JP2895816B2 - ICP emission spectrometer - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば水道水に
含まれる鉛や排水に含まれる各種元素など、微量元素の
分析に使用され、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasm
a：誘導結合プラズマ）を元素分析の発光源として用い
るＩＣＰ発光分光分析装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used for the analysis of trace elements such as lead contained in tap water and various elements contained in wastewater, and is used for ICP (Inductively Coupled Plasm).
a: Inductively coupled plasma) as an emission source for elemental analysis.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来のＩＣＰ発光分光分析装置は、図３
に示すように、高周波誘導コイル１１を備えたプラズマ
トーチ１、集光レンズ２、１つの分光器３、１つの検知
器４により構成している。また、分光器３は、その内部
に、入射スリット３１、コリメータ鏡３２、回折格子
（分散子）３３、カメラ鏡３４、出射スリット３５を設
けている。2. Description of the Related Art A conventional ICP emission spectrometer is shown in FIG.
As shown in (1), it is composed of a plasma torch 1 provided with a high-frequency induction coil 11, a condenser lens 2, one spectroscope 3, and one detector 4. Further, the spectroscope 3 is provided therein with an entrance slit 31, a collimator mirror 32, a diffraction grating (dispersor) 33, a camera mirror 34, and an exit slit 35.

【０００３】そして、測定対象元素を分析するときに
は、プラズマトーチ１に、アルゴンガスのようなプラズ
マ生成用ガスとともに、この高温気体中に測定対象元素
を含む溶液試料Ｑを霧状として供給する。これと同時
に、高周波誘導コイル１１に通電して強い磁場を発生さ
せて加熱し、アルゴンガス中に測定対象元素が含まれた
誘導結合プラズマＰを作る。プラズマＰで発光する光線
は、集光レンズ２で集光され、分光器３の入射スリット
３１から内部に入射し、コリメータ鏡３２で反射されて
回折格子３３に入る。この回折格子３３は、回転角度を
選択することによりコリメータ鏡３２からの光の波長を
選択して回折し、この回折光をカメラ鏡３４から出射ス
リット３５を経て分光器３の外部に出射し、この出射光
線を検知器４が検出する。[0003] When analyzing the element to be measured, a solution sample Q containing the element to be measured in the high-temperature gas is supplied to the plasma torch 1 together with a plasma generating gas such as an argon gas. At the same time, the high-frequency induction coil 11 is energized to generate a strong magnetic field and heat it to produce an inductively coupled plasma P in which the element to be measured is contained in argon gas. Light emitted by the plasma P is condensed by the condenser lens 2, enters the inside of the spectroscope 3 from the entrance slit 31, is reflected by the collimator mirror 32, and enters the diffraction grating 33. The diffraction grating 33 selects the wavelength of the light from the collimator mirror 32 by selecting the rotation angle, and diffracts the light. The diffracted light is emitted from the camera mirror 34 to the outside of the spectroscope 3 through the emission slit 35, The emitted light is detected by the detector 4.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】以上のＩＣＰ発光分光
分析装置は、感度（検出限界）が高くてｐｐｂ単位での
元素分析が行え、しかも安定した測定が行えるという特
長を有しているが、この特長はさらに高めることが要望
されている。ところが、以上のように、プラズマＰから
の光線を１つの分光器３に入射し、その出射光線を１つ
の検知器４だけで検出する場合、プラズマＰの局部的な
揺らぎ（フリッカーノイズ源）による影響を受け易くな
るので、安定性を向上させるには限界がある。The above-mentioned ICP emission spectrometer has the features that it has high sensitivity (detection limit), can perform elemental analysis in ppb units, and can perform stable measurement. It is desired that this feature be further enhanced. However, as described above, when the light beam from the plasma P is incident on one spectroscope 3 and the outgoing light beam is detected by only one detector 4, local fluctuation of the plasma P (flicker noise source) occurs. There is a limit to improving stability because it is more susceptible.

【０００５】また、感度を向上させるためには、プラズ
マＰから分光器３への光線の取り込み量を多くすればよ
い。しかし、下記のような理由から、光線の取り込み量
を多くすることは困難で、プラズマＰの発光利用率が小
となって、感度をさらに向上させることはできない。In order to improve the sensitivity, the amount of light rays taken from the plasma P into the spectroscope 3 may be increased. However, for the following reasons, it is difficult to increase the amount of light rays taken in, and the light emission utilization rate of the plasma P becomes small, so that the sensitivity cannot be further improved.

【０００６】つまり、以上の分光器３において、回折格
子３３の格子間隔をｄ（ｍｍ）、コリメータ鏡３２の焦
点距離をｆ（ｍｍ）、ｍ次の回折光の波長がλ（ｍｍ）
のときの回折格子３３における回折角をβとすると、線
分散（出射スリット面上での分散距離／波長）Ｄは、次
式のようになる。 Ｄ＝（ｆ・ｍ）／（ｄ・ｃｏｓβ） ここで、一般的な分光器３においては、ｆ＝５００ｍ
ｍ、ｍ＝１、ｄ＝１／４０００、β＝６０°としている
ので、Ｄ＝4,000,000 （＝ｔとする）となる。That is, in the above-mentioned spectroscope 3, the grating interval of the diffraction grating 33 is d (mm), the focal length of the collimator mirror 32 is f (mm), and the wavelength of the m-th order diffracted light is λ (mm).
Assuming that the diffraction angle of the diffraction grating 33 at the time is β, the linear dispersion (dispersion distance on the exit slit surface / wavelength) D is as follows. D = (f · m) / (d · cos β) Here, in the general spectroscope 3, f = 500 m
Since m, m = 1, d = 1/4000, and β = 60 °, D = 4,000,000 (= t).

【０００７】また、分析時には、近接線（ノイズ成分）
による影響を排除して分解能を高めるため、分光器３で
の波長分解（分解能の逆数に相当する）をできるだけ小
さくすることが望ましい。現状では、紫外領域（２００
ｎｍ近傍）において０．０１ｎｍ（＝ｕとする）の波長
分解が達成されている。At the time of analysis, the proximity line (noise component)
In order to increase the resolution by eliminating the influence of the wavelength, it is desirable to minimize the wavelength resolution (corresponding to the reciprocal of the resolution) in the spectroscope 3 as much as possible. At present, the ultraviolet region (200
(near nm), a wavelength resolution of 0.01 nm (= u) is achieved.

【０００８】以上の０．０１ｎｍの分解能を得るための
各スリット３１，３５の開口大きさは、ｔ×ｕで求めら
れ、０．０４ｍｍとなる。The size of the opening of each of the slits 31 and 35 for obtaining the above-mentioned resolution of 0.01 nm is obtained by t × u and is 0.04 mm.

【０００９】一方、プラズマトーチ１で生成されたプラ
ズマＰは、集光レンズ２で集光されて入射スリット３１
にプラズマ像を結像するが、この像の拡大率は１程度に
過ぎない。通常プラズマＰの有効径（発光分光に利用で
きる部分の径）は約１５ｍｍで、その円周距離は約５０
ｍｍであるのに対し、入射スリット３１の開口大きさが
０．０４ｍｍと非常に小さいため、この入射スリット３
１から分光器３内に取り込まれ、分析に利用されるプラ
ズマＰの幅は約０．２ｍｍ程度と非常に小さく、発光利
用率は０．１％にも満たない。このように、プラズマＰ
の発光利用率が小さいため、感度を向上させるには限界
がある。On the other hand, the plasma P generated by the plasma torch 1 is condensed by the condenser lens 2 and is incident on the entrance slit 31.
A plasma image is formed at a time, but the magnification of this image is only about 1. Normally, the effective diameter of plasma P (the diameter of a portion usable for emission spectroscopy) is about 15 mm, and the circumferential distance thereof is about 50 mm.
mm, the opening size of the entrance slit 31 is very small, 0.04 mm.
The width of the plasma P taken into the spectroscope 3 from 1 and used for analysis is very small, about 0.2 mm, and the luminous utilization is less than 0.1%. Thus, the plasma P
Because of the low light emission utilization rate, there is a limit to improving the sensitivity.

【００１０】本発明は、以上のことを考慮してなされた
もので、プラズマの発光利用率を高めて感度を一層向上
させ、また、より安定した分析を行うことができるＩＣ
Ｐ発光分光分析装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above, and has been made in view of the above. An IC capable of improving the sensitivity by further increasing the efficiency of plasma emission and performing more stable analysis.
An object of the present invention is to provide a P emission spectrometer.

【００１１】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のＩＣＰ発光分光分析装置は、測定対象元素
を含むプラズマを生成するプラズマトーチと、プラズマ
からの光線を分光して、選択した波長の光線を単一の出
射スリットから出射する複数の分光器と、分光器を駆動
して選択する波長を変化させる駆動手段と、各分光器に
対応して配置され、出射スリットから出射された光線を
検知する複数の検知器と、複数の分光器が同時に同一の
波長を選択するように駆動手段を制御する制御手段と、
複数の検知器の出力を加算または減算する演算手段とを
備え、複数の分光器は、プラズマの相異なる部位からの
光線を分光するように設定している。In order to achieve the above object, an ICP emission spectrometer according to the present invention has a plasma torch for generating a plasma containing an element to be measured and a light beam from the plasma for spectroscopy. A plurality of spectroscopes that emit light beams of a wavelength from a single exit slit, driving means for driving the spectroscope to change the wavelength to be selected, and arranged corresponding to each of the spectroscopes and emitted from the exit slit A plurality of detectors for detecting light beams, and a control unit for controlling the driving unit so that the plurality of spectroscopes simultaneously select the same wavelength,
A calculating means for adding or subtracting the outputs of the plurality of detectors, wherein the plurality of spectroscopes are set to split light beams from different portions of the plasma.

【００１２】上記構成において、分析時には、プラズマ
トーチで測定対象元素を含むプラズマが生成され、この
プラズマの相異なる外周部位からの光線が複数の分光器
に入射する。このとき、各分光器は、任意の波長を選択
できるように駆動手段で駆動される。また、駆動手段
は、各分光器が同時に同一波長を選択するように制御手
段で制御する。そして、各分光器で選択した同一波長の
光線が出射スリットから外部に出射され、各分光器に設
けた検知器が検出する。これら検知器からの出力信号
は、演算手段で加算または減算処理され、その結果が外
部信号として出力される。In the above configuration, at the time of analysis, plasma containing the element to be measured is generated by the plasma torch, and light beams from different peripheral portions of the plasma enter the plurality of spectroscopes. At this time, each spectroscope is driven by the driving means so that an arbitrary wavelength can be selected. The driving means controls the control means so that each spectroscope simultaneously selects the same wavelength. Then, light beams having the same wavelength selected by each spectroscope are emitted to the outside from the emission slit, and are detected by detectors provided in each spectroscope. Output signals from these detectors are subjected to addition or subtraction processing by arithmetic means, and the results are output as external signals.

【００１３】以上のように、プラズマの外周囲で相異な
る複数部位からの光線を測定することにより、たとえプ
ラズマに局部的な揺らぎなどがあっても、各部位での光
線の測定値が平均化されるので、分析時の安定性が向上
する。しかも、装置全体としての光線の取り込み量が増
大し、プラズマの発光利用率が高められるので、Ｓ／Ｎ
（信号／ノイズ）比が改善されて感度が向上する。ま
た、各検知器からの出力信号を演算手段により演算する
際に、加算処理すると、測定対象元素の信号が加算さ
れ、その信号ピークが高くなるのに対し、ノイズには位
相差があって、これらのノイズ成分は加算しても信号ピ
ークがさほど高くならないので、Ｓ／Ｎ比が改善され、
高い感度で測定対象元素が分析される。一方、減算処理
すると、測定対象元素の信号ピークは小さくなるのに対
し、ノイズには位相差があって、これらのノイズ成分は
減算してもある程度残ることから、ノイズレベルの粗い
見積りができる。したがって、例えばＳ／Ｎ比を概算で
評価し、その値が一定値以上の場合のみに測定値を有効
と判断するなど、測定値の評価を行うことができる。ま
た、この場合、ノイズ成分の解析が容易に行えるので、
分析時のバックグランド状態のチェックも可能となる。As described above, by measuring the light beams from a plurality of different portions around the plasma, even if the plasma has local fluctuations, the measured values of the light beams at each portion are averaged. Therefore, the stability at the time of analysis is improved. In addition, the amount of light taken in by the entire apparatus increases, and the light emission utilization rate of plasma is increased.
The (signal / noise) ratio is improved and the sensitivity is improved. In addition, when the output signal from each detector is calculated by the calculating means, when the addition processing is performed, the signal of the element to be measured is added, and the signal peak increases, whereas the noise has a phase difference, Even if these noise components are added, the signal peak does not become so high, so that the S / N ratio is improved,
The element to be measured is analyzed with high sensitivity. On the other hand, when the subtraction process is performed, the signal peak of the element to be measured becomes smaller, but the noise has a phase difference, and these noise components remain to some extent even after the subtraction, so that the noise level can be roughly estimated. Therefore, it is possible to evaluate the measured value, for example, by roughly evaluating the S / N ratio and determining that the measured value is valid only when the value is equal to or more than a certain value. In this case, the noise component can be easily analyzed.
It is also possible to check the background state at the time of analysis.

【００１４】本発明の好ましい実施形態では、各分光器
に光線を入射させるプラズマの相異なる部位を、上下に
延びるプラズマの同一高さに設定している。この構成に
よれば、プラズマのほぼ均一温度となる同一高さからの
光線が、各分光器に入射されるので、各分光器への入射
光線の発光強度を揃えて正確な分析が行える。In a preferred embodiment of the present invention, different portions of the plasma, into which light beams enter each spectroscope, are set at the same height of the vertically extending plasma. According to this configuration, since light beams from the same height at which the plasma has a substantially uniform temperature are incident on each spectroscope, accurate analysis can be performed with uniform light emission intensity of the incident light beams on each spectrometer.

【００１５】また、本発明の好ましい実施形態では、複
数の分光器で選択する同一波長を、互いの波長誤差が
０．２ｎｍ以下となるように設定している。この範囲内
の波長誤差であれば、同一元素と見なすことができるの
で、各分光器に若干の駆動誤差があっても良好な分析が
行える。Further, in a preferred embodiment of the present invention, the same wavelength selected by a plurality of spectroscopes is set so that the wavelength error between them becomes 0.2 nm or less. If the wavelength error is within this range, it can be regarded as the same element, so that good analysis can be performed even if each spectrometer has a slight driving error.

【００１６】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図１において、ＩＣＰ発光分光分
析装置は、プラズマトーチ１の外周囲に、集光レンズ
２、分光器３および検知器４からなる測定システムの複
数組を、トーチ１に対して径方向に同一距離を置き、か
つ、例えば図２に示すように、周方向に１８０°離間さ
せて配置している。このとき、図１の各組の集光レンズ
２と分光器３は、その光軸がプラズマＰの上下方向中間
高さ位置で同一円周線上に位置するように配置する。な
お、プラズマトーチ１の周りに設ける各機器は、従来の
ものと同じであるため、同一機器は同一符号を用いて示
し、その詳細な説明は省略する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, an ICP emission spectrometer includes a plurality of sets of a measurement system including a condenser lens 2, a spectroscope 3, and a detector 4 provided around an outer periphery of a plasma torch 1 at the same distance from the torch 1 in a radial direction. And, for example, as shown in FIG. 2, they are arranged 180 ° apart in the circumferential direction. At this time, the condenser lens 2 and the spectroscope 3 of each set in FIG. 1 are arranged such that their optical axes are located on the same circumferential line at the intermediate height position of the plasma P in the vertical direction. Since the devices provided around the plasma torch 1 are the same as the conventional devices, the same devices are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【００１７】また、各分光器３の回折格子３３には、こ
れを回動させてコリメータ鏡３２から反射する光線の異
なる波長を選択可能とするモータのような駆動手段５を
設ける。各駆動手段５は制御手段６に接続され、この制
御手段６は、各分光器３が同時に同一波長を選択するよ
うに、各駆動手段５に指示信号を出力する。The diffraction grating 33 of each spectroscope 3 is provided with a driving means 5 such as a motor for rotating the diffraction grating 33 so as to select different wavelengths of the light beam reflected from the collimator mirror 32. Each driving means 5 is connected to a control means 6, and this control means 6 outputs an instruction signal to each driving means 5 so that each spectroscope 3 simultaneously selects the same wavelength.

【００１８】さらに、各検知器４は、それぞれ増幅器７
を介して演算手段８に接続され、この演算手段８の出力
は分析器９に入力されて、元素濃度などが算出される。Further, each detector 4 has an amplifier 7
The output of the arithmetic means 8 is input to an analyzer 9 to calculate the element concentration and the like.

【００１９】次に、以上の構成としたＩＣＰ発光分光分
析装置の動作について説明する。プラズマトーチ１に、
アルゴンガスのようなプラズマ生成用ガスとともに、水
道水、工場排水のような液体試料Ｑを供給し、高周波誘
導コイルに通電して上下方向に延びるプラズマＰを生成
する。このプラズマＰからの光線は、その外周囲に配列
した各組の集光レンズ２で集光され、分光器３で測定対
象の元素に対応した発光線が分光されたのち、検知器４
に入射する。Next, the operation of the ICP emission spectrometer configured as described above will be described. In plasma torch 1,
A liquid sample Q such as tap water or factory drain is supplied together with a plasma generation gas such as an argon gas, and a high-frequency induction coil is energized to generate a plasma P extending in a vertical direction. The light beam from the plasma P is condensed by each set of condensing lenses 2 arranged around the periphery thereof, and the spectroscope 3 separates the emission line corresponding to the element to be measured, and then splits the light into a detector 4
Incident on.

【００２０】このとき、各分光器３内の回折格子３３
は、それぞれの駆動手段５で回動されて、コリメータ鏡
３２から反射する光の波長を選択して回折する。また、
各駆動手段５は制御手段６により制御されて、各回折格
子３３に同時に同一波長を選択させる。ここで、各回折
格子３３が選択する波長の誤差が０．２ｎｍ以下のもの
は、同一波長と見なす。これにより、各回折格子３３を
駆動制御する場合に、若干の駆動誤差が許容される。各
回折格子３３で選択された同一波長の光線は、各分光器
３の出射スリット３１を通って外部に出射され、これを
各検知器４が検知する。At this time, the diffraction grating 33 in each spectroscope 3
Are rotated by the respective driving means 5 to select and diffract the wavelength of light reflected from the collimator mirror 32. Also,
Each drive unit 5 is controlled by the control unit 6 to cause each diffraction grating 33 to simultaneously select the same wavelength. Here, those having an error of the wavelength selected by each diffraction grating 33 of 0.2 nm or less are regarded as the same wavelength. This allows a slight drive error when controlling the drive of each diffraction grating 33. Light beams of the same wavelength selected by each diffraction grating 33 are emitted to the outside through the emission slits 31 of each spectroscope 3, and each detector 4 detects this.

【００２１】これら検知器４からの信号は、それぞれ増
幅器７で増幅して演算手段８に入力され、この演算手段
８が加算または減算処理し、その処理後の信号を分析器
９で処理して、元素の濃度、ノイズ成分のレベルなどを
算出し、その算出結果を出力する。上記演算手段８にお
いて、加算処理を行う場合には、前述したように、測定
対象元素が良好な感度で分析される。一方、減算処理す
る場合、ノイズレベルの粗い評価を行って、発光線の測
定値の有効性を判断できる。また、分析時のバックグラ
ンド状態のチェックも行える。The signals from the detectors 4 are respectively amplified by an amplifier 7 and input to an arithmetic means 8. The arithmetic means 8 performs addition or subtraction processing, and the processed signal is processed by an analyzer 9. , The concentration of the element, the level of the noise component, etc., and output the calculation result. In the case of performing the addition processing in the arithmetic means 8, as described above, the element to be measured is analyzed with good sensitivity. On the other hand, when the subtraction process is performed, the validity of the measured value of the light emitting line can be determined by performing a rough evaluation of the noise level. Also, the background state at the time of analysis can be checked.

【００２２】以上のように、プラズマＰの外周囲で相異
なる複数部位からの光線を各分光器３に取り込んで分析
することにより、全体としての光線の取り込み量が増大
し、プラズマＰの発光利用率が高められるので、Ｓ／Ｎ
比が改善されて、感度が向上する。しかも、フリッカー
ノイズなどによる影響も受け難くなって、分析時の安定
性が向上する。また、複数の分光器３の各光軸をプラズ
マＰの上下方向中間高さ位置で同一円周線上に配置する
ことにより、プラズマＰのほぼ同一温度の部位から各分
光器３に入射されるので、各分光器３への発光強度を揃
えて正確な分析が行える。As described above, by taking light beams from a plurality of different portions around the periphery of the plasma P into the respective spectroscopes 3 and analyzing them, the amount of light beams taken in as a whole increases, and the light emission of the plasma P is utilized. Rate is increased, so S / N
The ratio is improved and the sensitivity is improved. In addition, it is hardly affected by flicker noise and the like, and the stability at the time of analysis is improved. In addition, since the optical axes of the plurality of spectroscopes 3 are arranged on the same circumferential line at an intermediate height position of the plasma P in the vertical direction, the light is incident on each spectrometer 3 from a portion of the plasma P having substantially the same temperature. In addition, accurate analysis can be performed by adjusting the emission intensity to each spectrometer 3.

【００２３】なお、集光レンズ２、分光器および検出器
４からなる測定システムは、３つ以上設けてもよい。そ
の場合、すべての検出器４からの出力を加算し、必要に
応じて２つの検出器からの出力を減算する。It should be noted that three or more measurement systems including the condenser lens 2, the spectroscope, and the detector 4 may be provided. In that case, the outputs from all the detectors 4 are added, and if necessary, the outputs from the two detectors are subtracted.

【００２４】[0024]

【発明の効果】以上のように、本発明のＩＣＰ発光分光
分析装置によれば、プラズマの発光利用率を高めて感度
を向上でき、また、プラズマの局部的な揺らぎなどによ
る影響を受け難くなって、安定した分析を行うことがで
きる。As described above, according to the ICP emission spectroscopy analyzer of the present invention, the sensitivity can be improved by increasing the efficiency of plasma light emission, and it is hardly affected by local fluctuations of the plasma. Thus, stable analysis can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明にかかるＩＣＰ発光分光分析装置の側面
図である。FIG. 1 is a side view of an ICP emission spectrometer according to the present invention.

【図２】同装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the same device.

【図３】従来のＩＣＰ発光分光分析装置を示す側面図で
ある。FIG. 3 is a side view showing a conventional ICP emission spectrometer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１…プラズマトーチ、３…分光器、３５…出射スリッ
ト、４…検出器、５…駆動手段、６…制御手段、Ｐ…プ
ラズマ。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plasma torch, 3 ... Spectroscope, 35 ... Emission slit, 4 ... Detector, 5 ... Drive means, 6 ... Control means, P ... Plasma.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−237346（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−201141（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−63841（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−66839（ＪＰ，Ａ) 実開 昭57−66755（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−73250（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭56−82544（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−140438（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭57−104344（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−134052（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G01N 21/73 Continuation of the front page (56) References JP-A-60-237346 (JP, A) JP-A-2-201141 (JP, A) JP-A-62-63841 (JP, A) JP-A-58-66839 (JP, A) , A) Actually open sho 57-66755 (JP, U) Really open sho 62-73250 (JP, U) Actually open sho 56-82544 (JP, U) Really open sho 62-140438 (JP, U) Real open 57-104344 (JP, U) Japanese Utility Model 62-134052 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. ⁶ , DB name) G01N 21/73

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 測定対象元素を含むプラズマを生成する
プラズマトーチと、 前記プラズマからの光線を分光して、選択した波長の光
線を単一の出射スリットから出射する複数の分光器と、 前記分光器を駆動して選択する波長を変化させる駆動手
段と、 各分光器に対応して配置され、前記出射スリットから出
射された光線を検知する複数の検知器と、前記複数の分
光器が同時に同一の波長を選択するように前記駆動手段
を制御する制御手段と、 前記複数の検知器の出力を加算または減算する演算手段
とを備え、 前記複数の分光器は、前記プラズマの相異なる部位から
の光線を分光するように設定されているＩＣＰ発光分光
分析装置。A plasma torch for generating a plasma containing an element to be measured; a plurality of spectroscopes for dispersing light from the plasma to emit light of a selected wavelength from a single exit slit; A driving means for driving a device to change a wavelength to be selected; a plurality of detectors arranged corresponding to each spectrometer for detecting light beams emitted from the exit slit; and the plurality of spectrometers being simultaneously the same. Control means for controlling the driving means so as to select a wavelength, and arithmetic means for adding or subtracting the outputs of the plurality of detectors, wherein the plurality of spectroscopes are different from each other in the plasma. An ICP emission spectrometer set to split light. 【請求項２】 請求項１において、前記プラズマの相異
なる部位は、上下に延びるプラズマの同一高さにあるＩ
ＣＰ発光分光分析装置。2. The plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the different portions of the plasma are located at the same height of a vertically extending plasma.
CP emission spectrometer. 【請求項３】 請求項１または２において、前記複数の
分光器における同一波長は、互いの波長誤差が０．２ｎ
ｍ以下であるＩＣＰ発光分光分析装置。3. The plurality of spectroscopes according to claim 1, wherein the same wavelength in the plurality of spectroscopes has a wavelength error of 0.2 n.
m or less.