JP2901488B2 - 連続電解処理方法 - Google Patents

連続電解処理方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鋼板等のEGL(電気
亜鉛めっきライン)、ETL(電気錫めっきライン)、
TFL(ティンフリーライン)等の各ラインにおける電
気めっき処理装置等の水平型連続電解処理装置における
被処理金属ストリップエッジ部への電流集中を防止する
連続電解処理方法に係わり、特にめっき装置の場合エッ
ジオーバーコーティングを防止する連続電解処理方法
関するものである。
【0002】
【従来の技術】鋼板を連続的に電気めっきする場合を例
に説明するが、金属ストリップ(以下鋼板)端部に極部
電流が集中し、該端部はオーバーコートがまぬがれな
い。かかるオーバーコートを防止する為に、特開昭52-1
30435 号公報に開示されているように、鋼板とアノード
との間に鋼板エッジ近傍を間隙を持って包むようにエッ
ジマスクと称する絶縁体を挿入し、鋼板エッジに電流が
集中するのを防ぐ方法がとられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のエッジオーバー
コートを防止するエッジマスクは、図2、図3に示すよ
うにその断面がコの字乃至はくの字状が一般的であり、
鋼板端部をこれらのエッジマスク開口部両先端より内側
に所定距離押し込むことによりエッジオーバーコートを
防止してきた。これらのエッジマスクの特徴は、鋼板端
部をエッジマスクの内側に押し込んだ状態で使用するた
め、鋼板の形状不良や幅方向の反りおよび板の振動等を
考慮して、マスク開口部両先端間距離(図4における寸
法a)を大きくし、それに伴いマスク材厚みbならびに
エッジマスク1とアノード3の隙間cを小さくしてい
る。なお、dは上下電極間距離で通常、d=a+ 2b+
2cの関係にある。
【0004】一方、近年アノード3と鋼板2との距離は
電力原単位削減のため短縮される傾向にあり(現状では
9〜15mmが主流)、マスク材厚みbを小さくするには強
度および加工上の問題から限界があり、エッジマスク1
とアノード3の隙間cを小さくするには操業上の問題か
ら限界があるため、マスク開口部両先端間距離aを小さ
くせざる得ない状況になっている。従って、エッジマス
クの内側に鋼板を押し込んだ状態で使用するので、鋼板
の形状不良や幅方向の反りおよび板の振動等があると更
に鋼板がエッジマスクに接触する可能性が高くなってい
る。
【0005】また、平坦な鋼板を通板する場合でも、マ
スク開口部両先端間距離aが大きく、マスク材厚みbが
小さい形状のエッジマスクの場合には電流の廻り込みが
大きく、エッジオーバーコートを防止するためには鋼板
の押し込み距離を大きくする必要がある。鋼板の押し込
み距離を大きくするとエッジ部のオーバーコートは防げ
るが、エッジから少し内側に入った部分がアンダーコー
トとなり、板幅方向の付着量分布が、例えば図9に示す
ように不均一になる。
【0006】本発明の目的は、鋼板エッジ部への電流集
中を軽減し、めっきの場合には鋼板エッジ部へのオーバ
ーコートを防止し、かつ鋼板の形状不良や幅方向の反り
および板の振動等があっても鋼板がエッジマスクに接触
する可能性を極力少なくすることのできる連続電解処理
方法を提案することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、水平型連続電
解処理装置における被処理金属ストリップエッジ部への
電流集中を防止するエッジマスクを用いた連続電解処理
方法において、その断面形状をコの字、くの字あるいは
その中間的形状とし、該マスク開口部両先端間距離aを
上下電極間距離dの1/3以下とし、かつ開口部のマス
ク材厚みbを上下電極間距離dの1/10以上としたエ
ッジマスクを用い、エッジマスクの開口部端を鋼板エッ
ジ部より外側となるように設置し電解処理を行うことを
特徴とする連続電解処理方法である。
【0008】なお、本発明においては本発明に係るエッ
ジマスクの断面形状をコの字やくの字状と表現している
が、その中間の形状のもの、例えば円弧状のものも含ま
れる。
【0009】
【作用】本発明では、エッジマスクの開口部両先端間距
離aを上下電極間距離dの1/3以下としたので、図5
(a)に示すように鋼板端部での電流密度が、従来の図
5(b)に示す鋼板端部での電流密度に比べて平滑化さ
れ、鋼板エッジ部へのオーバーコートが防止されると考
えられる。従って、本発明においては、エッジマスクの
開口部両先端間距離aをさらに小さくすることが望まし
く上下電極間距離dの1/10以下にすることもできる
が、下限は少なくとも処理鋼板の板厚の3倍以上が望ま
しい。これは板幅の変動と板の振動があっても鋼板端部
がエッジに接触しないためである。
【0010】また本発明者は、エッジマスクの開口部両
先端間距離aを上下電極間距離dの1/3以下とし、か
つ図6(a)、(b)に示すように開口部のマスク材厚
みbを変化させたとき、図7に示すようにエッジマスク
の開口部端を鋼板エッジ部より外側の距離になるように
設置しても、すなわち図1に示すeの距離をはなしても
エッジオーバーコートが防止できることを見出した。
【0011】例えば、エッジマスクの開口部両先端間距
離aを上下電極間距離dの1/3としたとき、マスク材
厚みbに依存してエッジマスク先端を鋼板エッジ端部か
ら離せる限界値eは、図7に示すように変化する。この
場合、マスク材厚みbが上下電極間距離dの1/10の
とき、エッジマスク先端を鋼板エッジ部から離せる限界
値eは、上下電極間距離dの1/6となる。またマスク
材厚みbが上下電極間距離dの1/4のとき、エッジマ
スク先端を鋼板エッジ部から離せる限界値eは、上下電
極間距離dの1/3となる。本発明においては、上記し
た図7に示す結果からマスク材厚みbは上下電極間距離
dの1/10以上が望ましい。
【0012】その結果、鋼板2とエッジマスク1の接触
回数が減り、エッジ部の疵による製品の不良率が低減
し、エッジマスク1の寿命も長くなった。また、付着量
分布の均一性は、図8に示すように従来のエッジマスク
使用時(図9参照)に比べて遙かに向上した。その結
果、目標付着量を小さく抑えることができ、めっき金属
の原単位の向上も可能となった。
【0013】また、本発明におけるエッジマスク1の幅
(図1に示すf)はとくに限定されないが強度上、また
取扱上から上下電極間距離dの1/2以上が望ましい。
【0014】
【実施例】実施例として図1(b)、従来例として図2
に示す電気亜鉛めっき装置のエッジマスクを用いて1m
幅鋼板に目標目付量を50g/m2 として、亜鉛めっき
したときの諸元および成績を表1および図8(実施
例)、図9(従来例)に示す。ここでエッジオーバーコ
ート割合とは、(鋼板エッジ部の亜鉛付着量/鋼板中央
部の亜鉛付着量)× 100(%)である。
【0015】
【表1】
【0016】本発明では、金属ストリップ端部のめっき
付着量の平滑化、またエッジ部の接触による疵に伴う製
品の不良率を有効に減少させることができる。
【0017】
【発明の効果】このように本発明では、エッジマスク端
部と鋼板端部の外側の位置に設置しても鋼板端部のオー
バーコートを防止できる他に、端部より数mm鋼板の中央
部方向のめっき付着量を平滑化することができた。その
ため、めっき目標付着量を小さく抑えることができ、ま
たトリミング量の減少がはかれたため、めっき金属の原
単位の向上を達成できた。また、エッジ部の接触による
疵に伴う製品の不良率が減少するとともにエッジマスク
の寿命の向上にも顕著なものがあった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる水平型連続電解処理装置のエッ
ジマスク部近傍の断面図である。
【図2】従来の水平型連続電解処理装置のエッジマスク
部近傍の断面図である。
【図3】従来の水平型連続電解処理装置のエッジマスク
部近傍の断面図である。
【図4】水平型連続電解処理装置のエッジマスク部各部
の寸法の定義を表す説明図である。
【図5】水平型連続電解処理装置のエッジマスク部近傍
の電流の流れを表す説明図である。
【図6】本発明に係わる水平型連続電解処理装置のエッ
ジマスク部近傍の断面図であり、マスク材厚みの変化を
示す断面図である。
【図7】マスク材厚みbとエッジマスク先端を鋼板エッ
ジ部から離せる限界値eとの関係を示すグラフである。
【図8】本発明を実施した場合の鋼板エッジからの距離
とエッジオーバーコート割合との関係を示すグラフであ
る。
【図9】従来の場合の鋼板エッジからの距離とエッジオ
ーバーコート割合との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
1 エッジマスク 2 鋼板 3 電極 a マスク開口部両先端距離(寸法) b マスク材厚み c エッジマスクとアノードの距離(寸法) d 上下電極間距離(寸法)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水平型連続電解処理装置における被処理
    金属ストリップエッジ部への電流集中を防止するエッジ
    マスクを用いた連続電解処理方法において、その断面形
    状をコの字、くの字あるいはその中間的形状とし、該マ
    スク開口部両先端間距離(a)を上下電極間距離(d)
    の1/3以下とし、かつ開口部のマスク材厚み(b)を
    上下電極間距離(d)の1/10以上としたエッジマス
    クを用い、エッジマスクの開口部端を鋼板エッジ部より
    外側となるように設置し電解処理を行うことを特徴とす
    る連続電解処理方法
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JP3822136B2 (ja) * 2002-05-15 2006-09-13 日鉱金属株式会社 銅箔の連続表面処理方法及び同装置
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