JP2980736B2 - 光記録媒体の製造装置 - Google Patents
光記録媒体の製造装置Info
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- JP2980736B2 JP2980736B2 JP3222438A JP22243891A JP2980736B2 JP 2980736 B2 JP2980736 B2 JP 2980736B2 JP 3222438 A JP3222438 A JP 3222438A JP 22243891 A JP22243891 A JP 22243891A JP 2980736 B2 JP2980736 B2 JP 2980736B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は合成樹脂基板を用いた光
記録媒体の製造装置に関し、更に詳しくは高生産性、高
品質の光記録媒体の製造装置、中でも光磁気記録媒体の
製造に好適な製造装置に関する。
記録媒体の製造装置に関し、更に詳しくは高生産性、高
品質の光記録媒体の製造装置、中でも光磁気記録媒体の
製造に好適な製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】光ディスクは、非接触で読み書きでき、
且つその記憶容量が大きく、媒体がフレキシブル磁気デ
ィスクと同様交換できることから既に多方面で利用され
ている。中でも最近市販が開始された光磁気ディスク
は、書き替えできる点で注目され、コンピュータの補助
メモリ等の記憶媒体としてその安定供給が待望されてい
る。
且つその記憶容量が大きく、媒体がフレキシブル磁気デ
ィスクと同様交換できることから既に多方面で利用され
ている。中でも最近市販が開始された光磁気ディスク
は、書き替えできる点で注目され、コンピュータの補助
メモリ等の記憶媒体としてその安定供給が待望されてい
る。
【0003】この光ディスクは、安価で割れない点から
ポリカーボネート、アクリル、エポキシ等の合成樹脂の
基板を用い、その上に記録層、保護層等からなる記録膜
をスパッタ法、真空蒸着法等の真空薄膜形成法で形成す
ることにより製造するのが一般である。
ポリカーボネート、アクリル、エポキシ等の合成樹脂の
基板を用い、その上に記録層、保護層等からなる記録膜
をスパッタ法、真空蒸着法等の真空薄膜形成法で形成す
ることにより製造するのが一般である。
【0004】かかる製造装置としては、特開昭63―1
21664号公報、特開昭63―199867号公報に
開示のように、複数の基板をパレット等の基板保持具に
保持し、該基板保持具をロード室、スパッタ法等による
成膜室、アンロード室と順次移送して、必要な構成の記
録膜を形成して製造するインライン型薄膜形成装置から
なるものが知られ、連続生産できる点から注目されてい
る。
21664号公報、特開昭63―199867号公報に
開示のように、複数の基板をパレット等の基板保持具に
保持し、該基板保持具をロード室、スパッタ法等による
成膜室、アンロード室と順次移送して、必要な構成の記
録膜を形成して製造するインライン型薄膜形成装置から
なるものが知られ、連続生産できる点から注目されてい
る。
【0005】ところで、合成樹脂の基板を用いた光ディ
スクの製造においては、基板の水分、ガス等が記録膜の
形成、更には得られた膜の膜質等に悪影響を与えること
から、特開昭63―121664号公報の如く薄膜形成
装置の前段に真空ガス出し室または加熱ガス出し室を付
加したもの、あるいは特開昭63―216963号公報
の如く真空ガス出し装置を別に設けてガス出しをした基
板を薄膜形成装置にセットするもの、更には特開昭63
―257938号公報の如く、大気圧より高圧の保管庫
に一定時間保持した後、基板ホルダーにセットし、真空
中でガス出しをし、次いで膜形成する方法等が提案され
ている。
スクの製造においては、基板の水分、ガス等が記録膜の
形成、更には得られた膜の膜質等に悪影響を与えること
から、特開昭63―121664号公報の如く薄膜形成
装置の前段に真空ガス出し室または加熱ガス出し室を付
加したもの、あるいは特開昭63―216963号公報
の如く真空ガス出し装置を別に設けてガス出しをした基
板を薄膜形成装置にセットするもの、更には特開昭63
―257938号公報の如く、大気圧より高圧の保管庫
に一定時間保持した後、基板ホルダーにセットし、真空
中でガス出しをし、次いで膜形成する方法等が提案され
ている。
【0006】最初の真空ガス出し室または加熱ガス出し
室を付加した例はガス出し面では充分であるが、1個の
基板保持具に保持された全基板を処理するのに必要な時
間が1個の基板保持具に保持された基板の成膜時間に比
べ長いためこの処理時間で制約され、生産性を良くしよ
うとすると高価な基板保持具が多数必要になりガス出し
室が大型化するという問題がある。
室を付加した例はガス出し面では充分であるが、1個の
基板保持具に保持された全基板を処理するのに必要な時
間が1個の基板保持具に保持された基板の成膜時間に比
べ長いためこの処理時間で制約され、生産性を良くしよ
うとすると高価な基板保持具が多数必要になりガス出し
室が大型化するという問題がある。
【0007】後の2例は生産性は良いが、ガス出し後ま
たは正圧保管後短時間ではあるが通常室内雰囲気にさら
されるため水分、ガスが再び吸着、吸収され、ガス出し
面で問題がある。
たは正圧保管後短時間ではあるが通常室内雰囲気にさら
されるため水分、ガスが再び吸着、吸収され、ガス出し
面で問題がある。
【0008】そしてこれら従来例に共通の欠点は基板の
水分、ガス等と同様の悪影響を与える基板保持具に吸
着、吸収された水分、ガス等に何らの対策がなされてい
ないことである。特に複数の基板を保持して処理できる
ようにした特開昭63―199867号公報開示のパレ
ットまたはこのパレットとその移送装置とを一体化した
ものの如き複雑な構成の基板保持具を用いた場合は、上
記水分等の量が多くなり、その影響は大となる。なお、
基板保持具のような金属面に吸着した水分は、合成樹脂
基板に吸着した水分より真空中での放出速度が遅く、そ
の点でも生産性及び媒体性能への影響は無視できない。
水分、ガス等と同様の悪影響を与える基板保持具に吸
着、吸収された水分、ガス等に何らの対策がなされてい
ないことである。特に複数の基板を保持して処理できる
ようにした特開昭63―199867号公報開示のパレ
ットまたはこのパレットとその移送装置とを一体化した
ものの如き複雑な構成の基板保持具を用いた場合は、上
記水分等の量が多くなり、その影響は大となる。なお、
基板保持具のような金属面に吸着した水分は、合成樹脂
基板に吸着した水分より真空中での放出速度が遅く、そ
の点でも生産性及び媒体性能への影響は無視できない。
【0009】
【発明の目的】本発明は、かかる現状に鑑みなされたも
ので、上記の問題のない、生産性が良くコンパクトな構
成で設備費も安く、高品質の光記録媒体を製造できる光
記録媒体の製造装置を提供することを目的とするもので
ある。
ので、上記の問題のない、生産性が良くコンパクトな構
成で設備費も安く、高品質の光記録媒体を製造できる光
記録媒体の製造装置を提供することを目的とするもので
ある。
【0010】
【発明の構成、作用】上述の目的は以下の本発明により
達成される。すなわち本発明は、合成樹脂の基板を用い
た光記録媒体の製造装置において、該基板のガス出し処
理をするガス出し処理装置と、間欠的に該基板を複数個
装着した基板ホルダーをロード室に受け入れ、次いで膜
形成室に移送して所定の光記録膜を形成し、アンロード
室を介して大気下に取り出すようにしたインライン式薄
膜形成装置とを備え、該薄膜形成装置のアンロード室か
らロード室へ基板ホルダーを回送するその雰囲気が所定
湿度以下に維持されたホルダー搬送路を設けると共に、
ガス出し処理装置から薄膜形成装置のホルダー搬送路の
所定箇所へ該基板を搬送するその雰囲気が所定湿度以下
に維持された基板搬送路を設けたことを特徴とする光記
録媒体の製造装置である。
達成される。すなわち本発明は、合成樹脂の基板を用い
た光記録媒体の製造装置において、該基板のガス出し処
理をするガス出し処理装置と、間欠的に該基板を複数個
装着した基板ホルダーをロード室に受け入れ、次いで膜
形成室に移送して所定の光記録膜を形成し、アンロード
室を介して大気下に取り出すようにしたインライン式薄
膜形成装置とを備え、該薄膜形成装置のアンロード室か
らロード室へ基板ホルダーを回送するその雰囲気が所定
湿度以下に維持されたホルダー搬送路を設けると共に、
ガス出し処理装置から薄膜形成装置のホルダー搬送路の
所定箇所へ該基板を搬送するその雰囲気が所定湿度以下
に維持された基板搬送路を設けたことを特徴とする光記
録媒体の製造装置である。
【0011】以上の通り本発明では基板及び基板ホルダ
ーをその雰囲気が所定湿度以下である基板搬送路、ホル
ダー搬送路で搬送するようにしてあるので、基板ホルダ
ーは常に一定湿度下にあり、またガス出し処理後の基板
も常に一定湿度下で取り扱われるので、基板、基板ホル
ダーに吸着、付着した水分、ガス等の量は膜形成に影響
のない許容値以下となり、前述の水分、ガスの悪影響が
防止でき、高品質の光記録媒体が製造できると共に、そ
の水分・ガス等の量は安定した一定の値となるので生産
条件が安定し、安定生産、生産性向上、歩留り向上等の
工業生産上重要な効果も得られる。
ーをその雰囲気が所定湿度以下である基板搬送路、ホル
ダー搬送路で搬送するようにしてあるので、基板ホルダ
ーは常に一定湿度下にあり、またガス出し処理後の基板
も常に一定湿度下で取り扱われるので、基板、基板ホル
ダーに吸着、付着した水分、ガス等の量は膜形成に影響
のない許容値以下となり、前述の水分、ガスの悪影響が
防止でき、高品質の光記録媒体が製造できると共に、そ
の水分・ガス等の量は安定した一定の値となるので生産
条件が安定し、安定生産、生産性向上、歩留り向上等の
工業生産上重要な効果も得られる。
【0012】上記本発明が適用できる光記録媒体は、合
成樹脂基板を用いたものであれば全て適用できること
は、その発明の趣旨より明らかである。かかる光記録媒
体としては、周知のコンパクトディスク等の読み出し専
用のもの、文書保存システムとして利用されて追記がで
きる“WORM”と略称される追記形のもの、更に前述
した書き替えできる光磁気型あるいは相変化型のもの等
が挙げられる。
成樹脂基板を用いたものであれば全て適用できること
は、その発明の趣旨より明らかである。かかる光記録媒
体としては、周知のコンパクトディスク等の読み出し専
用のもの、文書保存システムとして利用されて追記がで
きる“WORM”と略称される追記形のもの、更に前述
した書き替えできる光磁気型あるいは相変化型のもの等
が挙げられる。
【0013】中でも本発明はその趣旨から明らかなよう
に、水分・ガス等の影響を受け易い記録膜を用いる光記
録媒体、具体的には酸化し易い希土類元素と遷移金属元
素とを主成分とした非晶質合金膜を記録層とした光磁気
記録媒体の製造に好適である。かかる記録層としては、
TbFeCo,DyTbFeCo,NdDyTbFeC
o等、更にはこれらを積層した複層構成のもの等種々の
ものが知られている。また基板に用いる合成樹脂も特に
限定されず、光記録媒体の基板として公知のものがその
まま適用できる。その代表例としては前述のポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ
る。
に、水分・ガス等の影響を受け易い記録膜を用いる光記
録媒体、具体的には酸化し易い希土類元素と遷移金属元
素とを主成分とした非晶質合金膜を記録層とした光磁気
記録媒体の製造に好適である。かかる記録層としては、
TbFeCo,DyTbFeCo,NdDyTbFeC
o等、更にはこれらを積層した複層構成のもの等種々の
ものが知られている。また基板に用いる合成樹脂も特に
限定されず、光記録媒体の基板として公知のものがその
まま適用できる。その代表例としては前述のポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ
る。
【0014】
【実施例】以下、本発明の詳細を光磁気記録媒体の製造
に適用した実施例に基いて説明する。図1は該実施例の
全体構成の概略説明図、図2はガス出し装置の出入口部
及び保管庫部の構成の説明図、図3は基板ホルダーを回
送するホルダー搬送部の基板交換部の構成の説明図であ
る。
に適用した実施例に基いて説明する。図1は該実施例の
全体構成の概略説明図、図2はガス出し装置の出入口部
及び保管庫部の構成の説明図、図3は基板ホルダーを回
送するホルダー搬送部の基板交換部の構成の説明図であ
る。
【0015】図において、10は光ディスク基板用の射
出成形機で、市販のものを適用した。11は射出成形機
10で成形された基板1を射出成形機10から取り出
し、カセット2へ移載する基板移載ロボットであり、吸
着ハンドを備えた市販品をそのまま使用した。
出成形機で、市販のものを適用した。11は射出成形機
10で成形された基板1を射出成形機10から取り出
し、カセット2へ移載する基板移載ロボットであり、吸
着ハンドを備えた市販品をそのまま使用した。
【0016】なお、本例の基板1は、書き替え可能光記
録媒体のISO規格案に準拠したもので、該規格案のフ
ォーマットをプリフォーマティングした直径130mmの
溝付基板で、ポリカーボネート製である。また基板1を
収納するカセット2は市販(フロロウェア社等から)さ
れているもので、多数の基板1を一定間隔の直立状態に
収納するように載置された基板1の下部半円の周縁を支
持する略半円形の円弧状溝を一定間隔で底部に並設した
箱体からなり、本例では25個の円弧状溝を並設し25
枚の基板1を収納するようになっている。このカセット
2を用いることによりコンパクトに基板1を保管できる
ので、後述のガス出し装置及び基板搬送路が小型化でき
る。
録媒体のISO規格案に準拠したもので、該規格案のフ
ォーマットをプリフォーマティングした直径130mmの
溝付基板で、ポリカーボネート製である。また基板1を
収納するカセット2は市販(フロロウェア社等から)さ
れているもので、多数の基板1を一定間隔の直立状態に
収納するように載置された基板1の下部半円の周縁を支
持する略半円形の円弧状溝を一定間隔で底部に並設した
箱体からなり、本例では25個の円弧状溝を並設し25
枚の基板1を収納するようになっている。このカセット
2を用いることによりコンパクトに基板1を保管できる
ので、後述のガス出し装置及び基板搬送路が小型化でき
る。
【0017】20は基板1のガス出し処理を行なうガス
出し処理装置であり、射出成形機10で成形された基板
1が収納されたカセット2を受け入れる入口部21と、
一定雰囲気下に一定時間以上カセット2を保管し、収納
された基板1のガス出し処理を行なう保管部22と、ガ
ス出し処理後のカセット2を基板搬送路30へ送り出す
出口部23と、入口部21と保管部22と出口部23と
の間でカセット2の出し入れ、運搬をするカセット運搬
手段24と保管部及びカセット2の運搬経路を所定の湿
度及びクリーン度に保つ空調装置で構成されている。
出し処理装置であり、射出成形機10で成形された基板
1が収納されたカセット2を受け入れる入口部21と、
一定雰囲気下に一定時間以上カセット2を保管し、収納
された基板1のガス出し処理を行なう保管部22と、ガ
ス出し処理後のカセット2を基板搬送路30へ送り出す
出口部23と、入口部21と保管部22と出口部23と
の間でカセット2の出し入れ、運搬をするカセット運搬
手段24と保管部及びカセット2の運搬経路を所定の湿
度及びクリーン度に保つ空調装置で構成されている。
【0018】図2に示すように、射出成形機10の取り
出し台12から入口部21へは、カセット2を運搬する
2系列のコンベア21c、21dが布設され、保管部に
収納された空カセットを射出成形機の取り出し位置へ供
給し、ここで基板1が満載されたカセット2を入口部2
1へ運搬するようになっている。なお、射出成形機10
の取り出し台12は、コンベア12aと、入口部21の
コンベア21cへの接続位置で基板1を搭載する間コン
ベア12a上のカセット2を把持して位置決めするカセ
ット固定装置12bと、コンベア12aを入口部21の
コンベア21c、21dとの接続位置へ移動する位置決
め手段12cとからなる。
出し台12から入口部21へは、カセット2を運搬する
2系列のコンベア21c、21dが布設され、保管部に
収納された空カセットを射出成形機の取り出し位置へ供
給し、ここで基板1が満載されたカセット2を入口部2
1へ運搬するようになっている。なお、射出成形機10
の取り出し台12は、コンベア12aと、入口部21の
コンベア21cへの接続位置で基板1を搭載する間コン
ベア12a上のカセット2を把持して位置決めするカセ
ット固定装置12bと、コンベア12aを入口部21の
コンベア21c、21dとの接続位置へ移動する位置決
め手段12cとからなる。
【0019】入口部21は4個のケートバルブ21gで
仕切られ、独立して雰囲気制御ができる2系列のエアロ
ック室21a、21bを経由してカセット2の授受を行
なう。基板1が搭載されたカセット2の受け入れはエア
ロック室21aの系列により以下のようになされる。図
で右の外側のゲートバルブ21gが開いてコンベア21
cによりカセット2はエアロック室21aに移動する。
移動後外側のゲートバルブ21gが閉じて密閉され空調
装置のドライエア源21hより一定の条件のドライエア
が供給されエアロック室21aの雰囲気が所定の条件に
制御される。図の21iは空調装置のダンパーである。
本例では温度常温、湿度5RH%、圧は大気圧に対し1
〜3mmH2 O正圧の条件とした。雰囲気が所定の条件に
なると図で左の内側のゲートバルブ21gを開き、エア
ロック室21a内のコンベア21cとこれにゲートバル
ブ21gを間にして隣接する内部のコンベア21eを駆
動して、カセット2を入口部21の内部へ受け入れる。
受け入れが終ると内側のゲートバルブ21gを閉じて次
のカセット2を待機することになる。なお、入口部21
の内部は次記の保管部22と一体となっておりその雰囲
気も保管部22と同じように制御される。
仕切られ、独立して雰囲気制御ができる2系列のエアロ
ック室21a、21bを経由してカセット2の授受を行
なう。基板1が搭載されたカセット2の受け入れはエア
ロック室21aの系列により以下のようになされる。図
で右の外側のゲートバルブ21gが開いてコンベア21
cによりカセット2はエアロック室21aに移動する。
移動後外側のゲートバルブ21gが閉じて密閉され空調
装置のドライエア源21hより一定の条件のドライエア
が供給されエアロック室21aの雰囲気が所定の条件に
制御される。図の21iは空調装置のダンパーである。
本例では温度常温、湿度5RH%、圧は大気圧に対し1
〜3mmH2 O正圧の条件とした。雰囲気が所定の条件に
なると図で左の内側のゲートバルブ21gを開き、エア
ロック室21a内のコンベア21cとこれにゲートバル
ブ21gを間にして隣接する内部のコンベア21eを駆
動して、カセット2を入口部21の内部へ受け入れる。
受け入れが終ると内側のゲートバルブ21gを閉じて次
のカセット2を待機することになる。なお、入口部21
の内部は次記の保管部22と一体となっておりその雰囲
気も保管部22と同じように制御される。
【0020】一方、空のカセット2の取り出し台21へ
の供給は、エアロック室21bの系列により以下のよう
になされる。エアロック室21bは常時前述のエアロッ
ク室21aと同じ雰囲気に制御されている。そして間欠
的にエアロック室21bの図で左の内側ゲートバルブ2
1gが開き、空のカセット2はコンベア21fからコン
ベア21dへ供給され、供給が終わると内側ゲートバル
ブ21gが閉じる。次いでエアロック室21bの図で右
の外側ゲートバルブ21gが開き、空のカセット2は取
り出し台12のコンベア12a上へ供給され、供給が終
わると外側ゲートバルブ21gは閉じる。取り出し台2
1ではコンベア21aは位置決め手段12cによりコン
ベア21dへの接続位置から基板1の取り出し位置であ
るコンベア21cへの接続位置へ移動され、カセット固
定位置12bで固定される。そして基板1のカセット2
ヘの収納が行なわれる。
の供給は、エアロック室21bの系列により以下のよう
になされる。エアロック室21bは常時前述のエアロッ
ク室21aと同じ雰囲気に制御されている。そして間欠
的にエアロック室21bの図で左の内側ゲートバルブ2
1gが開き、空のカセット2はコンベア21fからコン
ベア21dへ供給され、供給が終わると内側ゲートバル
ブ21gが閉じる。次いでエアロック室21bの図で右
の外側ゲートバルブ21gが開き、空のカセット2は取
り出し台12のコンベア12a上へ供給され、供給が終
わると外側ゲートバルブ21gは閉じる。取り出し台2
1ではコンベア21aは位置決め手段12cによりコン
ベア21dへの接続位置から基板1の取り出し位置であ
るコンベア21cへの接続位置へ移動され、カセット固
定位置12bで固定される。そして基板1のカセット2
ヘの収納が行なわれる。
【0021】図の21sは空調装置のドライエア源、2
1j、21nは循環用送風機、21k、21pはフィル
ター、21mはダンパーである。
1j、21nは循環用送風機、21k、21pはフィル
ター、21mはダンパーである。
【0022】入口部21の内部に受け入れたカセット2
は、内部のベルトコンベア21e、21f上からカセッ
ト運搬手段24により図2に示すように、保管部22の
保管棚22aに移載される。このカセット運搬手段24
はカセット2を保持して保管部22の所定の保管棚22
aまで走行し該保管棚22aにカセット2を載置できる
ものであれば良く、市販の自動倉庫の運搬手段等が利用
できる。
は、内部のベルトコンベア21e、21f上からカセッ
ト運搬手段24により図2に示すように、保管部22の
保管棚22aに移載される。このカセット運搬手段24
はカセット2を保持して保管部22の所定の保管棚22
aまで走行し該保管棚22aにカセット2を載置できる
ものであれば良く、市販の自動倉庫の運搬手段等が利用
できる。
【0023】保管部22は多段多列に区画された一定容
積の保管棚22aの背後に空調装置のフィルター22d
を設け、フィルター22dから一定の条件の空気を吹き
出してその雰囲気を一定の温湿度条件で一定のクリーン
度に維持するようになっている。なお、図2の22bは
空調装置の循環用送風機、22cはそのダクトである。
本例では温度50℃、湿度0.1RH%、クリーン度
0.3μクラス100以下に維持するようになってい
る。カセット2はこの保管部22に搭載した基板1の水
分、ガス等が目標の許容値以下になるまで保管される。
これは具体的には保管温度と時間により管理される。本
例では上記条件の下で50℃、12時間以上保持した。
これにより基板1の水分は0.01wt%以下となるこ
とを確認した。
積の保管棚22aの背後に空調装置のフィルター22d
を設け、フィルター22dから一定の条件の空気を吹き
出してその雰囲気を一定の温湿度条件で一定のクリーン
度に維持するようになっている。なお、図2の22bは
空調装置の循環用送風機、22cはそのダクトである。
本例では温度50℃、湿度0.1RH%、クリーン度
0.3μクラス100以下に維持するようになってい
る。カセット2はこの保管部22に搭載した基板1の水
分、ガス等が目標の許容値以下になるまで保管される。
これは具体的には保管温度と時間により管理される。本
例では上記条件の下で50℃、12時間以上保持した。
これにより基板1の水分は0.01wt%以下となるこ
とを確認した。
【0024】保管時間が経過したカセット2は必要に応
じカセット運搬手段24により保管棚22aから取り出
され、出口部23まで運搬され、出口部23に接続され
た基板搬送路40のコンベア41、42に載置される。
じカセット運搬手段24により保管棚22aから取り出
され、出口部23まで運搬され、出口部23に接続され
た基板搬送路40のコンベア41、42に載置される。
【0025】基板搬送路40は、カセット2の搬送経路
の雰囲気が所定温湿度、クリーン度に維持できる構造で
あれば十分であるが、本例では図示の通り2条のコンベ
ア41、42を設けると共に、その周囲を壁により区画
した密閉構造とした。そして前述のガス出し処理装置入
口部21と同様にコンベア41、42の上部に空調装置
の循環用のフィルターを設け、該フィルターより空気を
吹き出させ、コンベア41、42の下部より吸い込み、
空気をコンベア41、42の上部から下部へ循環させつ
つ、全体を一定の温湿度条件、クリーン度に維持するよ
うにしてある。本例では温度は常温、湿度1RH%以
下、クリーン度0.3μクラス100以下とした。
の雰囲気が所定温湿度、クリーン度に維持できる構造で
あれば十分であるが、本例では図示の通り2条のコンベ
ア41、42を設けると共に、その周囲を壁により区画
した密閉構造とした。そして前述のガス出し処理装置入
口部21と同様にコンベア41、42の上部に空調装置
の循環用のフィルターを設け、該フィルターより空気を
吹き出させ、コンベア41、42の下部より吸い込み、
空気をコンベア41、42の上部から下部へ循環させつ
つ、全体を一定の温湿度条件、クリーン度に維持するよ
うにしてある。本例では温度は常温、湿度1RH%以
下、クリーン度0.3μクラス100以下とした。
【0026】基板搬送路40は、後述する薄膜形成装置
30の基板ホルダー搬送路50の基板交換部60に接続
されており、基板1を搭載したカセット2はコンベア4
1で基板取出台43上まで搬送され、基板取出台43上
で一定位置に位置決めされ、固定され、基板1が取り出
される。基板1が取り出された空のカセット2はコンベ
ア42で出口部23へ返送され、保管部22に保管され
る。なお、基板取出台43は前述の射出成形機10の取
り出し台12と同様の構成である。
30の基板ホルダー搬送路50の基板交換部60に接続
されており、基板1を搭載したカセット2はコンベア4
1で基板取出台43上まで搬送され、基板取出台43上
で一定位置に位置決めされ、固定され、基板1が取り出
される。基板1が取り出された空のカセット2はコンベ
ア42で出口部23へ返送され、保管部22に保管され
る。なお、基板取出台43は前述の射出成形機10の取
り出し台12と同様の構成である。
【0027】基板交換部60は、図1、図3に示すよう
に、基板搬送路40とホルダー搬送路50とに連結さ
れ、前述の基板搬送路40と同じ上部吹き出し、下部吸
い込みの空調装置により同一条件に維持された密閉構造
で、基板取出台43と製膜後の基板1を収納するカセッ
ト2を位置決め固定する製品取出台62とが所定配置さ
れ、両台43、62間の中心位置より側方に所定間隔隔
ててホルダー搬送路50の基板脱着用のホルダー位置決
め台51が配置され、該中心位置に製膜後の基板1を基
板ホルダー3から取外し、製品取出台62上のカセット
2に収納すると共に、基板取出台43上のカセット2か
ら新しい基板1を取り出して基板ホルダー3に取着する
基板脱着ロボットからなる基板交換手段61が配置され
た構成となっている。なお、基板脱着ロボットは市販の
物品移載用ロボットに真空吸着パッドをハンドに取り付
け、基板1の中心部の非記録領域を吸着して基板1を取
り扱うようにしたものを用いた。また製品取出台62は
前述の射出成形機10の取り出し台12と同じ構成であ
る。
に、基板搬送路40とホルダー搬送路50とに連結さ
れ、前述の基板搬送路40と同じ上部吹き出し、下部吸
い込みの空調装置により同一条件に維持された密閉構造
で、基板取出台43と製膜後の基板1を収納するカセッ
ト2を位置決め固定する製品取出台62とが所定配置さ
れ、両台43、62間の中心位置より側方に所定間隔隔
ててホルダー搬送路50の基板脱着用のホルダー位置決
め台51が配置され、該中心位置に製膜後の基板1を基
板ホルダー3から取外し、製品取出台62上のカセット
2に収納すると共に、基板取出台43上のカセット2か
ら新しい基板1を取り出して基板ホルダー3に取着する
基板脱着ロボットからなる基板交換手段61が配置され
た構成となっている。なお、基板脱着ロボットは市販の
物品移載用ロボットに真空吸着パッドをハンドに取り付
け、基板1の中心部の非記録領域を吸着して基板1を取
り扱うようにしたものを用いた。また製品取出台62は
前述の射出成形機10の取り出し台12と同じ構成であ
る。
【0028】上述の構成により、基板交換部60で基板
ホルダー3の基板1は製膜後の製品基板1から新しい基
板1に交換される。そして基板ホルダー3は移送装置に
より一定時間間隔で以下の薄膜形成装置30に移送さ
れ、所定の光磁気記録膜が形成される。
ホルダー3の基板1は製膜後の製品基板1から新しい基
板1に交換される。そして基板ホルダー3は移送装置に
より一定時間間隔で以下の薄膜形成装置30に移送さ
れ、所定の光磁気記録膜が形成される。
【0029】薄膜形成装置30は、特開昭63―199
867号公報、特開平1―268870号公報等で公知
のインライン式スパッタ装置と基本的に同じ構成で、各
ゲートバルブ31a〜31gで仕切られたロード室3
2、製膜するスパッタ室33a、33b、33c、33
d、及びアンロード室34とからなる。スパッタ室33
a〜33dは光磁気記録媒体の代表的構成である第1誘
電体層、光磁気記録層、第2誘電体層、金属反射層の4
層構成の光磁気記録膜の製造に適した4室となってお
り、スパッタ室33aで第1誘電体層を、スパッタ室3
3bで光磁気記録層を、スパッタ室33cで第2誘電体
層を、スパッタ室33dで金属反射層を形成するように
なっている。
867号公報、特開平1―268870号公報等で公知
のインライン式スパッタ装置と基本的に同じ構成で、各
ゲートバルブ31a〜31gで仕切られたロード室3
2、製膜するスパッタ室33a、33b、33c、33
d、及びアンロード室34とからなる。スパッタ室33
a〜33dは光磁気記録媒体の代表的構成である第1誘
電体層、光磁気記録層、第2誘電体層、金属反射層の4
層構成の光磁気記録膜の製造に適した4室となってお
り、スパッタ室33aで第1誘電体層を、スパッタ室3
3bで光磁気記録層を、スパッタ室33cで第2誘電体
層を、スパッタ室33dで金属反射層を形成するように
なっている。
【0030】なお、光磁気記録媒体の具体例は、第1、
第2誘電体層としてはシリコン、アルミニウム、タンタ
ル等の酸化物、窒化物等が、光磁気記録層としては前述
のTbFeCo、DyFeCo等の希土類金属と遷移金
属とを主成分とした非晶質合金膜等が、金属反射層とし
てはAg、Au、Al等の金属膜が例示できる。
第2誘電体層としてはシリコン、アルミニウム、タンタ
ル等の酸化物、窒化物等が、光磁気記録層としては前述
のTbFeCo、DyFeCo等の希土類金属と遷移金
属とを主成分とした非晶質合金膜等が、金属反射層とし
てはAg、Au、Al等の金属膜が例示できる。
【0031】なお、基板ホルダー3は図3に示すよう
に、特開昭63―199867号公報、特開平1―11
8433号公報、特開平1―119669号公報等に開
示のものと同様に、複数の基板1を取着できるようにし
た回転可能なプレート板3aを支持体3bで支持した構
成となっている。
に、特開昭63―199867号公報、特開平1―11
8433号公報、特開平1―119669号公報等に開
示のものと同様に、複数の基板1を取着できるようにし
た回転可能なプレート板3aを支持体3bで支持した構
成となっている。
【0032】製膜後の基板ホルダー3はアンロード室3
4から取り出され、ホルダー搬送路50によりその基板
交換位置51まで回送され、そこで基板交換手段61に
より新しい基板1に交換しロード室32へ移送される。
4から取り出され、ホルダー搬送路50によりその基板
交換位置51まで回送され、そこで基板交換手段61に
より新しい基板1に交換しロード室32へ移送される。
【0033】ホルダー搬送路50は、本例では基板ホル
ダー3aを平行移動する平行路52a、52bとこれを
縦列移動する縦列路53とからなり、共に前述の基板搬
送路40と同様の上部吹き出し、下部吸い込みの空調装
置で、基板搬送路40と同じ条件の雰囲気に維持される
密閉構造となっている。なお、ホルダー搬送路50も基
板搬送路40と同様、その基板ホルダー3の雰囲気が所
定の条件に維持できればよく、必ずしも密閉構造にする
必要はない。
ダー3aを平行移動する平行路52a、52bとこれを
縦列移動する縦列路53とからなり、共に前述の基板搬
送路40と同様の上部吹き出し、下部吸い込みの空調装
置で、基板搬送路40と同じ条件の雰囲気に維持される
密閉構造となっている。なお、ホルダー搬送路50も基
板搬送路40と同様、その基板ホルダー3の雰囲気が所
定の条件に維持できればよく、必ずしも密閉構造にする
必要はない。
【0034】基板ホルダー3の移送手段は縦列路53で
は図3に示すように構成される。すなわちコ字状のレー
ル54a、54bを向い合わせ、その上部に基板ホルダ
ー3の支持体3bに当接して案内する対向したガイドロ
ーラ55a、55bを適当な間隔で設けると共に、支持
体3の底部にレール54a、54bの下辺上を転動する
従動ローラ56a、56bを適当な間隔で設けて、基板
ホルダー3を直立状態でレール54a、54bに従って
移動できるように支持したレール機構と、支持体3aの
底面にラックを形成すると共にこれに噛み合い駆動され
るピニオン57を適当間隔で配設し基板ホルダー3をレ
ール56a、56bに従って移動させるようにした駆動
機構とで構成される。なお図の58はモーターである。
そして基板交換位置51では支持体3bを挟持してロッ
クする固定機構51aにより位置決めするようになって
いる。
は図3に示すように構成される。すなわちコ字状のレー
ル54a、54bを向い合わせ、その上部に基板ホルダ
ー3の支持体3bに当接して案内する対向したガイドロ
ーラ55a、55bを適当な間隔で設けると共に、支持
体3の底部にレール54a、54bの下辺上を転動する
従動ローラ56a、56bを適当な間隔で設けて、基板
ホルダー3を直立状態でレール54a、54bに従って
移動できるように支持したレール機構と、支持体3aの
底面にラックを形成すると共にこれに噛み合い駆動され
るピニオン57を適当間隔で配設し基板ホルダー3をレ
ール56a、56bに従って移動させるようにした駆動
機構とで構成される。なお図の58はモーターである。
そして基板交換位置51では支持体3bを挟持してロッ
クする固定機構51aにより位置決めするようになって
いる。
【0035】一方平行路52a、52bでは、基板ホル
ダー3の支持体3bの巾と同じ長さの前述の縦列路53
の移送手段と同じ構成のレール機構58a、58bをシ
リンダー構成の横移動手段59a、59bにより2つの
受渡し位置間を往復させ、一方の受渡し位置で基板ホル
ダー3をレール機構58a、58bに受け入れ、払い出
す他方の受渡し位置まで移動するようになっている。そ
して該受渡し位置で以下のように受渡しを行なう。すな
わち縦列路53との受渡しの場合、ラックピニオン機構
により基板ホルダー3を縦列路53のレール54a、5
4b上へ又はそこから所定長移動させ、縦列路53また
はレール機構58a、58bに基板ホルダー3を引き渡
すようになっている。
ダー3の支持体3bの巾と同じ長さの前述の縦列路53
の移送手段と同じ構成のレール機構58a、58bをシ
リンダー構成の横移動手段59a、59bにより2つの
受渡し位置間を往復させ、一方の受渡し位置で基板ホル
ダー3をレール機構58a、58bに受け入れ、払い出
す他方の受渡し位置まで移動するようになっている。そ
して該受渡し位置で以下のように受渡しを行なう。すな
わち縦列路53との受渡しの場合、ラックピニオン機構
により基板ホルダー3を縦列路53のレール54a、5
4b上へ又はそこから所定長移動させ、縦列路53また
はレール機構58a、58bに基板ホルダー3を引き渡
すようになっている。
【0036】なお、薄膜形成装置30の基板ホルダー3
の移送手段は、上述のホルダー搬送路50と全く同じで
ある。すなわち、ロード室32、スパッタ室33a〜3
3d、アンロード室34の移送手段はホルダー搬送路5
0の縦列路53の移送手段と全く同じ構成となってい
る。
の移送手段は、上述のホルダー搬送路50と全く同じで
ある。すなわち、ロード室32、スパッタ室33a〜3
3d、アンロード室34の移送手段はホルダー搬送路5
0の縦列路53の移送手段と全く同じ構成となってい
る。
【0037】なお、図3の50a、60aは空調装置の
ドライエア源、50b、60bはその循環用送風機、5
0c、60cはそのフィルター、50d、60dはその
ダンパーである。
ドライエア源、50b、60bはその循環用送風機、5
0c、60cはそのフィルター、50d、60dはその
ダンパーである。
【0038】以上の構成により、射出成形機10で成形
された基板1は、直ちに基板移載ロボット11でカセッ
ト2に収納され、ガス出し処理装置20へ移送され、ガ
ス出し処理される。ガス出し処理後の基板1を収納した
カセット2は一定雰囲気に制御された基板搬送路40で
同様に雰囲気制御されたホルダー搬送路50との連結部
にある基板交換部60に搬送され、基板交換手段61に
より基板ホルダー3に装着され、薄膜形成装置30に移
送され、所定の光磁気記録膜が形成される。膜形成後の
基板1は基板ホルダー3に装着したままで、基板搬送路
40と同様に雰囲気制御されたホルダー搬送路50によ
りその基板交換位置51まで搬送される。そこで、基板
交換手段61により膜形成された基板1は基板ホルダー
3より取外され、製品取出台62上に位置決めされたカ
セット2内に収納される。次いで基板ホルダー3には同
位置で前述と同様に基板取出台43上に位置決めされた
カセット2から新しい基板1が装着され、薄膜形成装置
30へ移送される。このように一定周期で各基板1に所
定の膜本例では4層の光磁気記録膜が形成される。製膜
された基板1のカセット2は以下のようにして基板交換
部60から外部へ取り出し、周知の通り必要な工程、例
えば有機保護膜形成工程、更には貼合せ工程を経て製品
化される。すなわち該基板1を収納したカセット2の外
部への取り出し及び空のカセット2の供給は、前述のガ
ス出し処理装置20の入口部21のカセット2の授受と
同様に、ゲートバルブ63で区画された二系列のエアロ
ック室64a、64bを使用して行なわれる。図の65
a、65bはコンベアである。その動作手順もガス出し
処理装置20の入口部21のカセット2の授受とほぼ同
様であり、説明は省略する。なお、図の13a、13b
は搬送用のコンベアである。
された基板1は、直ちに基板移載ロボット11でカセッ
ト2に収納され、ガス出し処理装置20へ移送され、ガ
ス出し処理される。ガス出し処理後の基板1を収納した
カセット2は一定雰囲気に制御された基板搬送路40で
同様に雰囲気制御されたホルダー搬送路50との連結部
にある基板交換部60に搬送され、基板交換手段61に
より基板ホルダー3に装着され、薄膜形成装置30に移
送され、所定の光磁気記録膜が形成される。膜形成後の
基板1は基板ホルダー3に装着したままで、基板搬送路
40と同様に雰囲気制御されたホルダー搬送路50によ
りその基板交換位置51まで搬送される。そこで、基板
交換手段61により膜形成された基板1は基板ホルダー
3より取外され、製品取出台62上に位置決めされたカ
セット2内に収納される。次いで基板ホルダー3には同
位置で前述と同様に基板取出台43上に位置決めされた
カセット2から新しい基板1が装着され、薄膜形成装置
30へ移送される。このように一定周期で各基板1に所
定の膜本例では4層の光磁気記録膜が形成される。製膜
された基板1のカセット2は以下のようにして基板交換
部60から外部へ取り出し、周知の通り必要な工程、例
えば有機保護膜形成工程、更には貼合せ工程を経て製品
化される。すなわち該基板1を収納したカセット2の外
部への取り出し及び空のカセット2の供給は、前述のガ
ス出し処理装置20の入口部21のカセット2の授受と
同様に、ゲートバルブ63で区画された二系列のエアロ
ック室64a、64bを使用して行なわれる。図の65
a、65bはコンベアである。その動作手順もガス出し
処理装置20の入口部21のカセット2の授受とほぼ同
様であり、説明は省略する。なお、図の13a、13b
は搬送用のコンベアである。
【0039】以上の構成により、基板1はガス出し処理
後は常にその条件、特に湿度が許容範囲内の一定値に制
御された雰囲気下に置かれ、また基板ホルダー3も連続
運転中は同様の一定雰囲気下に置かれているので、前述
した通り従来例の問題のない高品質の光ディスクが生産
性良く安定生産できるという効果が得られた。
後は常にその条件、特に湿度が許容範囲内の一定値に制
御された雰囲気下に置かれ、また基板ホルダー3も連続
運転中は同様の一定雰囲気下に置かれているので、前述
した通り従来例の問題のない高品質の光ディスクが生産
性良く安定生産できるという効果が得られた。
【0040】上記実施例で前述した光磁気記録媒体、具
体的にはポリカーボネート基板上に第1、第2誘電体層
としてアルミニウム、シリコンの窒化物、光磁気記録層
としてTbFeCo、金属反射層としてAlAuTiを
積層した光磁気記録媒体を製造したところ、各搬送路の
雰囲気が温度は常温で、湿度が5RH%以下において、
品質、生産性共に実用上十分満足すべき結果が得られ
た。更に該雰囲気のクリーン度をクラス100(0.3
μ)以下にすることにより、得られる製品の歩留り等の
向上が確認された。なお、基板1はガス出し処理装置2
0において問題ないといわれる水分が0.01wt%以
下に乾燥しておくことが好ましい。この際本例では射出
成形された基板1が大気に曝されるのはカセット2が満
載されるまでの短時間のみであるため、ガス出し処理の
時間も従来例に比較し大巾に短縮でき、保管部22がコ
ンパクト化できる利点がある。
体的にはポリカーボネート基板上に第1、第2誘電体層
としてアルミニウム、シリコンの窒化物、光磁気記録層
としてTbFeCo、金属反射層としてAlAuTiを
積層した光磁気記録媒体を製造したところ、各搬送路の
雰囲気が温度は常温で、湿度が5RH%以下において、
品質、生産性共に実用上十分満足すべき結果が得られ
た。更に該雰囲気のクリーン度をクラス100(0.3
μ)以下にすることにより、得られる製品の歩留り等の
向上が確認された。なお、基板1はガス出し処理装置2
0において問題ないといわれる水分が0.01wt%以
下に乾燥しておくことが好ましい。この際本例では射出
成形された基板1が大気に曝されるのはカセット2が満
載されるまでの短時間のみであるため、ガス出し処理の
時間も従来例に比較し大巾に短縮でき、保管部22がコ
ンパクト化できる利点がある。
【0041】以上本発明を実施例に基づき説明したが、
本発明はかかる実施例に限定されるものではないことは
言うまでもない。
本発明はかかる実施例に限定されるものではないことは
言うまでもない。
【図1】全体構成の概略説明図。
【図2】ガス出し装置の入口部及び保管庫部の構成説明
図。
図。
【図3】ホルダー搬送路の基板交換部の構成説明図。
10 射出成形機 20 ガス出し処理装置 30 薄膜形成装置 40 基板搬送路 50 ホルダー搬送路 60 基板交換部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 7/26 531 G11B 11/10 541
Claims (5)
- 【請求項1】 合成樹脂の基板を用いた光記録媒体の製
造装置において、該基板のガス出し処理をするガス出し
処理装置と、間欠的に該基板を複数個装着した基板ホル
ダーをロード室に受け入れ、次いで膜形成室に移送して
所定の光記録膜を形成し、アンロード室を介して大気下
に取り出すようにしたインライン式薄膜形成装置とを備
え、該薄膜形成装置のアンロード室からロード室へ基板
ホルダーを回送するその雰囲気が所定湿度以下に維持さ
れたホルダー搬送路を設けると共に、ガス出し処理装置
から薄膜形成装置のホルダー搬送路の所定箇所へ該基板
を搬送するその雰囲気が所定湿度以下に維持された基板
搬送路を設けたことを特徴とする光記録媒体の製造装
置。 - 【請求項2】 前記基板搬送路とホルダー搬送路の連結
部に、基板ホルダーから膜形成された基板を取外して新
基板を取り付ける基板交換手段を設けたことを特徴とす
る請求項第1項記載の光記録媒体の製造装置。 - 【請求項3】 前記基板交換手段は膜形成された基板を
基板ホルダーから複数の基板を収納できるカセットに収
納し、該カセットはエアロック室を介して搬送路外へ取
り出されるようにされた請求項第2項記載の光記録媒体
の製造装置。 - 【請求項4】 ガス出し処理装置が、複数の基板が収納
できるカセットに収納された基板を保管してガス出し処
理をする保管部と、基板搬送路に連結された出口部と、
基板を受け入れるエアロック室を備えた入口部と、保管
部と入口部、出口部との間でカセットを出し入れするカ
セット運搬手段とからなる請求項第1項、第2項または
第3項記載の光記録媒体の製造装置。 - 【請求項5】 前記所定湿度が相対湿度5%である請求
項第1項、第2項、第3項または第4項記載の光記録媒
体の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3222438A JP2980736B2 (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 光記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3222438A JP2980736B2 (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 光記録媒体の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0547052A JPH0547052A (ja) | 1993-02-26 |
JP2980736B2 true JP2980736B2 (ja) | 1999-11-22 |
Family
ID=16782404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3222438A Expired - Fee Related JP2980736B2 (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 光記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2980736B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001229584A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Sony Corp | 光記録媒体の製造方法 |
-
1991
- 1991-08-08 JP JP3222438A patent/JP2980736B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0547052A (ja) | 1993-02-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |