JP2901921B2 - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、歪み量子井戸層を
有する活性層を備えた半導体レーザ装置に関する。
有する活性層を備えた半導体レーザ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体レーザ装置は、軽量・小型
で低消費電力かつ高速変調が可能である等の優れた特長
を有し、コンパクトデスク等の情報機器や光ファイバ通
信用の光源として、幅広く利用されている。通常の半導
体レーザ装置は、結晶成長や加工プロセスの容易さ等の
理由から、（１００）面方位で切り出したＧａＡｓやＩ
ｎＰ等の半導体基板上に作製されてきた。近年、従来技
術文献「T.Hayakawa et.al,“Near-ideal low threshol
d behavior in(111)oriented GaAs/AlGaAs quantum wel
l lasers"，Appl.Phys.Lett. Vol.52, no.5, pp.339-34
1，1988年2月」において、（１１１）Ｂ面ＧａＡｓ基板
上に作製されたＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ量子井戸レーザ
が従来の（１００）面上の半導体レーザ装置に比べ、低
しきい値動作が可能であることが示されて以来、（１０
０）面以外の面方位を有する半導体基板を用いた半導体
物性および半導体レーザ装置の研究が活発に行われてい
る。その後、活性層を、歪みを有するＩｎＧａＡｓ／Ｇ
ａＡｓ超格子に置き換えることにより、（１００）基板
上において、半導体レーザ装置の性能が向上できること
が、多くの研究機関で報告されている。（１００）面以
外の面方位基板に、このＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ量子井
戸層を活性層とする半導体レーザ装置については、報告
例は少ないが、報告例では、主に、結晶成長の容易さか
ら（ｎ１１）Ｂ面が用いられて検討されている。
で低消費電力かつ高速変調が可能である等の優れた特長
を有し、コンパクトデスク等の情報機器や光ファイバ通
信用の光源として、幅広く利用されている。通常の半導
体レーザ装置は、結晶成長や加工プロセスの容易さ等の
理由から、（１００）面方位で切り出したＧａＡｓやＩ
ｎＰ等の半導体基板上に作製されてきた。近年、従来技
術文献「T.Hayakawa et.al,“Near-ideal low threshol
d behavior in(111)oriented GaAs/AlGaAs quantum wel
l lasers"，Appl.Phys.Lett. Vol.52, no.5, pp.339-34
1，1988年2月」において、（１１１）Ｂ面ＧａＡｓ基板
上に作製されたＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ量子井戸レーザ
が従来の（１００）面上の半導体レーザ装置に比べ、低
しきい値動作が可能であることが示されて以来、（１０
０）面以外の面方位を有する半導体基板を用いた半導体
物性および半導体レーザ装置の研究が活発に行われてい
る。その後、活性層を、歪みを有するＩｎＧａＡｓ／Ｇ
ａＡｓ超格子に置き換えることにより、（１００）基板
上において、半導体レーザ装置の性能が向上できること
が、多くの研究機関で報告されている。（１００）面以
外の面方位基板に、このＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ量子井
戸層を活性層とする半導体レーザ装置については、報告
例は少ないが、報告例では、主に、結晶成長の容易さか
ら（ｎ１１）Ｂ面が用いられて検討されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、（１０
０）面方位で切り出したＧａＡｓやＩｎＰ等の半導体基
板上に作製された半導体レーザ装置は、しきい値電流が
大きいという問題点があった。また、通常用いられる導
電形がｎ型の（ｎ１１）Ｂ面半導体基板上に歪み量子井
戸層を有するＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子を活性層と
する半導体レーザ装置を作製した場合、歪みによるピエ
ゾ効果のため、内部電界が発生し、この結果、バンド構
造が変化することにより、キャリアの再結合確率の減少
・光学利得分布および発光波長の短波長化が起こる。こ
れらは、すべて半導体レーザ装置の性能を悪化させる方
向に作用し、たとえば、発振しきい値の増大、発光効率
の低下や発光波長の変化（短波長へ移動）の原因となっ
ている。とくに、分布反射鏡（ＤＢＲミラー）を有する
面発光レーザにおいては、発振波長がＤＢＲミラーの反
射特性によって決定されるため、光学利得分布と発振波
長とのミスマッチが増大し、一層著しい特性の劣化が起
こると考えられる。この内部電界は、量子井戸内に注入
されたキャリアによるスクリーニングにより、ある程度
低減できることがわかっているが、通常レーザ発振に必
要なキャリア密度である１〜２×１０18ｃｍ2程度で
は、スクリーニングの効果を十分に発揮できないこと
が、我々の詳細なバンドシュミレーションの結果、明ら
かになった。また、このピエゾ効果による影響は、量子
井戸の厚みを薄くすることにより、例えばＩｎ0.2Ｇａ
0.8Ａｓ／ＧａＡｓの量子井戸の場合、３ｎｍ以下にす
ることにより、低減できることがシミュレーションの結
果明らかになったが、レーザ発振に必要なキャリアを閉
じ込めるためには、８ｎｍ以上の量子井戸層が必要であ
り、３ｎｍ以下にすることは実際の半導体レーザ構造に
は適用することができない。このために、現状では、ｎ
型（ｎ１１）Ｂ面上の面発光レーザでは、期待されたほ
どしきい値を低くすることができず、かつ発光効率が低
く、しかも発光できる光の波長が長くなる等、従来の
（１００）面上の面発光レーザを凌駕する特性は得られ
ていない。
０）面方位で切り出したＧａＡｓやＩｎＰ等の半導体基
板上に作製された半導体レーザ装置は、しきい値電流が
大きいという問題点があった。また、通常用いられる導
電形がｎ型の（ｎ１１）Ｂ面半導体基板上に歪み量子井
戸層を有するＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子を活性層と
する半導体レーザ装置を作製した場合、歪みによるピエ
ゾ効果のため、内部電界が発生し、この結果、バンド構
造が変化することにより、キャリアの再結合確率の減少
・光学利得分布および発光波長の短波長化が起こる。こ
れらは、すべて半導体レーザ装置の性能を悪化させる方
向に作用し、たとえば、発振しきい値の増大、発光効率
の低下や発光波長の変化（短波長へ移動）の原因となっ
ている。とくに、分布反射鏡（ＤＢＲミラー）を有する
面発光レーザにおいては、発振波長がＤＢＲミラーの反
射特性によって決定されるため、光学利得分布と発振波
長とのミスマッチが増大し、一層著しい特性の劣化が起
こると考えられる。この内部電界は、量子井戸内に注入
されたキャリアによるスクリーニングにより、ある程度
低減できることがわかっているが、通常レーザ発振に必
要なキャリア密度である１〜２×１０18ｃｍ2程度で
は、スクリーニングの効果を十分に発揮できないこと
が、我々の詳細なバンドシュミレーションの結果、明ら
かになった。また、このピエゾ効果による影響は、量子
井戸の厚みを薄くすることにより、例えばＩｎ0.2Ｇａ
0.8Ａｓ／ＧａＡｓの量子井戸の場合、３ｎｍ以下にす
ることにより、低減できることがシミュレーションの結
果明らかになったが、レーザ発振に必要なキャリアを閉
じ込めるためには、８ｎｍ以上の量子井戸層が必要であ
り、３ｎｍ以下にすることは実際の半導体レーザ構造に
は適用することができない。このために、現状では、ｎ
型（ｎ１１）Ｂ面上の面発光レーザでは、期待されたほ
どしきい値を低くすることができず、かつ発光効率が低
く、しかも発光できる光の波長が長くなる等、従来の
（１００）面上の面発光レーザを凌駕する特性は得られ
ていない。
【０００４】本発明の目的は、以上の問題点を解決し
て、低いしきい値電流で動作させることができ、かつ発
光効率がよく、しかも短い波長の光を発生できる半導体
レーザ装置を提供することにある。
て、低いしきい値電流で動作させることができ、かつ発
光効率がよく、しかも短い波長の光を発生できる半導体
レーザ装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、化合物半導体
基板の（１００）面以外の面上に、歪み量子井戸層を有
する活性層を、歪み量子井戸層に発生する内部電界が順
バイアス電圧を打ち消す方向に生じるように形成したも
のである。すなわち、本発明に係る第１の半導体レーザ
装置は、ｎ型のＡＢ化合物半導体基板（但し、Ａが第３
族の元素；Ｂが第５族の元素、又はＡが第２族の元素；
Ｂが第６族の元素）と、上記ＡＢ化合物半導体基板上に
形成されたｎ型の第１の分布反射層と、上記第１の分布
反射層上に、ＧａＡｓ障壁層とＩｎＧａＡｓ量子井戸層
とが交互に積層されてなる活性層と、上記活性層上に形
成されたｐ型の第２の分布反射層とを備えた半導体レー
ザ装置であって、上記ＡＢ化合物半導体基板の表面の面
方位が（ｎ１１）面又は（ｎｎ１）面（但しｎ≧１）に
設定され、かつ当該表面が実質的にＡ元素からなる原子
層に設定されたことを特徴とする。これによって、光を
発生する上記歪み量子井戸層のポテンシャル傾斜を、順
バイアス電圧が印加されたときに発光効率を向上させる
ように補正している。
基板の（１００）面以外の面上に、歪み量子井戸層を有
する活性層を、歪み量子井戸層に発生する内部電界が順
バイアス電圧を打ち消す方向に生じるように形成したも
のである。すなわち、本発明に係る第１の半導体レーザ
装置は、ｎ型のＡＢ化合物半導体基板（但し、Ａが第３
族の元素；Ｂが第５族の元素、又はＡが第２族の元素；
Ｂが第６族の元素）と、上記ＡＢ化合物半導体基板上に
形成されたｎ型の第１の分布反射層と、上記第１の分布
反射層上に、ＧａＡｓ障壁層とＩｎＧａＡｓ量子井戸層
とが交互に積層されてなる活性層と、上記活性層上に形
成されたｐ型の第２の分布反射層とを備えた半導体レー
ザ装置であって、上記ＡＢ化合物半導体基板の表面の面
方位が（ｎ１１）面又は（ｎｎ１）面（但しｎ≧１）に
設定され、かつ当該表面が実質的にＡ元素からなる原子
層に設定されたことを特徴とする。これによって、光を
発生する上記歪み量子井戸層のポテンシャル傾斜を、順
バイアス電圧が印加されたときに発光効率を向上させる
ように補正している。
【０００６】また、第１の半導体レーザ装置では、上記
化合物半導体基板が、良質な基板の作成が容易なＧａＡ
ｓからなり、上記活性層が、上記化合物半導体基板上に
形成することが容易なＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子で
あることが好ましい。
化合物半導体基板が、良質な基板の作成が容易なＧａＡ
ｓからなり、上記活性層が、上記化合物半導体基板上に
形成することが容易なＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子で
あることが好ましい。
【０００７】さらに、第１の半導体レーザ装置におい
て、上記ｎ型の第１の分布反射層は、ＡｌxＧａ1-xＡｓ
（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが交互に積層さ
れてなりかつ、上記ｐ型の第２の分布反射層は、Ａｌx
Ｇａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが
交互に積層されてなることが好ましい。
て、上記ｎ型の第１の分布反射層は、ＡｌxＧａ1-xＡｓ
（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが交互に積層さ
れてなりかつ、上記ｐ型の第２の分布反射層は、Ａｌx
Ｇａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが
交互に積層されてなることが好ましい。
【０００８】また、第１の半導体レーザ装置において、
上記ＡＢ化合物半導体基板は、表面が実質的にＧａから
なる原子層の（３１１）面になるように形成されたｎ型
ＧａＡｓ半導体基板であることがさらに好ましい。
上記ＡＢ化合物半導体基板は、表面が実質的にＧａから
なる原子層の（３１１）面になるように形成されたｎ型
ＧａＡｓ半導体基板であることがさらに好ましい。
【０００９】本発明に係る第２の半導体レーザ装置は、
ｐ型のＡＢ化合物半導体基板（但し、Ａが第３族の元
素；Ｂが第５族の元素、又はＡが第２族の元素；Ｂが第
６族の元素）と、上記ＡＢ化合物半導体基板上に形成さ
れたｎ型の第１の分布反射層と、上記第１の分布反射層
上に、ＧａＡｓ障壁層とＩｎＧａＡｓ量子井戸層とが交
互に積層されてなる活性層と、上記活性層上に形成され
たｐ型の第２の分布反射層とを備え、順バイアス電圧を
印加することにより光を発生する半導体レーザ装置であ
って、上記ＡＢ化合物半導体基板の表面の面方位が（ｎ
１１）面又は（ｎｎ１）面（但しｎ≧１）に設定され、
かつ当該表面が実質的にＢ元素からなる原子層に設定さ
れたことを特徴とする。これによって、光を発生する上
記歪み量子井戸層のポテンシャル傾斜を、順バイアス電
圧が印加されたときに発光効率を向上させるように補正
している。
ｐ型のＡＢ化合物半導体基板（但し、Ａが第３族の元
素；Ｂが第５族の元素、又はＡが第２族の元素；Ｂが第
６族の元素）と、上記ＡＢ化合物半導体基板上に形成さ
れたｎ型の第１の分布反射層と、上記第１の分布反射層
上に、ＧａＡｓ障壁層とＩｎＧａＡｓ量子井戸層とが交
互に積層されてなる活性層と、上記活性層上に形成され
たｐ型の第２の分布反射層とを備え、順バイアス電圧を
印加することにより光を発生する半導体レーザ装置であ
って、上記ＡＢ化合物半導体基板の表面の面方位が（ｎ
１１）面又は（ｎｎ１）面（但しｎ≧１）に設定され、
かつ当該表面が実質的にＢ元素からなる原子層に設定さ
れたことを特徴とする。これによって、光を発生する上
記歪み量子井戸層のポテンシャル傾斜を、順バイアス電
圧が印加されたときに発光効率を向上させるように補正
している。
【００１０】また、上記第２の半導体レーザ装置では、
上記化合物半導体基板が、良質な基板の作成が容易なＧ
ａＡｓからなり、上記活性層が、上記化合物半導体基板
上に形成することが容易なＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格
子であることが好ましい。
上記化合物半導体基板が、良質な基板の作成が容易なＧ
ａＡｓからなり、上記活性層が、上記化合物半導体基板
上に形成することが容易なＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格
子であることが好ましい。
【００１１】さらに、上記第２の半導体レーザ装置にお
いて、上記ｎ型の第１の分布反射層は、ＡｌxＧａ1-xＡ
ｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが交互に積層
されてなりかつ、上記ｐ型の第２の分布反射層は、Ａｌ
xＧａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが
交互に積層されてなることが好ましい。
いて、上記ｎ型の第１の分布反射層は、ＡｌxＧａ1-xＡ
ｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが交互に積層
されてなりかつ、上記ｐ型の第２の分布反射層は、Ａｌ
xＧａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが
交互に積層されてなることが好ましい。
【００１２】また、上記第２の半導体レーザ装置におい
て、上記ＡＢ化合物半導体基板は、表面が実質的にＡｓ
からなる原子層の（３１１）面になるように形成された
ｐ型ＧａＡｓ半導体基板であることが好ましい。
て、上記ＡＢ化合物半導体基板は、表面が実質的にＡｓ
からなる原子層の（３１１）面になるように形成された
ｐ型ＧａＡｓ半導体基板であることが好ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。 ＜実施形態１＞ 図１は、本発明に係る実施形態１の面発光型の半導体レ
ーザ装置の断面図である。この実施形態１の半導体レー
ザ装置は、例えば、ＧａＡｓやＩｎＰ等の３族と５族の
原子、又はＺｎＳｅやＺｎＴｅからなる化合物半導体基
板１０上に、分布反射層１２、スペーサー層１３、活性
層１４、スペーサー層１５、分布反射層１６が順次形成
されてなり、上記活性層１４が歪み量子井戸層を有する
超格子からなり、かつ化合物半導体基板１０の導電型及
び表面と、分布反射層１２の導電型及び分布反射層１６
の導電型を以下に示す、（１）又は（２）の組合せにな
るように設定したことを特徴とする。
て、図面を参照しながら説明する。 ＜実施形態１＞ 図１は、本発明に係る実施形態１の面発光型の半導体レ
ーザ装置の断面図である。この実施形態１の半導体レー
ザ装置は、例えば、ＧａＡｓやＩｎＰ等の３族と５族の
原子、又はＺｎＳｅやＺｎＴｅからなる化合物半導体基
板１０上に、分布反射層１２、スペーサー層１３、活性
層１４、スペーサー層１５、分布反射層１６が順次形成
されてなり、上記活性層１４が歪み量子井戸層を有する
超格子からなり、かつ化合物半導体基板１０の導電型及
び表面と、分布反射層１２の導電型及び分布反射層１６
の導電型を以下に示す、（１）又は（２）の組合せにな
るように設定したことを特徴とする。
【００１４】 （１）第１の組合せ （１ａ）化合物半導体基板１０の導電型；ｎ型、 （１ｂ）化合物半導体基板１０の表面；（ｎ１１）Ａ面
又は（ｎｎ１）Ａ面、 （１ｃ）分布反射層１２の導電型；ｎ型、 （１ｄ）分布反射層１６の導電型；ｐ型。 ここで、（１ｂ）におけるＡ面とは２族又は３族の原子
のみが表面に表れた面のことである。
又は（ｎｎ１）Ａ面、 （１ｃ）分布反射層１２の導電型；ｎ型、 （１ｄ）分布反射層１６の導電型；ｐ型。 ここで、（１ｂ）におけるＡ面とは２族又は３族の原子
のみが表面に表れた面のことである。
【００１５】 （２）第２の組合せ （２ａ）化合物半導体基板１０の導電型；ｐ型、 （２ｂ）化合物半導体基板１０の表面；（ｎ１１）Ｂ面
又は（ｎｎ１）Ｂ面、 （２ｃ）分布反射層１２の導電型；ｐ型、 （２ｄ）分布反射層１６の導電型；ｎ型。 ここで、（２ｂ）におけるＢ面とは第５族又は第６族の
原子のみが表面に表れた面のことである。
又は（ｎｎ１）Ｂ面、 （２ｃ）分布反射層１２の導電型；ｐ型、 （２ｄ）分布反射層１６の導電型；ｎ型。 ここで、（２ｂ）におけるＢ面とは第５族又は第６族の
原子のみが表面に表れた面のことである。
【００１６】この実施形態１において、図１に示すよう
に、好ましくは活性層１４がスペーサー層１３，１５を
介して分布反射層１２と分布反射層１６とによって挟設
されて構成される。また、実施形態１において、化合物
半導体基板１０にＧａＡｓを用いて構成する場合は、活
性層１４として、ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ等の歪み量子
井戸層を有する超格子が用いられ、分布反射層１２，１
６として、ＡｌxＧａ1-xＡｓ（０＜ｘ≦１）層とＧａＡ
ｓ層との積層体を用いることができる。化合物半導体基
板１０にＩｎＰを用いて構成する場合も同様である。
に、好ましくは活性層１４がスペーサー層１３，１５を
介して分布反射層１２と分布反射層１６とによって挟設
されて構成される。また、実施形態１において、化合物
半導体基板１０にＧａＡｓを用いて構成する場合は、活
性層１４として、ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ等の歪み量子
井戸層を有する超格子が用いられ、分布反射層１２，１
６として、ＡｌxＧａ1-xＡｓ（０＜ｘ≦１）層とＧａＡ
ｓ層との積層体を用いることができる。化合物半導体基
板１０にＩｎＰを用いて構成する場合も同様である。
【００１７】また、分布反射層１２，１６は、好ましく
は、λ／４ｎr（λは発振するレーザ光の波長であり、
ｎrは分布反射層１２，１６の屈折率である。）の厚さ
なるように形成する。活性層１４は、障壁層と歪み量子
井戸層とが交互に積層されてなり、量子井戸層の数が１
つの単一量子井戸構造でもよいし、量子井戸層が複数の
多重量子井戸構造でもよい。
は、λ／４ｎr（λは発振するレーザ光の波長であり、
ｎrは分布反射層１２，１６の屈折率である。）の厚さ
なるように形成する。活性層１４は、障壁層と歪み量子
井戸層とが交互に積層されてなり、量子井戸層の数が１
つの単一量子井戸構造でもよいし、量子井戸層が複数の
多重量子井戸構造でもよい。
【００１８】実施形態１の半導体レーザ装置では、以上
のように形成した後、分布反射層１６とスペーサー層１
５と活性層１４とスペーサー層１３とを所定の形状にな
るように、厚さ方向にエッチングして、当該エッチング
面と分布反射層１６の上面とに、分布反射層１６の上面
の一部分に、注入窓２１が形成されるように、絶縁膜１
８を形成し、注入窓２１の部分で分布反射層１６に接す
るように、オーミック電極１８を形成する。そして、化
合物半導体基板１０の板厚を所定の厚さに設定した後、
化合物半導体基板１０の下面に、中央部に開口部である
光放出窓２２を設けたオーミック電極１１を形成する。
のように形成した後、分布反射層１６とスペーサー層１
５と活性層１４とスペーサー層１３とを所定の形状にな
るように、厚さ方向にエッチングして、当該エッチング
面と分布反射層１６の上面とに、分布反射層１６の上面
の一部分に、注入窓２１が形成されるように、絶縁膜１
８を形成し、注入窓２１の部分で分布反射層１６に接す
るように、オーミック電極１８を形成する。そして、化
合物半導体基板１０の板厚を所定の厚さに設定した後、
化合物半導体基板１０の下面に、中央部に開口部である
光放出窓２２を設けたオーミック電極１１を形成する。
【００１９】以上のように実施形態１では、化合物半導
体基板１０の所定の表面２０上に、少なくとも１層の歪
み量子井戸層を含む活性層１４が、分布反射層１２，１
６とによって挟設されて構成される。以上のように構成
された実施形態１の半導体レーザ装置において、オーミ
ック電極１８とオーミック電極１１との間に、順方向に
（第１の組合せではオーミック電極１８が正になるよう
に、第２の組合せでは、オーミック電極１１が正になる
ように）バイアス電圧を印加して、分布反射層１２又は
反射分布層１６に電流を注入すると、活性層１４に電流
が流れ、活性層１４の歪み量子井戸層において、伝導帯
の電子が、価電子帯のホールと再結合して光を放出し
て、この活性層１４を流れる電流値がしきい値以上にな
ると、レーザ発振をするようになる。この実施形態１の
半導体レーザ装置は、ｎ型化合物半導体基板１０の（ｎ
１１）Ａ面上に、少なくとも１つの歪み量子井戸層を含
む活性層１４を備えて構成されるので、後述する理由に
より、従来例に比較して、発振が立ち上がるしきい値電
流を低くでき、かつ後述する種々の利点を有する。
体基板１０の所定の表面２０上に、少なくとも１層の歪
み量子井戸層を含む活性層１４が、分布反射層１２，１
６とによって挟設されて構成される。以上のように構成
された実施形態１の半導体レーザ装置において、オーミ
ック電極１８とオーミック電極１１との間に、順方向に
（第１の組合せではオーミック電極１８が正になるよう
に、第２の組合せでは、オーミック電極１１が正になる
ように）バイアス電圧を印加して、分布反射層１２又は
反射分布層１６に電流を注入すると、活性層１４に電流
が流れ、活性層１４の歪み量子井戸層において、伝導帯
の電子が、価電子帯のホールと再結合して光を放出し
て、この活性層１４を流れる電流値がしきい値以上にな
ると、レーザ発振をするようになる。この実施形態１の
半導体レーザ装置は、ｎ型化合物半導体基板１０の（ｎ
１１）Ａ面上に、少なくとも１つの歪み量子井戸層を含
む活性層１４を備えて構成されるので、後述する理由に
より、従来例に比較して、発振が立ち上がるしきい値電
流を低くでき、かつ後述する種々の利点を有する。
【００２０】次に、実施形態１の半導体レーザ装置が、
従来例に比較して低いしきい値電流でレーザ発振を開始
する理由を説明する。一般に、化合物半導体基板の（１
００）面以外の面上に、歪み量子井戸層を含む超格子か
らなる活性層を形成すると、歪みによるピエゾ効果によ
って当該活性層に内部電界が発生する。この内部電界に
よって、化合物半導体基板の（１００）面以外の面上に
形成された活性層のエネルギーバンド構造は、活性層が
（１００）面上に形成された場合のバンド構造に比較し
て変化する。また、活性層の歪み量子井戸層に発生する
内部電界の方向は、活性層が形成される化合物半導体基
板の表面に表れている原子の種類に対応して決定され
る。従って、化合物半導体基板の（ｎ１１）面上に形成
された場合であっても、（ｎ１１）面がＡ面かＢ面かに
よって、歪み量子井戸層に発生する内部電界の向きは異
なる。これによって、化合物半導体基板の（ｎ１１）Ａ
面上に形成された活性層のエネルギーバンド構造と（ｎ
１１）Ｂ面上に形成された活性層のエネルギーバンド構
造はそれぞれ、図３及び図２に示すように、互いに異な
る構造になる。ここで、図２及び図３では、化合物半導
体基板１０としてＧａＡｓからなるｎ型化合物半導体基
板を用い、活性層には、ＧａＡｓ障壁層とノンドープＩ
ｎＧａＡｓ量子井戸層とＧａＡｓ障壁層からなる歪み超
格子を用いた場合について示しているが、他の化合物半
導体基板と他の歪み超格子構造の活性層を用いても同様
に表すことができる。
従来例に比較して低いしきい値電流でレーザ発振を開始
する理由を説明する。一般に、化合物半導体基板の（１
００）面以外の面上に、歪み量子井戸層を含む超格子か
らなる活性層を形成すると、歪みによるピエゾ効果によ
って当該活性層に内部電界が発生する。この内部電界に
よって、化合物半導体基板の（１００）面以外の面上に
形成された活性層のエネルギーバンド構造は、活性層が
（１００）面上に形成された場合のバンド構造に比較し
て変化する。また、活性層の歪み量子井戸層に発生する
内部電界の方向は、活性層が形成される化合物半導体基
板の表面に表れている原子の種類に対応して決定され
る。従って、化合物半導体基板の（ｎ１１）面上に形成
された場合であっても、（ｎ１１）面がＡ面かＢ面かに
よって、歪み量子井戸層に発生する内部電界の向きは異
なる。これによって、化合物半導体基板の（ｎ１１）Ａ
面上に形成された活性層のエネルギーバンド構造と（ｎ
１１）Ｂ面上に形成された活性層のエネルギーバンド構
造はそれぞれ、図３及び図２に示すように、互いに異な
る構造になる。ここで、図２及び図３では、化合物半導
体基板１０としてＧａＡｓからなるｎ型化合物半導体基
板を用い、活性層には、ＧａＡｓ障壁層とノンドープＩ
ｎＧａＡｓ量子井戸層とＧａＡｓ障壁層からなる歪み超
格子を用いた場合について示しているが、他の化合物半
導体基板と他の歪み超格子構造の活性層を用いても同様
に表すことができる。
【００２１】まず、図２に示したエネルギーバンド構造
に基づいて、従来、検討が行われたｎ型化合物半導体基
板の（ｎ１１）Ｂ面上に活性層を形成した場合の半導体
レーザ装置（以下、ｎ型Ｂ面上半導体レーザという。）
の動作を説明する。このｎ型Ｂ面上半導体レーザの活性
層は、上述の内部電界によって、零バイアス時において
も、図２（ａ）に示すように、各層は傾斜するポテンシ
ャルを有しかつ歪み量子井戸層と障壁層では互いに異な
る傾斜を有する。これは、ｎ型Ｂ面上半導体レーザの活
性層において発生する内部電界によるものである。
に基づいて、従来、検討が行われたｎ型化合物半導体基
板の（ｎ１１）Ｂ面上に活性層を形成した場合の半導体
レーザ装置（以下、ｎ型Ｂ面上半導体レーザという。）
の動作を説明する。このｎ型Ｂ面上半導体レーザの活性
層は、上述の内部電界によって、零バイアス時において
も、図２（ａ）に示すように、各層は傾斜するポテンシ
ャルを有しかつ歪み量子井戸層と障壁層では互いに異な
る傾斜を有する。これは、ｎ型Ｂ面上半導体レーザの活
性層において発生する内部電界によるものである。
【００２２】このｎ型Ｂ面上半導体レーザに、レーザ発
振をさせるために必要な順方向にバイアス電圧を印加す
ると、活性層では、内部電界にさらに印加したバイアス
電圧が重畳されて、図２（ｂ）に示すようなエネルギー
バンド構造に変化する。このために、活性層の歪み量子
井戸層のポテンシャルの傾斜はさらに大きくなる。その
結果、電子とホール（この場合重いホールである。）の
波動関数の重なりが減少して、発光遷移確率が減少し、
さらに電子とホールの間の遷移エネルギー（伝導帯の電
子の第１準位ｅ１と価電子帯の重いホールのホール準位
ｈｈ１との差）が小さくなるために、発光する光の波長
が長くなる。その結果発光利得の減少や発振しきい値電
流の増大を生じるとともに、利得分布が大きく変化す
る。このため、特に分布反射鏡（ＤＢＲミラーとも呼ば
れ、実施形態１の分布反射層に対応する。）を有する面
発光レーザにおいては、発振波長がＤＢＲミラーの反射
特性によって決定されるため、光学利得分布と発振波長
とのミスマッチが増大し、一層レーザ発振が抑制され、
一層のしきい値の増大や、温度特性の劣化を引き起こす
原因となっていた。
振をさせるために必要な順方向にバイアス電圧を印加す
ると、活性層では、内部電界にさらに印加したバイアス
電圧が重畳されて、図２（ｂ）に示すようなエネルギー
バンド構造に変化する。このために、活性層の歪み量子
井戸層のポテンシャルの傾斜はさらに大きくなる。その
結果、電子とホール（この場合重いホールである。）の
波動関数の重なりが減少して、発光遷移確率が減少し、
さらに電子とホールの間の遷移エネルギー（伝導帯の電
子の第１準位ｅ１と価電子帯の重いホールのホール準位
ｈｈ１との差）が小さくなるために、発光する光の波長
が長くなる。その結果発光利得の減少や発振しきい値電
流の増大を生じるとともに、利得分布が大きく変化す
る。このため、特に分布反射鏡（ＤＢＲミラーとも呼ば
れ、実施形態１の分布反射層に対応する。）を有する面
発光レーザにおいては、発振波長がＤＢＲミラーの反射
特性によって決定されるため、光学利得分布と発振波長
とのミスマッチが増大し、一層レーザ発振が抑制され、
一層のしきい値の増大や、温度特性の劣化を引き起こす
原因となっていた。
【００２３】しかし、本実施形態１の第１の組合せに示
すように、ｎ型化合物半導体基板１０の（ｎ１１）Ａ面
上に活性層１４を形成すると、上述のｎ型Ｂ面上に形成
された活性層とは異なる方向に内部電界が生じる。
すように、ｎ型化合物半導体基板１０の（ｎ１１）Ａ面
上に活性層１４を形成すると、上述のｎ型Ｂ面上に形成
された活性層とは異なる方向に内部電界が生じる。
【００２４】従って、実施形態１において、第１の組合
せに示すように構成した半導体レーザ装置（第１の半導
体レーザ装置という。）の零バイアス時のエネルギーバ
ンド構造は、図３（ａ）に示すように表すことができ
る。すなわち、ピエゾ効果によって発生する内部電界に
よって、歪み量子井戸層のポテンシャルは、障壁層と同
じ傾斜になる。活性層１４が図３（ａ）に示すエネルギ
ーバンド構造を有する実施形態１の第１の半導体レーザ
装置の順方向にバイアス電圧を印加すると、活性層１４
の内部電界が打ち消されて、活性層１４のポテンシャル
の傾斜は、図３（ｂ）に示すように緩やかになる。これ
によって、電子とホールの波動関数の重なりを大きくで
きるので発光効率を高くでき、また、伝導帯の電子の第
１準位ｅ１と価電子帯の重いホールのホール準位ｈｈ１
との差である遷移エネルギーを大きくできるので、短い
波長の光を発生することができる。しかも、しきい値を
増大させることがないので、低いしきい値で発光できる
という歪み量子井戸層を有する活性層の特性をそのまま
生かすことができるので、しきい値を低くできる。
せに示すように構成した半導体レーザ装置（第１の半導
体レーザ装置という。）の零バイアス時のエネルギーバ
ンド構造は、図３（ａ）に示すように表すことができ
る。すなわち、ピエゾ効果によって発生する内部電界に
よって、歪み量子井戸層のポテンシャルは、障壁層と同
じ傾斜になる。活性層１４が図３（ａ）に示すエネルギ
ーバンド構造を有する実施形態１の第１の半導体レーザ
装置の順方向にバイアス電圧を印加すると、活性層１４
の内部電界が打ち消されて、活性層１４のポテンシャル
の傾斜は、図３（ｂ）に示すように緩やかになる。これ
によって、電子とホールの波動関数の重なりを大きくで
きるので発光効率を高くでき、また、伝導帯の電子の第
１準位ｅ１と価電子帯の重いホールのホール準位ｈｈ１
との差である遷移エネルギーを大きくできるので、短い
波長の光を発生することができる。しかも、しきい値を
増大させることがないので、低いしきい値で発光できる
という歪み量子井戸層を有する活性層の特性をそのまま
生かすことができるので、しきい値を低くできる。
【００２５】以上のように、実施形態１の第１の半導体
レーザ装置は、ｎ型化合物半導体基板１０の（ｎ１１）
Ａ面上に活性層１４を形成することにより、活性層１４
の歪み量子井戸層に順バイアス電圧を打ち消すように内
部電界を発生させることができるので、発光効率と向上
させることができ、かつ発光する光の波長を短くするこ
とができ、しかもしきい値を低くできる。
レーザ装置は、ｎ型化合物半導体基板１０の（ｎ１１）
Ａ面上に活性層１４を形成することにより、活性層１４
の歪み量子井戸層に順バイアス電圧を打ち消すように内
部電界を発生させることができるので、発光効率と向上
させることができ、かつ発光する光の波長を短くするこ
とができ、しかもしきい値を低くできる。
【００２６】次に、実施形態１における第２の組合せの
半導体レーザ装置について説明する。ｐ型化合物半導体
基板の（ｎ１１）Ｂ面上に活性層１４を形成すると、第
１の組合せと同様に、図２に示すｎ型Ｂ面上に形成され
た活性層とは異なる方向に内部電界が生じる。
半導体レーザ装置について説明する。ｐ型化合物半導体
基板の（ｎ１１）Ｂ面上に活性層１４を形成すると、第
１の組合せと同様に、図２に示すｎ型Ｂ面上に形成され
た活性層とは異なる方向に内部電界が生じる。
【００２７】従って、実施形態１において、第２の組合
せに示すように構成した半導体レーザ装置（第２の半導
体レーザ装置という。）の零バイアス時のエネルギーバ
ンド構造は、図４（ａ）に示すように表すことができ
る。すなわち、ピエゾ効果によって発生する内部電界に
よって、歪み量子井戸層のポテンシャルは、障壁層と同
じ傾斜になり、第１の半導体レーザ装置に比較して、ｎ
型化合物半導体層が低くなるような傾斜になる。このよ
うな図４（ａ）に示すエネルギーバンド構造を有する第
２の半導体レーザ装置の順方向にバイアス電圧を印加す
ると、活性層１４の内部電界が打ち消されて、活性層１
４のポテンシャルの傾斜は、図４（ｂ）に示すように緩
やかになる。これによって、第１の半導体レーザ装置と
同様に、電子とホールの波動関数の重なりを大きくでき
るので発光効率を高くでき、また、伝導帯の電子の第１
準位ｅ１と価電子帯の重いホールのホール準位ｈｈ１と
の差である遷移エネルギーを大きくできるので、短い波
長の光を発生することができる。しかも、しきい値を増
大させることがないので、低いしきい値で発光できると
いう歪み量子井戸層を有する活性層の特性をそのまま生
かすことができるので、しきい値を低くできる。
せに示すように構成した半導体レーザ装置（第２の半導
体レーザ装置という。）の零バイアス時のエネルギーバ
ンド構造は、図４（ａ）に示すように表すことができ
る。すなわち、ピエゾ効果によって発生する内部電界に
よって、歪み量子井戸層のポテンシャルは、障壁層と同
じ傾斜になり、第１の半導体レーザ装置に比較して、ｎ
型化合物半導体層が低くなるような傾斜になる。このよ
うな図４（ａ）に示すエネルギーバンド構造を有する第
２の半導体レーザ装置の順方向にバイアス電圧を印加す
ると、活性層１４の内部電界が打ち消されて、活性層１
４のポテンシャルの傾斜は、図４（ｂ）に示すように緩
やかになる。これによって、第１の半導体レーザ装置と
同様に、電子とホールの波動関数の重なりを大きくでき
るので発光効率を高くでき、また、伝導帯の電子の第１
準位ｅ１と価電子帯の重いホールのホール準位ｈｈ１と
の差である遷移エネルギーを大きくできるので、短い波
長の光を発生することができる。しかも、しきい値を増
大させることがないので、低いしきい値で発光できると
いう歪み量子井戸層を有する活性層の特性をそのまま生
かすことができるので、しきい値を低くできる。
【００２８】以上の説明では、化合物半導体基板１０の
表面を（ｎ１１）面に設定した場合について説明した
が、表面を（ｎｎ１）面に設定した場合においても同様
に説明できる。
表面を（ｎ１１）面に設定した場合について説明した
が、表面を（ｎｎ１）面に設定した場合においても同様
に説明できる。
【００２９】以上のように、実施形態１の面発光型の半
導体レーザ装置は、化合物半導体基板１０の表面の面方
位と当該表面の原子層の元素を、活性層１４の歪み量子
井戸層において順バイアス電圧を打ち消す方向に内部電
界が生じるように、設定しているので、発光効率を高く
でき、かつ発光する光の波長を短くすることができ、し
かもしきい値を低くできる。
導体レーザ装置は、化合物半導体基板１０の表面の面方
位と当該表面の原子層の元素を、活性層１４の歪み量子
井戸層において順バイアス電圧を打ち消す方向に内部電
界が生じるように、設定しているので、発光効率を高く
でき、かつ発光する光の波長を短くすることができ、し
かもしきい値を低くできる。
【００３０】＜実施形態２＞ 以上の実施形態１では、化合物半導体基板の表面に、２
つの分布反射層によって挟設された活性層を形成して、
面発光型の半導体レーザ装置を構成した。しかしなが
ら、本発明はこれに限らず、化合物半導体基板の表面に
２つのグレーデッド層によって挟設された活性層を形成
して、ファブリペロー型の半導体レーザ装置を構成する
ようにしてもよい。すなわち、この実施形態２におい
て、表面が（ｎ１１）Ａ面又は（ｎｎ１）Ａ面に設定さ
れたｎ型化合物半導体基板を用いて半導体レーザ装置を
構成する場合は、当該ｎ型化合物半導体基板の当該表面
に、ｎ型のクラッド層、グレーデッド層、活性層、グレ
ーデッド層及びｐ型のクラッド層を上述の順に積層して
構成する。また、表面が（ｎ１１）Ｂ面又は（ｎｎ１）
Ｂ面に設定されたｐ型化合物半導体基板を用いて半導体
レーザ装置を構成する場合は、当該ｐ型化合物半導体基
板の当該表面に、ｐ型のクラッド層、グレーデッド層、
活性層、グレーデッド層及びｎ型のクラッド層を上述の
順に積層して構成する。
つの分布反射層によって挟設された活性層を形成して、
面発光型の半導体レーザ装置を構成した。しかしなが
ら、本発明はこれに限らず、化合物半導体基板の表面に
２つのグレーデッド層によって挟設された活性層を形成
して、ファブリペロー型の半導体レーザ装置を構成する
ようにしてもよい。すなわち、この実施形態２におい
て、表面が（ｎ１１）Ａ面又は（ｎｎ１）Ａ面に設定さ
れたｎ型化合物半導体基板を用いて半導体レーザ装置を
構成する場合は、当該ｎ型化合物半導体基板の当該表面
に、ｎ型のクラッド層、グレーデッド層、活性層、グレ
ーデッド層及びｐ型のクラッド層を上述の順に積層して
構成する。また、表面が（ｎ１１）Ｂ面又は（ｎｎ１）
Ｂ面に設定されたｐ型化合物半導体基板を用いて半導体
レーザ装置を構成する場合は、当該ｐ型化合物半導体基
板の当該表面に、ｐ型のクラッド層、グレーデッド層、
活性層、グレーデッド層及びｎ型のクラッド層を上述の
順に積層して構成する。
【００３１】以上のように構成することにより、実施形
態１の面発光型の半導体レーザと同様に、活性層の歪み
量子井戸層に、印加される順バイアス電圧を打ち消すよ
うに内部電界を発生させることができるので、実施形態
１と同様の効果を有し、かつ端面から光を放出できるフ
ァブリペロー型の半導体レーザ装置を構成できる。
態１の面発光型の半導体レーザと同様に、活性層の歪み
量子井戸層に、印加される順バイアス電圧を打ち消すよ
うに内部電界を発生させることができるので、実施形態
１と同様の効果を有し、かつ端面から光を放出できるフ
ァブリペロー型の半導体レーザ装置を構成できる。
【００３２】
【実施例】次に、本発明に係る実施例について説明す
る。以下に示す実施例はいずれも、従来困難であるとさ
れた、ｎ型ＧａＡｓ化合物半導体基板のＡ面上に、所定
の条件で結晶成長させることにより各層を形成して構成
したものである。
る。以下に示す実施例はいずれも、従来困難であるとさ
れた、ｎ型ＧａＡｓ化合物半導体基板のＡ面上に、所定
の条件で結晶成長させることにより各層を形成して構成
したものである。
【００３３】＜実施例１＞ 本実施例１の面発光型半導体レーザは、実施形態１の第
１の組合せに基づいて、ｎ型ＧａＡｓ基板１０ａを用い
て構成される。すなわち、図５に示すように、ｎ型Ｇａ
Ａｓ基板１０ａの（３１１）Ａ面２０ａ上に、分子線エ
ピタキシャル成長（Molecular Beam Epitaxy；MBE)法を
用いて、ｎ型ＧａＡｓバッファ層２３ａを０．３μｍ、
λ／４ｎrに相当する厚みの分布反射層であるｎ型Ａｌ
Ａｓ／ＧａＡｓ層１２ａを２２．５周期、スペーサ層で
あるＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａs層１３ａ、二重量子井戸超格子
構造のＩｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活性層１４ａ（Ｉ
ｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ量子井戸層の厚み８ｎｍ、ＧａＡｓバ
リア層の厚み８ｎｍ）スペーサ層であるＡｌ0.5Ｇａ0.5
Ａｓ１５ａ、分布反射層であるλ／４ｎ厚みのｐ型Ａｌ
Ａｓ／ＧａＡｓ１６ａを２５周期、およびｐ型ＧａＡｓ
キャップ層２４ａを、この順に成長させて積層した。こ
こで、キャビティを形成するＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３
ａ，１５ａとＩｎ0.2ＧａＡｓ／ＧａＡｓ活性層１４ａ
とを合わせた厚さは、ちょうど発光レーザの一波長にな
るように設定し、またＧａＡｓキャップ層２４ａは、こ
の後に形成される金からなるｐ型オーミック電極１８ａ
と位相整合するよう０．１６λ／ｎrの厚みになるよう
設定した。成長温度は、結晶性を向上する目的で、ｎ型
ＧａＡｓバッファ層２３ａ、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層
１２ａ，ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａ、およびｐ型
ＧａＡｓキャップ層２４ａは、比較的高温の６２０℃の
成長温度で行い、Ｉｎ0.2ＧａＡｓ／ＧａＡｓ活性層１
４ａは、Ｉｎ原子の再蒸発を防ぐために、５２０℃の成
長温度で行い、この中間のＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３
ａ，１５ａは、成長を中断すること無く、成長温度を連
続的に傾斜させながら結晶成長させた。ドーピングは、
ｎ型ＧａＡｓバッファ層２３ａ、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡ
ｓ層１２ａに２×１０18ｃｍ-3のＳｉ不純物を、ｐ型Ａ
ｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａに２×１０18ｃｍ-3のＢｅ不
純物を、およびｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａに１×１
０19ｃｍ-3のＢｅ不純物を一様にドープした。また、ｐ
型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ１６ａの抵抗を低減するために、
図示はしていないが、ＡｌＡｓ層とＧａＡｓ層との間
に、６層からなる１８ｎｍのＡｌＡｓ／ＧａＡｓ超格子
層を挿入した。
１の組合せに基づいて、ｎ型ＧａＡｓ基板１０ａを用い
て構成される。すなわち、図５に示すように、ｎ型Ｇａ
Ａｓ基板１０ａの（３１１）Ａ面２０ａ上に、分子線エ
ピタキシャル成長（Molecular Beam Epitaxy；MBE)法を
用いて、ｎ型ＧａＡｓバッファ層２３ａを０．３μｍ、
λ／４ｎrに相当する厚みの分布反射層であるｎ型Ａｌ
Ａｓ／ＧａＡｓ層１２ａを２２．５周期、スペーサ層で
あるＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａs層１３ａ、二重量子井戸超格子
構造のＩｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活性層１４ａ（Ｉ
ｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ量子井戸層の厚み８ｎｍ、ＧａＡｓバ
リア層の厚み８ｎｍ）スペーサ層であるＡｌ0.5Ｇａ0.5
Ａｓ１５ａ、分布反射層であるλ／４ｎ厚みのｐ型Ａｌ
Ａｓ／ＧａＡｓ１６ａを２５周期、およびｐ型ＧａＡｓ
キャップ層２４ａを、この順に成長させて積層した。こ
こで、キャビティを形成するＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３
ａ，１５ａとＩｎ0.2ＧａＡｓ／ＧａＡｓ活性層１４ａ
とを合わせた厚さは、ちょうど発光レーザの一波長にな
るように設定し、またＧａＡｓキャップ層２４ａは、こ
の後に形成される金からなるｐ型オーミック電極１８ａ
と位相整合するよう０．１６λ／ｎrの厚みになるよう
設定した。成長温度は、結晶性を向上する目的で、ｎ型
ＧａＡｓバッファ層２３ａ、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層
１２ａ，ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａ、およびｐ型
ＧａＡｓキャップ層２４ａは、比較的高温の６２０℃の
成長温度で行い、Ｉｎ0.2ＧａＡｓ／ＧａＡｓ活性層１
４ａは、Ｉｎ原子の再蒸発を防ぐために、５２０℃の成
長温度で行い、この中間のＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３
ａ，１５ａは、成長を中断すること無く、成長温度を連
続的に傾斜させながら結晶成長させた。ドーピングは、
ｎ型ＧａＡｓバッファ層２３ａ、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡ
ｓ層１２ａに２×１０18ｃｍ-3のＳｉ不純物を、ｐ型Ａ
ｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａに２×１０18ｃｍ-3のＢｅ不
純物を、およびｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａに１×１
０19ｃｍ-3のＢｅ不純物を一様にドープした。また、ｐ
型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ１６ａの抵抗を低減するために、
図示はしていないが、ＡｌＡｓ層とＧａＡｓ層との間
に、６層からなる１８ｎｍのＡｌＡｓ／ＧａＡｓ超格子
層を挿入した。
【００３４】そして、結晶成長後、ｐ型ＧａＡｓキャッ
プ層２４ａ、ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａ、Ａｌ
0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１５ａ、Ｉｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡ
ｓ活性層１４ａ及びＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３ａとが所
定の形状に残るように、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１２
ａの上層の一部分まで、通常のフォトリソグラフィ技術
とケミカルエッチングして、ｐ型ＧａＡｓキャップ層２
４ａ、ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａ、Ａｌ0.5Ｇａ
0.5Ａｓ層１５ａ、Ｉｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活性
層１４ａ及びＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３ａからなる立ち
上がり部（以下、ポストという。）を形成する。次に、
ポスト形成後直ちに、ｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａの
表面とエッチング面とに、ＳｉＯ2絶縁膜１７ａを形成
し、さらに、ｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａの表面に形
成されたＳｉＯ2絶縁膜１７ａの略中央部に、電流を注
入するための注入窓２１をエッチングにより開け、ｐ型
のオーミック電極１８ａとしてＴｉ／Ｐｔ／Ａｕを蒸着
により形成した。その後、ｎ型ＧａＡｓ基板１０ａの板
厚が１００μｍ程度の厚みになるように当該基板１０ａ
の下面側を研磨し、研磨した当該基板１０ａの下面にｎ
型オーミック電極１１ａをＡｕＧｅＮｉ／Ａｕを蒸着す
ることにより形成し、リフトオフ法を用いて、レーザ光
を取り出すための１００μｍ×１００μｍサイズの光放
出窓２２を形成した。
プ層２４ａ、ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａ、Ａｌ
0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１５ａ、Ｉｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡ
ｓ活性層１４ａ及びＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３ａとが所
定の形状に残るように、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１２
ａの上層の一部分まで、通常のフォトリソグラフィ技術
とケミカルエッチングして、ｐ型ＧａＡｓキャップ層２
４ａ、ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１６ａ、Ａｌ0.5Ｇａ
0.5Ａｓ層１５ａ、Ｉｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活性
層１４ａ及びＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１３ａからなる立ち
上がり部（以下、ポストという。）を形成する。次に、
ポスト形成後直ちに、ｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａの
表面とエッチング面とに、ＳｉＯ2絶縁膜１７ａを形成
し、さらに、ｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａの表面に形
成されたＳｉＯ2絶縁膜１７ａの略中央部に、電流を注
入するための注入窓２１をエッチングにより開け、ｐ型
のオーミック電極１８ａとしてＴｉ／Ｐｔ／Ａｕを蒸着
により形成した。その後、ｎ型ＧａＡｓ基板１０ａの板
厚が１００μｍ程度の厚みになるように当該基板１０ａ
の下面側を研磨し、研磨した当該基板１０ａの下面にｎ
型オーミック電極１１ａをＡｕＧｅＮｉ／Ａｕを蒸着す
ることにより形成し、リフトオフ法を用いて、レーザ光
を取り出すための１００μｍ×１００μｍサイズの光放
出窓２２を形成した。
【００３５】図６に、試作した実施例１の面発光型半導
体レーザの電流−光出力特性を示す。ここで、ポストサ
イズは４０×４０μｍにした。図６から明らかなよう
に、しきい値電流は３ｍＡであり、しきい値電流密度に
換算して１８０Ａ／ｃｍ2の非常に小さい値が得られ
た。別の試作例では、更に低い最小１６０Ａ／ｃｍ2の
発振しきい値電流密度が得られている。図７には、２方
向の偏波方向の電流−光出力特性を示している。図７か
ら、実施例１の面発光型半導体レーザが非常に優れた偏
波特性を有することがわかる。また、図８に結晶面内で
の偏光特性を示す。図８からも、実施例１の面発光型半
導体レーザが非常に優れた偏波特性を有することがわか
る。従来の（１００）面上面発光型半導体レーザで問題
となっていた偏光のスイッチング現象は観測されず、し
きい値の２．７倍まで、安定した偏波特性が得られた。
これらの結果は、実施例１の面発光型半導体レーザが、
高い光学利得と光学的異方性を有することを示してお
り、これはピエゾ効果による内部電界を順バイアス電圧
で打ち消すように構成することによって、初めて実現す
ることができた。また、この実施例１の面発光型半導体
レーザは、直交する２方向の偏波面での選択性の大きい
優れた偏波特性を有するので、コヒーレント通信やコヒ
ーレント計測又は超低雑音が要求される用途にも用いる
ことができる。
体レーザの電流−光出力特性を示す。ここで、ポストサ
イズは４０×４０μｍにした。図６から明らかなよう
に、しきい値電流は３ｍＡであり、しきい値電流密度に
換算して１８０Ａ／ｃｍ2の非常に小さい値が得られ
た。別の試作例では、更に低い最小１６０Ａ／ｃｍ2の
発振しきい値電流密度が得られている。図７には、２方
向の偏波方向の電流−光出力特性を示している。図７か
ら、実施例１の面発光型半導体レーザが非常に優れた偏
波特性を有することがわかる。また、図８に結晶面内で
の偏光特性を示す。図８からも、実施例１の面発光型半
導体レーザが非常に優れた偏波特性を有することがわか
る。従来の（１００）面上面発光型半導体レーザで問題
となっていた偏光のスイッチング現象は観測されず、し
きい値の２．７倍まで、安定した偏波特性が得られた。
これらの結果は、実施例１の面発光型半導体レーザが、
高い光学利得と光学的異方性を有することを示してお
り、これはピエゾ効果による内部電界を順バイアス電圧
で打ち消すように構成することによって、初めて実現す
ることができた。また、この実施例１の面発光型半導体
レーザは、直交する２方向の偏波面での選択性の大きい
優れた偏波特性を有するので、コヒーレント通信やコヒ
ーレント計測又は超低雑音が要求される用途にも用いる
ことができる。
【００３６】＜実施例２＞ 図９に示す実施例２の面発光型半導体レーザは、実施形
態１の第２の組合せに基づいて、ｐ型ＧａＡｓ基板１０
ｂを用いて構成される。ここで、図９において図５と同
様のものには同様の符号を付して示している。すなわ
ち、図９の実施例２の面発光型半導体レーザは、ｎ型Ｇ
ａＡｓ基板１０ａに代えて表面が（３１１）Ｂ面になる
ように形成されたｐ型ＧａＡｓ基板１０ｂを用いた他、
ｎ型ＧａＡｓバッファ層２３ａに代えてｐ型ＧａＡｓバ
ッファ層２３ｂを形成し、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１
２ａに代えてｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１２ｂを２２．
５周期形成し、ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ１６ａに代えて
ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ１６ｂを２５周期形成し、さら
にｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａに代えてｎ型ＧａＡｓ
キャップ層２４ｂを形成している。
態１の第２の組合せに基づいて、ｐ型ＧａＡｓ基板１０
ｂを用いて構成される。ここで、図９において図５と同
様のものには同様の符号を付して示している。すなわ
ち、図９の実施例２の面発光型半導体レーザは、ｎ型Ｇ
ａＡｓ基板１０ａに代えて表面が（３１１）Ｂ面になる
ように形成されたｐ型ＧａＡｓ基板１０ｂを用いた他、
ｎ型ＧａＡｓバッファ層２３ａに代えてｐ型ＧａＡｓバ
ッファ層２３ｂを形成し、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１
２ａに代えてｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層１２ｂを２２．
５周期形成し、ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ１６ａに代えて
ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ１６ｂを２５周期形成し、さら
にｐ型ＧａＡｓキャップ層２４ａに代えてｎ型ＧａＡｓ
キャップ層２４ｂを形成している。
【００３７】そして、結晶成長後、実施例１と同様に、
ｎ型ＧａＡｓキャップ層２４ｂ、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡ
ｓ層１６ｂ、Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１５ａ、Ｉｎ0.2Ｇ
ａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活性層１４ａ及びＡｌ0.5Ｇａ0.5
Ａｓ層１３ａからなるポストを形成する。次に、ポスト
形成後直ちに、ｎ型ＧａＡｓキャップ層２４ｂの表面と
エッチング面とに、ｎ型ＧａＡｓキャップ層２４ｂの中
央部に注入窓２１を有するＳｉＯ2絶縁膜１７ａを形成
し、ｎ型のオーミック電極１８ｂを形成し、ｐ型ＧａＡ
ｓ基板１０ｂの板厚が１００μｍ程度の厚みになるよう
に研磨し、研磨した当該基板１０ｂの下面にｐ型オーミ
ック電極１１ｂを形成した。以上のように構成された実
施例２の面発光型半導体レーザは、実施例１と同様の効
果を有する。
ｎ型ＧａＡｓキャップ層２４ｂ、ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡ
ｓ層１６ｂ、Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層１５ａ、Ｉｎ0.2Ｇ
ａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活性層１４ａ及びＡｌ0.5Ｇａ0.5
Ａｓ層１３ａからなるポストを形成する。次に、ポスト
形成後直ちに、ｎ型ＧａＡｓキャップ層２４ｂの表面と
エッチング面とに、ｎ型ＧａＡｓキャップ層２４ｂの中
央部に注入窓２１を有するＳｉＯ2絶縁膜１７ａを形成
し、ｎ型のオーミック電極１８ｂを形成し、ｐ型ＧａＡ
ｓ基板１０ｂの板厚が１００μｍ程度の厚みになるよう
に研磨し、研磨した当該基板１０ｂの下面にｐ型オーミ
ック電極１１ｂを形成した。以上のように構成された実
施例２の面発光型半導体レーザは、実施例１と同様の効
果を有する。
【００３８】＜実施例３＞ 図１０は、ｎ型ＧａＡｓ基板１０ａの（３１１）Ａ面上
に、ＧａＡｓバッファ層３１、ｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａ
ｓクラッド層３２、ＡｌＧａＡｓグレーディド層３３、
活性層３４、ＡｌＧａＡｓグレーディド層３５、ｐ型Ａ
ｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層３６、ｐ型ＧａＡｓキャ
ップ層３７を積層して、作製した実施例３の端面発光型
（ファブリペロー型）半導体レーザの断面構造を模式的
に示す図である。ここで、活性層３４は、実施例１，２
と同様のＩｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ２重量子井戸構
造の超格子からなる。また、図１０の右側に示す図は、
左の図に対応させて、各層におけるＧａＡｓのＧａ原子
がＡｌ又はＩｎ原子に置換された割合を示している。実
施例３の端面発光型半導体レーザは、図１０の断面構造
を有する半導体にさらに２０μｍ幅のオキサイドストラ
イプ電極が形成されて構成される。図１１は、実施例２
の端面発光型半導体レーザの電流−光出力特性を示して
いる。図１１から明らかなように、順方向の電流を約２
８０ｍＡ以上に設定することにより、１００ｍＷ以上の
高出力・高効率動作をすることがわかる。また、図１２
に、同一ウエハから切り出して作成した、各種の共振器
長を有する実施例３の端面発光型半導体レーザについ
て、その共振器長Ｌとしきい値電流密度Ｊｔｈの関係を
示した。図１２からわかるように、１．２ｍｍの共振器
長Ｌの素子で、最低しきい値電流密度Ｊｔｈとして３５
０Ａ／ｃｍ2の値が得られた。また、半導体レーザの性
能を示す指標のひとつである、共振器長Ｌを無限大にし
たときの理想的な状態でのしきい値電流密度Ｊ0は７
２．６Ａ／ｃｍ2の値が得られた。以上により、実施例
１，２と同様、実施例３の端面発光型半導体レーザにお
いても、低しきい値・高効率動作をさせることができる
ことがわかる。
に、ＧａＡｓバッファ層３１、ｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａ
ｓクラッド層３２、ＡｌＧａＡｓグレーディド層３３、
活性層３４、ＡｌＧａＡｓグレーディド層３５、ｐ型Ａ
ｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層３６、ｐ型ＧａＡｓキャ
ップ層３７を積層して、作製した実施例３の端面発光型
（ファブリペロー型）半導体レーザの断面構造を模式的
に示す図である。ここで、活性層３４は、実施例１，２
と同様のＩｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ２重量子井戸構
造の超格子からなる。また、図１０の右側に示す図は、
左の図に対応させて、各層におけるＧａＡｓのＧａ原子
がＡｌ又はＩｎ原子に置換された割合を示している。実
施例３の端面発光型半導体レーザは、図１０の断面構造
を有する半導体にさらに２０μｍ幅のオキサイドストラ
イプ電極が形成されて構成される。図１１は、実施例２
の端面発光型半導体レーザの電流−光出力特性を示して
いる。図１１から明らかなように、順方向の電流を約２
８０ｍＡ以上に設定することにより、１００ｍＷ以上の
高出力・高効率動作をすることがわかる。また、図１２
に、同一ウエハから切り出して作成した、各種の共振器
長を有する実施例３の端面発光型半導体レーザについ
て、その共振器長Ｌとしきい値電流密度Ｊｔｈの関係を
示した。図１２からわかるように、１．２ｍｍの共振器
長Ｌの素子で、最低しきい値電流密度Ｊｔｈとして３５
０Ａ／ｃｍ2の値が得られた。また、半導体レーザの性
能を示す指標のひとつである、共振器長Ｌを無限大にし
たときの理想的な状態でのしきい値電流密度Ｊ0は７
２．６Ａ／ｃｍ2の値が得られた。以上により、実施例
１，２と同様、実施例３の端面発光型半導体レーザにお
いても、低しきい値・高効率動作をさせることができる
ことがわかる。
【００３９】＜実施例４＞ 図１３は、表面が（３１１）Ｂ面になるように形成され
たｐ型ＧａＡｓ基板１０ｂを用いて構成された実施例４
の端面発光型半導体レーザであって、図１０の端面発光
型半導体レーザにおいて、ｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓク
ラッド層３２に代えてｐ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッ
ド層３２ｂを形成し、ｐ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッ
ド層３６に代えてｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層
３６ｂを形成し、ｐ型ＧａＡｓキャップ層３７に代えて
ｎ型ＧａＡｓキャップ層３７ｂを形成して構成される。
以上のように構成しても、実施例３と同様の効果を有す
る端面発光型半導体レーザを構成できる。
たｐ型ＧａＡｓ基板１０ｂを用いて構成された実施例４
の端面発光型半導体レーザであって、図１０の端面発光
型半導体レーザにおいて、ｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓク
ラッド層３２に代えてｐ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッ
ド層３２ｂを形成し、ｐ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッ
ド層３６に代えてｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層
３６ｂを形成し、ｐ型ＧａＡｓキャップ層３７に代えて
ｎ型ＧａＡｓキャップ層３７ｂを形成して構成される。
以上のように構成しても、実施例３と同様の効果を有す
る端面発光型半導体レーザを構成できる。
【００４０】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
係る半導体レーザ装置は、上記化合物半導体基板上に、
歪み量子井戸層を有する活性層と第１の分布反射層と第
２の反射分布層とを備え、順バイアス電圧を打ち消す方
向に内部電界が生じるように、上記化合物半導体基板の
表面の面方位と当該表面の原子層とを設定しているの
で、低いしきい値電流で動作させることができ、かつ発
光効率がよく、しかも短い波長の光を発生できる。従っ
て、本発明によれば、偏波選択性に優れかつ発光効率よ
く光を発生できる面発光型の半導体レーザ装置を提供で
きる。
係る半導体レーザ装置は、上記化合物半導体基板上に、
歪み量子井戸層を有する活性層と第１の分布反射層と第
２の反射分布層とを備え、順バイアス電圧を打ち消す方
向に内部電界が生じるように、上記化合物半導体基板の
表面の面方位と当該表面の原子層とを設定しているの
で、低いしきい値電流で動作させることができ、かつ発
光効率がよく、しかも短い波長の光を発生できる。従っ
て、本発明によれば、偏波選択性に優れかつ発光効率よ
く光を発生できる面発光型の半導体レーザ装置を提供で
きる。
【図１】 本発明に係る実施形態１の半導体レーザ装置
の構成を示す模式図である。
の構成を示す模式図である。
【図２】 ｎ型化合物半導体基板の（ｎ１１）Ｂ面上に
歪み量子井戸層を含む活性層を形成した場合の活性層に
おけるエネルギーバンドを模式的に示す図であって、
（ａ）は零バイアス時の図であり、（ｂ）は順方向バイ
アス印加時の図である。
歪み量子井戸層を含む活性層を形成した場合の活性層に
おけるエネルギーバンドを模式的に示す図であって、
（ａ）は零バイアス時の図であり、（ｂ）は順方向バイ
アス印加時の図である。
【図３】 実施形態１の第１の組合せに示す、ｎ型化合
物半導体基板の（ｎ１１）Ａ面上に歪み量子井戸層を含
む活性層を形成した場合の活性層におけるエネルギーバ
ンドを模式的に示す図であって、（ａ）は零バイアス時
の図であり、（ｂ）は順方向バイアス印加時の図であ
る。
物半導体基板の（ｎ１１）Ａ面上に歪み量子井戸層を含
む活性層を形成した場合の活性層におけるエネルギーバ
ンドを模式的に示す図であって、（ａ）は零バイアス時
の図であり、（ｂ）は順方向バイアス印加時の図であ
る。
【図４】 実施形態１の第２の組合せに示す、ｐ型化合
物半導体基板の（ｎ１１）Ｂ面上に歪み量子井戸層を含
む活性層を形成した場合の活性層におけるエネルギーバ
ンドを模式的に示す図であって、（ａ）は零バイアス時
の図であり、（ｂ）は順方向バイアス印加時の図であ
る。
物半導体基板の（ｎ１１）Ｂ面上に歪み量子井戸層を含
む活性層を形成した場合の活性層におけるエネルギーバ
ンドを模式的に示す図であって、（ａ）は零バイアス時
の図であり、（ｂ）は順方向バイアス印加時の図であ
る。
【図５】 本発明に係る実施例１の面発光型半導体レー
ザの構成を示す模式図である。
ザの構成を示す模式図である。
【図６】 実施例１の面発光型半導体レーザの電流−光
出力特性を示すグラフである。
出力特性を示すグラフである。
【図７】 実施例１の面発光型半導体レーザの直交する
２方向の偏波依存特性を示すグラフである。
２方向の偏波依存特性を示すグラフである。
【図８】 実施例１の面発光型半導体レーザの結晶面内
での偏向特性を示すグラフである。
での偏向特性を示すグラフである。
【図９】 本発明に係る実施例２の面発光型半導体レー
ザの構成を示す模式図である。
ザの構成を示す模式図である。
【図１０】 本発明に係る実施例３の端面発光型半導体
レーザの模式図である。
レーザの模式図である。
【図１１】 実施例３の端面発光型半導体レーザの電流
−光出力特性を示すグラフである。
−光出力特性を示すグラフである。
【図１２】 実施例３の端面発光型半導体レーザの、共
振器長に対するしきい値電流密度Ｊｔｈを示すグラフで
ある。
振器長に対するしきい値電流密度Ｊｔｈを示すグラフで
ある。
【図１３】 本発明に係る実施例４の端面発光型半導体
レーザの模式図である。
レーザの模式図である。
１０…化合物半導体基板、１０ａ…ｎ型ＧａＡｓ基板、
１０ｂ…ｐ型ＧａＡｓ基板、１１，１８…オーミック電
極、１１ａ…ｎ型オーミック電極、１８ａ…ｐ型オーミ
ック電極、１１ｂ…ｐ型オーミック電極、１８ｂ…ｎ型
オーミック電極、１２，１６…分布反射層、１２ａ…ｎ
型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層、１２ｂ…ｐ型ＡｌＡｓ／Ｇａ
Ａｓ層、１６ａ…ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層、１６ｂ…
ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層、１３，１５…スペーサー
層、１３ａ，１５ａ…Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層、１４…活
性層、１４ａ，３４…Ｉｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活
性層、１７…絶縁層、１７ａ…ＳｉＯ2層、２０…化合
物半導体基板１０の表面、２０ａ…ｎ型ＧａＡｓ基板１
０ａの（３１１）Ａ面、２０ｂ…ｐ型ＧａＡｓ基板１０
ｂの（３１１）Ｂ面２１…電流注入窓、２２…光放出
窓。２３ａ…ｎ型ＧａＡｓバッファ層、２３ｂ…ｐ型Ｇ
ａＡｓバッファ層、２４ａ…ｐ型ＧａＡｓキャップ層、
２４ｂ…ｎ型ＧａＡｓキャップ層、３１…ＧａＡｓバッ
ファ層、３２…ｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層、
３２ｂ…ｐ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層、３３，
３５…ＡｌＧａＡｓグレーデッド層、３６…ｐ型Ａｌ
0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層、３６ｂ…ｎ型Ａｌ0.35Ｇ
ａ0.65Ａｓクラッド層、３７…ｐ型ＧａＡｓキャップ
層、３７ｂ…ｎ型ＧａＡｓキャップ層。
１０ｂ…ｐ型ＧａＡｓ基板、１１，１８…オーミック電
極、１１ａ…ｎ型オーミック電極、１８ａ…ｐ型オーミ
ック電極、１１ｂ…ｐ型オーミック電極、１８ｂ…ｎ型
オーミック電極、１２，１６…分布反射層、１２ａ…ｎ
型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層、１２ｂ…ｐ型ＡｌＡｓ／Ｇａ
Ａｓ層、１６ａ…ｐ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層、１６ｂ…
ｎ型ＡｌＡｓ／ＧａＡｓ層、１３，１５…スペーサー
層、１３ａ，１５ａ…Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層、１４…活
性層、１４ａ，３４…Ｉｎ0.2Ｇａ0.8Ａｓ／ＧａＡｓ活
性層、１７…絶縁層、１７ａ…ＳｉＯ2層、２０…化合
物半導体基板１０の表面、２０ａ…ｎ型ＧａＡｓ基板１
０ａの（３１１）Ａ面、２０ｂ…ｐ型ＧａＡｓ基板１０
ｂの（３１１）Ｂ面２１…電流注入窓、２２…光放出
窓。２３ａ…ｎ型ＧａＡｓバッファ層、２３ｂ…ｐ型Ｇ
ａＡｓバッファ層、２４ａ…ｐ型ＧａＡｓキャップ層、
２４ｂ…ｎ型ＧａＡｓキャップ層、３１…ＧａＡｓバッ
ファ層、３２…ｎ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層、
３２ｂ…ｐ型Ａｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層、３３，
３５…ＡｌＧａＡｓグレーデッド層、３６…ｐ型Ａｌ
0.35Ｇａ0.65Ａｓクラッド層、３６ｂ…ｎ型Ａｌ0.35Ｇ
ａ0.65Ａｓクラッド層、３７…ｐ型ＧａＡｓキャップ
層、３７ｂ…ｎ型ＧａＡｓキャップ層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤田 和久 京都府相楽郡精華町大字乾谷小字三平谷 ５番地 株式会社エイ・ティ・アール光 電波通信研究所内 (72)発明者 渡辺 敏英 京都府相楽郡精華町大字乾谷小字三平谷 ５番地 株式会社エイ・ティ・アール光 電波通信研究所内 (56)参考文献 特開 平５−63301（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−263787（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−32168（ＪＰ，Ａ) 1994年電子情報通信学会秋季大会講演 論文集 Ｐｔ．４ ｐ．311 Ｃ−310 Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．60 ［26］（1992）ｐ．3217−3219 Ｅｌｅｃｔｏｒｏｎ．Ｌｅｔｔ．31 ［10］（1995）ｐ．805−806 1995年秋季応用物理学会講演予講集 Ｐｔ．３ ｐ．1105 30ｐ−ＺＧ−16 Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．65 ［10］（1994）ｐ．1886−1887 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01S 3/18 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (8)
- 【請求項１】 ｎ型のＡＢ化合物半導体基板（但し、Ａ
が第３族の元素；Ｂが第５族の元素、又はＡが第２族の
元素；Ｂが第６族の元素）と、 上記ＡＢ化合物半導体基板上に形成されたｎ型の第１の
分布反射層と、 上記第１の分布反射層上に、ＧａＡｓ障壁層とＩｎＧａ
Ａｓ量子井戸層とが交互に積層されてなる活性層と、 上記活性層上に形成されたｐ型の第２の分布反射層とを
備えた半導体レーザ装置であって、 上記ＡＢ化合物半導体基板の表面の面方位が（ｎ１１）
面又は（ｎｎ１）面（但しｎ≧１）に設定され、かつ当
該表面が実質的にＡ元素からなる原子層に設定されたこ
とを特徴とする半導体レーザ装置。 - 【請求項２】 上記化合物半導体基板がＧａＡｓからな
り、上記活性層がＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子である
請求項１記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項３】 上記ｎ型の第１の分布反射層は、Ａｌx
Ｇａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが
交互に積層されてなりかつ、上記ｐ型の第２の分布反射
層は、ＡｌxＧａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａ
Ａｓ層とが交互に積層されてなる請求項２記載の半導体
レーザ装置。 - 【請求項４】 上記ＡＢ化合物半導体基板は、表面が実
質的にＧａからなる原子層の（３１１）面になるように
形成されたｎ型ＧａＡｓ半導体基板である請求項１〜３
のうちのいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項５】 ｐ型のＡＢ化合物半導体基板（但し、Ａ
が第３族の元素；Ｂが第５族の元素、又はＡが第２族の
元素；Ｂが第６族の元素）と、 上記ＡＢ化合物半導体基板上に形成されたｎ型の第１の
分布反射層と、 上記第１の分布反射層上に、ＧａＡｓ障壁層とＩｎＧａ
Ａｓ量子井戸層とが交互に積層されてなる活性層と、 上記活性層上に形成されたｐ型の第２の分布反射層とを
備え、順バイアス電圧を印加することにより光を発生す
る半導体レーザ装置であって、 上記ＡＢ化合物半導体基板の表面の面方位が（ｎ１１）
面又は（ｎｎ１）面（但しｎ≧１）に設定され、かつ当
該表面が実質的にＢ元素からなる原子層に設定されたこ
とを特徴とする半導体レーザ装置。 - 【請求項６】 上記化合物半導体基板がＧａＡｓからな
り、上記活性層がＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子である
請求項５記載の半導体レーザ装置。 - 【請求項７】 上記ｎ型の第１の分布反射層は、Ａｌx
Ｇａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａＡｓ層とが
交互に積層されてなりかつ、上記ｐ型の第２の分布反射
層は、ＡｌxＧａ1-xＡｓ（但し、０＜ｘ≦１）層とＧａ
Ａｓ層とが交互に積層されてなる請求項６記載の半導体
レーザ装置。 - 【請求項８】 上記ＡＢ化合物半導体基板は、表面が実
質的にＡｓからなる原子層の（３１１）面になるように
形成されたｐ型ＧａＡｓ半導体基板である請求項５〜７
のうちのいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8159620A JP2901921B2 (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 半導体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8159620A JP2901921B2 (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 半導体レーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1012960A JPH1012960A (ja) | 1998-01-16 |
| JP2901921B2 true JP2901921B2 (ja) | 1999-06-07 |
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| １９９４年電子情報通信学会秋季大会講演論文集 Ｐｔ．４ ｐ．３１１ Ｃ−３１０ |
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| Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６０［２６］（１９９２）ｐ．３２１７−３２１９ |
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| Ｅｌｅｃｔｏｒｏｎ．Ｌｅｔｔ．３１［１０］（１９９５）ｐ．８０５−８０６ |
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