JP2986622B2 - 光磁気メモリー素子およびその記録再生方法 - Google Patents

光磁気メモリー素子およびその記録再生方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光等の光によ
り情報の記録、消去および再生を行う光磁気ディスク等
の光磁気メモリー素子およびその記録再生方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】光磁気ディスク等の光磁気メモリー素子
は、基板上に第１の誘電体層と、記録再生層と、第２の
誘電体層と、反射層と、オーバーコート層を順次積層し
た構成になっている。記録再生層には垂直磁化膜である
希土類遷移金属合金（ＲＥ−ＴＭ）が用いられる。ＲＥ
−ＴＭとしては、例えば、ＤｙＦｅＣｏ、ＴｂＦｅＣ
ｏ、ＧｄＴｂＦｅがある。
【０００３】記録の際にはレーザー光等の光を記録再生
層に照射し、昇温により保磁力（Ｈｃ）が小さくなった
部分の磁化を外部磁界により反転させることで記録を行
っている。再生の際には直線偏光した光を記録再生層に
照射し、磁化の方向により直線偏光の角度が回転する現
象（カー効果）を利用して情報を読み取っている。した
がって、この再生方法においては、記録再生層上の光ス
ポットよりも小さい面積で高密度に書かれた情報を再生
できない。
【０００４】このため、光スポットの大きさより小さい
記録ビットを再生できるようにした光磁気ディスクが最
近提案された。
【０００５】この光磁気ディスクは、図２７に示すよう
に、主として、基板８１上に読み出し層８３と記録層８
４とを備えている。記録層８４は、室温で高保磁力を有
している。又、読み出し層８３は室温での保磁力は小さ
い。読み出し層８３の再生部位の温度が上昇すると記録
層８４の影響を受けて、磁化の向きが記録層８４の磁化
の向きと一致する。即ち、読み出し層８３及び記録層８
４の２層間の交換結合力によって、記録層８４の磁化が
読み出し層８３に転写されるようになっている。
【０００６】記録は、通常の光熱磁気記録方法で行われ
る。記録されたビットを再生するには、予め補助磁界発
生装置８６により印加される補助磁界を読み出し層８３
の磁化の向きが所定の向きに揃う（図中、上向き）よう
に初期化する必要がある。次に、レンズ９８を通して再
生ビームを照射し、局部温度上昇させて記録層８４の磁
化情報を読み出し層８３に転写する。こうすると、再生
ビームの照射された部位の中心部の温度が上昇した部位
のみの情報が再生できる。従って、光ビームより小さな
記録ビットでも読み出せる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成では、予め補助磁界発生装置８６により読み出
し層８３の磁化を初期化する必要があり、また、記録時
に１ｋＯｅ以上の大きな外部磁界が必要となるので、記
録再生装置の消費電力が増大するという問題点を有して
いる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の光磁気メモリー素子は、上記の課題を解決するため
に、室温で面内磁化膜であり室温以上の所定温度で垂直
磁化膜になる読み出し層としての第１磁性層と、キュリ
ー温度が室温以上である中間層としての第２磁性層と、
室温からキュリー温度まで垂直磁化膜である記録層とし
ての第３磁性層が光ビームの入射側から順次積層されて
おり、第２磁性層のキュリー温度が、上記所定温度より
も高くかつ第３磁性層のキュリー温度よりも低い温度に
設定されていることを特徴としている。また、本発明の
請求項２に記載の光磁気メモリー素子の記録再生方法
は、室温で面内磁化膜であり室温以上の所定温度で垂直
磁化膜になる読み出し層としての第１磁性層と、キュリ
ー温度が室温以上である中間層としての第２磁性層と、
室温からキュリー温度まで垂直磁化膜である記録層とし
ての第３磁性層が光ビームの入射側から順次積層されて
おり、第２磁性層のキュリー温度が上記所定温度より高
くかつ第３磁性層のキュリー温度より低い光磁気メモリ
ー素子の記録再生方法であって、前記光磁気メモリー素
子を加熱して、第１磁性層と第３磁性層とを第２磁性層
を介して交換結合させた状態で、外部磁界を印加せずに
情報を再生し、前記光磁気メモリー素子を第２磁性層の
キュリー温度以上に加熱して、第１磁性層と第３磁性層
との間の交換結合力を遮断した状態で、情報を記録する
ことを特徴としている。
【０００９】
【作用】上記の構成によれば、再生時には、第１と第２
と第３磁性層間の交換結合力により、第３磁性層に高密
度記録された情報、すなわち、再生時の光スポットより
も小さい部分に書かれた情報を再生できる。しかも、第
１磁性層の磁化を初期化するための補助磁界発生装置が
不要となる。また、第１、第３の磁性層間に、第３磁性
層のキュリー温度よりも低いキュリー温度を有する第２
磁性層を挿入したので、記録時には、第１と第３磁性層
間に交換結合力が働かなくなる。したがって、小さい外
部磁界で第３磁性層に情報を記録できる。これにより、
記録再生装置の小型化、省電力化を図れる。
【００１０】
【実施例】〔前提例１〕 まず、 本発明の第１の前提例について図１、図３ないし
図１０に基づいて説明すれば、以下の通りである。
【００１１】本前提例に係る光磁気記録媒体である光磁
気ディスクは、図１に示すように、基板１（基体）、透
明誘電体膜２、読み出し層３（第１磁性層）、記録層４
（第３磁性層）、透明誘電体膜５、オーバーコート膜９
がこの順に積層された構成を有している。
【００１２】上記読み出し層３として使用される希土類
遷移金属の磁気状態図は図３に示すようになり、光磁気
ディスクが室温で垂直磁化を示す範囲Ａが非常に狭い。
これは、希土類金属と遷移金属の磁気モーメントがつり
あう補償組成の近辺でしか垂直磁化が現れないからであ
る。
【００１３】ところで、希土類金属と遷移金属の磁気モ
ーメントは、それぞれ温度特性が異なり、高温では遷移
金属の磁気モーメントが希土類金属に比べて大きくな
る。このため、室温の補償組成（図中、Ｑで示す）より
希土類金属の含有量を多くした組成（図中、Ｐで示す）
を用い、室温では垂直磁化を示さずに面内磁化を示すよ
うにしておく。
【００１４】そして、光ビームが照射された部位の温度
が上昇すると、遷移金属の磁気モーメントが相対的に大
きくなって、希土類金属の磁気モーメントとつりあうよ
うになり、全体として垂直磁化を示すようになる。この
ような特性を備えた希土類遷移金属を読み出し層に使用
することで、本前提例の光磁気ディスクの記録密度は高
くなっている。
【００１５】図４乃至図７は、読み出し層３に印加され
る外部印加磁界Ｈexと磁気カー回転角θK との関係（ヒ
ステリシス特性）を示し、それぞれ、室温から温度Ｔ1
のヒステリシス特性、温度Ｔ1 から温度Ｔ2 のヒステリ
シス特性、温度Ｔ2 から温度Ｔ3 のヒステリシス特性お
よび温度Ｔ3 からキュリー温度ＴC のヒステリシス特性
を示している。
【００１６】温度Ｔ1 から温度Ｔ3 までの範囲では立ち
上がりの急峻なヒステリシス特性を示すが、室温から温
度Ｔ1 および温度Ｔ3 からキュリー温度ＴC の範囲では
ヒステリシス特性を示さないことがわかる。
【００１７】なお、本前提例では読み出し層３としてＧ
ｄ0.28 (Ｆｅ0.8 Ｃｏ0.2)0.72を使用しており、膜厚は
５０ｎｍである。また、そのキュリー温度は３００℃か
ら４００℃程度である。室温では、上記した理由で希土
類金属の含有量を多くしておき、１００℃前後で補償組
成になるようにしている。
【００１８】上記記録層４として、Ｄｙ0.23 (Ｆｅ0.82
Ｃｏ0.18)0.77 を使用しており、膜厚は２０ｎｍであ
る。また、そのキュリー温度は１５０℃から２５０℃に
設定している。
【００１９】上記透明誘電体膜２は、ＡｌＮ、ＳｉＮや
ＡｌＳｉＮの誘電体膜からなり、その膜厚は再生光の波
長の１／４を屈折率で除した値程度に設定される。例え
ば、再生光の波長を８００ｎｍとすると透明誘電体膜２
の膜厚は１０〜８０ｎｍ程度となる。また透明誘電体膜
５は窒化物からなる保護膜であり膜厚は５０ｎｍであ
る。
【００２０】上記の構成によれば、再生動作時に、基板
１の側から集光レンズ８を介して再生光ビーム７（垂直
入射光）が読み出し層３に照射される。この時、例えば
図１に示す磁化の向きに記録層４が記録されているとす
ると、再生光ビーム７の中心部近辺に対応する、読み出
し層３の部位の温度のみが上昇し、７０℃前後に達す
る。
【００２１】これは、再生光ビーム７が、集光レンズに
より回折限界まで絞りこまれているため、その光強度分
布がガウス分布になり、光磁気ディスク上の再生部位の
温度分布もほぼガウス分布になるからである。このた
め、７０℃以上の温度を有する領域は、光ビームより小
さくなっている。本前提例では、この７０℃以上の温度
を有する領域のみを再生に関与させるので、光ビームの
径より小さい記録ビットの再生が行え、記録密度は著し
く向上することになる。
【００２２】このように７０℃以上の温度を有する領域
の磁化は、面内磁化から垂直磁化に移行する。つまり、
読み出し層３及び記録層４の２層間の交換結合力によ
り、記録層４の磁化の向きが読み出し層３に転写され
る。
【００２３】なお、再生光ビーム７の中心部近辺に対応
する以外の読み出し層３の部位では、温度上昇が生じ
ず、従って面内磁化の状態が保持される。この結果、垂
直入射光に対して磁気光学効果を示さない。
【００２４】このようにして、温度上昇部位が面内磁化
から垂直磁化に移行すると、再生光ビーム７の中心付近
のみが磁気光学カー効果を示すようになり、該部位から
の反射光に基づいて記録層４に記録された情報が再生さ
れる。
【００２５】そして、再生光ビーム７が移動して次の記
録ビットを再生する時は、先の再生部位の温度は低下
し、垂直磁化から面内磁化に移行する。これに伴って、
この温度の低下した部位は磁気光学カー効果を示さなく
なり、雑音の原因である隣接ビットからの信号が混入す
ることがなくなる。
【００２６】この光磁気ディスクを使用して、情報の記
録再生を行えば、再生光ビームの中心付近のみが光磁気
光学効果を示すので、再生信号量が確保できれば、光ビ
ームの径より小さい記録ビットの再生が行え、記録密度
を著しく高めることが可能である。そして、従来の技術
で示したような読み出し層の磁化を初期化するための補
助磁化発生装置が不要となる。
【００２７】つまり、本前提例の構成によれば、再生光
ビーム７が照射されている部位の温度が７０℃前後まで
上昇すると、面内磁化から垂直磁化に移行する一方、周
辺の部位を含むその他の部位は上記温度まで上昇しない
ので、面内磁化の状態が保持される。従って、光ビーム
の径より小さい記録ビットの再生が確実に行える。
【００２８】なお、読み出し層３は、上記Ｇｄ0.28 (Ｆ
ｅ0.8 Ｃｏ0.2)0.72に限定されるものではなく、例えば
Ｇｄ0.25Ｃｏ0.75を使用してもよい。この場合、上記前
提例の効果に加えて、Ｇｄ0.25Ｃｏ0.75がＧｄ0.28 (Ｆ
ｅ0.8 Ｃｏ0.2)0.72と比較して保磁力が小さいので、記
録時の外部印加磁界に対する外乱要因を小さくできる。
【００２９】〔前提例２〕 ここで、上記第１の前提例の構成に加えて、反射膜が設
けられた本発明の第２の前提例について、図２を参照し
ながら以下に説明する。
【００３０】本前提例に係る光磁気記録媒体である光磁
気ディスクは、図２に示すように、基板１１、透明誘電
体膜１２、読み出し層１３、記録層１４、透明誘電体膜
１５、反射膜１６およびオーバーコート膜１９がこの順
に積層された構成を有している。
【００３１】なお、本前提例では磁気光学効果をエンハ
ンスするための反射膜１６が設けられている以外は、基
板１１、透明誘電体膜１２、記録層１４、透明誘電体膜
１５及びオーバーコート膜１９が、前記第１の前提例の
基板１、透明誘電体膜２、記録層４、透明誘電体膜５及
びオーバーコート膜９のそれぞれの構成及び諸特性と同
じであるので、詳細な説明をここでは省略する。ただ
し、膜厚は透明誘電体膜１２が８０ｎｍ、読み出し層１
３及び記録層１４がそれぞれ１５ｎｍ、透明誘電体膜１
５が３０ｎｍ、反射膜１６が５０ｎｍである。
【００３２】上記の構成によれば、基板１１の側から集
光レンズを介して再生光ビーム（何れも図示しない）が
読み出し層１３に照射される。この時、入射された再生
光ビームのうち、記録層１４および透明誘電体膜１５を
透過した光ビームは、反射膜１６で反射されるようにな
っている。
【００３３】この時、記録層１４が所定の磁化の向き
（例えば図１と同じ磁化の向き）に記録されているとす
ると、再生光ビームの中心部付近に対応する読み出し層
１３の部位のみの温度が上昇し、７０℃前後になる。こ
れは、再生光ビームの照射された部位の温度分布がガウ
ス分布であるからである。
【００３４】このように７０℃以上の温度を有する領域
では、面内磁化から垂直磁化に移行する。そして、読み
出し層１３及び記録層１４の２層間の交換結合力によ
り、記録層１４の磁化の向きが読み出し層１３に転写さ
れる。磁気光学カー効果により、該部位からの反射光に
基づいて記録層１４に記録された情報が再生される。
【００３５】なお、本前提例の場合、上記第１の前提例
の構成に伴う効果に加えて、反射膜１６により、磁気光
学効果がエンハンスされて磁気カー回転角が大きく取れ
るので、高精度に情報の再生が行え、再生信号の品質が
向上する。
【００３６】ところで、再生光ビームの中心部付近に対
応する以外の読み出し層１３の部位では、温度上昇が生
じず、従って面内磁化の状態が保持される。この結果、
垂直入射光に対して磁気光学効果を示さない。
【００３７】なお、上記読み出し層３は、上記Ｇｄ0.28
(Ｆｅ0.8 Ｃｏ0.2)0.72やＧｄ0.25Ｃｏ0.75に限定され
るものではなく、室温付近での磁気特性が完全な面内磁
化ではなく、磁化がほぼ面内を向いているものでもよ
い。例えば、Ｄｙ0.3(Ｆｅ0.7Ｃｏ0.3)0.7 のような保
磁力を比較的大きくできる材料を使用してもよい。この
場合、ヒステリシス特性は、図８乃至図１０に示すよう
になる。
【００３８】つまり、図８乃至図１０は、読み出し層の
外部印加磁界Ｈexと磁気カー回転角θK との関係（ヒス
テリシス特性）を示しており、それぞれ、室温から温度
Ｔ1のヒステリシス特性、温度Ｔ1 から温度Ｔ2 のヒス
テリシス特性、温度Ｔ2 からキュリー温度ＴC のヒステ
リシス特性を示している。
【００３９】このように、Ｄｙ0.3(Ｆｅ0.7 Ｃｏ0.3)
0.7 のような保磁力を比較的大きくできる材料を使用し
た場合、室温からキュリー温度ＴC の全範囲でヒステリ
シス特性を示し、特に温度Ｔ1 からキュリー温度ＴC の
範囲では立ち上がりの急峻なヒステリシス特性を示すよ
うになる。なお、上記温度Ｔ1 、Ｔ2 、Ｔ3 およびＴC
は、前述の図３で示した記号と同じ温度を示す。
【００４０】次に、本発明の実施例について図１１ない
し図２６に基づいて説明すれば、以下の通りである。
【００４１】本実施例の光磁気メモリー素子は、図１１
に示すように、ガラスまたは、ポリカーボネート等の透
光性樹脂からなる基板２１（基体）上に誘電体層２２、
磁性層２３（第１磁性層）、磁性層２４（第２磁性
層）、磁性層２５（第３磁性層）、誘電体層２６、反射
層２７がこの順に形成された構造を有しており、磁性層
２３〜２５が記録再生層を構成している。
【００４２】磁性層２３には、室温で面内磁化膜であ
り、室温以上の第１温度を下限とする所定温度領域では
垂直磁化膜になる磁性材料が用いられる。磁性層２４に
は、キュリー温度が室温以上にある磁性材料が用いられ
る。磁性層２５には、室温からキュリー温度に至るまで
垂直磁化膜である磁性材料が用いられる。磁性層２４の
キュリー温度は磁性層２５のキュリー温度よりも低く設
定されている。
【００４３】光磁気メモリー素子の一例として、５種類
の光磁気ディスクＡ〜Ｅを試作した。この内、光磁気デ
ィスクＣ〜Ｅは比較例である。
【００４４】光磁気ディスクＡ、Ｂ、Ｄ、Ｅは、図１２
に示すように、スパイラル状の案内溝３８…を有する基
板３１（基体）上に誘電体層３２、磁性層３３（第１磁
性層）、磁性層３４（第２磁性層）、磁性層３５（第３
磁性層）、誘電体層３６、反射層３７がこの順に形成さ
れた構造を有しており、磁性層３３〜３５が記録再生層
を構成している。
【００４５】一方、光磁気ディスクＣは、図１３に示す
ように、スパイラル状の案内溝３８…を有する基板３１
上に誘電体層３２、磁性層３３、磁性層３５、誘電体層
３６、反射層３７がこの順に形成された構造を有してお
り、磁性層３３と３５が記録再生層を構成している。
【００４６】基板３１には、ガラスが用いられた。誘電
体層３２には、８０ｎｍのＡｌＮが用いられた。磁性層
３３には、４０ｎｍの磁性膜ａ（表２参照）、すなわ
ち、Gd0.26(Fe0.85Co0.15)0.74が用いられた。磁性層３
４には、１０ｎｍの磁性膜ｃ、ｂ、ｅ、ｆのいずれかが
用いられた。磁性層３５には、４０ｎｍの磁性膜ｄ、す
なわち、Dy0.23(Fe0.80Co0.20)0.77が用いられた。誘電
体層３６には、２０ｎｍのＡｌＮが用いられた。反射層
３７には、３０ｎｍのＡｌが用いられた。
【００４７】磁性膜ａは、ＧｄＦｅＣｏからなり、室温
でＲＥ−ｒｉｃｈであり、補償温度が２７０℃、キュリ
ー温度が３８０℃である。磁性膜ｂは、ＧｄＦｅＣｏか
らなり、室温からキュリー温度までＲＥ−ｒｉｃｈであ
り、キュリー温度が１６０℃である。磁性膜ｃは、Ｇｄ
ＦｅＣｏからなり、室温からキュリー温度までＲＥ−ｒ
ｉｃｈであり、キュリー温度が２５０℃である。磁性膜
ｄは、ＤｙＦｅＣｏからなり、室温からキュリー温度ま
でＴＭ−ｒｉｃｈであり、キュリー温度が２３０℃であ
る。磁性膜ｅは、ＤｙＦｅＣｏからなり、室温からキュ
リー温度までＴＭ−ｒｉｃｈであり、キュリー温度が１
６０℃である。磁性膜ｆは、ＤｙＦｅＣｏからなり、室
温からキュリー温度までＴＭ−ｒｉｃｈであり、キュリ
ー温度が２５０℃である。
【００４８】ここで、室温でＲＥ−ｒｉｃｈとは、補償
温度が室温になるときのＲＥ（希土類金属）含有量より
多いＲＥを含有していることを表し、室温からキュリー
温度までＲＥ−ｒｉｃｈとは、補償温度が室温からキュ
リー温度までのいずれかの温度になるときの最大のＲＥ
含有量より多いＲＥを含有していることを表し、室温か
らキュリー温度までＴＭ−ｒｉｃｈとは、補償温度が室
温からキュリー温度までのいずれかの温度になるときの
最大のＴＭ（遷移金属）含有量より多いＴＭを含有して
いることを表している。ここで磁性膜ａは読み出し層と
して用いられ、第１の前提例で用いられた読み出し層３
の補償温度（１００℃前後）より高い補償温度となって
いる。これは、以下の理由による。磁性膜ａは１３０℃
以上２８０℃以下の温度範囲で垂直磁化となるように設
定されており、再生時には再生光ビーム中心付近の１３
０℃以上の温度を有する領域を再生に関与させるように
している。これにより、第１の前提例での再生に関与す
る領域（７０℃以上の温度領域）より狭い領域が垂直磁
化となり再生に関与するようになる。よって、本実施例
の方が第１の前提例より狭いビットを再生できるように
なり、高密度再生に適するように設計されたためであ
る。
【００４９】磁気特性は、図１４に示すように、ガラス
基板４１上にＡｌＮ４２を成膜し、次に、磁性膜ａ〜ｆ
のいずれかに対応する磁性膜４３を成膜し、その上をＡ
ｌＮ４４でコーティングしたサンプルで測定された。各
磁性膜ａ〜ｆの保磁力（Ｈｃ）の温度変化を図１５〜２
０に示す。さらに、各磁性膜ａ〜ｆのカーループの温度
変化の様子を図２１（ａ）〜（ｆ）に示す。
【００５０】光磁気ディスクＡ〜Ｅの磁性層３３〜３５
に用いられた磁性膜ａ〜ｆを表１にまとめて示し、各磁
性膜ａ〜ｆの組成および磁気特性を表２にまとめて示
す。なお、表２の中の移行とは、室温で磁化方向は面内
方向であり、室温以上の所定温度領域で磁化方向は垂直
方向になることを表している。
【００５１】
【表１】
【００５２】上記の光磁気ディスクＡ〜Ｅに対して、外
部磁界の大きさを変えながら0.５μｍの記録ビットを書
き込み、これを再生して、Ｃ／Ｎ比（キャリア・ノイズ
比）を測定した。なお、光磁気ディスクＡ〜Ｅの線速度
は５ｍ／ｓ、記録時のレーザーパワーは８ｍＷ、再生時
のレーザーパワーは２ｍＷとした。光磁気ディスクＡ〜
Ｅで得られた測定結果を、それぞれ図２２ないし図２６
に示す。
【００５３】光磁気ディスクＡ、Ｂでは、図２２および
図２３から明らかなように、外部磁界を２００Ｏｅ以上
にすると、４５ｄＢ以上のＣ／Ｎが得られる。一方、光
磁気ディスクＣ〜Ｅでは、図２４および図２６に示すよ
うに、外部磁界を１０００Ｏｅ以上にしなければ、４５
ｄＢ以上のＣ／Ｎが得られない。
【００５４】すなわち、磁性層３３と３５の間に磁性層
３４を設け、かつ、磁性層３４のキュリー温度を磁性層
３５のキュリー温度よりも低く設定した光磁気ディスク
Ａ、Ｂでは、小さい外部磁界で記録できるが、磁性層３
４が設けていない光磁気ディスクＣや、磁性層３４を設
けていても磁性層３４のキュリー温度が磁性層３５のキ
ュリー温度よりも高い光磁気ディスクＤ、Ｅの場合、大
きな外部磁界でないと充分に記録できない。磁性層３４
は垂直磁化膜であっても、面内磁化膜であってもかまわ
ない。
【００５５】
【表２】
【００５６】以上のように、本実施例の光磁気メモリー
素子によれば、記録時に必要な外部磁界を著しく低減で
きる。これは、磁性層２４のキュリー温度以上に昇温さ
れた部分では磁性層２３、２５の間に交換相互作用が働
かなくなり、この結果、磁性層２５への記録が行い易く
なったため、と考えられる。
【００５７】以上の実施例では、光磁気メモリー素子の
具体例として光磁気ディスクを挙げて説明したが、光磁
気カードや光磁気テープにも本発明を応用できる。な
お、光磁気テープの場合には、基板２１の代わりに、ポ
リエチレンテレフタレート等のテープベース（基体）を
用いればよい。
【００５８】本発明に対応した光磁気メモリー素子は、
室温で面内磁化膜であり室温以上の所定温度で垂直磁化
膜になる磁性層２３と、キュリー温度が室温以上である
磁性層２４と、室温からキュリー温度まで垂直磁化膜で
ある磁性層２５が基板２１上に順次積層されており、再
生時には、磁性層２３・２４・２５間の交換結合力によ
り、磁性層２５に高密度記録された情報、すなわち、再
生時の光スポットよりも小さい部分に書かれた情報を読
み出し層の初期化のための補助磁界発生装置なしに再生
できる。また、磁性層２３・２５間に、上記所定温度よ
りも高くかつ磁性層２５のキュリー温度よりも低いキュ
リー温度を有する磁性層２４を挿入したので、記録時に
は、磁性層２３・２５間に交換結合力が働かなくなる。
したがって、小さい外部磁界で磁性層２５に情報を記録
できる。これにより、外部磁界を電磁石で発生させる場
合には、記録時の消費電力を小さくでき、外部磁界をマ
グネットで発生させる場合には、マグネットを小型化し
て光磁気ディスク装置の小型化を図れる。
【００５９】
【発明の効果】本発明の請求項１に記載の光磁気メモリ
ー素子は、以上のように、室温で面内磁化膜であり室温
以上の所定温度で垂直磁化膜になる読み出し層としての
第１磁性層と、キュリー温度が室温以上である中間層と
しての第２磁性層と、室温からキュリー温度まで垂直磁
化膜である記録層としての第３磁性層が光ビームの入射
側から順次積層されており、第２磁性層のキュリー温度
が、上記所定温度よりも高くかつ第３磁性層のキュリー
温度よりも低い温度に設定されているので、再生時に
は、第１と第２と第３磁性層間の交換結合力により、第
３磁性層に高密度記録された情報、すなわち、再生時の
光スポットよりも小さい部分に書かれた情報を読み出し
層の初期化のための補助磁界発生装置なしに再生でき
る。また、第１、第３磁性層間に、第３磁性層のキュリ
ー温度よりも低いキュリー温度を有する第２磁性層を挿
入したので、記録時には、第１と第３磁性層間に交換結
合力が働かなくなる。したがって、小さい外部磁界で第
３磁性層に情報を記録できる。これにより、記録再生装
置の省電力化を図れるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の前提例を示すものであり、光磁
気記録媒体に対して、再生動作をしていることを示す説
明図である。
【図２】本発明の第２の前提例の光磁気記録媒体の構成
を示す説明図である。
【図３】上記光磁気記録媒体が備える読み出し層の磁気
状態図である。
【図４】室温から温度Ｔ1 において、図３の読み出し層
に印加される外部印加磁界と磁気カー回転角との関係を
示す説明図である。
【図５】温度Ｔ1 から温度Ｔ2 において、図３の読み出
し層に印加される外部印加磁界と磁気カー回転角との関
係を示す説明図である。
【図６】温度Ｔ2 から温度Ｔ3 において、図３の読み出
し層に印加される外部印加磁界と磁気カー回転角との関
係を示す説明図である。
【図７】温度Ｔ3 からキュリー温度ＴC において、図３
の読み出し層に印加される外部印加磁界と磁気カー回転
角との関係を示す説明図である。
【図８】保磁力を比較的大きくできる材料を読み出し層
として使用した場合、室温から温度Ｔ1 において、該読
み出し層に印加される外部印加磁界と磁気カー回転角と
の関係を示す説明図である。
【図９】保磁力を比較的大きくできる材料を読み出し層
として使用した場合、温度Ｔ1から温度Ｔ2 において、
該読み出し層に印加される外部印加磁界と磁気カー回転
角との関係を示す説明図である。
【図１０】保磁力を比較的大きくできる材料を読み出し
層として使用した場合、温度Ｔ2からキュリー温度ＴC
において、該読み出し層に印加される外部印加磁界と磁
気カー回転角との関係を示す説明図である。
【図１１】本発明の実施例を示すものであり、光磁気メ
モリー素子の概略の構成を示す縦断面図である。
【図１２】図１１の光磁気メモリー素子の具体例として
の光磁気ディスクの概略の構成を示す縦断面図である。
【図１３】比較例を示すものであり、光磁気ディスクの
概略の構成を示す縦断面図である。
【図１４】図１１の光磁気メモリー素子の磁性層に用い
る磁性膜ａ〜ｆの特性を測定するために用いたサンプル
の概略の構成を示す縦断面図である。
【図１５】図１４のサンプルを用いて、磁性膜ａの保磁
力の温度依存性を測定した結果を示すグラフである。
【図１６】図１４のサンプルを用いて、磁性膜ｂの保磁
力の温度依存性を測定した結果を示すグラフである。
【図１７】図１４のサンプルを用いて、磁性膜ｃの保磁
力の温度依存性を測定した結果を示すグラフである。
【図１８】図１４のサンプルを用いて、磁性膜ｄの保磁
力の温度依存性を測定した結果を示すグラフである。
【図１９】図１４のサンプルを用いて、磁性膜ｅの保磁
力の温度依存性を測定した結果を示すグラフである。
【図２０】図１４のサンプルを用いて、磁性膜ｆの保磁
力の温度依存性を測定した結果を示すグラフである。
【図２１】図１４のサンプルを用いて、磁性膜ａ〜ｆの
カーループの温度依存性を測定した結果を示すグラフで
ある。
【図２２】光磁気ディスクＡを用いて、Ｃ／Ｎと外部磁
界の大きさとの関係を測定した結果を示すグラフであ
る。
【図２３】光磁気ディスクＢを用いて、Ｃ／Ｎと外部磁
界の大きさとの関係を測定した結果を示すグラフであ
る。
【図２４】光磁気ディスクＣを用いて、Ｃ／Ｎと外部磁
界の大きさとの関係を測定した結果を示すグラフであ
る。
【図２５】光磁気ディスクＤを用いて、Ｃ／Ｎと外部磁
界の大きさとの関係を測定した結果を示すグラフであ
る。
【図２６】光磁気ディスクＥを用いて、Ｃ／Ｎと外部磁
界の大きさとの関係を測定した結果を示すグラフであ
る。
【図２７】従来の高密度再生が可能な光磁気ディスクに
対して、再生動作をしていることを示す説明図である。
【符号の説明】
２１ 基板（基体） ２２ 誘電体層 ２３ 磁性層（第１磁性層） ２４ 磁性層（第２磁性層） ２５ 磁性層（第３磁性層） ２６ 誘電体層 ２７ 反射層 ３１ 基板（基体） ３２ 誘電体層 ３３ 磁性層（第１磁性層） ３４ 磁性層（第２磁性層） ３５ 磁性層（第３磁性層） ３６ 誘電体層 ３７ 反射層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−149246（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−304751（ＪＰ，Ａ) 特許2812817（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 11/10 506

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】室温で面内磁化膜であり室温以上の所定温
    度で垂直磁化膜になる読み出し層としての第１磁性層
    と、キュリー温度が室温以上である中間層としての第２
    磁性層と、室温からキュリー温度まで垂直磁化膜である
    記録層としての第３磁性層が光ビームの入射側から順次
    積層されており、 第２磁性層のキュリー温度が、上記所定温度よりも高く
    かつ第３磁性層のキュリー温度よりも低い温度に設定さ
    れていることを特徴とする光磁気メモリー素子。
  2. 【請求項２】室温で面内磁化膜であり室温以上の所定温
    度で垂直磁化膜になる読み出し層としての第１磁性層
    と、キュリー温度が室温以上である中間層としての第２
    磁性層と、室温からキュリー温度まで垂直磁化膜である
    記録層としての第３磁性層が光ビームの入射側から順次
    積層されており、第２磁性層のキュリー温度が上記所定
    温度より高くかつ第３磁性層のキュリー温度より低い光
    磁気メモリー素子の記録再生方法であって、 前記光磁気メモリー素子を加熱して、第１磁性層と第３
    磁性層とを第２磁性層を介して交換結合させた状態で、
    外部磁界を印加せずに情報を再生し、 前記光磁気メモリー素子を第２磁性層のキュリー温度以
    上に加熱して、第１磁性層と第３磁性層との間の交換結
    合力を遮断した状態で、情報を記録することを特徴とす
    る光磁気メモリー素子の記録再生方法。
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