剤を含む
塩素系有機溶剤が５〜50℃で貯留されており、また、上
記水分離槽２には、上記水切り浴槽を塩素系有機溶剤と
共にオーバーフロした水が貯留されるようになされてお
り、貯留された該含水塩素系有機溶剤は２層に分離す
る。A chlorine-based organic solvent containing a stabilizer and a surfactant is stored at 5 to 50 ° C. in the draining tub 1, and the draining tub is overflowed with the chlorine-based organic solvent in the water separation tank 2. The flown water is stored, and the stored chlorinated organic solvent is separated into two layers.
そして、分離して上層に位置する水が配管８により分
取・除去され且つ下層に位置する塩素系有機溶剤がポン
プ９により配管10を介して上記水切り浴槽１に還流さ
れ、該塩素系有機溶剤は上記水切り浴槽１と上記水分離
槽２との間で循環されるようになされている。Then, water separated and located in the upper layer is separated and removed by the pipe 8, and the chlorinated organic solvent located in the lower layer is returned to the drainage bath 1 via the pipe 10 by the pump 9, and the chlorinated organic solvent is removed. Is circulated between the draining bath 1 and the water separating bath 2.
また、上記沸騰浴槽３には、安定剤を含む沸騰塩素系
有機溶剤が貯留されるとともに、上記冷浴槽４に貯留さ
れている安定剤を含む塩素系有機溶剤がオーバーフロー
して流入されるようになされ、且つ該沸騰浴槽３から
は、塩素系有機溶剤の一部が配管11を介して上記蒸気槽
５に流出するようになされている。In addition, the boiling bath 3 contains a boiling chlorine-based organic solvent containing a stabilizer, and the chlorine-based organic solvent containing the stabilizer stored in the cold bath 4 overflows and flows in. In addition, a part of the chlorine-based organic solvent flows out of the boiling bath 3 into the steam bath 5 through a pipe 11.
また、上記冷浴槽４には、沸騰浴槽３及び蒸気槽５等
から蒸発し、上記冷却コイル７で凝縮された塩素系有機
溶剤が配管12を介して流入されるようになされており、
該溶剤蒸気が外部に洩れることが防止されている。In addition, the chlorine-based organic solvent evaporated from the boiling bath 3 and the steam bath 5 and condensed by the cooling coil 7 flows into the cooling bath 4 through the pipe 12.
The solvent vapor is prevented from leaking to the outside.
更に、上記沸騰浴槽３及び上記蒸気槽５には、貯留さ
れている塩素系有機溶剤を加熱するためヒータ13がそれ
ぞれ配設され、上記配管12の途中には、水分離及び／又
は脱酸の機能を有する脱水・脱酸装置14が介設されてい
る。Further, the boiling bath 3 and the steam bath 5 are provided with heaters 13 for heating the stored chlorine-based organic solvent, respectively. In the middle of the pipe 12, water is separated and / or deoxidized. A dehydrating / deoxidizing device 14 having a function is interposed.
このように、脱水・脱酸装置14を設置すると、凝縮し
た塩素系有機溶剤が該装置14を通過するだけで該塩素系
有機溶剤から水及び／又は酸が除去されるため、塩素系
有機溶剤の劣化を有効に防止できるので好ましい。As described above, when the dehydrating / deoxidizing device 14 is installed, water and / or acid is removed from the condensed chlorinated organic solvent only by passing the condensed chlorinated organic solvent through the device 14. This is preferable because the deterioration of can be effectively prevented.
次に、上で詳述した第１図の水切り・乾燥装置を用い
る本発明方法の一実施態様について説明する。尚、図中
Ａで示す矢印は被水切り・乾燥物（ワーク）を処理する
際の移動方向を示している。Next, one embodiment of the method of the present invention using the draining / drying apparatus of FIG. 1 described in detail above will be described. The arrow indicated by A in the drawing indicates the moving direction when processing the drained / dried material (work).
先ず、ワーク（図示せず）を、上記水切り槽１に浸漬
する。この浸漬により界面活性剤と水との置換が行わ
れ、ワークに付着している水の大部分が除去され、該ワ
ークの水切りがなされる。この除去された水は、塩素系
有機溶剤との比重差により水切り槽１の表面に浮上する
ので、オーバーフローにより該水を一部塩素系有機溶剤
と共に、水分離槽２に移行する。上記水分離槽２では、
同様に表面側（上層）に水が位置するため、該水分離層
２の上部に設けられている配管８により水を系外に除去
する。また、下層には、塩素系有機溶剤が位置している
ため、該塩素系有機溶剤を配管10を通して上記水切り浴
槽１へ還流させる。First, a work (not shown) is immersed in the drain tank 1. By this immersion, the surfactant is replaced with water, most of the water adhering to the work is removed, and the work is drained. Since the removed water floats on the surface of the draining tank 1 due to a difference in specific gravity with the chlorine-based organic solvent, the water is partially transferred to the water separation tank 2 together with the chlorine-based organic solvent by overflow. In the water separation tank 2,
Similarly, since water is located on the surface side (upper layer), the water is removed from the system by a pipe 8 provided above the water separation layer 2. Further, since a chlorine-based organic solvent is located in the lower layer, the chlorine-based organic solvent is returned to the drainage bath 1 through the pipe 10.
ここで、水切り浴槽１における塩素系有機溶剤の温度
は５〜50℃の範囲にする。塩素系有機溶剤の温度を50℃
より高くすると、該塩素系有機溶剤と水との共沸が、塩
素系有機溶剤の沸点以下の温度でも起こり、これが原因
で水溶性の汚れがワークに残ることになるので好ましく
ない。また、ワークの材質が、銅、亜鉛等を含むもので
ある場合は、該ワークが腐食される虞れもある。逆に、
５℃未満とした場合は水切り効果が低下し、ワークの長
時間浸漬が必要となるので好ましくない。また、上記水
切り浴槽１では、水切り効果を高めるために界面活性剤
が添加されている。Here, the temperature of the chlorine-based organic solvent in the drainage bath 1 is set in the range of 5 to 50 ° C. Chlorine organic solvent temperature 50 ℃
If the temperature is higher, azeotropy between the chlorine-based organic solvent and water occurs even at a temperature equal to or lower than the boiling point of the chlorine-based organic solvent, which causes water-soluble stains to remain on the work. Further, when the material of the work contains copper, zinc, or the like, the work may be corroded. vice versa,
If the temperature is lower than 5 ° C., the draining effect is reduced, and the work must be immersed for a long time, which is not preferable. Further, in the drainage tub 1, a surfactant is added to enhance the drainage effect.
続いて、上記ワークを水切り槽１から引き上げ、界面
活性剤が付着したこのワークを沸騰浴槽３に浸漬させ
る。この沸騰浴槽３では水切り浴槽１で除去できなかっ
た極微量の水分が界面活性剤と共に除去される。その
際、この沸騰浴槽３では、塩素系有機溶剤が沸点以上に
加熱され、沸騰状態にあるため、沸騰による液の動きが
機械的作用として働き、ワークの隙間等に入り込んでい
る水分をも除去できるので効果的である。Subsequently, the work is lifted from the draining tank 1 and the work to which the surfactant is attached is immersed in the boiling bath 3. In this boiling bath 3, a trace amount of water that could not be removed in the draining bath 1 is removed together with the surfactant. At this time, in the boiling bath 3, since the chlorine-based organic solvent is heated to a boiling point or higher and is in a boiling state, the movement of the liquid due to the boiling acts as a mechanical action, and also removes moisture entering the gaps or the like of the work. It is effective because it can.
次いで、上記ワークを沸騰浴槽３から引き上げ、更
に、冷浴槽４に浸漬する。ここでは蒸気槽５による処理
の効果を高めるために、上記ワークを十分に冷却する必
要がある。そのために、冷浴槽４における塩素系有機溶
剤は、５〜50℃の低温に保持することが好ましい。Next, the work is lifted from the boiling bath 3 and further immersed in the cold bath 4. Here, in order to enhance the effect of the treatment by the steam tank 5, it is necessary to sufficiently cool the work. Therefore, it is preferable that the chlorine-based organic solvent in the cold bath 4 is kept at a low temperature of 5 to 50 ° C.
最後に、蒸気槽５において、ヒーター13により加熱さ
れ、蒸発した塩素系有機溶剤の高濃度加熱蒸気中に、冷
却された上記ワークを位置させ、その表面に塩素系有機
溶剤の蒸気を凝縮させ、上記ワークの仕上げ洗浄ととも
にその乾燥を行う。上記ワーク表面上で塩素系有機溶剤
蒸気が凝縮しなくなったときに該ワークを引き上げれば
乾燥されたワークが得られる。Finally, in the steam tank 5, the cooled work is positioned in the high-concentration heating steam of the chlorine-based organic solvent heated and evaporated by the heater 13, and the chlorine-based organic solvent vapor is condensed on the surface thereof. The work is dried together with finish cleaning. When the chlorine-based organic solvent vapor no longer condenses on the surface of the work, the work is pulled up to obtain a dried work.
上記の沸騰浴槽３、冷浴槽４及び蒸気槽５に貯留され
ている塩素系有機溶剤には、何れも熱等により該塩素系
有機溶剤が劣化することを防止するために安定剤が添加
されている。A stabilizer is added to the chlorine-based organic solvent stored in the boiling bath 3, the cooling bath 4, and the steam bath 5 in order to prevent the chlorine-based organic solvent from being deteriorated by heat or the like. I have.
続いて、本発明について更に詳述すると、本発明に用
いる塩素系有機溶剤は、トリクロロエチレン又はパーク
ロロエチレンである。Next, the present invention will be described in more detail. The chlorine-based organic solvent used in the present invention is trichloroethylene or perchlorethylene.
また、前述の如く、水切り浴槽１、沸騰浴槽３、冷浴
槽４及び蒸気槽５に貯留されている塩素系有機溶剤は安
定剤によって安定化されており、その安定剤としては、
通常のものが用いられる。また、同様に、水切り浴槽１
には、水切り効果を高めるために界面活性剤を添加する
が、この界面活性剤としては、水よりも溶剤によく溶解
するものが好ましく、例えば、飽和脂肪族アミンで中和
したリン酸アルキルエステル、飽和脂肪族アミンの塩等
が挙げられ、その添加量は塩素系有機溶剤に対して0.01
〜10重量％の範囲であることが好ましい。Further, as described above, the chlorine-based organic solvent stored in the draining bath 1, the boiling bath 3, the cooling bath 4, and the steam bath 5 is stabilized by a stabilizer.
Normal ones are used. Also, similarly, the draining tub 1
In order to enhance the drainage effect, a surfactant is added. As the surfactant, those which are more soluble in a solvent than water are preferable, for example, alkyl ester phosphate neutralized with a saturated aliphatic amine. , A saturated aliphatic amine salt, and the like, in an amount of 0.01 to the chlorine-based organic solvent.
Preferably it is in the range of ~ 10% by weight.
以上、詳述した如く、本発明方法によれば、塩素系有
機溶剤が安定剤により安定化され、その分解が有効に防
止されるため、ワーク等の発錆を防止でき、その上、50
℃以下の塩素系有機溶剤で水切りを行った後、沸騰塩素
系有機溶剤により処理を行うため、水溶性の汚れがワー
ク表面に付着残存することも有効に防止される。As described above in detail, according to the method of the present invention, the chlorine-based organic solvent is stabilized by the stabilizer, and its decomposition is effectively prevented, so that rusting of the work or the like can be prevented.
After draining with a chlorine-based organic solvent at a temperature of not more than ° C., the treatment is performed with a boiling chlorine-based organic solvent. Therefore, it is possible to effectively prevent water-soluble stains from adhering and remaining on the work surface.
また、本発明装置は、上記水切り・乾燥方法に適用し
て好適であるとともに、水切り浴槽１と水分離槽２との
間で、また、蒸発凝縮を介して沸騰浴槽３、冷浴槽４及
び蒸気槽５の間で、それぞれ塩素系有機溶剤を循環させ
ることができるため、該塩素系有機溶剤を有効に利用で
き、その上、冷却コイル７により塩素系有機溶剤蒸気を
凝縮させるため、該塩素系有機溶剤が外部へ洩れ出るこ
とを防止できる。Further, the apparatus of the present invention is suitable for application to the above-mentioned draining / drying method, and between the draining tub 1 and the water separating tank 2 and between the boiling tub 3, the cooling tub 4 and the steam Since the chlorinated organic solvent can be circulated between the tanks 5, the chlorinated organic solvent can be effectively used. In addition, since the chlorinated organic solvent vapor is condensed by the cooling coil 7, The organic solvent can be prevented from leaking to the outside.
また、本発明は、フロン−113を用いる方法に比し
て、水切り性能が良いため、より複雑な形状のワークで
あっても水切り・乾燥が可能である。これは沸騰浴槽３
における処理効果が大きいためと考えられる。即ち、フ
ロン−113の場合は、水と共沸する時の水の量が1.0％で
あるのに対して、塩素系有機溶剤の場合は、トリクロロ
エチレンのときで7.0％、パークロロエチレンのときで1
7.2％と共沸組成に含まれる水の量が多くなるので、そ
れだけ水が除去され易くなるものと考えられる。更に、
界面活性剤に対する溶解力が大きいので、フロン−113
を使用する場合であれば界面活性剤による汚れが問題に
なる様な場合でも良好な結果が得られる。In addition, the present invention has better draining performance than the method using CFC-113, so that draining and drying can be performed even on a work having a more complicated shape. This is a boiling tub 3
It is considered that the processing effect in is large. That is, in the case of Freon-113, the amount of water when azeotroping with water is 1.0%, whereas in the case of a chlorinated organic solvent, it is 7.0% in trichloroethylene, and it is 7.0% in perchlorethylene. 1
Since the amount of water contained in the azeotropic composition is increased to 7.2%, it is considered that water is more easily removed. Furthermore,
Because of its high solubility in surfactants, Freon-113
In the case where is used, good results can be obtained even in the case where contamination with a surfactant becomes a problem.
以上、本発明について詳述したが、本発明方法及び装
置は前記のものに限られるものではない。As described above, the present invention has been described in detail, but the method and apparatus of the present invention are not limited to those described above.
例えば、本発明装置としては、第１図に示したものに
限らず、特に精密な仕上げを必要とする場合には、沸騰
浴槽３から蒸気槽５への液循環ライン（配管）11の途中
に連続蒸留装置（図示せず）を設置することが好まし
い。For example, the apparatus of the present invention is not limited to the one shown in FIG. 1, and if particularly precise finishing is required, the liquid circulation line (pipe) 11 from the boiling bath 3 to the steam tank 5 is required. It is preferable to install a continuous distillation apparatus (not shown).
以下、実施例１及び２により、本発明を更に具体的に
説明し、その効果を明らかにする。Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples 1 and 2, and the effects thereof will be clarified.
実施例１ 第１図の装置を用いて、水切り浴槽１に0.5重量％の
下記表１に記載した界面活性剤を含む安定化された同表
に記載した各塩素系有機溶剤を入れ、また、沸騰浴槽
３、冷浴槽４及び蒸気槽５には界面活性剤を含まない以
外は上記水切り浴槽１に入れたものと同じ組成の塩素系
有機溶剤を入れる。そして、水切り浴槽１の液温を30
℃、冷浴槽４の液温を25℃、沸騰浴槽３及び蒸気槽５を
何れも沸騰状態にして、処理条件を整える。Example 1 Using the apparatus shown in FIG. 1, 0.5% by weight of each of the stabilized chlorinated organic solvents described in Table 1 containing 0.5% by weight of a surfactant described in Table 1 was placed in a draining tub 1, and The boiling bath 3, the cooling bath 4, and the steam bath 5 contain a chlorine-based organic solvent having the same composition as that contained in the draining bath 1 except that no surfactant is contained. Then, the liquid temperature of the draining tub 1 is set to 30
The temperature of the cooling bath 4 is set to 25 ° C., the boiling bath 3 and the steam bath 5 are all brought to a boiling state, and the processing conditions are adjusted.
次いで、水中に浸漬させて水を付着させたライター外
枠部品（ニッケルメッキ製、構造的に重なり部分があ
る）をステンレス製網籠に10ケ入れ、水切り浴槽１、沸
騰浴槽３及び冷浴槽４にそれぞれ30秒浸漬し、次いで、
蒸気槽５の気相部（高濃度加熱蒸気中）に１分間置いた
後引き上げ、処理を終了した。Next, 10 lighter outer frame parts (made of nickel plating and having a structurally overlapping portion) which were immersed in water and made to adhere to water were put into a stainless steel net basket, and the drainage tub 1, the boiling tub 3 and the cold tub 4 were placed. For 30 seconds each, and then
It was placed in the vapor phase portion (in high-concentration heated steam) of the steam tank 5 for 1 minute and then pulled up to complete the treatment.
引き上げたライター部品の特に重なり部分を目視で観
察し、水切り状況を判定し、その結果を下記表１に併記
した。In particular, the overlapped portion of the lighted parts was visually observed to determine the state of drainage, and the results are shown in Table 1 below.
実施例２ 万年筆部品（真鍮製円筒、内径7mm、外径8mm、長さ62
mm）をステンレス製網籠に20ケ入れ、実施例１と同様の
条件の下で同様の処理を行い、水切り状況を目視で観察
し、その結果を下記表２に記載した。次いで、処理後の
上記万年筆部品に塗装を行い、塗装の状態を目視で観察
し、その結果を同じく下記表−２に併記した。 Example 2 Fountain pen parts (cylinder made of brass, inner diameter 7 mm, outer diameter 8 mm, length 62
mm) were placed in a stainless steel mesh basket, the same treatment was performed under the same conditions as in Example 1, and the state of drainage was visually observed. The results are shown in Table 2 below. Next, the fountain pen part after the treatment was coated, and the state of the coating was visually observed. The results are also shown in Table 2 below.
以上、実施例１及び２の結果より、本発明がフロン−
113を使用する場合に比べて、極めて優れていることが
明らかである。 As described above, the results of Examples 1 and 2 indicate that the present invention shows that
It is evident that it is much better than using 113.
本発明の水切り・乾燥方法によれば、塩素系有機溶剤
を使用して被水切り・乾燥物の水切り・乾燥を行うに際
し、該塩素系有機溶剤の分解を抑制するとともに、水溶
性の汚れが被水切り・乾燥物の表面に残ることを確実に
防止できる。According to the draining / drying method of the present invention, when draining / drying a dried product using a chlorine-based organic solvent, the decomposition of the chlorine-based organic solvent is suppressed and water-soluble dirt is removed. It can be reliably prevented from remaining on the surface of the drained / dried product.
また、本発明の水切り・乾燥装置は、上記方法に好適
に適用可能である。Further, the draining / drying device of the present invention is suitably applicable to the above method.
【図面の簡単な説明】 第１図は、本発明の一実施例である水切り・乾燥装置を
示す概略構成図である。 1;水切り浴槽、2;水分離槽 3;温浴槽、4;冷浴槽 5;蒸気槽、6;周壁 7;冷却用コイル 8;配管（水抜きライン） 9;循環用ポンプ 10、11、12;配管（循環ライン） 13;ヒーター 14;脱水・脱酸装置BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a draining / drying apparatus according to one embodiment of the present invention. 1; draining tub, 2; water separation tank 3, hot tub, 4; cold tub 5; steam bath, 6; peripheral wall 7; cooling coil 8; piping (drainage line) 9; circulation pumps 10, 11, 12 ; Piping (circulation line) 13; Heater 14; Dehydration / deoxidation equipment
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大神 充弘 千葉県千葉市高洲２丁目７―２―306 (56)参考文献 特開 昭50−69649（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−162001（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−65704（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−27003（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 12/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Mitsuhiro Ogami 2-7-1-2-306 Takasu, Chiba-shi, Chiba (56) References JP-A-50-69649 (JP, A) JP-A-63-162001 (JP) , A) JP-A-62-65704 (JP, A) JP-A-62-27003 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B01D 12/00
Claims (2)
の、トリクロロエチレン又はパークロロエチレンから選
択される塩素系有機溶剤に、被水切り・乾燥物を浸漬
し、該被水切り・乾燥物に対する水切りを行なった後、
何れも安定剤を含有する、沸騰塩素系有機溶剤及び冷塩
素系有機溶剤に順次上記被水切り・乾燥物を浸漬し、更
に、上記被水切り・乾燥物を塩素系有機溶剤の高濃度加
熱蒸気中に位置させ、その表面に塩素系有機溶剤蒸気を
凝縮させて該被水切り・乾燥物の乾燥を行うことを特徴
とする、塩素系有機溶剤を使用する水切り・乾燥方法。1-5.degree. C. containing a stabilizer and a surfactant.
The, after immersing the drained / dried material in a chlorine-based organic solvent selected from trichlorethylene or perchlorethylene, and after draining the drained / dried material,
Both contain stabilizers, immerse the drained and dried product in boiling chlorine-based organic solvent and cold chlorine-based organic solvent sequentially, and further, the water-dried and dried product is heated in a high-concentration heated steam of chlorine-based organic solvent. A method for draining and drying using a chlorine-based organic solvent, characterized in that a chlorine-based organic solvent vapor is condensed on the surface and the drained and dried product is dried.
水分離槽、沸騰浴槽、冷浴槽並びに蒸気槽がそれぞれ周
壁内底部に配設され、且つ該周壁内上部には、冷却コイ
ルが配設されており、 上記水切り浴槽には、安定剤及び界面活性剤を含有す
る、トリクロロエチレン又はパークロロエチレンから選
択される塩素系有機溶剤が５〜50℃で貯留され、 上記水分離槽には、上記水切り浴槽を塩素系有機溶剤と
共にオーバーフローした水が貯留されると同時に、分離
して上層に位置する水が分取・除去され、下層に位置す
る塩素系有機溶剤が上記水切り浴槽に還流されるように
なされ、 上記沸騰浴槽には、安定剤を含む沸騰塩素系有機溶剤が
貯留されるとともに、上記冷浴槽に貯留されている安定
剤を含む塩素系有機溶剤がオーバーフローして流入され
るようになされ、且つ該沸騰浴槽からは、塩素系有機溶
剤の一部が上記蒸気槽に流出するようになされ、 上記冷浴槽には、上記冷却コイルで凝縮された塩素系有
機溶剤が流入されるようになされていることを特徴とす
る、塩素系有機溶剤を使用する水切り・乾燥装置。2. A draining tub and a water separating tank, a boiling tub, a cooling tub, and a steam tank connected to the draining tub are respectively disposed at a bottom of the peripheral wall, and a cooling coil is disposed at an upper part of the peripheral wall. In the draining bath, a chlorine-based organic solvent selected from trichloroethylene or perchloroethylene containing a stabilizer and a surfactant is stored at 5 to 50 ° C. At the same time as the water overflowing the drainage tub together with the chlorine-based organic solvent is stored, the water separated and located in the upper layer is separated and removed, and the chlorine-based organic solvent located in the lower layer is returned to the drainage tub. A boiling chlorine-based organic solvent containing a stabilizer is stored in the boiling bath, and a chlorine-based organic solvent containing the stabilizer stored in the cold bath overflows. And a part of the chlorine-based organic solvent flows out from the boiling bath into the steam bath. The chlorine-based organic solvent condensed by the cooling coil flows into the cold bath. A draining / drying device using a chlorine-based organic solvent, characterized in that it is made to be used.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1255375A JP2995067B2 (en) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | Draining / drying device and draining / drying method using chlorine-based organic solvent |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP1255375A JP2995067B2 (en) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | Draining / drying device and draining / drying method using chlorine-based organic solvent |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03114501A JPH03114501A (en) | 1991-05-15 |
| JP2995067B2 true JP2995067B2 (en) | 1999-12-27 |
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ID=17277894
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| JP1255375A Expired - Fee Related JP2995067B2 (en) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | Draining / drying device and draining / drying method using chlorine-based organic solvent |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995067B2 (en) |
-
1989
- 1989-09-27 JP JP1255375A patent/JP2995067B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03114501A (en) | 1991-05-15 |
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