JP2937700B2 - 光源装置 - Google Patents
光源装置Info
- Publication number
- JP2937700B2 JP2937700B2 JP21680093A JP21680093A JP2937700B2 JP 2937700 B2 JP2937700 B2 JP 2937700B2 JP 21680093 A JP21680093 A JP 21680093A JP 21680093 A JP21680093 A JP 21680093A JP 2937700 B2 JP2937700 B2 JP 2937700B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- light
- source device
- beams
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
【０００１】本発明は、光源装置に係り、詳しくは、デ
ジタル複写機及びレーザプリンタ等に用いられる光走査
装置の光源装置に適用することができ、特に、装置の小
型化を実現することができるとともに、光源装置交換後
の光軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上さ
せることができる半導体レーザのような光源装置に関す
る。
ジタル複写機及びレーザプリンタ等に用いられる光走査
装置の光源装置に適用することができ、特に、装置の小
型化を実現することができるとともに、光源装置交換後
の光軸合わせ作業等を不用にして作業性を著しく向上さ
せることができる半導体レーザのような光源装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の光走査装置では、感光体上を１本
の光ビームで走査するのが一般的であるが、一本の光ビ
ームで走査する場合よりも記録速度を速くするために複
数の光ビームを同時に走査させるように構成したマルチ
ビーム型の光走査装置が実用化されている。このような
マルチビーム型光走査装置においては、例えば特公昭６
０−５３８５７号公報や実開昭６１−１０６９１７号公
報に開示されているような、偏光ビームスプリッタを用
いた光ビームの合成が行われている。なお、前者の特公
昭６０−５３８５７号公報で報告されたものでは、２個
の半導体レーザと、これらの半導体レーザからの光を重
ね合せて出射する偏光ビームスプリッタと、これらの半
導体レーザのうち何れか一方と前記偏光ビームスプリッ
タとの間に配された偏光面を９０度回転させる手段とか
らなり、前記２個の半導体レーザを、前記偏光ビームス
プリッタで重ね合された夫々の光の断面形状の長手方向
が一致するように配置して構成した半導体レーザ光源装
置が記載されており、また、後者の実開昭６１−１０６
９１７号公報で報告されたものでは、複数の光源からの
ビームを走査面の副走査方向に間隔をおいて同時に集光
させて走査するマルチビーム走査装置において、複数本
のビームを入射させて１本の光軸近傍に合成するための
回転可能な合成手段と、上記走査方向に走査ビームを所
定距離隔てさせるべく上記合成手段を回転させる手段と
を有するように構成したマルチビーム走査装置の光学系
が記載されている。
の光ビームで走査するのが一般的であるが、一本の光ビ
ームで走査する場合よりも記録速度を速くするために複
数の光ビームを同時に走査させるように構成したマルチ
ビーム型の光走査装置が実用化されている。このような
マルチビーム型光走査装置においては、例えば特公昭６
０−５３８５７号公報や実開昭６１−１０６９１７号公
報に開示されているような、偏光ビームスプリッタを用
いた光ビームの合成が行われている。なお、前者の特公
昭６０−５３８５７号公報で報告されたものでは、２個
の半導体レーザと、これらの半導体レーザからの光を重
ね合せて出射する偏光ビームスプリッタと、これらの半
導体レーザのうち何れか一方と前記偏光ビームスプリッ
タとの間に配された偏光面を９０度回転させる手段とか
らなり、前記２個の半導体レーザを、前記偏光ビームス
プリッタで重ね合された夫々の光の断面形状の長手方向
が一致するように配置して構成した半導体レーザ光源装
置が記載されており、また、後者の実開昭６１−１０６
９１７号公報で報告されたものでは、複数の光源からの
ビームを走査面の副走査方向に間隔をおいて同時に集光
させて走査するマルチビーム走査装置において、複数本
のビームを入射させて１本の光軸近傍に合成するための
回転可能な合成手段と、上記走査方向に走査ビームを所
定距離隔てさせるべく上記合成手段を回転させる手段と
を有するように構成したマルチビーム走査装置の光学系
が記載されている。
【０００３】また、例えば実開昭６２−１０９１３４号
公報で報告された従来のマルチビーム型光走査装置で
は、半導体レーザとコリメータレンズとが一体的に支持
されるシングルビームの光源装置を複数個用い、光走査
装置筐体に配備した偏光ビームスプリッタに各々直行す
る方向から入射させてビーム合成を行っていた。
公報で報告された従来のマルチビーム型光走査装置で
は、半導体レーザとコリメータレンズとが一体的に支持
されるシングルビームの光源装置を複数個用い、光走査
装置筐体に配備した偏光ビームスプリッタに各々直行す
る方向から入射させてビーム合成を行っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た実開昭６２−１０９１３４号公報で報告された従来の
マルチビーム型光走査装置では、半導体レーザとコリメ
ータレンズとが一体的に支持されるシングルビームの光
源装置を複数個用い、光走査装置筐体に配備した偏光ビ
ームスプリッタに各々直行する方向から入射させてビー
ム合成を行っていたため、該シングルビームの光源装置
を複数個用意しなければならない等装置が大型化すると
いう問題があった。また、半導体レーザ光源装置が各々
別の壁面に支持された状態で光軸を一致させる調整を行
っていたため、半導体レーザ光源装置の交換時には再
度、光軸を一致させる調整作業等を行わなければなら
ず、面倒で作業性が悪いという問題があった。
た実開昭６２−１０９１３４号公報で報告された従来の
マルチビーム型光走査装置では、半導体レーザとコリメ
ータレンズとが一体的に支持されるシングルビームの光
源装置を複数個用い、光走査装置筐体に配備した偏光ビ
ームスプリッタに各々直行する方向から入射させてビー
ム合成を行っていたため、該シングルビームの光源装置
を複数個用意しなければならない等装置が大型化すると
いう問題があった。また、半導体レーザ光源装置が各々
別の壁面に支持された状態で光軸を一致させる調整を行
っていたため、半導体レーザ光源装置の交換時には再
度、光軸を一致させる調整作業等を行わなければなら
ず、面倒で作業性が悪いという問題があった。
【０００５】そこで、本発明は、装置の小型化を実現す
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きる光走査装置を提供することを目的としている。
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きる光走査装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
複数個の光源とコリメータレンズと、前記光源からの光
ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを有し、
かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光源
装置において、該複数個の光源と該コリメータレンズと
該ビーム合成手段とは、実質一体的に形成してなるとと
もに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなる
ことを特徴とするものである。
複数個の光源とコリメータレンズと、前記光源からの光
ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段とを有し、
かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査を行う光源
装置において、該複数個の光源と該コリメータレンズと
該ビーム合成手段とは、実質一体的に形成してなるとと
もに、光走査装置筐体に対して着脱自在に形成してなる
ことを特徴とするものである。
【０００７】請求項２記載の発明は、上記請求項１記載
の発明において、前記複数個のコリメータレンズは、同
一基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向
が一致するように配置してなることを特徴とするもので
ある。請求項３記載の発明は、上記請求項１，２記載の
発明において、前記ビーム合成手段は、基準となる光ビ
ームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリズム部と
各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ部とが
一体的に形成してなるものであることを特徴とするもの
である。２個のコリメータレンズは、同一基体上に配列
してなるとともに、光ビームの出射方向が一致するよう
に配置してなることを特徴とするものである。
の発明において、前記複数個のコリメータレンズは、同
一基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向
が一致するように配置してなることを特徴とするもので
ある。請求項３記載の発明は、上記請求項１，２記載の
発明において、前記ビーム合成手段は、基準となる光ビ
ームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリズム部と
各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ部とが
一体的に形成してなるものであることを特徴とするもの
である。２個のコリメータレンズは、同一基体上に配列
してなるとともに、光ビームの出射方向が一致するよう
に配置してなることを特徴とするものである。
【０００８】請求項４記載の発明は、上記請求項１乃至
３記載の発明において、前記コリメータレンズからの出
射ビームを整形するアパーチャを各々設けるとともに、
該複数個のアパーチャは、一体的に形成してなることを
特徴とするものである。請求項５記載の発明は、上記請
求項１乃至４記載の発明において、前記半導体レーザと
前記ビーム合成手段との相対位置を変換することによ
り、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整
手段を一体的に形成してなることを特徴とするものであ
る。
３記載の発明において、前記コリメータレンズからの出
射ビームを整形するアパーチャを各々設けるとともに、
該複数個のアパーチャは、一体的に形成してなることを
特徴とするものである。請求項５記載の発明は、上記請
求項１乃至４記載の発明において、前記半導体レーザと
前記ビーム合成手段との相対位置を変換することによ
り、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調整
手段を一体的に形成してなることを特徴とするものであ
る。
【０００９】請求項６記載の発明は、上記請求項２乃至
５記載の発明において、前記複数個の光源は、前記ビー
ム合成手段からの出射ビームが主走査方向に所定距離若
しくは所定角度隔てて出射される様に配列してなること
を特徴とするものである。
５記載の発明において、前記複数個の光源は、前記ビー
ム合成手段からの出射ビームが主走査方向に所定距離若
しくは所定角度隔てて出射される様に配列してなること
を特徴とするものである。
【００１０】
【作用】請求項１記載の発明では、複数個の光源とコリ
メータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出
射するビーム合成手段とを有し、かつ複数本の光ビーム
を同時に繰返して走査を行う光源装置において、該複数
個の光源と該コリメータレンズと該ビーム合成手段と
は、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査装
置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成す
る。このため、複数の光源とコリメータレンズと各ビー
ムを合成する合成手段とを一体的に支持することができ
るとともに、光源装置として各ビームの配置関係を適宜
決定することができるので、装置の小型化を実現するこ
とができるとともに、光源装置交換後の光軸合せ作業を
不用にして作業性を著しく向上させることができる。
メータレンズと前記光源からの光ビームを重ね合せて出
射するビーム合成手段とを有し、かつ複数本の光ビーム
を同時に繰返して走査を行う光源装置において、該複数
個の光源と該コリメータレンズと該ビーム合成手段と
は、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査装
置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成す
る。このため、複数の光源とコリメータレンズと各ビー
ムを合成する合成手段とを一体的に支持することができ
るとともに、光源装置として各ビームの配置関係を適宜
決定することができるので、装置の小型化を実現するこ
とができるとともに、光源装置交換後の光軸合せ作業を
不用にして作業性を著しく向上させることができる。
【００１１】請求項２記載の発明では、上記請求項１記
載の発明において、該複数個のコリメータレンズを同一
基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向を
一致するように配置してなるように構成する。このた
め、コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致さ
せて支持することができるので、各光源の相対位置を維
持し易くすることができるとともに、同一方向での調整
固定で済ませることができ、この結果、組立効率が良好
で、経時的にも安定した性能を得ることができる。
載の発明において、該複数個のコリメータレンズを同一
基体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向を
一致するように配置してなるように構成する。このた
め、コリメータレンズを同一基体上に出射方向と一致さ
せて支持することができるので、各光源の相対位置を維
持し易くすることができるとともに、同一方向での調整
固定で済ませることができ、この結果、組立効率が良好
で、経時的にも安定した性能を得ることができる。
【００１２】請求項３記載の発明では、上記請求項１，
２記載の発明において、前記ビーム合成手段を、基準と
なる光ビームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリ
ズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッ
タ部とが一体的に形成してなるもので構成する。このた
め、ビーム合成手段を一部材により構成することができ
るので、各ビームの光軸ずれを生じ難くすることがで
き、経時的に安定した性能を得ることができる。
２記載の発明において、前記ビーム合成手段を、基準と
なる光ビームの光軸方向に他の光ビームを導光するプリ
ズム部と各々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッ
タ部とが一体的に形成してなるもので構成する。このた
め、ビーム合成手段を一部材により構成することができ
るので、各ビームの光軸ずれを生じ難くすることがで
き、経時的に安定した性能を得ることができる。
【００１３】請求項４記載の発明では、上記請求項１乃
至３記載の発明において、前記コリメータレンズからの
出射ビームを整形するアパーチャを各々設けるととも
に、該複数個のアパーチャを、一体的に形成してなるよ
うに構成する。このため、ビーム整形手段を一部材によ
り構成することができるので、各ビームの相対位置を維
持することができ、経時的に安定した性能を得ることが
できる。
至３記載の発明において、前記コリメータレンズからの
出射ビームを整形するアパーチャを各々設けるととも
に、該複数個のアパーチャを、一体的に形成してなるよ
うに構成する。このため、ビーム整形手段を一部材によ
り構成することができるので、各ビームの相対位置を維
持することができ、経時的に安定した性能を得ることが
できる。
【００１４】請求項５記載の発明では、上記請求項１乃
至４記載の発明において、前記光源と前記ビーム合成手
段との相対位置を変換することにより、各ビームの副走
査方向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体的に形成
してなるように構成する。このため、光源装置として光
軸を一致させる光軸調整手段を一体的に具備して構成す
ることができるので、光走査装置への取り付け後の調整
を不用にすることができ、作業性を著しく向上させるこ
とができる・
至４記載の発明において、前記光源と前記ビーム合成手
段との相対位置を変換することにより、各ビームの副走
査方向の光軸を一致させる光軸調整手段を一体的に形成
してなるように構成する。このため、光源装置として光
軸を一致させる光軸調整手段を一体的に具備して構成す
ることができるので、光走査装置への取り付け後の調整
を不用にすることができ、作業性を著しく向上させるこ
とができる・
【００１５】請求項６記載の発明では、上記請求項１乃
至５記載の発明において、前記複数個の光源を前記ビー
ム合成手段からの出射ビームが主走査方向に所定距離若
しくは所定角度隔てて出射される様に配列してなるよう
に構成する。このため、主走査方向に所定距離隔ててビ
ーム位置を適宜設定することができるので、光走査時に
書き込み開始のタイミング信号を検出する際、一つの検
出器にて時分割でビーム検出することができる。
至５記載の発明において、前記複数個の光源を前記ビー
ム合成手段からの出射ビームが主走査方向に所定距離若
しくは所定角度隔てて出射される様に配列してなるよう
に構成する。このため、主走査方向に所定距離隔ててビ
ーム位置を適宜設定することができるので、光走査時に
書き込み開始のタイミング信号を検出する際、一つの検
出器にて時分割でビーム検出することができる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。まず、光走査装置として半導体レーザ光源装置の
例を挙げてビーム合成の原理を説明する。図１は本発明
の一実施例に則した半導体レーザ光源装置におけるビー
ム合成の原理を示す図である。図１に示す如く、２個の
半導体レーザは、同一平面上に配列されて半導体レーザ
10、半導体レーザ11共にＰ−ｎ接合面に垂直な方向をＸ
0 ，Ｘ1 軸方向に一致させて、コリメータレンズ12，13
により各々平行光束14，15に変換され、アパーチャ16，
17により所定のビーム径に整形される。これらの光束の
内平行光束15は、１／２波長板18により偏光面を９０度
回転させてビーム合成手段19に入射され、斜面19ａで内
面反射し、偏光ビームスプリッタ面19ｂで反射して、基
準となる平行光束14の光軸近傍に合成される。この際、
主走査方向に所定距離ａ若しくは所定角度隔てて出射さ
れるように半導体レーザをＹ方向にずらして配置してい
る。
する。まず、光走査装置として半導体レーザ光源装置の
例を挙げてビーム合成の原理を説明する。図１は本発明
の一実施例に則した半導体レーザ光源装置におけるビー
ム合成の原理を示す図である。図１に示す如く、２個の
半導体レーザは、同一平面上に配列されて半導体レーザ
10、半導体レーザ11共にＰ−ｎ接合面に垂直な方向をＸ
0 ，Ｘ1 軸方向に一致させて、コリメータレンズ12，13
により各々平行光束14，15に変換され、アパーチャ16，
17により所定のビーム径に整形される。これらの光束の
内平行光束15は、１／２波長板18により偏光面を９０度
回転させてビーム合成手段19に入射され、斜面19ａで内
面反射し、偏光ビームスプリッタ面19ｂで反射して、基
準となる平行光束14の光軸近傍に合成される。この際、
主走査方向に所定距離ａ若しくは所定角度隔てて出射さ
れるように半導体レーザをＹ方向にずらして配置してい
る。
【００１７】なお、本実施例では、１／２波長板18を用
いて構成する場合を説明したが、本発明はこれのみに限
定されるものではなく、半導体レーザ11のＰ−ｎ接合面
に垂直な方向をＹ1 方向として構成してもよく、この場
合も同様に９０度ずれた偏光面を得ることができる。次
に、図１の具体例を説明する。図２は本発明の一実施例
に則した半導体レーザからなる光源装置の構成を示す図
である。図２に示す如く、半導体レーザ21，22は各々支
持体23，24に固定され、基体25の裏面に後述するコリメ
ータレンズ26，27との光軸を一致させてネジ32，33及び
ネジ34，35を用いて接合される。コリメータレンズ26，
27は、鏡筒に収められ、基体25の嵌合穴25ａ，25ｂに各
々半導体レーザ21，22との位置を合せて、係合、接着さ
れる。アパーチャ28は、半導体レーザ21用の整形スリッ
ト28ａと半導体レーザ22用のスリット28ｂとが一体的に
形成され、１／２波長板がスリット28ｂ上に保持され、
フランジ部29の裏面よりビーム合成手段30を挟むように
固定される。このように構成した支持体23，24、基体2
5、フランジ部29及び半導体レーザの駆動回路が形成さ
れる基板31を一体的に結合することにより、半導体レー
ザ光源装置は構成され、フランジ部29の円筒状突起29ａ
を光走査装置の後述する図３に示す筐体36に係合し、ネ
ジを穴29ｂ，29ｃ、25ｃ，25ｄを貫通して固定される。
いて構成する場合を説明したが、本発明はこれのみに限
定されるものではなく、半導体レーザ11のＰ−ｎ接合面
に垂直な方向をＹ1 方向として構成してもよく、この場
合も同様に９０度ずれた偏光面を得ることができる。次
に、図１の具体例を説明する。図２は本発明の一実施例
に則した半導体レーザからなる光源装置の構成を示す図
である。図２に示す如く、半導体レーザ21，22は各々支
持体23，24に固定され、基体25の裏面に後述するコリメ
ータレンズ26，27との光軸を一致させてネジ32，33及び
ネジ34，35を用いて接合される。コリメータレンズ26，
27は、鏡筒に収められ、基体25の嵌合穴25ａ，25ｂに各
々半導体レーザ21，22との位置を合せて、係合、接着さ
れる。アパーチャ28は、半導体レーザ21用の整形スリッ
ト28ａと半導体レーザ22用のスリット28ｂとが一体的に
形成され、１／２波長板がスリット28ｂ上に保持され、
フランジ部29の裏面よりビーム合成手段30を挟むように
固定される。このように構成した支持体23，24、基体2
5、フランジ部29及び半導体レーザの駆動回路が形成さ
れる基板31を一体的に結合することにより、半導体レー
ザ光源装置は構成され、フランジ部29の円筒状突起29ａ
を光走査装置の後述する図３に示す筐体36に係合し、ネ
ジを穴29ｂ，29ｃ、25ｃ，25ｄを貫通して固定される。
【００１８】次に、図２の半導体レーザからなる光源装
置を例として、その副走査方向での動作を説明する。図
３は図２の半導体レーザ光源装置の副走査方向（矢印3
7）での構成を示す断面図である。図３において、図２
と同一符号は同一又は相当部分を示す。図３に示す如
く、上記ビーム合成手段30は、ネジ38（光軸調整手段）
により副走査方向での光軸39を一致させて接着固定して
おり、半導体レーザ光源装置自体を光軸回りに回転調整
して筐体36に固定することにより、各ビームの走査ビー
ム間隔の設定を行っている。
置を例として、その副走査方向での動作を説明する。図
３は図２の半導体レーザ光源装置の副走査方向（矢印3
7）での構成を示す断面図である。図３において、図２
と同一符号は同一又は相当部分を示す。図３に示す如
く、上記ビーム合成手段30は、ネジ38（光軸調整手段）
により副走査方向での光軸39を一致させて接着固定して
おり、半導体レーザ光源装置自体を光軸回りに回転調整
して筐体36に固定することにより、各ビームの走査ビー
ム間隔の設定を行っている。
【００１９】このように本実施例（請求項１）では、２
個の半導体レーザとコリメータレンズとビーム合成手段
とを、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査
装置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成し
ている。このため、複数の半導体レーザとコリメータレ
ンズと各ビームを合成する合成手段とを一体的に支持す
ることができるとともに、半導体レーザ光源装置として
各ビームの配置関係を適宜決定することができるので、
装置の小型化を実現することができるとともに、光源装
置交換後の光軸合せ作業を不用にして作業性を著しく向
上させることができる。
個の半導体レーザとコリメータレンズとビーム合成手段
とを、実質的に一体的に形成してなるとともに、光走査
装置筐体に対して着脱自在に形成してなるように構成し
ている。このため、複数の半導体レーザとコリメータレ
ンズと各ビームを合成する合成手段とを一体的に支持す
ることができるとともに、半導体レーザ光源装置として
各ビームの配置関係を適宜決定することができるので、
装置の小型化を実現することができるとともに、光源装
置交換後の光軸合せ作業を不用にして作業性を著しく向
上させることができる。
【００２０】また、本実施例（請求項２）では、２個の
コリメータレンズを同一基体上に配列してなるととも
に、光ビームの出射方向を一致するように配置してなる
ように構成する。このため、コリメータレンズを同一基
体上に出射方向と一致させて支持することができるの
で、各半導体レーザの相対位置を維持し易くすることが
できるとともに、同一方向での調整固定で済ませること
ができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定
した性能を得ることができる。
コリメータレンズを同一基体上に配列してなるととも
に、光ビームの出射方向を一致するように配置してなる
ように構成する。このため、コリメータレンズを同一基
体上に出射方向と一致させて支持することができるの
で、各半導体レーザの相対位置を維持し易くすることが
できるとともに、同一方向での調整固定で済ませること
ができ、この結果、組立効率が良好で、経時的にも安定
した性能を得ることができる。
【００２１】また、本実施例（請求項３）では、ビーム
合成手段を、何れか一方の光ビームを基準となるもう一
方の光軸方向に導光するプリズム部と各々の光ビームを
合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成して
なるもので構成している。このため、ビーム合成手段を
一部材により構成することができるので、各ビームの光
軸ずれを生じ難くすることができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
合成手段を、何れか一方の光ビームを基準となるもう一
方の光軸方向に導光するプリズム部と各々の光ビームを
合成する偏光ビームスプリッタ部とが一体的に形成して
なるもので構成している。このため、ビーム合成手段を
一部材により構成することができるので、各ビームの光
軸ずれを生じ難くすることができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
【００２２】また、本実施例（請求項４）では、コリメ
ータレンズからの出射ビームを整形するアパーチャを各
々設けるとともに、２個のアパーチャを、一体的に形成
してなるように構成している。このため、ビーム整形手
段を一部材により構成することができるので、各ビーム
の相対位置を維持することができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
ータレンズからの出射ビームを整形するアパーチャを各
々設けるとともに、２個のアパーチャを、一体的に形成
してなるように構成している。このため、ビーム整形手
段を一部材により構成することができるので、各ビーム
の相対位置を維持することができ、経時的に安定した性
能を得ることができる。
【００２３】また、本実施例（請求項５）では、半導体
レーザとビーム合成手段との相対位置を変換することに
より、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調
整手段を一体的に形成してなるように構成している。こ
のため、半導体レーザ光源装置として光軸を一致させる
光軸調整手段を一体的に具備して構成することができる
ので、光走査装置への取り付け後の調整を不用にするこ
とができ、作業性を著しく向上させることができる。
レーザとビーム合成手段との相対位置を変換することに
より、各ビームの副走査方向の光軸を一致させる光軸調
整手段を一体的に形成してなるように構成している。こ
のため、半導体レーザ光源装置として光軸を一致させる
光軸調整手段を一体的に具備して構成することができる
ので、光走査装置への取り付け後の調整を不用にするこ
とができ、作業性を著しく向上させることができる。
【００２４】また、本実施例（請求項６）では、２個の
半導体レーザを主走査方向に所定距離隔てて配列してな
るように構成している。このため、主走査方向に所定距
離隔ててビーム位置を適宜設定することができるので、
光走査時に書き込み開始のタイミング信号を検出する
際、一つの検出器にて時分割でビーム検出することがで
きる。
半導体レーザを主走査方向に所定距離隔てて配列してな
るように構成している。このため、主走査方向に所定距
離隔ててビーム位置を適宜設定することができるので、
光走査時に書き込み開始のタイミング信号を検出する
際、一つの検出器にて時分割でビーム検出することがで
きる。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、装置の小型化を実現す
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きるという効果がある。
ることができるとともに、光源装置交換後の光軸合わせ
作業等を不用にして作業性を著しく向上させることがで
きるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置におけるビーム合成の原理を示す図である。
置におけるビーム合成の原理を示す図である。
【図２】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置の構成を示す斜視図である。
置の構成を示す斜視図である。
【図３】本発明の一実施例に則した半導体レーザ光源装
置の構成を示す断面図である。
置の構成を示す断面図である。
10，11，21，22 半導体レーザ 12，13，26，27 コリメータレンズ 14，15 平行光束 16，17，28 アパーチャ 18 １／２波長板 19，30 ビーム合成手段 19ａ 斜面 19ｂ 偏光ビームスプリッタ面 23，24 支持体 25 基体 25ａ，25ｂ，25ｃ，25ｄ，29ｂ，29ｃ 穴 28ａ，28ｂ スリット 29 フランジ部 29ａ 突起 31 基板32，33，34，35 ネジ 36 筐体 37 矢印38 ネジ（光軸調整手段） 39 光軸
Claims (6)
- 【請求項１】複数個の光源とコリメータレンズと前記光
源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段
とを有し、かつ複数本の光ビームを同時に繰返して走査
を行う光走査装置の光源装置において、該複数個の光源
と該コリメータレンズと該ビーム合成手段とは、実質一
体的に形成してなるとともに、光走査装置筐体に対して
着脱自在に形成してなることを特徴とする光源装置。 - 【請求項２】前記複数個のコリメータレンズは、同一基
体上に配列してなるとともに、光ビームの出射方向が一
致するように配置してなることを特徴とする請求項１記
載の光源装置。 - 【請求項３】前記ビーム合成手段は、基準となる光ビー
ムの光軸方向に他の光ビームを導光するプリズム部と各
々の光ビームを合成する偏光ビームスプリッタ部とが一
体的に形成してなるものであることを特徴とする請求項
１又は２記載の光源装置。 - 【請求項４】前記コリメータレンズからの出射ビームを
整形するアパーチャを各々設けるとともに、該複数個の
アパーチャは、一体的に形成してなることを特徴とする
請求項１乃至３いずれかに記載の光源装置。 - 【請求項５】前記光源と前記ビーム合成手段との相対位
置を変換することにより、各ビームの副走査方向の光軸
を一致させる光軸調整手段を一体的に形成してなること
を特徴とする請求項１乃至４いずれかに記載の光源装
置。 - 【請求項６】前記複数個の光源は、前記ビーム合成手段
からの出射ビームが主走査方向に所定距離若しくは所定
角度隔てて出射される様に配列してなることを特徴とす
る請求項１乃至５いずれかに記載の光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21680093A JP2937700B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21680093A JP2937700B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 光源装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772407A JPH0772407A (ja) | 1995-03-17 |
| JP2937700B2 true JP2937700B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=16694086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21680093A Expired - Lifetime JP2937700B2 (ja) | 1993-09-01 | 1993-09-01 | 光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2937700B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5753907A (en) * | 1995-05-24 | 1998-05-19 | Ricoh Company, Ltd. | Multiple beam scanning apparatus |
| KR100299649B1 (ko) * | 1997-04-07 | 2001-09-06 | 이토가 미찌야 | 반도체레이저를포함하는광원장치 |
| JP4822668B2 (ja) | 2004-02-03 | 2011-11-24 | 株式会社東芝 | マルチビーム光走査装置 |
| US7312911B2 (en) * | 2005-05-20 | 2007-12-25 | Symbol Technologies, Inc. | Arrangement for and method of improving image quality, especially for image projection arrangements |
| JP4991241B2 (ja) | 2006-10-18 | 2012-08-01 | 株式会社リコー | 光走査装置及び画像形成装置 |
-
1993
- 1993-09-01 JP JP21680093A patent/JP2937700B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0772407A (ja) | 1995-03-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6181363B1 (en) | Light-source device of a multi-beam scanning apparatus | |
| US6133566A (en) | Multiple beam scanning apparatus and light source unit therefor | |
| US4907017A (en) | Laser optical apparatus | |
| JP2937700B2 (ja) | 光源装置 | |
| JP2000105347A (ja) | マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置 | |
| KR20100003560A (ko) | 스캐닝 디스플레이 | |
| JPH1123988A (ja) | マルチビーム光源装置 | |
| JP3363218B2 (ja) | 光ビーム走査装置 | |
| JP3648388B2 (ja) | マルチビーム走査装置およびその光源ユニット | |
| JPH10214016A (ja) | 光源装置及び光ビーム走査光学装置 | |
| JP3520151B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP3547595B2 (ja) | マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の光源装置および光源ユニット | |
| JPH11242170A (ja) | マルチビーム光偏向走査装置 | |
| JP4157647B2 (ja) | マルチビーム走査装置及びその光源装置 | |
| JP4695498B2 (ja) | マルチビーム光源装置 | |
| JP3441577B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JPH09127444A (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP2001042238A (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JPH0926550A (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP2001174731A (ja) | マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置 | |
| JPH11271653A (ja) | マルチビーム光走査装置 | |
| JP2000039574A (ja) | マルチビーム光走査装置の光源装置 | |
| JP2000292725A (ja) | 光源装置 | |
| JPH10142547A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH1172740A (ja) | 光制御要素の傾き制御装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080611 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 14 |