JP2923328B2 - Microscope photography equipment - Google Patents
Microscope photography equipmentInfo
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- JP2923328B2 JP2923328B2 JP11044590A JP11044590A JP2923328B2 JP 2923328 B2 JP2923328 B2 JP 2923328B2 JP 11044590 A JP11044590 A JP 11044590A JP 11044590 A JP11044590 A JP 11044590A JP 2923328 B2 JP2923328 B2 JP 2923328B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、顕微鏡観察される標本像を写真撮影可能な
顕微鏡写真撮影装置に係り、特に標本の明るさを測定
し、撮影露出時間を決定する顕微鏡写真撮影装置に関す
る。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a microscope photographing apparatus capable of photographing a specimen image to be observed under a microscope, and in particular, measures the brightness of the specimen to determine a photographing exposure time. The present invention relates to a microscopic photographing apparatus.
従来、撮影露出時間を決定する際の部分測光時に、観
察視野と同一視野内で部分測光される測光部位を観察で
きる顕微鏡写真撮影装置が知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a microphotographing apparatus capable of observing a photometric part that is partially photometrically measured within the same visual field as an observation visual field when performing partial photometric measurement when determining a photographing exposure time.
かかる装置としては、例えば特開昭58−214121号公報
に記載されたものがある。この装置は、第４図に示すよ
うに、対物レンズL1から取込まれた物体Ｏに関する光線
が負レンズL2を通って四辺形プリズムＰに入射する。こ
の四辺形プリズムＰは、互いに平行な第１面S1と第２面
S2及びこれらの面と60度傾いて互いに平行な第３面S3と
第４面S4とを有している。対物レンズL1からの光線は第
１面S1及び第２面S2を透過し、正レンズL3を通って反射
プリズムM1に入射する。この反射プリズムM1で反射され
た光線は、揺動ミラーM2で反射されてレチクル板Ｒ上に
物体像I1が結像される。このレチクル板Ｒには隣接して
測光プリズムP1が設けられている。この測光プリズムP1
は斜設された半透過面を有し、半透過面で反射された反
射光が測光プリズムP3の側方に設けられ受光素子に入射
し、その光強度が測定される。また、この半透過面は斜
面上で楕円形状に半透過膜が形成されていて、光軸方向
から見た場合には円形になる。この半透過膜を通過した
光は反射プリズムM3に入射し、そこで反射されて四辺形
プリズムＰの第３面及び第４面に通り、さらにレンズL
4,双眼鏡筒プリズムＴを通って、接眼レンズL5の前焦点
位置に物体像I1の再結像された像I2を結像させる。その
結果、接眼レンズL5を通して観察される視野には物体像
と共に半透過面像が観察できる。この半透過面像は測光
用に反射され光量だけ周囲より暗くなる。この暗い領域
によって測光部位を確認することができる。An example of such an apparatus is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-214121. In this device, as shown in FIG. 4, a light beam relating to an object O taken from an objective lens L1 enters a quadrilateral prism P through a negative lens L2. This quadrilateral prism P has a first surface S1 and a second surface S1 which are parallel to each other.
S2 and a third surface S3 and a fourth surface S4 which are inclined by 60 degrees to these surfaces and are parallel to each other. Light rays from the objective lens L1 pass through the first surface S1 and the second surface S2, and enter the reflection prism M1 through the positive lens L3. The light beam reflected by the reflecting prism M1 is reflected by the oscillating mirror M2 to form an object image I1 on the reticle plate R. A photometric prism P1 is provided adjacent to the reticle plate R. This photometric prism P1
Has an obliquely translucent surface, and the reflected light reflected by the semi-transmissive surface is provided on the side of the photometric prism P3 to enter a light receiving element, and its light intensity is measured. Further, the semi-transmissive surface has an elliptical semi-transmissive film formed on the slope, and has a circular shape when viewed from the optical axis direction. The light that has passed through the semi-transmissive film enters the reflecting prism M3, where it is reflected and passes through the third and fourth surfaces of the quadrilateral prism P, and further passes through the lens L
4. The re-formed image I2 of the object image I1 is formed at the front focal position of the eyepiece L5 through the binocular tube prism T. As a result, in the visual field observed through the eyepiece L5, a semi-transmissive surface image can be observed together with the object image. This semi-transmissive surface image is reflected for photometry and becomes darker than the surroundings by the amount of light. The photometric region can be confirmed by this dark area.
また、観察視野と同一視野内で測光部分のみが明るく
なるようにした装置が特公平１−39082号公報に記載さ
れている。この装置は、第５図に示すように、物体Ｏか
らの光が対物レンズ10を通ってプリズム11に入射し、こ
こで接眼鏡視野12を有する接眼レンズ13側とカメラ14側
に分割される。一方、光源15からの照明光は、第１の反
射鏡16で反射されて大小２つの絞り孔17a,17bが設けら
れた絞り板17に入射し、この絞り板17と第１の反射鏡16
によって細部測光用に変換された光が、測光位置を移動
可能にした方向変換反射鏡18に入射する。なお、19は光
電検知器である。方向変換反射鏡18で反射された光はレ
ンズ系20,光線分割器21を介してプリズム11に向かって
反射され、コーナーキューブ22で反射された後、接眼鏡
視野12に戻る。接眼鏡視野12には物体Ｏの全体が見えて
いるので、その中で測光されている細部は付加的な照明
によって際立たせられ、容易に識別可能となる。露出測
定時には第１の反射鏡16を旋回させて光源15からの光を
光線路から除外し、光線分割器11から分割された光を光
電検知器19に導くことによって露出測定し、露出時間を
定める。Japanese Patent Publication No. 1-39082 discloses an apparatus in which only the photometric portion is brightened within the same visual field as the observation visual field. In this device, as shown in FIG. 5, light from an object O enters a prism 11 through an objective lens 10, where the light is split into an eyepiece 13 having an eyepiece field of view 12 and a camera 14 side. . On the other hand, the illumination light from the light source 15 is reflected by the first reflecting mirror 16 and enters a diaphragm plate 17 provided with two large and small diaphragm holes 17a and 17b.
The light converted for the detailed photometry by the light enters the direction conversion reflecting mirror 18 which can move the photometry position. In addition, 19 is a photoelectric detector. The light reflected by the direction changing reflecting mirror 18 is reflected toward the prism 11 via the lens system 20 and the light beam splitter 21, is reflected by the corner cube 22, and returns to the eyepiece field 12. Since the entire object O is visible in the eyepiece field of view 12, the details metered therein are emphasized by the additional illumination and can be easily identified. At the time of exposure measurement, the first reflecting mirror 16 is turned to remove light from the light source 15 from the optical path, and the light split from the light beam splitter 11 is guided to the photoelectric detector 19 to measure the exposure, and the exposure time is measured. Determine.
しかしながら上述した各装置には次のような欠点があ
る。先ず、特開昭58−214121号公報に記載された装置
は、半透過面で反射した光を測光に用いて、透過した光
を観察視野に戻して測光部分の確認に用いているため、
観察視野における測光部分は光量が著しく低減し、明瞭
に観察できない。しかも、受光素子へ行く光量も少なく
なるので、低照度のときには測光できないという問題が
生じる。However, each of the above-described devices has the following disadvantages. First, the device described in JP-A-58-214121 uses the light reflected on the semi-transmissive surface for photometry, and returns the transmitted light to the observation field of view and uses it for confirmation of the photometry portion.
The photometric portion in the observation field of view has a significantly reduced light quantity and cannot be clearly observed. In addition, since the amount of light going to the light receiving element is reduced, there is a problem that photometry cannot be performed at low illuminance.
また、特公平１−39082号公報に記載されている装置
は、観察視野における測公部分を付加照明となる光源15
によって明るく際立たせることができるが、測定視野絞
りが絞り板17の大小２つの絞り孔17a,17bによる絞りし
か選択することができず、中間的な測光領域は測定でき
ない。なお、同公報に記載されているように、絞り穴の
大きな可変焦点レンズを測光光線の中に挿入することに
より、無段階に可変させるといったことも考えられる
が、この様な構成とした場合には光学系が極めて複雑に
なると共に、受光領域が狭くなるためスポット測光しか
できない等の問題が生じる。In addition, the device described in Japanese Patent Publication No. 1-39082 discloses a light source 15 serving as additional illumination for a measurement part in an observation visual field.
However, the measurement field stop can only be selected by the two small and large apertures 17a and 17b of the stop plate 17, and an intermediate photometry area cannot be measured. As described in the same publication, it is conceivable to insert a variable-focus lens having a large aperture hole into the photometric light beam so that it can be varied in a stepless manner. However, there is a problem that the optical system becomes extremely complicated and the light receiving area becomes narrow, so that only spot photometry can be performed.
本発明は以上のような実情に鑑みてなされたもので、
部分測光位置を観察視野と同一視野内において容易に確
認でき、しかも簡単な構成で測光領域を自在に変えるこ
とができ、受光領域が広くマルチ測光可能な顕微鏡写真
撮影装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances,
It is an object of the present invention to provide a microphotographing apparatus which can easily confirm a partial photometry position within the same visual field as an observation visual field, can freely change a photometric area with a simple configuration, and has a wide light receiving area and multiphotometry. I do.
本発明は上記課題を解決するために、対物レンズから
の光線を分割し、その分割された一部を接眼レンズへ導
き、分割された他の一部を写真撮影機構へ導いて、顕微
鏡観察される標本像を写真撮影する顕微鏡写真撮影装置
において、前記対物レンズの光軸上に設けられ入射する
光線を前記接眼レンズ側および前記写真撮影機構側に分
割する第１の光線分割手段と、前記対物レンズの光軸上
に設けられ入射する光線を前記写真撮影機構側および二
次元受光部側に分割する第２の光線分割手段と、測光部
分を決めるための投光時には、発生させた光を前記第１
および第２の光線分割手段に入射して前記接眼レンズお
よび前記二次元受光部に投光せしめ、移動可能な絞り機
構によって投光部を所定の領域に形成する投光手段と、
この投光手段による前記二次元受光部の投光部を測光し
て露出時間を決定する測光手段と、前記投光時には前記
対物レンズからの光線を遮断し、前記測光手段による測
光時には前記対物レンズからの光線を通過させる如く設
けられた遮光板とを備える構成とした。In order to solve the above-mentioned problem, the present invention divides a light beam from an objective lens, guides a part of the light to an eyepiece, and guides another part of the light to a photographing mechanism. A microscopic photographing apparatus for photographing a specimen image, wherein the first light beam splitting means is provided on an optical axis of the objective lens and splits an incident light beam toward the eyepiece lens and the photographing mechanism. A second light beam splitting means provided on the optical axis of the lens and splitting an incident light beam into the photographing mechanism side and the two-dimensional light receiving unit side; and First
And light projecting means for entering the second light beam splitting means and projecting the light to the eyepiece and the two-dimensional light receiving section, and forming the light projecting section in a predetermined area by a movable diaphragm mechanism;
Photometric means for measuring the light projecting unit of the two-dimensional light receiving unit by the light projecting means to determine an exposure time; and blocking the light beam from the objective lens at the time of the light projecting and the objective lens at the time of light measuring by the light measuring means. And a light-shielding plate provided so as to allow light from the light to pass therethrough.
本発明は以上のような手段を講じたことにより、対物
レンズからの光は第１および第２の光線分割手段でそれ
ぞれ分割され、接眼レンズ，二次元受光部に標本像がそ
れぞれ結像される。標本像が形成された二次元受光部に
は、投光手段によって所定の投光部が形成される。この
投光部は投光手段に備えられた絞り機構を移動させるこ
とにより移動でき、絞り調節によってその範囲を変化さ
せることができる。この投光手段によって任意の位置に
任意の大きさの投光領域を形成できる。そして、投光手
段によって投光部が形成された状態で遮光板を閉じるこ
とにより、二次元受光部には投光部のみが形成され、測
光時には遮光板が開放され、前記投光部が測光手段によ
って測光される。According to the present invention, by taking the above means, the light from the objective lens is split by the first and second light beam splitting means, respectively, and the sample image is formed on the eyepiece and the two-dimensional light receiving unit. . A predetermined light projecting unit is formed by the light projecting unit on the two-dimensional light receiving unit on which the sample image is formed. The light projecting section can be moved by moving a diaphragm mechanism provided in the light projecting means, and its range can be changed by adjusting the diaphragm. By this light emitting means, a light emitting area of an arbitrary size can be formed at an arbitrary position. Then, by closing the light shielding plate in a state where the light emitting unit is formed by the light emitting unit, only the light emitting unit is formed in the two-dimensional light receiving unit, and the light shielding plate is opened at the time of light measurement, and the light emitting unit is exposed to light. Photometric by means.
以下、本発明の実施例について説明する。 Hereinafter, examples of the present invention will be described.
第１図は第１実施例となる顕微鏡写真撮影装置を示す
図であり、その光学系が示されている。同図に示す30は
顕微鏡本体に取付けられたカメラであり、このカメラ30
と同顕微鏡の対物レンズ31との光路間に例えばビームス
プリッターからなる第１〜第３の光線分割器32〜34が設
けられている。第１の光線分割器32に対物レンズ31側か
ら入射した光の透過側にカメラ30が設けられていて、反
射側の光路上に接眼レンズ35が設置されている。第１の
光線分割器32を透過した光はカメラ30のフィルム面に入
射する。また、第２の光線分割器33に対物レンズ31側か
ら入射した光の透過側に第１の光線分割器32があり、反
射側の光路上に二次元受光部となるエリアセンサ36が設
置されている。さらに、第３の光線分割器34に対物レン
ズ側から入射する光の透過側に第２の光線分割器33が設
けられいる。この第３の光線分割器34には、発光ダイオ
ード37からの光が対物レンズ31からの光とは異なる入射
面に入射し、その光は対物レンズ31からの光の透過光と
同一光路上に反射される。なお、発光ダイオード37の出
射側には絞り機構38が移動可能に設けられている。これ
ら第３の光線分割器34,発光ダイオード37,絞り機構38,
レンズ39から投光手段を構成している。また、対物レン
ズ31と第３の光線分割器34との間の光路上には必要に応
じて対物レンズ31からの光線を遮断する遮光板40が設け
られている。なお、対物レンズ31の像はカメラ30のフィ
ルム面に結像され、かつフィルム面，エリアセンサ36,
絞り機構38は同焦位置に配置されるものとする。FIG. 1 is a view showing a photomicrographing apparatus according to a first embodiment, and its optical system is shown. In the figure, reference numeral 30 denotes a camera attached to the microscope main body.
Between the optical path with the objective lens 31 of the microscope, there are provided first to third light beam splitters 32 to 34, each comprising, for example, a beam splitter. The camera 30 is provided on the transmission side of the light incident on the first beam splitter 32 from the objective lens 31 side, and the eyepiece 35 is provided on the optical path on the reflection side. The light transmitted through the first beam splitter 32 enters the film surface of the camera 30. Further, a first beam splitter 32 is provided on the transmission side of light incident on the second beam splitter 33 from the objective lens 31 side, and an area sensor 36 serving as a two-dimensional light receiving unit is provided on an optical path on the reflection side. ing. Further, a second beam splitter 33 is provided on the transmission side of the light incident on the third beam splitter 34 from the objective lens side. The light from the light emitting diode 37 is incident on the third light beam splitter 34 on an incident surface different from the light from the objective lens 31, and the light is on the same optical path as the transmitted light of the light from the objective lens 31. Is reflected. A stop mechanism 38 is provided movably on the emission side of the light emitting diode 37. These third beam splitter 34, light emitting diode 37, aperture mechanism 38,
The lens 39 constitutes a light projecting unit. In addition, on the optical path between the objective lens 31 and the third beam splitter 34, a light shielding plate 40 that blocks light from the objective lens 31 is provided as necessary. The image of the objective lens 31 is formed on the film surface of the camera 30, and the film surface, the area sensor 36,
It is assumed that the aperture mechanism 38 is disposed at the in-focus position.
この様な光学系において、遮光板40を開放した状態で
は、対物レンズ31からの光線のうち第３の光線分割器34
を透過した光が第２の光線分割器33に入射して、ここで
その一部は反射されてエリアセンサ36上に標本像を結像
し、その他の透過した光はさらに第１の光線分割器32に
入射する。そして、その透過光はカメラ30のフィルム面
に標本像を結像し、その反射光は接眼レンズ35の視野に
標本像を結像する。また、発光ダイオード37から出射さ
れた光は第３の光線分割器34で反射された光がさらに第
２の光線分割器に入射する。そして、その反射光はエリ
アセンサ36上に前記標本像に重ねて投光される。この投
光部は絞り機構38によってその投光領域が任意の位置に
形成される。一方、第２の光線分割器33で透過した光は
第１の光線分割器32で反射されて接眼レンズ35の視野に
エリアセンサ36と同様の像が結像される。In such an optical system, when the light shielding plate 40 is open, the third light beam splitter 34 out of the light beams from the objective lens 31 is used.
Is transmitted to the second beam splitter 33, where a part of the light is reflected to form a sample image on the area sensor 36, and the other transmitted light is further subjected to the first beam splitting. Incident on the vessel 32. The transmitted light forms a sample image on the film surface of the camera 30, and the reflected light forms a sample image on the visual field of the eyepiece 35. The light emitted from the light emitting diode 37 is reflected by the third beam splitter 34, and further enters the second beam splitter. Then, the reflected light is projected onto the area sensor 36 so as to overlap the sample image. The light emitting area of this light emitting section is formed at an arbitrary position by the aperture mechanism 38. On the other hand, the light transmitted by the second light beam splitter 33 is reflected by the first light beam splitter 32, and an image similar to that of the area sensor 36 is formed on the visual field of the eyepiece 35.
一方、エリアセンサ36には測光部41が接続されてい
る。この測光部41は、第1,第２のメモリ42a,42bと演算
回路43とからなる。第１のメモリ42aには、エリアセン
サ36からの出力信号に基づく測光領域指示情報が記憶さ
れ、第２のメモリ42bには、エリアセンサ36からの出力
信号に基づく標本Ｏの光強度情報が記憶される。演算回
路43は、第1,第２のメモリ42a,42bに記憶された情報の
論理積をとって写真撮影のための最適露出時間を算出
し、露出時間制御信号をカメラシャッタ44に出力する構
成となっている。On the other hand, a photometric unit 41 is connected to the area sensor 36. The photometric section 41 includes first and second memories 42a and 42b and an arithmetic circuit 43. The first memory 42a stores photometric region instruction information based on an output signal from the area sensor 36, and the second memory 42b stores light intensity information of the sample O based on the output signal from the area sensor 36. Is done. The arithmetic circuit 43 calculates the optimal exposure time for photographing by taking the logical product of the information stored in the first and second memories 42a and 42b, and outputs an exposure time control signal to the camera shutter 44. It has become.
次に、以上のように構成された本実施例の動作につい
て説明する。Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described.
先ず、遮光板40を開放し、エリアセンサ36は動作させ
ない状態で、発光ダイオード37の光を入射する。これに
よって、接眼レンズ35の視野では、標本像の所定箇所に
投光部が形成された状態が観察できる。そこで、絞り機
構38を移動させて投光部を任意の測光位置へ移動し、絞
りを調節してその範囲を決める。First, the light of the light emitting diode 37 enters while the light shielding plate 40 is opened and the area sensor 36 is not operated. Thus, in the visual field of the eyepiece 35, a state in which the light projecting portion is formed at a predetermined position of the sample image can be observed. Therefore, the diaphragm mechanism 38 is moved to move the light projecting unit to an arbitrary photometry position, and the diaphragm is adjusted to determine the range.
この様にして測光領域が決定したならば、遮光板40を
閉じて標本Ｏからの光を遮断し、エリアセンサ36を受光
可能な状態にする。この結果、エリアセンサ36には決定
した測光領域を示す投光部のみが結像され、この投光部
を光電変換した測光領域指示情報が第１のメモリ42aに
記憶される。When the photometry area is determined in this manner, the light shielding plate 40 is closed to block light from the sample O, and the area sensor 36 is set to be able to receive light. As a result, only the light projecting section indicating the determined light measuring area is formed on the area sensor 36, and the light measuring area instruction information obtained by photoelectrically converting the light projecting section is stored in the first memory 42a.
次に、発光ダイオード37による投光を止め、遮光板40
を開放してエリアセンサ36を再び受光可能にする。この
結果、エリアセンサ36には標本像が形成され、この標本
像を光電変換して標本の光強度情報を第２のメモリ42b
に記憶する。第1,第２のメモリ42a,42bにそれぞれ記憶
された情報は演算回路43に取込まれ、その論理積がとら
れて、標本の光強度情報から測光領域のみの光強度情報
が抽出され、その光強度に基づいて写真撮影のための最
適露出時間が算出される。そして、この算出結果に基づ
いて生成される露出時間制御信号がカメラシャッタ44に
与えられ、その露出時間にて写真撮影が行われる。Next, the light emission by the light emitting diode 37 is stopped, and the light shielding plate 40 is stopped.
Is released to enable the area sensor 36 to receive light again. As a result, a sample image is formed on the area sensor 36. The sample image is photoelectrically converted and the light intensity information of the sample is stored in the second memory 42b.
To memorize. The information respectively stored in the first and second memories 42a and 42b is taken into the arithmetic circuit 43, the logical product thereof is taken, and the light intensity information of only the photometry area is extracted from the light intensity information of the sample, The optimum exposure time for photographing is calculated based on the light intensity. Then, an exposure time control signal generated based on the calculation result is given to the camera shutter 44, and a photograph is taken with the exposure time.
この様に本実施例によれば、発光ダイオード37から出
射された光を移動可能な絞り機構38を介して第３の光線
分割器34に入射し、この第３の光線分割器34によって第
１および第２の光線分割器32,33に入射させるようにし
たので、簡単な構成で標本像が結像された接眼レンズ35
の視野内に測光領域を示す投光部を重ねて結像でき、測
光領域を生活かつ明瞭に見ることができる。As described above, according to the present embodiment, the light emitted from the light emitting diode 37 enters the third light beam splitter 34 via the movable stop mechanism 38, and the first light beam is split by the third light beam splitter 34. And the second light beam splitters 32 and 33 are incident on the eyepiece lens 35 on which the sample image is formed with a simple configuration.
The light projecting portion indicating the photometry area can be superimposed and imaged in the field of view, and the photometry area can be seen in a live and clear manner.
また、移動可能な絞り機構38によって投光部の位置を
目的の場所に移動でき、その範囲も容易に設定できる。
また、エリアセンサ36を用いていることにより、受光領
域が広くマルチ測光が可能となる。しかも、エリアセン
サ36で受光領域の指示と測光を行うので、指示側と測光
側との調整が必要なくなり、作業性を向上できる。Further, the position of the light projecting unit can be moved to a target place by the movable diaphragm mechanism 38, and the range can be easily set.
Further, by using the area sensor 36, the light receiving area is wide and multi-photometry is possible. In addition, since the area sensor 36 indicates the light receiving area and performs photometry, there is no need to adjust the indication side and the photometry side, thereby improving workability.
次に、本発明の第２実施例について説明する。 Next, a second embodiment of the present invention will be described.
第２図は第２実施例を示す図である。なお、第１図に
示す装置と同一部分には同一の符号を付している。この
実施例は、上記第１実施例の第1,第2,第３の光線分割器
に替えて第１および第２の半透過面50a,50bを有する光
線分割器50を設けた例である。FIG. 2 is a view showing a second embodiment. The same parts as those of the apparatus shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. This embodiment is an example in which a beam splitter 50 having first and second semi-transmissive surfaces 50a, 50b is provided in place of the first, second, and third beam splitters of the first embodiment. .
上記光線分割器50は、対物レンズ31からの光線が第１
の半透過面51aに入射し、この第１の半透過面50aを反射
した光が接眼レンズ35に入射し、かつ透過した光が第２
の半透過面50bに入射する。そして、この第２の半透過
面50bを透過した光がカメラ30に入射し、第２の半透過
面50bで反射された光がエリアセンサ36に入射する。さ
らに、発光ダイオード37から出射された光が第１の半透
過面50aに入射し、透過した光は接眼レンズ35に入射す
る。また、第１の半透過面50aで反射された光は第２の
半透過面50bに入射して、カメラ30側およびエリアセン
サ36側とに分割される。The light beam splitter 50 is configured such that the light beam from the objective lens 31
The light reflected from the first semi-transmissive surface 50a is incident on the eyepiece lens 35, and the light transmitted through the
To the semi-transmissive surface 50b. Then, the light transmitted through the second semi-transmissive surface 50b enters the camera 30, and the light reflected by the second semi-transmissive surface 50b enters the area sensor 36. Further, the light emitted from the light emitting diode 37 enters the first semi-transmissive surface 50a, and the transmitted light enters the eyepiece 35. Further, the light reflected by the first semi-transmissive surface 50a enters the second semi-transmissive surface 50b and is split into the camera 30 side and the area sensor 36 side.
なお、このように構成された本実施例における遮光板
40の開閉や、エリアセンサ36,測光部41の動作は第１実
施例と同様である。In addition, the light shielding plate according to the present embodiment configured as described above is used.
The opening / closing of 40 and the operations of the area sensor 36 and the photometry unit 41 are the same as in the first embodiment.
この様な第２実施例によれば、第１実施例と同様に接
眼レンズ35の視野内に測光領域を指示する投光部を重ね
て結像でき、測光領域を正確かつ明瞭に見ることがで
き、さらに光線分割器の個数を減すことができ、光学系
の構成を簡単にでき、装置の小型化を図ることができ
る。According to the second embodiment, as in the first embodiment, the light projecting unit for designating the photometry area can be formed in the field of view of the eyepiece 35 in an overlapping manner, so that the photometry area can be seen accurately and clearly. The number of beam splitters can be reduced, the configuration of the optical system can be simplified, and the size of the device can be reduced.
次に、本発明の第３実施例について第３図を参照して
説明する。なお、第１図または第２図に示す装置と同一
部分には同一符号を付している。Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same parts as those in the apparatus shown in FIG. 1 or FIG. 2 are denoted by the same reference numerals.
この実施例は、前記第１実施例における第１および第
３の光線分割器に替えて２つのプリズムを重ね合わせた
光線分割器60を備えた例である。This embodiment is an example in which a beam splitter 60 in which two prisms are superimposed is provided instead of the first and third beam splitters in the first embodiment.
光線分割器60は互いの接合面60aがハーフミラーで構
成されている。この光線分割器60の一方のプリズムに対
物レンズ31側より入射した光は、その一部がハーフミラ
ー60aで反射され、さらにこの光が入射したプリズムの
入射面60bで反射されて接眼レンズ35に入射する。ま
た、他の一部はハーフミラー60aを透過して第２の光線
分割器33に入射する。また、発光ダイオード37より出射
され、光線分割器60の他方のプリズムから入射した光
は、その一部がハーフミラー60aを透過し、さらに反射
面60bで反射されて接眼レンズ35に入射する。また、そ
の他の光はハーフミラー60aで反射されて対物レンズ31
からの光の一部と共に第２の光線分割器33に入射する。The beam splitter 60 has a joining surface 60a formed of a half mirror. Part of the light incident on one prism of the light beam splitter 60 from the objective lens 31 side is reflected by the half mirror 60a, and further reflected on the incident surface 60b of the prism on which this light is incident, and is reflected on the eyepiece 35. Incident. The other part is transmitted through the half mirror 60a and enters the second beam splitter 33. A part of the light emitted from the light emitting diode 37 and incident from the other prism of the light beam splitter 60 passes through the half mirror 60a, is further reflected by the reflection surface 60b, and enters the eyepiece 35. Other light is reflected by the half mirror 60a and
Incident on the second beam splitter 33 together with part of the light from
第２の光線分割器33は対物レンズ31からの標本像に関
する光および発光ダイオード37からの投光用の光の一部
をカメラ30側に透過させると共に、残りの一部をエリア
センサ36側に導いている。The second beam splitter 33 transmits part of the light relating to the specimen image from the objective lens 31 and part of the light for projecting light from the light emitting diode 37 to the camera 30 side, and the other part to the area sensor 36 side. Leading.
このように構成された本実施例の動作も第１実施例と
同様である。The operation of the present embodiment thus configured is the same as that of the first embodiment.
この様な第３実施例によれば、第１実施例と同様の効
果を得ることができ、さらに光線分割器の削減により光
学系を簡単にできるといった効果を得ることができる。According to the third embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and further, the effect that the optical system can be simplified by reducing the number of light beam splitters can be obtained.
以上詳記したように本発明によれば、部分測光位置を
観察視野と同一視野内において容易に確認でき、しかも
簡単な構成で測光領域を自在に変えることができ、受光
領域が広くマルチ測光可能な顕微鏡写真撮影装置を提供
できる。As described in detail above, according to the present invention, the partial photometry position can be easily confirmed within the same visual field as the observation visual field, and the photometric area can be freely changed with a simple configuration, and the light receiving area can be wide and multi-photometric. A simple microscope photographing apparatus can be provided.
第１図は第１実施例の構成図、第２図は第２実施例の構
成図、第３図は第３実施例の構成図、第４図は従来の顕
微鏡写真撮影装置の構成例を示す図、第５図は従来の他
の顕微鏡写真撮影装置の構成例を示す図である。 30……カメラ、31……対物レンズ、32……第１の光線分
割器、33……第２の光線分割器、34……第３の光線分割
器、35……接眼レンズ、36……エリアセンサ、37……発
光ダイオード、38……絞り機構、40……遮光板、41……
測光部、44……カメラシャッター。FIG. 1 is a block diagram of a first embodiment, FIG. 2 is a block diagram of a second embodiment, FIG. 3 is a block diagram of a third embodiment, and FIG. 4 is a block diagram of a conventional microscope photographing apparatus. FIG. 5 is a diagram showing a configuration example of another conventional microphotographing apparatus. 30 Camera 31 Object lens 32 First beam splitter 33 Second beam splitter 34 Third beam splitter 35 Eyepiece 36 Area sensor 37 Light emitting diode 38 Aperture mechanism 40 Light shield plate 41
Metering unit, 44 ... Camera shutter.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−214121（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−141315（ＪＰ，Ａ) 特公 平１−39082（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭56−42849（ＪＰ，Ｂ２) 特表 昭62−502427（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 21/00 - 21/36 Continuation of front page (56) References JP-A-58-214121 (JP, A) JP-A-3-141315 (JP, A) JP-B1-39082 (JP, B2) JP-B-56-42849 (JP) , B2) Special table 62-502427 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G02B 21/00-21/36
Claims (1)
された一部を接眼レンズへ導き、分割された他の一部を
写真撮影機構へ導いて、顕微鏡観察される標本像を写真
撮影する顕微鏡写真撮影装置において、 前記対物レンズの光軸上に設けられ入射する光線を前記
接眼レンズ側および前記写真撮影機構側に分割する第１
の光線分割手段と、 前記対物レンズの光軸上に設けられ入射する光線を前記
写真撮影機構側および二次元受光部側に分割する第２の
光線分割手段と、 測光部分を決める投光時には、発生させた光を前記第１
および第２の光線分割手段に入射して前記接眼レンズお
よび前記二次元受光部に投光せしめ、移動可能な絞り機
構によって投光部を任意の領域に形成する投光手段と、 この投光手段による前記二次元受光部の投光部を測光し
て露出時間を決定する測光手段と、 前記投光時には前記対物レンズからの光線を遮断し、前
記測光手段による測光時には前記対物レンズからの光線
を通過させる如く設けられた遮光板と、 を具備したことを特徴とする顕微鏡写真撮影装置。1. A light beam from an objective lens is divided, a part of the divided light is guided to an eyepiece, and another part of the divided light is guided to a photographing mechanism. A microscopic photographing apparatus, wherein a first light beam provided on an optical axis of the objective lens is divided into the eyepiece lens side and the photographing mechanism side.
A second light beam splitting means provided on the optical axis of the objective lens and splitting an incident light beam into the photographing mechanism side and the two-dimensional light receiving unit side; The generated light is transmitted to the first
And a light projecting means for projecting the light into the eyepiece and the two-dimensional light receiving unit by entering the second light beam dividing unit and forming the light projecting unit in an arbitrary area by a movable aperture mechanism; A light meter that determines the exposure time by measuring the light projecting unit of the two-dimensional light receiving unit, and intercepts the light beam from the objective lens during the light projecting process and intercepts the light beam from the objective lens during the light metering by the light measuring device. A light-shielding plate provided so as to allow the light to pass therethrough.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11044590A JP2923328B2 (en) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | Microscope photography equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11044590A JP2923328B2 (en) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | Microscope photography equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH049815A JPH049815A (en) | 1992-01-14 |
| JP2923328B2 true JP2923328B2 (en) | 1999-07-26 |
Family
ID=14535899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11044590A Expired - Lifetime JP2923328B2 (en) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | Microscope photography equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2923328B2 (en) |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11044590A patent/JP2923328B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH049815A (en) | 1992-01-14 |
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