JP2990574B2 - 殺菌手段を有する水の酸化還元電位および溶存ガス制御方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は種々の産業等における使
用に適した性質を有する水を得るために、水の酸化還元
電位を変化させ、かつ、水に含まれる有機物、無機物及
び細菌を除去殺菌する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】水の酸化還元を行ってその電位を変化さ
せ、その水を種々の産業等に利用することは公知であ
り、そのための装置も実用化されている。

【０００３】そして、この装置により得られた水は、農
業においては、作物の鮮度保持、無農薬栽培、栽培効率
の向上に役立ち、水産業においては魚貝類の鮮度保持、
無薬品栽培漁業に効果的に利用することができる。

【０００４】また、畜産業においても、家畜の無薬品飼
育、畜産公害を防ぐ環境改善、畜産品の鮮度保持に有効
であり、食品工業においても、無酸素水の使用による鮮
度保持に役立つ。

【０００５】さらに、浄水産業においては、飲料水、汚
水の処理性能を向上させる。また、酒類等の醸造産業に
おいては、品質、生産性を向上させ、医学、薬学の分野
においても薬品効果の向上、予防医学の向上に役立ち、
工業においては、工業用水を無酸素水とすることによる
酸化防止に有効である。その他、種々の環境改善にも役
立つものとして利用範囲が広い。

【０００６】そして、前記のように酸化還元電位を変化
させた処理水が、有機物、無機物及び細菌を除去殺菌処
理も併せて行ったものであれば、さらに用途は拡大す
る。

【０００７】前記の水の酸化還元電位を変化させるに
は、水に空気を送り込んだり、水に音波を照射したりす
ることで変化することも公知である。

【０００８】また、Ｎ_２ガスをエアレーション方式で注
入することによっても前記の酸化還元電位の変化が起こ
ることも公知である。図４はその場合の溶存酸素（Ｄ
Ｏ）量の変化を示す。横軸は時間（単位は１時間）、縦
軸は溶存酸素（ＤＯ）量で、単位はｐｐｍである。さら
に図５はその場合の酸化還元電位の変化であって、横軸
は時間（単位は１時間）、縦軸は酸化還元電位（単位は
×１００ｍＶ）である。両図ともに、Ａ点においてＮ_２
ガスの注入を開始してＢ点で注入を停止し、その後その
まま容器を開放状態で放置したものである。両図で理解
されるように、水へＮ_２ガスを開放状態でエアレーショ
ン方式で注入した場合の溶存酸素量の変化や酸化還元電
位の変化は発生するが、その変化量は非常に微々たるも
のである。

【０００９】つぎに、前記のように水にＮ_２ガスをエア
レーション方式で注入するのに加えて、本出願と同一の
出願人によって先に出願された、水槽中の水に対して噴
射する空気または酸素の噴射量を制御可能な空気量制御
装置と、上記水に対して照射する音波の量を制御可能な
音波発生量制御装置とを備え、上記空気または酸素の噴
射と上記音波の照射との両者の量を前記両制御装置によ
り制御調整し、かつ、両者を同時に行う水の酸化還元電
位制御装置を用いて、水の酸化還元電位を変化させるよ
うにした場合の結果を図６、７に示してある。

【００１０】両図ともに、Ａ点においてＮ_２ガスの注入
を開始してＢ点で注入を停止し、その後そのまま容器を
開放状態で放置したものである。図６において横軸は時
間（単位は１時間）、縦軸は溶存酸素（ＤＯ）量で、単
位はｐｐｍである。図６で示されるように、溶存酸素
（ＤＯ）量の変化はゼロ近くまで減少する。図７はこの
場合の水の酸化還元電位であって、横軸は時間（単位は
１時間）、縦軸は酸化還元電位（単位は×１００ｍＶ）
である。この図で理解されるように、酸化還元電位は処
理直後は低下するが、放置しておくとまた元に戻り、さ
らに上昇してしまい、安定しない状態である。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
装置では溶存酸素（ＤＯ）量、あるいは、酸化還元電位
の一方については所望の値の水を得る装置も提供されて
いるが、両者をともに望ましい値とする装置は得られて
いないものであった。

【００１２】また、このような装置に、水に含まれる有
機物、無機物及び細菌を除去殺菌する装置が併せて備え
られたものは未だに開発されていない。本発明は、この
ような点に着目し、溶存酸素量、酸化還元電位の双方に
ついて望ましい値を持つ処理水が得られ、しかも、水に
含まれる有機物、無機物及び細菌を除去殺菌することが
できる方法を提供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の課題は本発明によ
れば、密閉型タンク１７の水滞留室１６に、自動給水装
置１４にて原水を供給して所定量の滞留水を得る工程
と、密閉型タンク１７内の滞留水の水面上方に形成した
ガス滞留室１５にＮ _２ ガスを圧力調整装置２を介して供
給する工程と、密閉型タンク１７内の滞留水を循環させ
る水ガス混合ポンプＰ _３ からの噴流水に、密閉型タンク
１７の外部において空気又は酸素を混合して気液混合水
として複合音波発生噴流式水ガス混合装置９に供給する
と共に、密閉型タンク１７の内部においてＮ _２ ガスを該
装置９に供給して上記気液混合水に混合して、音波を照
射しつつ上記滞留水中に噴射する工程と、密閉型タンク
１７内に設けた酸化還元電位検出センサ１３の検出値で
指示値を出力する酸化還元電位指示調整器１１によって
上記噴流水の量及び照射する音波の強度を制御する工程
と、上記密閉型タンク１７の滞留水を、濾過器ポンプＰ
_１ にて濾過装置ａを通過させてスラッジ等を濾過し、次
段のセラミック充填接触装置ｂを通過させて酸化還元電
位を所定値に調整し、次段の紫外線照射装置ｃを通過さ
せて殺菌した後、上記密閉型タンク１７に戻す工程と、
密閉型タンク１７内の処理された処理水を密閉型タンク
１７の処理水取り出し口Ｆより取り出す工程と、よりな
る殺菌手段を有する水の酸化還元電位および溶存ガス制
御方法とすることで解決することができる。

【００１４】

【作用】タンク中の滞留水を循環させるガス水混合ポン
プから出力される噴流水を噴出する噴流式ガス水混合装
置は、水とガスとを効率よく混合させ、同時に照射され
る音波とともに水の酸化還元電位を変化させる。密閉型
とした前記タンクは、その上部空間に加圧供給されるガ
スを効率的に水に溶解させて、水の溶存ガス量を変化さ
せる。また、密閉型であることは変化させた酸化還元電
位値を経時変化のない安定なものとする。

【００１５】タンク中に設けた酸化還元電位センサの検
出値によって指示値を出力する酸化還元電位指示調整器
は、ガス水混合ポンプから出力される噴流水の量、およ
び照射される音波の強度を制御して水の酸化還元電位を
所望の値とする。

【００１６】タンク中の水を濾過器ポンプによつて循環
殺菌する装置は、隔壁状濾布等の濾過装置によって水中
のスラッジ等の不純物を除去すると共に脱臭し、セラミ
ック充填接触装置によって、酸化還元電位を調整する。
さらに、紫外線照射装置により細菌等を殺菌する。

【００１７】

【実施例】図１は本発明の一実施例をブロック構成図に
よって示す。同図において、１７は密閉型タンクであっ
て、処理水（滞留水）を滞留させる水滞留室１６とその
上方のＮ_２ガスを充填するガス滞留室１５とからなる。
１は前記のガス滞留室１５に対しＮ_２ガスを供給するＮ
_２ ガス供給装置であり、該装置から圧力調整装置２を介
してガス滞留室１５に対し前記ガスが供給される。３は
前記ガス滞留室１５内のガスを排出するガス排気装置、
Ｖ_１３は該ガス排気装置３からガスを排気する際に開く
排気装置調整バルブ、４はガス滞留室１５内のガス圧を
測定する圧力計である。

【００１８】５はガス滞留室１５内のガス圧が所定値以
上の危険な状態時に作動する安全装置、６は密閉型タン
ク１７内の点検力泌要な場合に使用する点検口である。
また、７は圧力調整装置であり、ガス滞留室１５内のガ
ス圧を調整し、過剰なガスを過剰ガス排出口Ｂを通して
排出する。Ｖ_１４は圧力調整装置逆止弁である。８はガ
ス精製装置で、これに接続されている循環ポンプＰ_２と
ともにガス滞留室１５内のガスを循環させ精製して常に
ガス滞留室１５内のガスを清浄なものとする。Ｖ_１１は
ガス精製装置調整バルブである。１４は自動給水装置で
あり、符号Ａは給水口であって、給水口Ａから導入され
た原水は給水バルブＶ_５を経て供給される原水の量を調
整し、水滞留室１６内の滞留水の量を適量なものとす
る。

【００１９】９は、タンク中の滞留水に対して噴射する
Ｎ _２ ガスの噴射量と音波の照射量とを制御可能な制御装
置により制御調整し、かつ、両者を同時に行う水の酸化
還元電位制御装置であって、以下、複合音波発生噴流式
水ガス混合装置と呼称することにする。

【００２０】密閉型タンク１７内の滞留水を循環させる
水ガス循環ポンプＰ _３ からの噴流水に、密閉型タンク１
７の外部において空気又は酸素を混合して気液混合水と
して複合音波発生噴流式水ガス混合装置９に供給すると
共に、密閉型タンク１７の内部においてＮ _２ ガスを該装
置９に供給して上記気液混合水に混合して、音波を照射
しつつ上記滞留水中に噴射する。 図中、Ｅは密閉型タン
ク１７内のガス滞留室１５に配置したＮ _２ ガスを複合音
波発生噴流式水ガス混合装置９に導入する為のＮ _２ ガス
導入口を示し、Ｄは上記装置９のガス混合水、即ち気液
混合水噴出口を示す。尚、図示しないが、上記水ガス混
合ポンプＰ _３ の出力側、即ち密閉型タンク１７の外部に
は空気又は酸素供給装置が設けられている。Ｖ_９は水滞
留室１６内の水を水ガス混合ポンプＰ_３へ供給する量を
調整する調整バルブであり、また、Ｖ_１０は、水ガス混
合ポンプＰ_３から複合音波発生噴流式ガス水混合装置９
への供給量を調整する調整バルブである。

【００２１】１０はポンプモータ回転数制御装置で、前
記水ガス混合ポンプＰ_３のモータの回転数制御を行う。
１３は前記水滞留室１６内の底部付近に配置される酸化
還元電位検出センサで、水滞留室１６に満たされた滞留
水の酸化還元電位を測定検出し、そのデータを出力す
る。１１は前記酸化還元電位検出センサ１３が出力する
酸化還元電位データを入力されて、そのデータにより、
前記ポンプモータ回転数制御装置１０や、図示しない空
気あるいは酸素制御装置に対し制御に必要な指示信号を
出力する酸化還元電位指示調整器、１２は前記データを
記録する酸化還元電位記録器である。

【００２２】Ｆは処理の終了した水を取り出す処理水取
り出し口、Ｖ_８は該処理水取り出し口に連なる送水バル
ブであり、Ｐ_４の送水ポンプにより処理水は取り出さ
れ、送水される。また、Ｖ_７は密閉型タンク１７の底部
に設けた不要の水を排水するドレンバルブである。

【００２３】Ｇは密閉型タンク１７の底部付近に設けた
濾過器送水口で、調整バルブＶ_２、濾過器ポンプＰ_１が
接続されて濾過殺菌すべき水が取り出され、さらに別の
調整バルブＶ_１を経て、濾過装置ａ、セラミック充填接
触装置ｂ、紫外線照射装置ｃへと順次送り込まれる構成
である。濾過装置ａには隔壁状濾布、バイブレータ、空
気吹き込み管、ドレーン等が装備されているが図では省
略してある。セラミック充填接触装置ｂには酸化還元電
位を調整された粉末セラミックを充填してある。Ｖ_３は
前記濾過装置ａとセラミック充填接触装置ｂとの間に設
けられた調整バルブ、Ｖ_６は濾過殺菌処理の終了した水
を密閉型タンク１７に戻す経路に設けた調整バルブであ
る。また、ｃ’は紫外線照射装置ｃに設けられた紫外線
発生装置である。

【００２４】一方、前記濾過装置ａの出力する水の一部
は、分岐して前記調整バルブＶ_３とは別の調整バルブＶ
_４を経てセラミックコーティング回路ｄを経由し、酸化
還元電位を調整されたセラミックタンクｄ’に導入され
る。

【００２５】本発明の装置の動作を以下に説明する。密
閉型タンク１７内に給水口Ａから給水バルブＶ_５を介し
て供給される原水は自動給水装置１４によって適量が導
入され、水滞留室１６に滞留水として滞留する。この滞
留水は水ガス混合ポンプＰ_３により、複合音波発生噴流
式ガス水混合装置９に噴流させ、ここで、Ｎ _２ ガスがガ
ス導入口Ｅから前記複合音波発生噴流式ガス水混合装置
９に導入されて、前記水ガス混合ポンプＰ_３の出力する
噴流水と混合処理されて気液混合水となり、同時に音波
の照射が加えられて、気液混合水噴出口Ｄから噴出出力
される。

【００２６】このＮ _２ ガスと水との混合を行う噴流式ガ
ス水混合装置の要部の断面図を図２に示す。同図におい
て、２１は円筒状の固定パイプで、その内径部に、先端
が細径となった水噴射ノズル２２を嵌入させる。固定パ
イプ２１の中間部側壁にはガス導入パイプ２３が取り付
けられ、水噴射ノズル２２の先端部付近に導入開口して
いる。２４は固定パイプ２１の先端に嵌合させたガス水
混合ノズルであり、処理された水を出力する。

【００２７】固定パイプ２１及び水噴射ノズル２２の入
力側から導入された循環水Ａ’は、水噴射ノズル２２の
先端から噴出するとともに、ガス導入パイプ２３の入力
側、即ち混合装置ガス導入口Ｃから導入されるＮ _２ ガス
と混合されて、気液混合水となって噴出口Ｄから出力さ
れるものである。

【００２８】水滞留室１６の滞留水は、前記噴射量と照
射量とにより溶存ガス量が変化する。水滞留室１６の滞
留水の酸化還元電位は、密閉型タンク１７の底部付近に
配置された酸化還元電位検出センサ１３により測定検出
され、そのデータは酸化還元電位指示調整器１１へ送ら
れる。

【００２９】データを送られた酸化還元電位指示調整器
１１は、そのデータを監視するとともに、予め設定され
た、酸化還元電位値と、水ガス混合ポンプＰ_３の出力
量、Ｎ _２ の噴射量及び音波の照射量との関係に従って、
ポンプモータ回転数制御装置１０および図示しない空気
制御装置及び音波発生量制御装置に対し制御に必要な指
示信号を出力する。

【００３０】指示信号を入力されたポンプモータ回転数
制御装置１０および図示しない空気制御装置は、前記指
示信号に従い、水ガス混合ポンプＰ_３の出力量、ガス導
入パイプ２３から導入されて噴射されるＮ _２ ガスの噴射
量を調整し、所定の量とし、音波発生量制御装置も前記
指示信号に従い、密閉型タンク１７の側壁を通して照射
される音波の照射量を調整し、所定の量とする。

【００３１】このような動作と同時に、密閉型タンク１
７の上部のガス滞留室１５に対し、ガス供給装置１によ
って圧力調整装置２、ガス供給逆止弁Ｖ_１２を介し、Ｎ
_２ガスが送り込まれる。送り込まれたガスは圧力計４、
安全装置５、圧力調整装置７等により所要の圧力に制御
管理され、余剰なガスは過剰ガス排出口Ｂから排出され
る。また、ガス滞留室１５のガスはガス精製装置８およ
び循環ポンプＰ_２によって常時清浄な状態に保たれる。
このようにして溶存ガスの制御が行われる。

【００３２】水滞留室１６の滞留水の酸化還元電位は酸
化還元電位記録器１２により、時間経過に従い記録され
る。前記酸化還元電位値と、水ガス混合ポンプＰ_３の出
力量、Ｎ _２ ガスの噴射量及び音波の照射量との関係の設
定は、この記録値を元に修正して微調整することができ
る。

【００３３】一方、上記の動作と併せて、密閉型タンク
１７の底部付近に設けた濾過器送水口Ｇから、調整バル
ブＶ_２を経て濾過器ポンプＰ_１により濾過殺菌すべき水
が取り出され、調整バルブＶ_１を経て、濾過装置ａへ送
られ、スラッジ等を除去される。濾過装置ａから調整バ
ルブＶ_３を通って続くセラミック充填接触装置ｂには、
酸化還元電位を調整された粉末セラミックが充填されて
いるので、水の酸化還元電位を調整し脱臭することが行
われ、処理終了の水は次の紫外線照射装置ｃへ送られ
る。

【００３４】さらに、紫外線照射装置ｃでは、紫外線発
生装置ｃ’によって水は紫外線に曝されて殺菌され、以
上の処理を終了した水は調整バルブＶ _６ を経て密閉型タ
ンク１７に戻される。

【００３５】一方、前記濾過装置ａの出力する水の一部
は、分岐して調整バルブＶ_３とは別の調整バルブＶ_４を
経てセラミックコーティング回路ｄを経由し、酸化還元
電位を調整されたセラミックタンクｄ’に導入され、酸
化還元電位を更に微調整することが行われ、処理終了後
は調整バルブＶ_１６を経て濾過器ポンプＰ_１へ入力され
る未処理水に加えられる。

【００３６】図３に、本発明を実施した装置による水処
理の結果を示してある。同図は酸化還元電位の変化であ
り、横軸は時間（単位は１時間）、縦軸は酸化還元電位
（単位は×１００ｍＶ）である。図において、Ａ点でＮ
_２ガスを注入開始してＢ点でＮ_２ガスの注入を中止し、
密閉型タンク１７はその密閉状態を維持したまま、その
上部にガス滞留室１５としてＮ_２ガスが滞留したまま所
定時間放置する。このように、Ｂ点で低下した酸化還元
電位は、時間の経過とともに、ごく僅かの上昇はある
が、ほとんど安定状態であるということができる。溶存
酸素（ＤＯ）量については、前記の図６で示したように
安定状態が得られているので、増加することはない。

【００３７】ガス滞留室に供給するガスの種類は本実施
例ではＮ_２ガスとしたが、ガスの種類を選択することに
よって、高酸化性の水から、高還元性の水まで、所望の
ものを得ることが可能である。

【００３８】また、本実施例では酸化還元電位指示調整
器１１により、水ガス混合ポンプＰ_３の出力量、噴射さ
れるＮ_２ガスの噴射量、照射される音波の照射量を制御
するように構成したが、この組み合わせは目的等により
任意であり、どのように変更することも可能である。

【００３９】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、密閉型タ
ンクを用いた水の酸化還元電位制御装置において、複合
音波発生噴流式水ガス混合装置を用い、Ｎ _２ ガスの噴射
と、音波の照射とを同時に行って望ましい値の酸化還元
電位が得られ、さらにタンク内の水を濾過殺菌する装置
を設けたので、有機物、無機物及び細菌をも除去した処
理水を得ることができる。しかも、セラミック充填接触
装置を設けたので、所定値の酸化還元電位を得ることが
できる。

【００４０】また、密閉型のタンク内で複合音波発生噴
流式水ガス混合装置を使用するため、安全性も高い。

【００４１】さらに、密閉型のタンク内でＮ_２ガスを滞
留させるため、ガス圧を高めることが可能となり、従っ
て水への溶存度を高めることができる。

【００４２】また、複合音波発生噴流式水ガス混合装置
における音波の照射は、水への溶存度をも高めることに
効果がある。

【００４３】ガス滞留室のガスはガス精製機能により、
水中から発生した不純ガス等を取り除き常時純度の高い
ガスのみが水に溶解するため、高度の品質の処理水が得
られる。

【００４４】複合音波発生噴流式水ガス混合装置は水の
噴射量を制御するこどが可能であるので、Ｎ _２ ガスの水
への溶解度をコントロールすることができる。従って酸
化還元電位も容易にコントロールすることも可能であ
る。

【００４５】複合音波発生噴流式水ガス混合装置の噴流
式混合装置は、水のクラスタ（分子集団）を小さくする
ことができるので、水の活性化の効果がある。

【００４６】酸化還元電位の数値は、酸化還元電位検出
センサと酸化還元電位指示調整器とにより任意に所望の
数値に制御することができる。

【００４７】さらに、薬品を使用せずに水の酸化還元電
位を変化させているので、ガスの水への溶解度が比較的
小さいため、酸化還元電位の変化も薬品によるものに比
較して小さい。そのため、電位の微調整が可能である。
加えて、無薬品でなければならない微生物の殺菌増殖を
自由に行うことが可能となり、有機物の酸化分解を促進
することができ、畜産、水耕栽培、もやしの製造、きの
この栽培等の無薬品で動植物の健全育成が可能となる。
納豆、酒、ビール等に使用しても、それらの菌の発生を
助長し、製造後における製品の腐敗を防ぎ長期の保存に
効果がある。さらに、動植物の増体率、飼料効率、肥料
効率が上がり生産性が向上する。

【００４８】また、本発明に使用した殺菌装置は濾過装
置、セラミック法、紫外線法、の三者を組み合わせたも
のであるので、有機物、無機物の除去や細菌の殺菌のみ
ならず、脱臭にも効果があるものである。

【００４９】しかも、装置は取扱いが簡単で維持管理に
も時間がかからず、健康で安全な住環境が維持できる効
果もあるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のブロック構成図である。

【図２】本発明の一実施例の噴流式ガス水混合および音
波発生装置の断面図である。

【図３】本発明の装置により得られた処理水の酸化還元
電位値のグラフである。

【図４】水にエアレーション方式でＮ_２ガスを注入した
場合の溶存酸素量のグラフである。

【図５】水にエアレーション方式でＮ_２ガスを注入した
場合の酸化還元電位値のグラフである。

【図６】従来の装置により得られた処理水の溶存酸素量
のグラフである。

【図７】従来の装置により得られた処理水の酸化還元電
位値のグラフである。

【符号の説明】

１ Ｎ_２ガス供給装置 ２ 圧力調整装置 ３ ガス排気装置 ４ 圧力計 ５ 安全装置 ６ 点検口 ７ 圧力調整装置 ８ ガス精製装置 ９ 複合音波発生噴流式ガス水混合装置 １０ ポンプモータ回転数制御装置 １１ 酸化還元電位指示調整器 １２ 酸化還元電位記録器 １３ 酸化還元電位検出センサ １４ 自動給水装置 １５ ガス滞留室 １６ 水滞留室 １７ 密閉型タンク Ａ 給水口 Ｂ 過剰ガス排出口 Ｃ 混合装置ガス導入口 Ｄ 気液混合水噴出口 Ｅ Ｎ _２ ガス導入口 Ｆ 処理水取り出し口 Ｇ 濾過器送水口 Ｐ_１ 濾過器ポンプ Ｐ_２ 循環ポンプ Ｐ_３ 水ガス混合ポンプ Ｐ_４ 送水ポンプ Ｖ_１ 調整バルブ Ｖ_２ 調整バルブ Ｖ_３ 調整バルブ Ｖ_４ 調整バルブ Ｖ_５ 給水バルブ Ｖ_６ 調整バルブ Ｖ_７ ドレンバルブ Ｖ_８ 送水バルブ Ｖ_９ 調整バルブ Ｖ_１０ 調整バルブ Ｖ_１１ガス精製装置調整バルブ Ｖ_１２ガス供給逆止弁 Ｖ_１３排気装置調整バルブ Ｖ_１４圧力調整装置逆止弁 Ｖ_１６調整バルブ ａ 濾過装置 ｂ セラミック充填接触装置 ｃ 紫外線照射装置 ｃ’ 紫外線発生装置 ｄ セラミックコーティング回路 ｄ’ セラミックタンク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−231987（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−315385（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−313384（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−15897（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−79264（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−18769（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−3993（ＪＰ，Ｕ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 密閉型タンク（１７）の水滞留室（１
   ６）に、自動給水装置（１４）にて原水を供給して所定
   量の滞留水を得る工程と、 密閉型タンク（１７）内の滞留水の水面上方に形成した
   ガス滞留室（１５）にＮ _２ ガスを圧力調整装置（２）を
   介して供給する工程と、 密閉型タンク（１７）内の滞留水を循環させる水ガス混
   合ポンプＰ _３ からの噴流水に、密閉型タンク（１７）の
   外部において空気又は酸素を混合して気液混合水として
   複合音波発生噴流式水ガス混合装置（９）に供給すると
   共に、密閉型タンク（１７）の内部においてＮ _２ ガスを
   該装置（９）に供給して上記気液混合水に混合して、音
   波を照射しつつ上記滞留水中に噴射する工程と、 密閉型タンク（１７）内に設けた酸化還元電位検出セン
   サ（１３）の検出値で指示値を出力する酸化還元電位指
   示調整器（１１）によって上記噴流水の量及び照射する
   音波の強度を制御する工程と、 上記密閉型タンク（１７）の滞留水を、濾過器ポンプＰ
   _１にて濾過装置ａを通過させてスラッジ等を濾過し、次
   段のセラミック充填接触装置ｂを通過させて酸化還元電
   位を所定値に調整し、次段の紫外線照射装置ｃを通過さ
   せて殺菌した後、上記密閉型タンク（１７）に戻す工程
   と、密閉型タンク（１７）内の処理された処理水を密閉型タ
   ンク（１７）の処理水取り出し口Ｆより取り出す工程
   と、 よりなる複合音波発生噴流式水の酸化還元電位および溶
   存ガス制御方法。