JP2994149B2 - Multi-passage sorption filtration device for gas purification - Google Patents
Multi-passage sorption filtration device for gas purificationInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、流動性濾過物質を収容
するための濾過室を含む反応ケーシングを有し；同反応
ケーシングがさらに、濾過物質の上部供給装置及び下部
排出装置、少なくとも１個のガス転向室、転向室に対向
して配置されたガス流入室及びガス流入室の上方に間隔
を置いて配置されたガス排出室を備えており；転向室、
ガス流入室及びガス排出室が通気壁によって濾過室から
分離されており；ガス流入室とガス排出室との間の上部
区域から下部区域への移行領域における、転向室に対向
する濾過室の壁部が、気密の濾過室境界として形成され
ておりかつ前記壁部に沿う短絡ガス流の路長が移行領域
外部の濾過室の層幅の少なくとも２倍に等しい構造を有
する、ガス、特に廃ガスを精製するための多重通路収着
式濾過装置に関する。The present invention comprises a reaction casing containing a filtration chamber for containing a flowable filtration substance; the reaction casing further comprises at least one upper supply device and a lower discharge device for the filtration substance. A gas diverting chamber, a gas inflow chamber disposed opposite to the diverting chamber, and a gas discharge chamber spaced above the gas inflow chamber;
A gas inlet chamber and a gas outlet chamber separated from the filter chamber by a ventilation wall; walls of the filter chamber facing the turning chamber in a transition region from the upper section to the lower section between the gas inlet chamber and the gas outlet chamber. Gas, in particular waste gas, in which the section is formed as an airtight filtration chamber boundary and the path length of the short-circuit gas flow along said wall is at least twice the layer width of the filtration chamber outside the transition region The present invention relates to a multi-passage sorption type filtration device for purifying water.
【０００２】[0002]
【従来の技術】この構造の濾過装置（ＭＷＳ式移動層フ
ィルターとも称される）はＰＳ２５４０１４１から公知
である。このような濾過装置を用いると、濾過物質の負
荷容量が最適に利用されうる。この場合、ガス流入室の
上縁及びガス排出室の下縁が極めて離れているので、転
向室を回避して濾過物質中を通る直線路をとる部分ガス
量も、濾過室の上部と下部の間のこの移行領域の濾過物
質中では、主ガス流と少なくとも同じ滞留時間を有す
る。他方、移行領域における流動速度は、局所的な過熱
が発熱的分離過程ならびに濾過物質（活性コークス、活
性炭）からの炭素の酸化のために惹起しないように、特
定の臨界値を下回ってはならない。前記の不所望の作用
を妨止するために、ＤＥ３６０９１６４Ａ１では、２個
の移動層の間に、漏斗の間に存在する圧力抵抗区間を有
する漏斗状狭隘部を用いて狭い横断面の区間を挿入する
ことが提案されている。また移動層の間の狭隘部は傾斜
せる狭小部によって非対称的にはめ込まれて限定された
狭い抵抗区間を形成していてもよい。この実施形式の場
合には狭隘部に対向する側は、粒状炭素含有物質を支え
るルーバー板、網状構造、多孔板等の形の通気壁から成
っている。これによって２個の移動層の間の狭い横断面
の区間における粒状炭素含有物質の滞留時間は、加熱さ
れた物質が一方の移動層から他方の移動層に迅速に輸送
され、次いで横に流動するガスによって冷却されること
によって最小限に低減されねばならない。しかしこの場
合、実際には濾過物質の滞留時間は第一に濾過装置の出
口におけるガスの要求純度に左右されるのであって、濾
過物質の温度及び狭い横断面の区間におけるガスの流速
にはそれほど左右されないことが見落されている。また
所謂“ホットスポット”の形成にとってはガスの平均流
速が決定的であるのみならず、個々の流路の流速も大事
である。流路の流速は流路長に応じて、移行領域、例え
ば狭い横断面の区間におけるガスの平均流速の著しく下
にある。2. Description of the Prior Art A filtration device of this construction (also called MWS-type moving bed filter) is known from PS 254 141. With such a filtering device, the load capacity of the filtering substance can be optimally utilized. In this case, since the upper edge of the gas inflow chamber and the lower edge of the gas exhaust chamber are very far apart, the amount of partial gas that avoids the turning chamber and takes a straight path passing through the filtration material also increases. In the filter material of this transition zone between, it has at least the same residence time as the main gas stream. On the other hand, the flow rate in the transition zone must not fall below a certain critical value, so that local superheating does not occur due to the exothermic separation process and the oxidation of carbon from the filter substances (activated coke, activated carbon). In order to counteract the undesired effects described in DE 3609164 A1, a section of narrow cross section is inserted between the two moving layers by means of a funnel-shaped constriction with a pressure resistance section present between the funnels. It has been proposed to. Further, the narrow portion between the moving layers may be asymmetrically fitted by the narrow portion that is inclined to form a limited narrow resistance section. In the case of this embodiment, the side facing the constriction consists of a ventilation wall in the form of a louver plate, a mesh structure, a perforated plate or the like for supporting the particulate carbon-containing material. Due to this, the residence time of the particulate carbon-containing material in the section of the narrow cross section between the two moving beds is such that the heated material is rapidly transported from one moving bed to the other, and then flows laterally It must be reduced to a minimum by being cooled by the gas. In this case, however, the residence time of the filter substance is in fact dependent primarily on the required purity of the gas at the outlet of the filter, and the temperature of the filter substance and the flow rate of the gas in the section of the narrow cross section are not so great. It is overlooked that it is not affected. For the formation of a so-called "hot spot", not only the average gas flow velocity is decisive, but also the flow velocity of each flow path is important. Depending on the length of the flow path, the flow velocity of the flow path is significantly below the average flow velocity of the gas in the transition region, for example in a section of narrow cross section.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、冒頭記載の
種類の濾過装置において、濾過室の横方向にガスの通過
される２つの区域の間の移行領域を、ホットスポットの
形成が、濾過物質の移動速度とは無関係に濾過物質の発
火のおそれのあるこの領域で防止されるように形成する
という課題を基礎としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a filter device of the type mentioned at the beginning, wherein the transition area between the two areas through which the gas is passed in the transverse direction of the filtration chamber is provided with a hot spot formed by filtration. It is based on the task of forming the filter material in such a way that it can be ignited irrespective of the speed of movement of the material.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】前記課題は、転向室と濾
過室との間の通気壁が移行領域においてガス流入室がガ
ス排出室との間の壁部の方に向けられたくさび状又は波
状の膨出部を有し、同膨出部が、移行領域における部分
ガス流の流路及び濾過室の下部区域及び上部区域におけ
る主ガス流の流路が、膨出部の先端と壁部との間で濾過
物質の最小必要通過状態を保つとほぼ同じ長さを有する
ように設計されていることを特徴とする、該濾過装置に
よって解決される。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a wedge-shaped or vented wall between a turning chamber and a filtration chamber in which a gas inlet chamber is directed toward a wall between the turning chamber and a gas exhaust chamber in a transition region. A wavy bulging portion, wherein the bulging portion has a flow path for the partial gas flow in the transition region and a flow path for the main gas flow in the lower area and the upper area of the filtration chamber; The filter device is characterized in that it is designed to have approximately the same length to maintain the minimum required passage of the filter substance between the filter device and the filter device.
【０００５】危険のある移行領域及びその上ならびにそ
の下に存在する、濾過室の区域においては、ガスのすべ
ての流路はほぼ同じ長さを有するので、またすべての流
路に関しては同じ流速が得られ、これによって場所によ
る過熱が回避される。ガスの滞留時間は流路長の２乗を
もって増大するので、流路の長さの差が相互に小さくな
ればなるほど、それだけ均一な温度条件が得られる。[0005] In the area of the filtration chamber, which lies at and below the dangerous transition zone, all the gas flow paths have approximately the same length, and for all the flow paths the same flow rate is required. Overheating due to location is avoided. Since the residence time of the gas increases with the square of the flow path length, the smaller the difference between the flow path lengths, the more uniform temperature conditions can be obtained.
【０００６】さらに、すべての流路−したがって流速及
び滞留時間、最終的には分離度−を均等にすることによ
って濾過物質の均一な負荷が保証されうる。[0006] Furthermore, a uniform loading of the filtered material can be ensured by equalizing all the channels, and thus the flow rates and the residence times, and finally the degree of separation.
【０００７】次に図面の実施例により本発明の濾過装置
を詳述する。Next, the filtration apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in the drawings.
【０００８】図１及び図２による簡単な転向装置を有す
る濾過装置は、濾過物質３を収容するための濾過室２を
有する反応ケーシング１及びこれから封止的にフランジ
結合されたガス流入室８、ガス排出室９ならびに転向室
１０から成る。室８，９，１０は通気壁１５，１６，１
７を介して濾過室２の内部空間に結合されている。ガス
流入室８とその上方に存在するガス排出室９との間に
は、気密壁部１２が存在していて、濾過室２の上部区域
４及び下部区域５の間の移行領域１１の高さを決定して
いる。この壁部１２は、転向室を回避して壁部１２に沿
って移行領域１１を通過する直線路をとる短絡ガス流３
０が、濾過室２の下部区域５及び上部区域４を１回づつ
通過する主ガス流２９と同じ流路長を有するように形成
されているか／又は設計されている。つまり、流路長
（短絡ガス流３０の場合にはガス流入室８の上縁からガ
ス排出室９の下縁までの距り）は、両者の場合とも濾過
室２の層幅“Ｔ”の２倍に等しい。1 and 2, a filter device with a simple turning device comprises a reaction casing 1 having a filter chamber 2 for containing a filter substance 3 and a gas inlet chamber 8, which is sealingly flanged therefrom, It comprises a gas discharge chamber 9 and a turning chamber 10. Chambers 8, 9, and 10 have ventilation walls 15, 16, 1
7 is connected to the internal space of the filtration chamber 2. An airtight wall 12 is provided between the gas inlet chamber 8 and the gas outlet chamber 9 located above the gas inlet chamber 8, and the height of the transition area 11 between the upper section 4 and the lower section 5 of the filtration chamber 2. Is determined. This wall section 12 is a short-circuit gas flow 3 which avoids the turning chamber and takes a straight path along the wall section 12 and passing through the transition region 11.
0 is formed and / or designed to have the same flow path length as the main gas stream 29, which passes through the lower section 5 and the upper section 4 of the filtration chamber 2 once each. That is, the flow path length (the distance from the upper edge of the gas inflow chamber 8 to the lower edge of the gas discharge chamber 9 in the case of the short-circuit gas flow 30) is equal to the layer width “T” of the filtration chamber 2 in both cases. Equal to twice.
【０００９】該濾過装置の動作のために、濾過室２の上
縁の供給口６中に新しい濾過物質２７、例えば粒状活性
炭を導入する。この濾過物質は交差向流で導入された原
料ガス１３から有害物質を負荷した後、下端の排出口１
７を通って消耗濾過物質２８として排出される。前記原
料ガスは濾過室２を２回通過した後、精製ガス１４とし
て該濾過装置を出る。供給口６及び排出口７には、濾過
物質３を移送するための供給装置及び排出装置（図示し
てない）が接続可能であり、これらの装置は所定の動作
方式に従って濾過物質３の連続的乃至不連続的運動を許
す。この際濾過物質３の通過速度は、一般に、精製ガス
１４の設定された最大許容残留有害物質によって測定さ
れる。For the operation of the filtration device, fresh filtration material 27, for example granular activated carbon, is introduced into the supply port 6 at the upper edge of the filtration chamber 2. This filtered substance is loaded with harmful substances from the raw material gas 13 introduced in the cross countercurrent, and then discharged at the lower outlet 1
7 and is discharged as consumable filtration material 28. After passing through the filtration chamber 2 twice, the raw material gas exits the filtration device as a purified gas 14. A supply device and a discharge device (not shown) for transferring the filtered substance 3 can be connected to the supply port 6 and the discharge port 7, and these apparatuses continuously connect the filtered substance 3 according to a predetermined operation mode. Or allow discontinuous movement. At this time, the passing speed of the filtration substance 3 is generally measured by the set maximum allowable residual harmful substance of the purified gas 14.
【００１０】移行領域１１における部分ガス流３１の流
路長を、下部区域４及び上部区域５を通る主ガス流２９
の流路長に適応させるために、壁部１２の対向側の移行
領域１１で適当に設計された膨出部１８が転向室１０の
側から通気壁１７に挿入されている。膨出部１８を形成
する、円弧２０の接線２２の傾斜は、移行領域１１にお
ける濾過物質３の輸送及び圧着力のための必要な静止角
“α1”及び“α2”及び先端１９と壁部１２との間の濾
過物質の必要最小通過量によって設定されている。通気
性接線壁２２におけるメッシュ、ルーバー等を考慮する
と、輸送のための静止角“α1”は、濾過物質の圧着力
のための静止角“α2”よりも若干急傾斜に設計される
べきである。円弧２０の半径“Ｒ”は区域４及び５の層
幅“Ｔ”に等しく、円弧の中心は壁部１２の上端及び下
端に存在する。これらの設定条件によって膨出部１８の
先端１９は必然的に正確に移行領域１１の中央にはない
が、常に中央の近傍には存在する。また転向室１０へと
向う接線２２も円弧２０に変移していってもよい。The flow length of the partial gas flow 31 in the transition region 11 is determined by the main gas flow 29 through the lower section 4 and the upper section 5.
An appropriately designed bulging portion 18 is inserted into the ventilation wall 17 from the turning chamber 10 side in the transition region 11 on the opposite side of the wall portion 12 in order to adapt to the flow path length. The inclination of the tangent line 22 of the arc 20, which forms the bulge 18, is due to the required rest angles "α 1 " and "α 2 " for the transport and crimping force of the filtering substance 3 in the transition region 11 and the tip 19 and the wall. It is set according to the required minimum amount of filtration material passing through the section 12. Considering the mesh, louver, etc. in the permeable tangential wall 22, the rest angle "α 1 " for transport should be designed to be slightly steeper than the rest angle "α 2 " for the crimping force of the filtration material. It is. The radius "R" of the arc 20 is equal to the layer width "T" of the zones 4 and 5, the center of the arc being at the upper and lower ends of the wall 12. Due to these setting conditions, the distal end 19 of the bulging portion 18 is not necessarily exactly at the center of the transition region 11, but always exists near the center. Also, the tangent line 22 toward the turning chamber 10 may be changed to the arc 20.
【００１１】反応ケーシング１は一般には封止的に溶接
されたもしくはフランジ継手で締結された板金構造から
成っている。この場合、ガス流入室８、ガス排出室９及
び転向室１０は、濾過室２の対応する開口部にフランジ
で封止的に締結されており、これらの開口部にはガスの
通過する室８，９及び１０から濾過物質を分離するため
の通気壁１５，１６及び１７が取付けられている。この
際通気壁１５，１６及び１７はルーバー板、スクリーン
板、多孔板、金網等もしくは支持格子を有する金網のよ
うな組合せ物から構成されている。これらの通気壁の機
能は、大きな抵抗なしにガスを濾過室２中に流入させか
つ同室から流出させるが、濾過物質が濾過室から搬出さ
れたり、通気壁の通過孔がダストによって閉塞するのを
防止することである。The reaction casing 1 generally consists of a sheet metal structure which is hermetically welded or fastened with flange joints. In this case, the gas inflow chamber 8, the gas discharge chamber 9, and the turning chamber 10 are sealingly fastened to the corresponding openings of the filtration chamber 2 with flanges, and these openings have chambers 8 through which gas passes. , 9 and 10 are provided with ventilation walls 15, 16 and 17 for separating the filtered substance from the. In this case, the ventilation walls 15, 16 and 17 are composed of a combination such as a louver plate, a screen plate, a perforated plate, a wire mesh or a wire mesh having a support grid. The function of these ventilation walls is to allow the gas to flow into and out of the filtration chamber 2 without great resistance, but to prevent the filtration substances from being carried out of the filtration chamber and the passage holes in the ventilation walls being blocked by dust. It is to prevent.
【００１２】図３及び図４には、本発明の他の構成が図
示してある。これは、移行領域１１の気密壁部１２が濾
過室２に向かうくさび状膨出部２５を有する形である。
その他の構造及び機能は図１及び図２の構造及び機能に
相応する。図４からは、移行領域１１が図２の移行領域
と比べて短縮されているのがわかる。この場合には、壁
部１２の長さがもはや２Ｔ＝２Ｒを有する直線によって
形成されず、先端２６を有するくさび状膨出部２５を形
成するそれぞれ長さＴ＝Ｒの三角形の２辺によって形成
されるからである。膨出部１８及び２５の形状は静止角
を考慮して、濾過物質の通過にとって必要な、先端１９
と先端２６との間の必須最小距離によって決定されてい
る。FIGS. 3 and 4 show another configuration of the present invention. This is a form in which the airtight wall 12 of the transition region 11 has a wedge-shaped bulge 25 facing the filtration chamber 2.
Other structures and functions correspond to the structures and functions of FIGS. FIG. 4 shows that the transition area 11 is shorter than the transition area in FIG. In this case, the length of the wall 12 is no longer formed by a straight line having 2T = 2R, but by two sides of a triangle of length T = R each forming a wedge-shaped bulge 25 having a tip 26. Because it is done. The shape of the bulges 18 and 25 takes into account the angle of rest, and
And the tip 26 is determined by the required minimum distance.
【００１３】また、数個の転向室も設けられていてよい
反応ケーシング１も設計することができる。図５では、
主ガス流２９が２回転向する、つまり区域５，４ｎ及び
４で濾過物質３が濾過室を３回通過する場合を図示して
ある。このような反応ケーシングは原理的には図１に図
示されたものと同じケーシングであるが、但し図５によ
れば移行領域１１及び１１ｎが形成され、この際移行領
域１１ｎは移行領域１１に対して側面の反転された形で
配置されている。従ってこの側面の反転はさらに転向さ
れる場合にはｎ回反復される。転向の必要回数ｎは、濾
過物質３の所謂大量輸送区域の形及び長さもしくは分離
すべき有害物質及び濾過物質の分離能力から経験的に求
められる濾過物質３の負荷曲線によって得られる。転向
数ｎは理論的には任意に大きい数を選ぶことができる
が、しかし使用可能な全高及び経済的考察によって転向
数には限界が設けられている。It is also possible to design a reaction casing 1 which may also be provided with several turning chambers. In FIG.
The case is shown in which the main gas stream 29 is turned twice, ie the filtration material 3 passes through the filtration chamber three times in the zones 5, 4n and 4. Such a reaction casing is in principle the same casing as that shown in FIG. 1, except that according to FIG. 5, transition areas 11 and 11n are formed, where the transition area 11n is They are arranged with their sides inverted. The reversal of this side is therefore repeated n times if it is turned further. The required number of turns n is obtained by means of a loading curve of the filter substance 3 which is empirically determined from the shape and length of the so-called mass transport zone of the filter substance 3 or of the harmful substances to be separated and the filtering capacity of the filter substance. The number of turns n can theoretically be chosen arbitrarily large, but the total number of turns available and economic considerations limit the number of turns.
【図１】ガス流が１回転向する場合の転向室の通気壁に
膨出部を有する本発明による濾過装置の略示断面図であ
る。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a filtering device according to the present invention having a bulging portion on a ventilation wall of a turning chamber when a gas flow is turned by one rotation.
【図２】図１における移行領域の拡大略示断面図であ
る。FIG. 2 is an enlarged schematic sectional view of a transition region in FIG. 1;
【図３】ガス流入室とガス排出室との間の壁部に他の膨
出部を有する、図１による濾過装置の略示断面図であ
る。FIG. 3 is a schematic sectional view of the filtration device according to FIG. 1 with another bulge in the wall between the gas inlet chamber and the gas outlet chamber.
【図４】図３における移行領域の拡大略示断面図であ
る。FIG. 4 is an enlarged schematic sectional view of a transition region in FIG. 3;
【図５】ガス流が２回転向する場合の図３による濾過装
置の略示断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view of the filtration device according to FIG. 3 when the gas flow is turned twice.
１ 反応ケーシング ２ 濾過室 ３ 濾過物質 ４，４ｎ 上部区域 ５ 下部区域 ８ ガス流入室 ９ ガス排出室 １０，１０ｎ 転向室 １１，１１ｎ 移行領域 １２ 気密壁部 １５，１６，１７ 通気壁 １８ 膨出部 １９ 先端 ２０ 円弧 ２２ 接線 ２４ 中心 ２５ 膨出部 ２６ 先端 ２９ 主ガス流 ３１ 部分ガス流 α1，α2 静止角 Ｔ 層幅 Ｒ 半径DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reaction casing 2 Filtration room 3 Filtration substance 4,4n Upper section 5 Lower section 8 Gas inflow chamber 9 Gas discharge chamber 10,10n Turning chamber 11,11n Transition area 12 Airtight wall part 15,16,17 Vent wall 18 Swelling part 19 tip 20 circular arc 22 tangent line 24 center 25 bulge 26 tip 29 main gas flow 31 partial gas flow α 1 , α 2 static angle T layer width R radius
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ユルゲン ヴィルヘルム ドイツ連邦共和国 ゴンデルスハイム アン デア ゾンマーヘールデ 25 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 46/34 B01D 53/08 B01D 53/34 B01J 8/12 331 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Jürgen Wilhelm Germany Gondelsheim an der Sommerhealde 25 (58) Fields studied (Int. Cl. 6 , DB name) B01D 46/34 B01D 53/08 B01D 53 / 34 B01J 8/12 331
Claims (6)
を含む反応ケーシングを有し；該反応ケーシング がさらに、濾過物質の上部供給装置及
び下部排出装置、少なくとも１個のガス転向室、転向室
に対向して配置されたガス流入室及びガス流入室の上方
に間隔を置いて配置されたガス排出室を備えており； 転向室、ガス流入室及びガス排出室が通気壁によって濾
過室から分離されており； ガス流入室とガス排出室との間の上部区域から下部区域
への移行領域における、転向室に対向する濾過室の壁部
が、気密の濾過室境界として形成されておりかつ前記壁
部に沿う短絡ガス流の路長が移行領域外部の濾過室の層
幅の少なくとも２倍に等しい構造を有するガス精製用多
重通路収着式濾過装置において、転向室（１０）と濾過
室（２）との間の通気壁（１７）が移行領域（１１）に
おいてガス流入室（８）とガス排出室（９）との間の壁
部（１２）の方に向けられたくさび状又は波状の膨出部
（１８）を有し、該膨出部は、移行領域（１１）におけ
る部分ガス流（３１）の流路及び濾過室（２）の下部区
域（５）及び上部区域（４）における主ガス流の流路
が、膨出部（１８）の先端（１９）と壁部（１２）との
間で濾過物質（３）の最小必要通過量を保ちながら、ほ
ぼ同じ長さを有するように設計されていることを特徴と
する、ガス精製用多重通路収着式濾過装置。1. A reaction casing comprising a filtration chamber for containing a flowable filtration substance; the reaction casing further comprising an upper supply and a lower discharge of the filtration substance, at least one gas diverting chamber, diverting. A gas inflow chamber facing the chamber and a gas exhaust chamber spaced above the gas inflow chamber; the turning chamber, the gas inflow chamber, and the gas exhaust chamber being separated from the filtration chamber by a ventilation wall. The wall of the filter chamber facing the turning chamber in the transition region from the upper section to the lower section between the gas inlet chamber and the gas outlet chamber is formed as an airtight filter chamber boundary; A turning chamber (10) and a filtration chamber, wherein the path length of the short-circuit gas flow along the wall is equal to at least twice the layer width of the filtration chamber outside the transition region. Between (2) Wedge or wavy bulge (18) with air wall (17) directed towards wall (12) between gas inlet chamber (8) and gas outlet chamber (9) in transition region (11) The bulges comprise a flow path for the partial gas flow (31) in the transition region (11) and a flow for the main gas flow in the lower zone (5) and the upper zone (4) of the filtration chamber (2). The channel maintains the minimum required amount of filtration material (3) between the tip (19) of the bulge (18) and the wall (12), while maintaining the minimum required amount.
A multi-pass sorption filter for gas purification, characterized in that it is designed to have the same length .
に接する２本の接線（２２）によって決定されており、
円弧の半径“Ｒ”は濾過室（２）の層幅“Ｔ”に等しく
かつ両円弧は移行領域（１１）の中央で共通の先端（１
９）又は湾曲点に移行していき、接線（２２）の傾斜は
濾過物質（３）の輸送及び圧着力のための静止角
（α１，α２）によって決定されている、請求項１記載
の装置。2. A cross section of the bulge (18) is an arc (20).
Is determined by the two tangents (22) tangent to
The radius "R" of the arc is equal to the layer width "T" of the filtration chamber (2) and both arcs have a common tip (1) at the center of the transition area (11).
9) or going to the inflection point, wherein the inclination of the tangent (22) is determined by the resting angles (α 1 , α 2 ) for the transport and the crimping force of the filtering substance (3). Equipment.
端及び下端に存在する、請求項２記載の装置。3. The device according to claim 2, wherein the centers of both radii “R” are at the upper and lower ends of the wall (12).
弧（２０）に変移していく、請求項２記載の装置。4. The device according to claim 2, wherein the tangent (22) towards the turning chamber (10) changes into an arc (20).
くさび状膨出部（２５）を有し、その先端（２６）が移
行領域（１１）のほぼ中央部に存在する、請求項１から
請求項４までのいずれか１項記載の装置。5. The airtight wall (12) also has a wedge-shaped bulge (25) facing the filtration chamber (2), the tip (26) of which is located approximately in the center of the transition area (11). Apparatus according to any one of the preceding claims.
９）の方向で直列に接続された数個の転向室（１０，１
０ｎ）を備えており、これらの転向室（１０，１０ｎ）
のそれぞれに、移行領域（１１，１１ｎ）で通気壁（１
７，１７ｎ）のそれぞれ１個のくさび状膨出部（１８，
１８ｎ）が配置されている、請求項１から請求項５まで
のいずれか１項記載の装置。6. The reaction casing (1) comprises a main gas stream (2).
Several turning chambers (10, 1 ) connected in series in direction 9)
0n), these turning chambers (10, 10n)
In each of the transition areas (11, 11n).
7, 17n), each having one wedge-shaped bulge (18, 17n) .
An apparatus according to any one of the preceding claims, wherein 18n) is arranged.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4203789A JP2994149B2 (en) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | Multi-passage sorption filtration device for gas purification |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4203789A JP2994149B2 (en) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | Multi-passage sorption filtration device for gas purification |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0663340A JPH0663340A (en) | 1994-03-08 |
| JP2994149B2 true JP2994149B2 (en) | 1999-12-27 |
Family
ID=16479785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4203789A Expired - Fee Related JP2994149B2 (en) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | Multi-passage sorption filtration device for gas purification |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2994149B2 (en) |
-
1992
- 1992-07-30 JP JP4203789A patent/JP2994149B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0663340A (en) | 1994-03-08 |
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