JP2990173B1 - 半導体集積回路の基準電位供給配線方法 - Google Patents

Abstract

【要約】 【課題】 クロストークが発生しない基準電位供給配線
を実現、従来行なっていた機能セルの配置配線後にクロ
ストークの可能性がある隣接配線を洗出し、修正する時
間も不要に、更に、チップサイズの縮小化あるいは配線
性の向上を図った半導体集積回路の基準電位供給配線方
法を提供することを課題とする。 【解決手段】 ＥＣＬ搭載の半導体集積回路のゲートア
レイの基準電位供給配線方法において、基準電位供給配
線を接続する際、機能セル２０２の配置座標を機能セル
単位でずらしながら、機能セル毎に配線位置を決定する
ことで、基準電位供給配線と各機能セルを接続する信号
配線の同一配線層が機能セル間の距離を超えて隣接しな
い配線を行なう方法を採用した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
Ｅｍｉｔｔｅｒ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｌｏｇｉｃ（以後Ｅ
ＣＬと称す）を搭載したゲートアレイ（以後Ｇ／Ａと称
す）の基準電位供給配線方法に関し、特に、クロストー
クの原因となる隣接配線を回避し、基準電位の変動によ
る回路の誤動作を防止するための半導体集積回路の基準
電位供給配線方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、６００ＭＨｚを超える高速動作の
ＥＣＬ搭載ＬＳＩが要求され、そのチップ内のクロスト
ークが大きな問題になっている。

【０００３】以下に、従来例を示し、説明する。図１３
に基準電位発生回路２０１と、そこから供給する予め固
定された格子状の配線（基準電位配線）１００１を示
す。

【０００４】従来、ＥＣＬを搭載したＧ／Ａ（ゲートア
レイ）チップの基準電位供給配線は、チップ内に固定配
置された基準電位発生回路２０１から各セルへ図１３に
示すように、チップ基板上に予め格子状に設けられてい
た。２０２は機能セル、２０３は基本セルを示す。

【０００５】特に微細化が進み、現在配線間隔が１μｍ
以下になると、前記基準電位配線１００１と機能セル２
０２を接続する信号配線の同一配線層がチップの内部セ
ル領域で長距離にわたって自動配線格子上を隣接する場
合、クロストークの発生原因になり、信号配線のノイズ
により基準電位が変動し、回路の誤動作を招く問題があ
る。

【０００６】また、図１２にＥＣＬ搭載のゲートアレイ
における、自動レイアウト設計ツールを用いた配置配線
全体フローを示す。従来、図１２に示すように、ステッ
プ９０１で、回路接続情報７と自動配線データベース８
の情報から機能セルを自動配置するが、この時は既に基
準電位発生回路２０１は、前述のようにチップ基盤上の
予め固定された場所に配置されているので、機能セル２
０２の配置のみとなる。

【０００７】次に、ステップ９０２で信号配線接続を行
なう。ここでも前述のようにこの時は既に基準電位発生
回路２０１から各セルへ電位を供給するための配線１０
０１は、チップ基板上に予め格子状に設けられているの
で、信号配線の接続のみを行なう。

【０００８】ここで、ステップ９０３にてクロストーク
に影響する前記基準電位配線と機能セルとを接続する信
号配線の同一配線層が長距離にわたって隣接する箇所の
有無の洗出しを行なう。

【０００９】そして、ステップ９０４で、クロストーク
に影響する隣接がない場合には終了し、あった場合は、
ステップ９０５にてクロストークを回避するため、隣接
配線を引き離すための手作業による信号配線の経路修正
を自動配線ツール上で行っていた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従来のＥＣＬを搭載し
たＧ／Ａ構造での設計手法では、予め用意された基準電
位配線により、その領域以外に自動による信号配線領域
の確保が必要なため、チップサイズが大きくなる。ま
た、基準電位配線がチップ上に格子状になっているた
め、信号配線が同一配線層と並行して配線され、クロス
トークが発生し易い構造になっていた。

【００１１】さらに、機能セルの配置配線後にクロスト
ーク発生の可能性がある隣接部分を洗出し、配線経路修
正を行い、この隣接部分が無くなるまで繰り返すので設
計時間短縮の妨げになっていた。

【００１２】なお、隣接配線間のクロストーク防止技術
として、以下の２件の先行技術がある。 （１）特開平６−２９１１８９号公報 これはゲートアレイに関する技術で、信号線間にＧＮＤ
配線を設けてシールドする技術である。 （２）特開平９−１７２０７３号公報 これは半導体集積回路の自動配置配線方法に関する技術
で、最初に幅の太い配線で接続し、配線後に幅を狭くし
他の信号の隣接を裂ける技術である（信号配線の両隣の
配線格子を空ける）。

【００１３】しかし、上記（１）、（２）の先行技術に
は、次のような問題点があった。この先行技術に係る構
造や方法を適用すると、予め基準電位発生回路から各セ
ルへ電位を供給するための固定配線と隣接信号配線との
クロストーク防止用にシールド配線や空き格子を用意し
ておく必要があったため、自動配線格子を潰し配線性を
劣化し、また無駄な面積がチップサイズ縮小化の妨げに
なっていた。

【００１４】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、機能セル間分の（短い）配線でかつ異なる
配線層で配線することで、クロストークが発生しない基
準電位供給配線を実現、また、従来行なっていた機能セ
ルの配置配線後にクロストークの可能性がある隣接配線
を洗出し、修正する時間も不要にして、設計時間の短縮
を図り、更に、予め基準電位発生回路から各セルへ電位
を供給するための配線を不要にして、チップサイズの縮
小化あるいは配線性の向上を図った半導体集積回路の基
準電位供給配線方法を提供することを課題とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明では、ＥＣＬ搭載の半導体集積回路のゲート
アレイの基準電位供給配線方法において、基準電位供給
配線を接続する際、機能セルの配置座標を機能セル単位
でずらしながら、機能セル毎に配線位置を決定すること
で、前記基準電位供給配線と各機能セルを接続する信号
配線の同一配線層が機能セル間の距離以下に隣接しない
配線を行なう方法を採用した。また、本発明では、ＥＣ
Ｌ搭載の半導体集積回路のゲートアレイの基準電位供給
配線方法において、基準電位供給配線を接続する際、機
能セル毎に接続方向が変わる配線位置を決定すること
で、前記基準電位供給配線と各機能セルを接続する信号
配線の同一配線層が機能セル間の距離以下に隣接しない
配線を行なう方法を採用した。また、基準電位供給配線
は、機能セル一個分にほぼ対応する距離で折れ曲がって
機能セルに接続されているようにすることができる。ま
た、基準電位供給配線は、機能セル一個分にほぼ対応す
る距離で機能セル毎に折れ曲がって各機能セルにそれぞ
れ接続されているようにすることができる。また、本発
明では、回路接続情報と自動配線データベースに基づい
て機能セルを配置する第１段階と、ある一つの基準電位
発生回路を基準とし、その基準位置セル座標及び機能セ
ル配置座標を読取り、機能セル配置座標変更及び基準電
位配線接続ルート決定を行う第２段階と、全ての基準電
位接続回路の接続ルート決定終了か否かを判定し、未終
了の場合に第２段階へ戻し、終了の場合に次に進む第３
段階と、決定した接続ルートに基づいて基準電位供給配
線を接続する第４段階と、各機能セル間の信号配線を接
続する第５段階とを含む方法を採用した。

【００１６】本発明によれば、機能セルの配置位置を交
互にずらすことで基準電位供給配線が、機能セル間分の
（短い）配線でかつ異なる配線層で配線されるため、ク
ロストークが発生しない基準電位供給配線を実現するこ
とができる。また、従来行なっていた機能セルの配置配
線後にクロストークの可能性がある隣接配線を洗出し、
修正する時間も不要になるため、設計時間の短縮がはか
れる。更に、予め基準電位発生回路から各セルへ電位を
供給するための配線が不要になるため、チップサイズの
縮小化あるいは配線性の向上を図ることができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】（実施の形態１）以下、本発明の
好適な実施の形態について、図面を参照して説明する。
図１は本発明の実施の形態１に係る半導体集積回路の基
準電位供給配線方法の全体フローチャートである。従来
のフローチャート（図１２）に加えて機能セル配置適正
化と基準電位供給配線接続のステップ２から４を追加し
ている。

【００１８】図１を参照すると、本実施の形態では、従
来の自動配置方法により機能セルを配置するステップ１
と、配置された機能セル座標を読み取り、機能セル位置
を適正化し基準電位発生回路から各機能セルへ基準電位
を接続するルートを決定するステップ２と、全ての基準
電位接続回路の接続ルート決定終了か否かを判断し、未
終了の場合にステップ２へ戻し、終了の場合に次に進む
ステップ３と、決定した接続ルートに基づいて基準電位
供給配線を接続するステップ４と、各機能セル間の信号
配線を接続する従来の自動配線方法によるステップ５と
自動配置及び配線結果の出力６を備えている。

【００１９】図２及び図３は、図１全体フローチャート
内のステップ２における機能セル配置適正化及び接続ル
ート決定の詳細フローチャートである。この図２及び図
３を参照すると、基準位置セル座標を初期化し決定する
ステップ２１から２７と、基準セルから基準電位供給配
線を接続するための接続ルートを決定するステップ２８
から５１を備え、決定した接続ルート情報は５０に出力
される。

【００２０】図４は、図１全体フローチャート内のステ
ップ４における基準電位供給配線接続の詳細フローチャ
ートである。図４を参照すると、図２、図３で作成した
基準電位の接続ルートに従い接続情報を作成するステッ
プ７１から７９と、その接続情報を基に基準電位供給配
線を自動配線するステップ８０を備えている。

【００２１】図５はチップの内部自動配線領域の構成を
示す実施例である。１０７は基準電位発生回路で、内部
自動配線領域１０１〜１０６の６個所に配置されてい
る。また、内部自動配線領域は１０１から１０６の６個
の各基準電位発生回路が基準電位を供給するエリアに分
割されている。

【００２２】図８は複数の基本セルで構成された基準電
位発生回路のセル例である。本例では基本セル２０３の
４セル分で構成されており、自動配線時に使用する基準
電位接続用の出力端子２６１はセルの周囲に設置されて
いる。

【００２３】図９は本実施の形態で使用するＥＣＬ基本
セル及び機能セルの例である。ＮＰＮトランジスタ７０
４及び抵抗素子７０５は基本セルの中心線に対して対象
となるように構成されている。また基準電位を受けるト
ランジスタのベースに接続した自動配線接続用の端子を
自動配線格子上に有している。ここで７０２は入力用端
子で第１配線層、７０３は出力用端子で第２配線層とし
てそれぞれ自動配線データベースに定義する。

【００２４】自動配線はあらかじめ定義された配線格子
上を通る。また優先的に配線される方向を主軸とし、本
実施の形態では第１配線層の主軸をＸ軸に、第２配線層
の主軸をＹ軸に、また第３配線層の主軸をＸ軸に定義す
る。７０１は基準電位端子、７０６、７０７は配線格子
である。

【００２５】（動作の説明）図２、図３は機能セルの有
無を読み取り配置位置を変更して基準電位供給配線の接
続ルートを決定するフローチャートである。本実施の形
態では、基準電位発生回路を基点とし、Ｘ方向に基準電
位配線の接続ルートを決定していく方法である。

【００２６】あらかじめチップ上に配置されている基準
電位発生回路のうち左下の、図５に示すエリア１０１を
例に接続ルート決定方法を説明する。エリア１０２、１
０３は１０１と同一のフローチャートで決定される。ま
た右側のエリア１０４、１０５、１０６はそれぞれ右下
を基準とし、Ｘ軸を負の方向に機能セルを検索して接続
ルートが決定される。

【００２７】また図２、図３のフローチャートスタート
前には図１のステップ１により各機能セルの配置は初期
配置として終了している。

【００２８】図５のエリア１０１に機能セルが配置され
た初期段階の例を図６に示す。図６では基本セル２０３
上に機能セル２０２がランダムに配置されている。

【００２９】最初にステップ２１で、基準電位接続ルー
トのうち基準電位発生回路から接続される初段となる機
能セルの基順位置を決定するため、左下の基本セル座標
を自動配線データベースから読み取る。

【００３０】次にステップ２２で、ステップ２１で読み
取った基本セル座標に機能セルが配置されているか配置
情報９と比較し検出して、ステップ２３でその有無を判
断する。配置されていない場合はステップ２４でＸ方向
に１セル移動し、ステップ２５でＸ方向のエリア内判定
後ステップ２２に戻り、基順位置が決定されるまでを繰
り返す。

【００３１】またＸ方向エリア外の場合ステップ２６に
てＹ方向に１セル移動し、ステップ２７でＹ方向のエリ
ア内判定後ステップ２２に戻り、同様に基順位置が決定
されるまで繰り返す。

【００３２】ここでＹ方向がエリア外となった場合は、
配置された機能セルなしで終了となる。

【００３３】次にステップ２３で、基本セル座標に機能
セルの存在が確認されたら、そこを基準位置とし、ステ
ップ２８で基準電位配線の接続確認を行い、未接続の場
合ステップ２９に進み、基準位置の次段となる機能セル
の位置を決定する。ここで決定した機能セルが基準電位
接続済の場合はステップ２４に進みＸ方向に１セル移動
して、基準位置を変更する。

【００３４】次にステップ２９で、基準位置に対しＸ方
向に１セル移動する。ステップ３０で基準位置の次段と
なるべき機能セルの有無を確認し、ここに存在しない場
合はステップ３１に進む。ここでＹ方向−１セルの位置
の機能セル有無を確認し、ここに存在する場合はそこを
次段機能セルとする。また、存在しない場合はステップ
３３でＹ方向＋１セルの位置の機能セルの有無を確認し
存在する場合はそこを次段機能セルとする。

【００３５】さらにそこにも存在しない場合は、ステッ
プ２９に戻り次段位置をＸ方向に１セル移動し機能セル
検索を繰り返す。

【００３６】ステップ３０で機能セルが存在する場合は
ステップ３５に進み前段と次段のＹ座標を比較し違って
いた場合そのままステップ４２に進みルートを決定す
る。前段と次段のＹ座標が同じ場合はステップ３６に進
む。

【００３７】ステップ３６では次段セルのＹ方向−１セ
ルの位置の機能セル有無を確認し、存在しなければそこ
に機能セルを移動し、ステップ４２で接続ルートを決定
する。また、ステップ３６で機能セルがＹ方向−１セル
に存在する場合は、ステップ３８に進みＹ方向＋１セル
の位置の機能セル有無を確認する。存在しなければそこ
に機能セルを移動しステップ４２で接続ルートを決定す
る。

【００３８】ここに存在する場合はステップ４０及び４
１にて、Ｙ方向に機能セルが存在しない空きセルを検索
し、そこまでの機能セルをまとめて１セル分移動し次段
の機能セルを前段のＸ方向＋１セル、Ｙ方向＋１セルの
位置にして接続ルートを決定する。ここでステップ４３
で決定した機能セルのＹ座標をＹ３に格納する。

【００３９】次にステップ４４で、Ｘ座標がエリア内か
判定し、エリア内の場合は基準位置を変更しステップ２
９に戻り次の接続ルート決定を繰り返す。またエリア外
の場合は基準セル位置をＸ＝１、Ｙは＋１セル変更し、
ステップ４７でＹ方向エリア確認後、エリア内の場合は
ステップ２２に戻り接続ルート決定を繰り返す。またエ
リア外の場合は全ての接続ルートが決定したとし終了す
る。

【００４０】本実施の形態により、基準電位供給配線
は、基準電位発生回路から機能セルを介してその配置間
隔の距離毎に折れ曲がって接続される。

【００４１】図４は図２、図３のフローチャートで決定
した接続ルートを基に、基準電位供給配線情報を作成
し、機能セル間を自動接続するフローチャートである。

【００４２】最初にステップ７１で、接続ルート情報に
含まれる一番目の接続ルートを選択するために接続ルー
ト番号を初期化する。次にステップ７２で接続ルート情
報から基準セルの機能セル名とその座標を読み取る。次
にステップ７３で基準セルとなる機能セルに近い基準電
位発生回路内の端子位置を決定する。ステップ７４で機
能セルの回路内の固有名を検索し、ステップ７５で接続
情報を作成し８１に格納する。

【００４３】ここで、回路接続情報の記述について説明
する。回路接続情報とは論理を構成するため、機能セル
を組み合わせその入力及び出力端子を接続する情報であ
る。各機能セルには１つの品種の回路接続情報に固有の
名称を付ける。

【００４４】ステップ７６で次段の機能セル有無を確認
し、存在する場合はステップ７４に戻り接続情報作成を
繰り返す。また、存在しない場合はステップ７８に進み
全てのルートにつき接続した事を確認し、残っている場
合は、ステップ７９でルート番号を変更しステップ７２
に戻り接続情報作成を繰り返す。全てのルートの接続情
報を作成した場合は、その接続情報を基に自動配線を行
い、各機能セル間の基準電位供給配線を接続し終了す
る。

【００４５】図７に図６で初期配置された機能セルを図
２、図３のフローチャートに従い一部移動し、さらに図
４のフローチャートに従い基準電位供給配線を接続した
例を示す。

【００４６】機能セル２５２は図６の初期配置に対して
図２、図３のフローチャートに従い移動した機能セルで
ある。機能セルを移動した結果基準電位発生回路２０１
の出力端子から接続される各ルートの基準電位供給配線
は機能セル一個分の距離で折れ曲って接続される。

【００４７】このように、本実施の形態によれば、第一
に、基準電位発生回路からの基準電位供給配線は、機能
セル一個分の距離でかつ異なる層で配線するため、信号
配線との隣接が極力おさえられ、配線間のクロストーク
による基準電位変動が原因となる誤動作を防止する半導
体集積回路が実現できる。

【００４８】第二に、従来実施していたクロストークを
回避するための手作業による修正を行なわなくてよいた
め、設計時間の短縮になる。

【００４９】第三に、基準電位供給配線も必要な分だけ
自動レイアウトするため、従来の予め用意された基準電
位供給配線が不要になり、その分信号配線に使用できる
ので、配線性の向上もしくはチップサイズの縮小ができ
る。

【００５０】（実施の形態２）図１０は本発明の実施の
形態２を示すもので、Ｙ方向２セル間の機能セルの配置
有無を読み取りながら、基準電位供給配線接続ルートを
決定するフローチャートである。

【００５１】この実施形態は、基準電位発生回路を基点
とし、Ｘ方向に基準電位配線の接続ルートを決定する方
法である。あらかじめチップ上に配置されている基準電
位発生回路のうち左下の、図５に示すエリア１０１を例
に接続ルート決定方法を説明する。

【００５２】エリア１０２、１０３は１０１と同一のフ
ローチャートで決定される。また右側のエリア１０４、
１０５、１０６はそれぞれ右下を基準とし、Ｘ軸を負の
方向に機能セルを検索して接続ルートが決定される。ま
た図１０のフローチャートスタート前には図１のステッ
プ１により各機能セルの配置は初期配置として終了して
いる。

【００５３】この配置結果で前記エリア１０１に用意さ
れている基本セル数に対し、機能セルの使用率が高く５
０％を超えた場合、空きセルが減少しその座標検索と機
能セルの移動座標決定にかかる時間を増大させる問題が
ある。

【００５４】機能セルの配置後、まずステップ８０１で
基準電位接続ルートのうち基準電位発生回路から接続さ
れる初段となる基順位置を決定するため、左下の基本セ
ル座標を自動配線データベースから読み取る。次にステ
ップ８０２で、ステップ８０１で読み取った基本セル座
標に機能セルが配置されているか配置情報８と比較し検
出してステップ８０３で有無を判断する。ここまでは図
２、図３の例と同じである。

【００５５】配置されていない場合はステップ８０４で
Ｙ方向に＋１セル移動し、ステップ８０５で機能セルの
有無を確認し、存在する場合はステップ８１４に進む。
また存在しない場合はステップ８０６でＸ方向に１セル
移動し、ステップ８０７でＸ方向のエリア内判定後ステ
ップ８０２に戻り基準セル位置決定を繰り返す。ステッ
プ８０３で機能セルが存在していた場合、次段機能セル
への接続ルートを決定する。

【００５６】次にステップ８１０でＹ方向に＋１セル移
動し、ステップ８１１でＹ方向エリア内判定後ステップ
８１２で機能セル有無を判定する。そこに機能セルが存
在する場合はステップ８１３で接続ルート決定し、ステ
ップ８１４で基準位置座標を同位置に変更してステップ
８２１に進む。ステップ８１２で機能セルが存在しない
場合はそのままステップ８２１に進む。またステップ８
１１でＹ方向エリア外の場合は終了する。

【００５７】次にステップ８２１で次段の機能セル座標
を初期位置に対しＸ，Ｙ方向共＋１セルの位置としステ
ップ８２２でＸ方向エリア内判定後、ステップ８０３で
機能セル有無を判定する。そこに機能セルが存在する場
合はステップ８２４で接続ルート決定し、ステップ８２
５で基準位置座標を同位置に変更してステップ８３１に
進む。ステップ８２３で機能セルが存在しない場合はそ
のままステップ８３１に進む。またステップ８２２でＸ
方向エリア外の場合はステップ８４７に進み基準セル位
置変更後、Ｙ方向エリア判定しエリア内の場合ステップ
８０２に戻り、エリア外の場合は終了する。

【００５８】次にステップ８３１で次段の機能セル座標
を初期位置に対しＸ方向のみ＋１セルとし、ステップ８
３２で機能セル有無を判定する。そこに機能セルが存在
する場合はステップ８３３で接続ルート決定し、ステッ
プ８３４で基準位置座標を同位置に変更してステップ８
４１に進む。ステップ８３２で機能セルが存在しない場
合はそのままステップ８４１に進む。

【００５９】次にステップ８４１で次段の機能セル座標
を初期位置に対しＸ方向のみ＋２セルの位置とし、ステ
ップ８４２でＸ方向エリア内判定後ステップ８４３で機
能セル有無を判定する。そこに機能セルが存在する場合
はステップ８４４で接続ルート決定し、ステップ８４５
で基準位置座標を同位置に変更して接続ルート情報を出
力し、ステップ８１０に戻る。ステップ８４３で機能セ
ルが存在しない場合はステップ８１０に戻る。またステ
ップ８４２でＸ方向エリア外の場合はステップ８４７に
進み、基準セル位置変更後Ｙ方向エリア判定しエリア内
の場合ステップ８０２に戻り、エリア外の場合は終了す
る。

【００６０】この実施の形態では、基準電位供給配線は
基準電位発生回路から、機能セル位置を変更せずに各機
能セル毎に折れ曲がって接続される。またＹ方向に２セ
ル単位で検索していくため、特に図１のステップ１にお
ける機能セル初期配置の結果で空きセルが少ない場合に
有効であり、空きセルの検索及び機能セルの移動座標決
定にかかる時間をなくし、さらなる設計時間短縮の効果
がある。

【００６１】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、以下の
ような効果を奏する。第一に、基準電位発生回路からの
基準電位供給配線は、機能セル一個分の距離でかつ異な
る層で配線するため、信号配線との隣接が極力おさえら
れ、配線間のクロストークによる基準電位変動が原因と
なる誤動作を防止する半導体集積回路が実現できる。

【００６２】第二に、従来実施していたクロストークを
回避するための手作業による修正を行なわなくてよいた
め、設計時間の短縮になる。

【００６３】第三に、基準電位供給配線も必要な分だけ
自動レイアウトするため、従来の予め用意された基準電
位供給配線が不要になり、その分信号配線に使用できる
ので、配線性の向上もしくはチップサイズの縮小ができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１に係るフローチャートで
ある。

【図２】本発明の実施の形態１に係るフローチャートで
ある。

【図３】本発明の実施の形態１に係るフローチャートで
ある。

【図４】図１のステップ４基準電位供給配線接続の詳細
フローチャートである。

【図５】本発明の実施の形態１に係るチップの内部自動
配線領域の構成図である。

【図６】本発明の実施の形態１に係る基本セル、機能セ
ル、基準電位発生回路の配置構成図である。

【図７】図６で初期配置された機能セルを一部移動し、
さらに基準電位供給配線を接続した例を示す構成図であ
る。

【図８】本発明の実施の形態１に係る基準電位発生回路
の出力端子と基本セルを示す構成図である。

【図９】本発明の実施の形態１に係るＥＣＬ基本セル及
び機能セルの構成図である。

【図１０】本発明の実施の形態２に係るフローチャート
である。

【図１１】本発明の実施の形態２に係るフローチャート
である。

【図１２】従来例に係るフローチャートである。

【図１３】従来の基準電位配線と機能等を示す構成図で
ある。

【符合の説明】

７ 回路接続情報 ８ 自動配線データベース ９ 機能セル配置情報 １０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６ 内
部自動配線領域 １０７ 基準電位発生回路 ２０１ 基準電位発生回路 ２０２ 機能セル ２０３ 基本セル ２５２ 機能セル ２６１ 出力端子 ７０２ 入力用端子 ７０３ 出力用端子 ７０４ ＮＰＮトランジスタ ７０５ 抵抗端子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−116163（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 27/04 H01L 21/822 H01L 27/118

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＥＣＬ搭載の半導体集積回路のゲートア
   レイの基準電位供給配線方法において、基準電位供給配
   線を接続する際、機能セルの配置座標を機能セル単位で
   ずらしながら、機能セル毎に配線位置を決定すること
   で、前記基準電位供給配線と各機能セルを接続する信号
   配線の同一配線層が機能セル間の距離以下に隣接しない
   配線を行なうことを特徴とする、半導体集積回路の基準
   電位供給配線方法。
2. 【請求項２】 ＥＣＬ搭載の半導体集積回路のゲートア
   レイの基準電位供給配線方法において、基準電位供給配
   線を接続する際、機能セル毎に接続方向が変わる配線位
   置を決定することで、前記基準電位供給配線と各機能セ
   ルを接続する信号配線の同一配線層が機能セル間の距離
   以下に隣接しない配線を行なうことを特徴とする、半導
   体集積回路の基準電位供給配線方法。
3. 【請求項３】 前記基準電位供給配線は、機能セル一個
   分にほぼ対応する距離で折れ曲がって機能セルに接続さ
   れていることを特徴とする、請求項１又は２記載の半導
   体集積回路の基準電位供給配線方法。
4. 【請求項４】 前記基準電位供給配線は、機能セル一個
   分にほぼ対応する距離で機能セル毎に折れ曲がって各機
   能セルにそれぞれ接続されていることを特徴とする、請
   求項２記載の半導体集積回路の基準電位供給配線方法。
5. 【請求項５】 回路接続情報と自動配線データベースに
   基づいて機能セルを配置する第１段階と、ある一つの基
   準電位発生回路を基準とし、その基準位置セル座標及び
   機能セル配置座標を読取り、機能セル配置座標変更及び
   基準電位配線接続ルート決定を行う第２段階と、全ての
   基準電位接続回路の接続ルート決定終了か否かを判定
   し、未終了の場合に第２段階へ戻し、終了の場合に次に
   進む第３段階と、決定した接続ルートに基づいて基準電
   位供給配線を接続する第４段階と、各機能セル間の信号
   配線を接続する第５段階とを含む、半導体集積回路の基
   準電位供給配線方法。