JP2892339B1 - 電磁波遮蔽用スクリーン - Google Patents
電磁波遮蔽用スクリーンInfo
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Abstract
【要約】
【課題】 電磁波遮蔽用スクリーンの開口率を増
大し、光透過性を向上して明るい映像が得られるように
し、しかも電磁波遮蔽機能および可視光反射率を従来と
同じ程度に維持する。 【解決手段】 合成繊維のモノフィラメントを経糸お
よび緯糸に用いた薄地織物にスパッタリング加工を施す
ことにより、上記の経糸および緯糸を、導電性および軟
質磁性を備えた合金のスパッタ蒸着膜と、導電性カーボ
ンからなるスパッタ蒸着膜とで二重に被覆する。
大し、光透過性を向上して明るい映像が得られるように
し、しかも電磁波遮蔽機能および可視光反射率を従来と
同じ程度に維持する。 【解決手段】 合成繊維のモノフィラメントを経糸お
よび緯糸に用いた薄地織物にスパッタリング加工を施す
ことにより、上記の経糸および緯糸を、導電性および軟
質磁性を備えた合金のスパッタ蒸着膜と、導電性カーボ
ンからなるスパッタ蒸着膜とで二重に被覆する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光透過性の電磁
波遮蔽用スクリーンに関するものである。
波遮蔽用スクリーンに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル等に使用さ
れる光透過性の電磁波遮蔽用スクリーンとして、ポリエ
ステルフィラメントを経糸および緯糸として製織された
メッシュ状または紗状の薄地織物を無電解メッキ法でメ
ッキすることにより、薄地織物を構成する経緯のモノフ
ィラメントに銅製の導電性被膜およびニッケル製の透磁
性被膜を順に積層し、しかるのち上記ニッケルの透磁性
被膜上にディッピング法で導電性カーボンからなる導電
性黒色被膜を形成して映像を見易くしたものが知られて
いる。また、軟鉄またはステンレス鋼のような金属製の
フィラメントを経糸および緯糸とするネット状織物のフ
ィラメントに上記の導電性カーボンからなる導電性黒色
被膜を直接形成したものも知られている。
れる光透過性の電磁波遮蔽用スクリーンとして、ポリエ
ステルフィラメントを経糸および緯糸として製織された
メッシュ状または紗状の薄地織物を無電解メッキ法でメ
ッキすることにより、薄地織物を構成する経緯のモノフ
ィラメントに銅製の導電性被膜およびニッケル製の透磁
性被膜を順に積層し、しかるのち上記ニッケルの透磁性
被膜上にディッピング法で導電性カーボンからなる導電
性黒色被膜を形成して映像を見易くしたものが知られて
いる。また、軟鉄またはステンレス鋼のような金属製の
フィラメントを経糸および緯糸とするネット状織物のフ
ィラメントに上記の導電性カーボンからなる導電性黒色
被膜を直接形成したものも知られている。
【０００３】しかしながら、従来は、銅製の導電性被膜
およびニッケル製の透磁性被膜をそれぞれ無電解メッキ
法でメッキし、導電性カーボンの導電性黒色被膜をディ
ッピング法で形成していたので、被膜の厚さがポリエス
テルフィラメントを用いたものでは３層の合計で１．５
〜７μｍ程度に、また金属製のフィラメントを用いたも
のでは１層のみで０．５〜１μｍ程度と厚くなり、その
ためスクリーンの開口率が低下し、スクリーンを透過す
る光量が減少して画像が暗くなるという問題があった。
およびニッケル製の透磁性被膜をそれぞれ無電解メッキ
法でメッキし、導電性カーボンの導電性黒色被膜をディ
ッピング法で形成していたので、被膜の厚さがポリエス
テルフィラメントを用いたものでは３層の合計で１．５
〜７μｍ程度に、また金属製のフィラメントを用いたも
のでは１層のみで０．５〜１μｍ程度と厚くなり、その
ためスクリーンの開口率が低下し、スクリーンを透過す
る光量が減少して画像が暗くなるという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、被膜の形
成をスパッタリング加工で行うことにより、被膜の厚さ
を薄くして電磁波遮蔽用スクリーンの開口率を増大し、
もってこのスクリーンの光透過性を向上して映像を明る
くし、しかも電磁波シールド性能および可視光反射率を
従来程度に維持するものである。
成をスパッタリング加工で行うことにより、被膜の厚さ
を薄くして電磁波遮蔽用スクリーンの開口率を増大し、
もってこのスクリーンの光透過性を向上して映像を明る
くし、しかも電磁波シールド性能および可視光反射率を
従来程度に維持するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明に係る第１の電
磁波遮蔽用スクリーンは、請求項１に記載のごとく、経
糸および緯糸が導電性および透磁性を備えた細いモノフ
ィラメントからなる多孔状の薄地織物であり、上記のフ
ィラメントにおける薄地織物の少なくとも片側部分が導
電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜で被覆された電磁
波遮蔽用スクリーンにおいて、上記のモノフィラメント
が軟鉄またはステンレス鋼からなる線径１５〜５００μ
ｍの金属線であり、導電性カーボンからなるスパッタ蒸
着膜表面の可視光反射率が１０％以下であることを特徴
とする。
磁波遮蔽用スクリーンは、請求項１に記載のごとく、経
糸および緯糸が導電性および透磁性を備えた細いモノフ
ィラメントからなる多孔状の薄地織物であり、上記のフ
ィラメントにおける薄地織物の少なくとも片側部分が導
電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜で被覆された電磁
波遮蔽用スクリーンにおいて、上記のモノフィラメント
が軟鉄またはステンレス鋼からなる線径１５〜５００μ
ｍの金属線であり、導電性カーボンからなるスパッタ蒸
着膜表面の可視光反射率が１０％以下であることを特徴
とする。
【０００６】また、この発明に係る第２の電磁波遮蔽用
スクリーンは、請求項２に記載のごとく、経糸および緯
糸が導電性および透磁性を備えた細いモノフィラメント
からなる多孔状の薄地織物であり、上記のフィラメント
における薄地織物の少なくとも片側部分が導電性カーボ
ンからなるスパッタ蒸着膜で被覆された電磁波遮蔽用ス
クリーンにおいて、上記のモノフィラメントが線径１５
〜５００μｍのポリエステルモノフィラメントからなる
芯線を銅・ニッケル合金またはステンレス鋼からなるス
パッタ蒸着膜で被覆したものであり、導電性カーボンか
らなるスパッタ蒸着膜表面の可視光反射率が１０％以下
であることを特徴とする。
スクリーンは、請求項２に記載のごとく、経糸および緯
糸が導電性および透磁性を備えた細いモノフィラメント
からなる多孔状の薄地織物であり、上記のフィラメント
における薄地織物の少なくとも片側部分が導電性カーボ
ンからなるスパッタ蒸着膜で被覆された電磁波遮蔽用ス
クリーンにおいて、上記のモノフィラメントが線径１５
〜５００μｍのポリエステルモノフィラメントからなる
芯線を銅・ニッケル合金またはステンレス鋼からなるス
パッタ蒸着膜で被覆したものであり、導電性カーボンか
らなるスパッタ蒸着膜表面の可視光反射率が１０％以下
であることを特徴とする。
【０００７】上記の金属線としては、軟鉄線やステンレ
ス鋼線が例示されるが、これらの金属線は製織し難い反
面、導電性および透磁性を付与するための被膜を設ける
必要がなく、それだけスクリーンの開口率を大きくする
ことができる。ただし、線径１５μｍ未満では、細過ぎ
て強度が低下し、製織に際して扱い困難になり、反対に
５００μｍを超えると剛性の増大により製織困難にな
り、かつスクリーンとしての開口率が不足する。
ス鋼線が例示されるが、これらの金属線は製織し難い反
面、導電性および透磁性を付与するための被膜を設ける
必要がなく、それだけスクリーンの開口率を大きくする
ことができる。ただし、線径１５μｍ未満では、細過ぎ
て強度が低下し、製織に際して扱い困難になり、反対に
５００μｍを超えると剛性の増大により製織困難にな
り、かつスクリーンとしての開口率が不足する。
【０００８】一方、ポリエチレンテレフタレート等のポ
リエステル繊維からなる芯線を用いた場合は、導電性お
よび透磁性を付与するためにスパッタ蒸着膜を設ける必
要があり、被膜の合計厚みが大きくなり、スクリーンの
開口率が小さくなる反面、製織が著しく容易になる。た
だし、線径が１５μｍ未満では、細過ぎて強度が低下し
て製織困難になり、反対に５００μｍを超えるとスクリ
ーンとしての開口率が不足する。なお、合成繊維の中で
特に上記ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
繊維を用いることにより、スパッタ蒸着膜の接着性が良
好になる。
リエステル繊維からなる芯線を用いた場合は、導電性お
よび透磁性を付与するためにスパッタ蒸着膜を設ける必
要があり、被膜の合計厚みが大きくなり、スクリーンの
開口率が小さくなる反面、製織が著しく容易になる。た
だし、線径が１５μｍ未満では、細過ぎて強度が低下し
て製織困難になり、反対に５００μｍを超えるとスクリ
ーンとしての開口率が不足する。なお、合成繊維の中で
特に上記ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
繊維を用いることにより、スパッタ蒸着膜の接着性が良
好になる。
【０００９】この発明の薄地織物は、紗やメッシュのよ
うな多孔状のもので、好ましくは目ずれの生じ難い平織
に製織される。そして、請求項１に記載の金属線からな
る薄地織物においては、直接スパッタリング加工によ
り、その表裏両面または片面に導電性カーボンからなる
蒸着膜が形成される。この蒸着膜は、真空の密閉チャン
バー内に薄地織物を広げ、その片面に導電性カーボンを
スパッタ蒸着させることにより形成される。このスパッ
タ蒸着膜を表裏両面に設ける場合は、このスパッタ蒸着
を表面と裏面に２回に分けて行う必要があるが、片面の
みに設ける場合は、蒸着の工数が半減する。
うな多孔状のもので、好ましくは目ずれの生じ難い平織
に製織される。そして、請求項１に記載の金属線からな
る薄地織物においては、直接スパッタリング加工によ
り、その表裏両面または片面に導電性カーボンからなる
蒸着膜が形成される。この蒸着膜は、真空の密閉チャン
バー内に薄地織物を広げ、その片面に導電性カーボンを
スパッタ蒸着させることにより形成される。このスパッ
タ蒸着膜を表裏両面に設ける場合は、このスパッタ蒸着
を表面と裏面に２回に分けて行う必要があるが、片面の
みに設ける場合は、蒸着の工数が半減する。
【００１０】表裏の片面に導電性カーボンをスパッタ蒸
着した電磁波遮蔽用スクリーンは、導電性カーボンのス
パッタ蒸着面がプラズマディスプレイパネルの前面を向
くように取付けることにより、美しい画面が得られ、上
記導電性カーボンのスパッタ蒸着面を設ける目的が達成
される。他方、表裏両面に導電性カーボンをスパッタ蒸
着した場合は、プラズマディスプレイパネルに取付ける
に際し、表裏のいずれを前面に向けてもよい。
着した電磁波遮蔽用スクリーンは、導電性カーボンのス
パッタ蒸着面がプラズマディスプレイパネルの前面を向
くように取付けることにより、美しい画面が得られ、上
記導電性カーボンのスパッタ蒸着面を設ける目的が達成
される。他方、表裏両面に導電性カーボンをスパッタ蒸
着した場合は、プラズマディスプレイパネルに取付ける
に際し、表裏のいずれを前面に向けてもよい。
【００１１】なお、上記薄地織物の目の粗さは、５０〜
３００メッシュが好ましく、５０メッシュ未満では目ず
れが生じ易く、３００メッシュを超えると開口率が小さ
くなって透過光量が不足する。また、上記導電性カーボ
ンからなるスパッタ蒸着膜の厚さは、請求項４に記載の
ごとく、１００〜１０００Åが好ましく、これによって
膜厚を従来のディッピング膜の１／１０以下に薄くし、
かつ可視光反射率を従来程度に維持することができ、し
かもスパッタ蒸着膜であるため、剥離強度に優れてい
る。ただし、上記蒸着膜の厚さが１００Å未満では可視
光反射率が１０％を超える結果になり、反対に１０００
Åを超えると開口率が不足し、かつコスト的に不利とな
る。
３００メッシュが好ましく、５０メッシュ未満では目ず
れが生じ易く、３００メッシュを超えると開口率が小さ
くなって透過光量が不足する。また、上記導電性カーボ
ンからなるスパッタ蒸着膜の厚さは、請求項４に記載の
ごとく、１００〜１０００Åが好ましく、これによって
膜厚を従来のディッピング膜の１／１０以下に薄くし、
かつ可視光反射率を従来程度に維持することができ、し
かもスパッタ蒸着膜であるため、剥離強度に優れてい
る。ただし、上記蒸着膜の厚さが１００Å未満では可視
光反射率が１０％を超える結果になり、反対に１０００
Åを超えると開口率が不足し、かつコスト的に不利とな
る。
【００１２】上記の金属線に代えて合成繊維モノフィラ
メントからなる芯線を用いる場合は、この合成繊維モノ
フィラメントを経糸と緯糸に用いて紗やメッシュ等の多
孔状の薄地織物、好ましくは平織物を製織し、しかるの
ちその表裏両面にスパッタリングして上記芯線上に導電
性および透磁性を有する合金のスパッタ蒸着膜を形成
し、更にその少なくとも片面に導電性カーボンのスパッ
タ蒸着膜を形成する。上記の合金としては、洋白、モネ
ルメタル等の銅・ニッケル合金等が例示され、この場合
はスパッタリング加工時のターゲットを上記の銅・ニッ
ケル合金で作ることができる。また、ターゲットを銅と
ニッケルの複合形態としてもよく、この場合はターゲッ
トにおける銅とニッケルの面積比率によって蒸着膜にお
ける銅とニッケルの成分比を任意に設定できる。また、
ステンレス鋼は、スパッタ蒸着を行うと透磁性が発現す
るので、ターゲット材料として使用可能である。
メントからなる芯線を用いる場合は、この合成繊維モノ
フィラメントを経糸と緯糸に用いて紗やメッシュ等の多
孔状の薄地織物、好ましくは平織物を製織し、しかるの
ちその表裏両面にスパッタリングして上記芯線上に導電
性および透磁性を有する合金のスパッタ蒸着膜を形成
し、更にその少なくとも片面に導電性カーボンのスパッ
タ蒸着膜を形成する。上記の合金としては、洋白、モネ
ルメタル等の銅・ニッケル合金等が例示され、この場合
はスパッタリング加工時のターゲットを上記の銅・ニッ
ケル合金で作ることができる。また、ターゲットを銅と
ニッケルの複合形態としてもよく、この場合はターゲッ
トにおける銅とニッケルの面積比率によって蒸着膜にお
ける銅とニッケルの成分比を任意に設定できる。また、
ステンレス鋼は、スパッタ蒸着を行うと透磁性が発現す
るので、ターゲット材料として使用可能である。
【００１３】次いで、上記合金のスパッタ蒸着膜を設け
た織物の少なくとも片側からスパッタリングすることに
より、薄地織物の表裏に対してモノフィラメント（上記
合金のスパッタ蒸着膜で被覆された芯線）の少なくとも
片側部分に導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜が前
記同様に形成される。得られた電磁波遮蔽用スクリーン
は、片面に導電性カーボンをスパッタ蒸着したものにあ
っては、導電性カーボンのスパッタ蒸着面がプラズマデ
ィスプレイパネルの前面を向くように取付けて使用さ
れ、表裏両面に導電性カーボンをスパッタ蒸着したもの
にあっては、表裏を考慮せずにプラズマディスプレイパ
ネルに取付けて使用される。
た織物の少なくとも片側からスパッタリングすることに
より、薄地織物の表裏に対してモノフィラメント（上記
合金のスパッタ蒸着膜で被覆された芯線）の少なくとも
片側部分に導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜が前
記同様に形成される。得られた電磁波遮蔽用スクリーン
は、片面に導電性カーボンをスパッタ蒸着したものにあ
っては、導電性カーボンのスパッタ蒸着面がプラズマデ
ィスプレイパネルの前面を向くように取付けて使用さ
れ、表裏両面に導電性カーボンをスパッタ蒸着したもの
にあっては、表裏を考慮せずにプラズマディスプレイパ
ネルに取付けて使用される。
【００１４】上記の合成繊維を用いた薄地織物の目の粗
さは、金属線を経緯とする織物と同様に５０〜３００メ
ッシュが好ましい。また、導電性および透磁性を有する
合金のスパッタ蒸着膜の厚さは、請求項３に記載のごと
く１０００〜１００００Åが好ましく、これによって上
記の合金からなる１層のスパッタ蒸着膜で導電性と透磁
性を与えることができ、従来の無電解メッキ法で形成し
た銅製の導電性被膜およびニッケル製の透磁性被膜から
なる２層構造の被膜と同等の機能を与え、しかも被膜層
数を半分にし、厚みを従来の合計厚みの１／６以下に薄
くすることができ、更にスパッタ蒸着膜であるため剥離
強度に優れる。ただし、上記合金のスパッタ蒸着膜の厚
さが１０００Å未満では、電磁波シールド性が劣り、１
００００Åを超えると加工性および開口率が低下し、か
つ不経済である。なお、導電性カーボンからなるスパッ
タ蒸着膜の厚さは、前記同様に１００〜１０００Åが好
ましい。
さは、金属線を経緯とする織物と同様に５０〜３００メ
ッシュが好ましい。また、導電性および透磁性を有する
合金のスパッタ蒸着膜の厚さは、請求項３に記載のごと
く１０００〜１００００Åが好ましく、これによって上
記の合金からなる１層のスパッタ蒸着膜で導電性と透磁
性を与えることができ、従来の無電解メッキ法で形成し
た銅製の導電性被膜およびニッケル製の透磁性被膜から
なる２層構造の被膜と同等の機能を与え、しかも被膜層
数を半分にし、厚みを従来の合計厚みの１／６以下に薄
くすることができ、更にスパッタ蒸着膜であるため剥離
強度に優れる。ただし、上記合金のスパッタ蒸着膜の厚
さが１０００Å未満では、電磁波シールド性が劣り、１
００００Åを超えると加工性および開口率が低下し、か
つ不経済である。なお、導電性カーボンからなるスパッ
タ蒸着膜の厚さは、前記同様に１００〜１０００Åが好
ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は、この発明の電磁波遮蔽用
スクリーンを構成する糸の断面を示し、１０Ａは軟鉄か
らなる線径１５〜５００μｍのモノフィラメント１１の
全面を導電性カーボンからなる厚さ１００〜１０００Å
のスパッタ蒸着膜１２で被覆したものである。１０Ｂ
は、ポリエチレンテレフタレートからなる芯線１３の全
面を導電性および透磁性を有する合金（銅・ニッケル合
金またはステンレス鋼）からなる厚さ１０００〜１００
００Åのスパッタ蒸着膜１４で被覆してモノフィラメン
トとし、更にその全面を導電性カーボンからなる厚さ１
００〜１０００Åのスパッタ蒸着膜１２で被覆したもの
である。１０Ｃは、１０Ｂの導電性カーボンからなる厚
さ１００〜１０００Åのスパッタ蒸着膜１２を合金から
なるスパッタ蒸着膜１４の片側半分に設けたものであ
る。
スクリーンを構成する糸の断面を示し、１０Ａは軟鉄か
らなる線径１５〜５００μｍのモノフィラメント１１の
全面を導電性カーボンからなる厚さ１００〜１０００Å
のスパッタ蒸着膜１２で被覆したものである。１０Ｂ
は、ポリエチレンテレフタレートからなる芯線１３の全
面を導電性および透磁性を有する合金（銅・ニッケル合
金またはステンレス鋼）からなる厚さ１０００〜１００
００Åのスパッタ蒸着膜１４で被覆してモノフィラメン
トとし、更にその全面を導電性カーボンからなる厚さ１
００〜１０００Åのスパッタ蒸着膜１２で被覆したもの
である。１０Ｃは、１０Ｂの導電性カーボンからなる厚
さ１００〜１０００Åのスパッタ蒸着膜１２を合金から
なるスパッタ蒸着膜１４の片側半分に設けたものであ
る。
【００１６】実施形態１ 軟鉄またはステンレス鋼からなる線径１５〜５００μｍ
のモノフィラメント１１を経糸、緯糸に用い、５０〜３
００メッシュの薄地織物を製織し、その表裏両面にスパ
ッタリング加工を施し、上記フィラメント１１の全面に
導電性カーボンからなる厚さ１００〜１０００Åのスパ
ッタ蒸着膜１２を形成する。図２は、用いるスパッタリ
ング装置の一例を示す縦断面図であり、密閉可能なチャ
ンバ２０の下部に導電性カーボンからなる平板状のター
ゲット２１が表面を上にして中空のターゲットソース２
２上に固定され、このターゲットソース２２に通される
冷水によってターゲット２１が下面から冷却される。こ
のターゲット２１の上方左右にアノード２３が水平に設
置され、このアノード２３およびターゲット２１間に直
流電源Ｅによって５００〜１０００Ｖの直流電圧が印加
される。
のモノフィラメント１１を経糸、緯糸に用い、５０〜３
００メッシュの薄地織物を製織し、その表裏両面にスパ
ッタリング加工を施し、上記フィラメント１１の全面に
導電性カーボンからなる厚さ１００〜１０００Åのスパ
ッタ蒸着膜１２を形成する。図２は、用いるスパッタリ
ング装置の一例を示す縦断面図であり、密閉可能なチャ
ンバ２０の下部に導電性カーボンからなる平板状のター
ゲット２１が表面を上にして中空のターゲットソース２
２上に固定され、このターゲットソース２２に通される
冷水によってターゲット２１が下面から冷却される。こ
のターゲット２１の上方左右にアノード２３が水平に設
置され、このアノード２３およびターゲット２１間に直
流電源Ｅによって５００〜１０００Ｖの直流電圧が印加
される。
【００１７】上記アノード２３の上方に水冷シリンダー
２４が水平に、かつ回転自在に設置され、その右上方に
加工前の薄地織物Ｆの送り出し軸２５が、また左上方に
加工後の薄地織物Ｆの巻取り軸２６がそれぞれ水平に、
かつ回転自在に設置され、送り出し軸２５に巻かれた加
工前の薄地織物Ｆが引出され、右上部のガイドローラ２
７を経て上記水冷シリンダー２４に巻回され、左上部の
ガイドローラ２８を経て巻取り軸２６に巻取られる。ま
た、チャンバ２０に真空ポンプ２９およびアルゴンガス
供給用のガスボンベ３０がそれぞれ接続される。
２４が水平に、かつ回転自在に設置され、その右上方に
加工前の薄地織物Ｆの送り出し軸２５が、また左上方に
加工後の薄地織物Ｆの巻取り軸２６がそれぞれ水平に、
かつ回転自在に設置され、送り出し軸２５に巻かれた加
工前の薄地織物Ｆが引出され、右上部のガイドローラ２
７を経て上記水冷シリンダー２４に巻回され、左上部の
ガイドローラ２８を経て巻取り軸２６に巻取られる。ま
た、チャンバ２０に真空ポンプ２９およびアルゴンガス
供給用のガスボンベ３０がそれぞれ接続される。
【００１８】上記の装置において、送出し軸２５、巻取
り軸２６および水冷シリンダー２４を回転し、薄地織物
Ｆを時計方向に所定の速度で送りながら水冷シリンダー
２４で冷却する。一方、真空ポンプ２９を駆動してチャ
ンバ２０内圧力を５×１０-5Torr程度に減圧し、次いで
ガスボンベ３０からアルゴンガスを導入してチャンバ２
０内圧力を５×１０-4Torr程度に調整し、しかるのち上
記のアノード２３およびターゲット２１間に直流電圧を
印加してターゲット２１からカーボン原子を飛び出さ
せ、薄地織物Ｆ上に付着させて導電性カーボンからなる
アモルファス構造のスパッタ蒸着膜１２を形成する。こ
のとき、薄地織物Ｆの送り速度を調整して上記蒸着膜１
２の厚さを１００〜１０００Åに形成する。
り軸２６および水冷シリンダー２４を回転し、薄地織物
Ｆを時計方向に所定の速度で送りながら水冷シリンダー
２４で冷却する。一方、真空ポンプ２９を駆動してチャ
ンバ２０内圧力を５×１０-5Torr程度に減圧し、次いで
ガスボンベ３０からアルゴンガスを導入してチャンバ２
０内圧力を５×１０-4Torr程度に調整し、しかるのち上
記のアノード２３およびターゲット２１間に直流電圧を
印加してターゲット２１からカーボン原子を飛び出さ
せ、薄地織物Ｆ上に付着させて導電性カーボンからなる
アモルファス構造のスパッタ蒸着膜１２を形成する。こ
のとき、薄地織物Ｆの送り速度を調整して上記蒸着膜１
２の厚さを１００〜１０００Åに形成する。
【００１９】このようにしてスパッタリング加工が進
み、送り出し軸２５に巻かれた薄地織物Ｆの全体が巻取
り軸２６に移行し終わると、薄地織物Ｆの表裏を反転
し、薄地織物Ｆの蒸着面が水冷シリンダー２４に接する
ように取付け、しかるのち上記同様にして薄地織物Ｆの
反対側に導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜１２を
形成して開口率４０〜７５％、１０〜１０００ＭHz帯の
電磁波に対するシールド率１０〜１００dB、可視光反射
率１０％以下の電磁波遮蔽用スクリーンを得る。
み、送り出し軸２５に巻かれた薄地織物Ｆの全体が巻取
り軸２６に移行し終わると、薄地織物Ｆの表裏を反転
し、薄地織物Ｆの蒸着面が水冷シリンダー２４に接する
ように取付け、しかるのち上記同様にして薄地織物Ｆの
反対側に導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜１２を
形成して開口率４０〜７５％、１０〜１０００ＭHz帯の
電磁波に対するシールド率１０〜１００dB、可視光反射
率１０％以下の電磁波遮蔽用スクリーンを得る。
【００２０】実施形態２ 実施形態１において、反対側のスパッタ蒸着を省略し、
薄地織物Ｆの片側のスパッタリング加工が終わった段
階、すなわちフィラメント１１の片側半分のみにスパッ
タ蒸着膜１２を形成して開口率４０〜７５％、１０〜１
０００ＭHz帯の電磁波に対するシールド率１０〜１００
dB、可視光反射率１０％以下の電磁波遮蔽用スクリーン
とする。
薄地織物Ｆの片側のスパッタリング加工が終わった段
階、すなわちフィラメント１１の片側半分のみにスパッ
タ蒸着膜１２を形成して開口率４０〜７５％、１０〜１
０００ＭHz帯の電磁波に対するシールド率１０〜１００
dB、可視光反射率１０％以下の電磁波遮蔽用スクリーン
とする。
【００２１】実施形態３ 実施形態１に用いた軟鉄線からなる薄地織物に図３のス
パッタリング装置で加工する。図３において、密閉可能
なチャンバ（図示されていない）の左右に導電性カーボ
ンからなる平板状のターゲット２１、２１がそれぞれ中
空のターゲットソース２２上に固定され、前記同様に冷
却され、各ターゲット２１の上方左右にアノード２３が
水平に設置され、このアノード２３およびターゲット２
１間に前記同様に直流電圧が印加される。
パッタリング装置で加工する。図３において、密閉可能
なチャンバ（図示されていない）の左右に導電性カーボ
ンからなる平板状のターゲット２１、２１がそれぞれ中
空のターゲットソース２２上に固定され、前記同様に冷
却され、各ターゲット２１の上方左右にアノード２３が
水平に設置され、このアノード２３およびターゲット２
１間に前記同様に直流電圧が印加される。
【００２２】右側アノード２３の上方に加工前の薄地織
物Ｆの送り出し軸２５が、また左側アノード２３の上方
に加工後の薄地織物Ｆの巻取り軸２６がそれぞれ水平
に、かつ回転自在に設置され、送り出し軸２５に巻かれ
た加工前の薄地織物Ｆが引出され、複数個のガイドロー
ラ２７に案内され、送り出し軸２５と右側アノード２３
との間を通って上記送り出し軸２５の回りを反時計方向
に回り、次いで送り出し軸２５の左方の巻取り軸２６の
回りを時計方向に回り、その間に巻取り軸２６と左側ア
ノード２３との間を通り、しかるのち巻取り軸２６に巻
取られる。なお、薄地織物Ｆは、アノード２３の真上を
通る際に、水冷装置（図示されていない）で冷却され
る。
物Ｆの送り出し軸２５が、また左側アノード２３の上方
に加工後の薄地織物Ｆの巻取り軸２６がそれぞれ水平
に、かつ回転自在に設置され、送り出し軸２５に巻かれ
た加工前の薄地織物Ｆが引出され、複数個のガイドロー
ラ２７に案内され、送り出し軸２５と右側アノード２３
との間を通って上記送り出し軸２５の回りを反時計方向
に回り、次いで送り出し軸２５の左方の巻取り軸２６の
回りを時計方向に回り、その間に巻取り軸２６と左側ア
ノード２３との間を通り、しかるのち巻取り軸２６に巻
取られる。なお、薄地織物Ｆは、アノード２３の真上を
通る際に、水冷装置（図示されていない）で冷却され
る。
【００２３】上記図３の装置において、実施形態１と同
様のアルゴンガス雰囲気下で送出し軸２５、巻取り軸２
６を回転し、薄地織物Ｆを送出し軸２５から巻取り軸２
６に向かい、複数個のガイドローラ２７に沿ってＳ字形
を描くように走行させ、その間に左右のアノード２３、
ターゲット２１間に直流電圧を印加すると、薄地織物Ｆ
が送出し軸２５の下方を通る際に薄地織物Ｆの片側にス
パッタ蒸着膜１２が形成され、次いで巻取り軸２６の下
方を通る際に薄地織物Ｆの反対側にスパッタ蒸着膜１２
が形成される。この場合は、１工程で薄地織物Ｆの表裏
両面にスパッタ蒸着膜１２が形成される。
様のアルゴンガス雰囲気下で送出し軸２５、巻取り軸２
６を回転し、薄地織物Ｆを送出し軸２５から巻取り軸２
６に向かい、複数個のガイドローラ２７に沿ってＳ字形
を描くように走行させ、その間に左右のアノード２３、
ターゲット２１間に直流電圧を印加すると、薄地織物Ｆ
が送出し軸２５の下方を通る際に薄地織物Ｆの片側にス
パッタ蒸着膜１２が形成され、次いで巻取り軸２６の下
方を通る際に薄地織物Ｆの反対側にスパッタ蒸着膜１２
が形成される。この場合は、１工程で薄地織物Ｆの表裏
両面にスパッタ蒸着膜１２が形成される。
【００２４】実施形態４ ポリエチレンテレフタレートのモノフィラメントからな
る線径１５〜５００μｍの芯線１３を経糸、緯糸に用
い、５０〜３００メッシュの薄地織物を製織し、精錬、
熱セット、乾燥の後、図３の装置を用い、薄地織物Ｆの
表裏両面にスパッタリング加工を施し、上記の芯線１３
の全面に銅・ニッケル合金からなる導電性および透磁性
を備えた厚さ１０００〜１００００Åのスパッタ蒸着膜
１４（図１の１０Ｂ参照）を形成する。ただし、図３に
示す左右のターゲット２１は、図４、５に示すように銅
およびニッケルの複合形態とする。すなわち、図４、５
において、ターゲット２１は、銅板２１ａの表面に多数
の穴を掘り、この穴にニッケル製の栓２１ｂを詰めて形
成される。スパッタ蒸着膜１４における銅とニッケルの
成分比率は、ターゲット２１の表面における銅およびニ
ッケルの表面積で設定される。次いで、上記のターゲッ
ト２１を導電性カーボンと交換し、再びスパッタリング
加工を行い、上記銅・ニッケル合金からなるスパッタ蒸
着膜１４の全面に導電性カーボンからなる厚さ１００〜
１０００Åのスパッタ蒸着膜１２を形成して（図１の１
０Ｂ参照）、開口率４０〜７５％、１０〜１０００ＭHz
帯の電磁波に対するシールド率１０〜１００dB、可視光
反射率１０％以下の電磁波遮蔽用スクリーンを得る。
る線径１５〜５００μｍの芯線１３を経糸、緯糸に用
い、５０〜３００メッシュの薄地織物を製織し、精錬、
熱セット、乾燥の後、図３の装置を用い、薄地織物Ｆの
表裏両面にスパッタリング加工を施し、上記の芯線１３
の全面に銅・ニッケル合金からなる導電性および透磁性
を備えた厚さ１０００〜１００００Åのスパッタ蒸着膜
１４（図１の１０Ｂ参照）を形成する。ただし、図３に
示す左右のターゲット２１は、図４、５に示すように銅
およびニッケルの複合形態とする。すなわち、図４、５
において、ターゲット２１は、銅板２１ａの表面に多数
の穴を掘り、この穴にニッケル製の栓２１ｂを詰めて形
成される。スパッタ蒸着膜１４における銅とニッケルの
成分比率は、ターゲット２１の表面における銅およびニ
ッケルの表面積で設定される。次いで、上記のターゲッ
ト２１を導電性カーボンと交換し、再びスパッタリング
加工を行い、上記銅・ニッケル合金からなるスパッタ蒸
着膜１４の全面に導電性カーボンからなる厚さ１００〜
１０００Åのスパッタ蒸着膜１２を形成して（図１の１
０Ｂ参照）、開口率４０〜７５％、１０〜１０００ＭHz
帯の電磁波に対するシールド率１０〜１００dB、可視光
反射率１０％以下の電磁波遮蔽用スクリーンを得る。
【００２５】実施形態５ 上記の実施形態４において、導電性カーボンのスパッタ
リング加工を図２の装置で１回だけ行い、銅・ニッケル
合金からなるスパッタ蒸着膜１４の片側半分に導電性カ
ーボンからなる厚さ１００〜１０００Åのスパッタ蒸着
膜１２を形成する（図１の１０Ｃ参照）。
リング加工を図２の装置で１回だけ行い、銅・ニッケル
合金からなるスパッタ蒸着膜１４の片側半分に導電性カ
ーボンからなる厚さ１００〜１０００Åのスパッタ蒸着
膜１２を形成する（図１の１０Ｃ参照）。
【００２６】実施形態６ 実施形態４において、図３に示す左右のターゲット２１
を洋白、モネルメタル等の銅・ニッケル合金で作る以外
は、実施形態４と同様にしてポリエチレンテレフタレー
トからなる芯線１３を銅・ニッケル合金のスパッタ蒸着
膜１４で被覆し、その全面を導電性カーボンのスパッタ
蒸着膜１２で被覆する（図１の１０Ｂ参照）。この場
合、銅・ニッケル合金製のターゲットに代えてステンレ
ス鋼製ターゲットを用いることができる。
を洋白、モネルメタル等の銅・ニッケル合金で作る以外
は、実施形態４と同様にしてポリエチレンテレフタレー
トからなる芯線１３を銅・ニッケル合金のスパッタ蒸着
膜１４で被覆し、その全面を導電性カーボンのスパッタ
蒸着膜１２で被覆する（図１の１０Ｂ参照）。この場
合、銅・ニッケル合金製のターゲットに代えてステンレ
ス鋼製ターゲットを用いることができる。
【００２７】実施形態７ 実施形態６において、導電性カーボンのスパッタリング
加工を図２の装置で１回だけ行う以外は実施形態６と同
様にして、銅・ニッケル合金からなるスパッタ蒸着膜１
４の片側半分に導電性カーボンのスパッタ蒸着膜１２を
形成する（図１の１０Ｃ参照）。この場合、銅・ニッケ
ル合金製のターゲットに代えてステンレス鋼製ターゲッ
トを用いることができる。
加工を図２の装置で１回だけ行う以外は実施形態６と同
様にして、銅・ニッケル合金からなるスパッタ蒸着膜１
４の片側半分に導電性カーボンのスパッタ蒸着膜１２を
形成する（図１の１０Ｃ参照）。この場合、銅・ニッケ
ル合金製のターゲットに代えてステンレス鋼製ターゲッ
トを用いることができる。
【００２８】
【実施例】実施例１ 線径１７μｍの軟鉄線を経糸・緯糸に用いて３００メッ
シュの平組織の薄地織物を製織し、図２のスパッタリン
グ装置を用いて上記薄地織物の片面に導電性カーボンを
スパッタリングし、この薄地織物の表裏に対して上記軟
鉄線（モノフィラメント）の片側部分を導電性カーボン
からなるスパッタ蒸着膜で８００Åの厚さに被覆し、実
施例１の電磁波遮蔽用スクリーンを得た。この電磁波遮
蔽用スクリーンの開口率は５７％、１０〜１０００ＭHz
帯の電磁波に対するシールド率は８０dB、可視光反射率
は４％以下であった。
シュの平組織の薄地織物を製織し、図２のスパッタリン
グ装置を用いて上記薄地織物の片面に導電性カーボンを
スパッタリングし、この薄地織物の表裏に対して上記軟
鉄線（モノフィラメント）の片側部分を導電性カーボン
からなるスパッタ蒸着膜で８００Åの厚さに被覆し、実
施例１の電磁波遮蔽用スクリーンを得た。この電磁波遮
蔽用スクリーンの開口率は５７％、１０〜１０００ＭHz
帯の電磁波に対するシールド率は８０dB、可視光反射率
は４％以下であった。
【００２９】実施例２ ポリエチレンテレフタレートからなる線径２７μｍのモ
ノフィラメントを用いて２５０メッシュの平組織の薄地
織物を製織し、ソーダ灰の１％水溶液を用いて精錬し、
水洗、乾燥し、２００℃で熱セットした後、図３のスパ
ッタリング装置を用いて上記薄地織物の両面にスパッタ
リング加工を施した。ターゲット２１には、モネルメタ
ルを使用し、薄地織物の経糸および緯糸の全面を銅・ニ
ッケル合金からなる厚み５０００Åのスパッタ蒸着膜で
被覆し、上記の経糸および緯糸を、導電性および透磁性
を有するモノフィラメントに形成した。
ノフィラメントを用いて２５０メッシュの平組織の薄地
織物を製織し、ソーダ灰の１％水溶液を用いて精錬し、
水洗、乾燥し、２００℃で熱セットした後、図３のスパ
ッタリング装置を用いて上記薄地織物の両面にスパッタ
リング加工を施した。ターゲット２１には、モネルメタ
ルを使用し、薄地織物の経糸および緯糸の全面を銅・ニ
ッケル合金からなる厚み５０００Åのスパッタ蒸着膜で
被覆し、上記の経糸および緯糸を、導電性および透磁性
を有するモノフィラメントに形成した。
【００３０】次いで、図２のスパッタリング装置を用
い、上記の導電性および透磁性を有するモノフィラメン
トからなる薄地織物に対してスパッタリング加工を施
し、この薄地織物の表裏に対して上記モノフィラメント
の片側部分を導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜で
８００Åの厚さに被覆し、実施例２の電磁波遮蔽用スク
リーンを得た。この電磁波遮蔽用スクリーンの開口率は
５２％、１０〜１０００ＭHz帯の電磁波に対するシール
ド率は５０dB、可視光反射率は５％以下であった。
い、上記の導電性および透磁性を有するモノフィラメン
トからなる薄地織物に対してスパッタリング加工を施
し、この薄地織物の表裏に対して上記モノフィラメント
の片側部分を導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜で
８００Åの厚さに被覆し、実施例２の電磁波遮蔽用スク
リーンを得た。この電磁波遮蔽用スクリーンの開口率は
５２％、１０〜１０００ＭHz帯の電磁波に対するシール
ド率は５０dB、可視光反射率は５％以下であった。
【００３１】実施例３ 上記の実施例２において、図３の装置によるスパッタリ
ング加工に際し、ターゲット２１をステンレス鋼（ＳＵ
Ｓ３３）製とする以外は実施例２と同様にして実施例３
の電磁波遮蔽用スクリーンを得た。この電磁波遮蔽用ス
クリーンの開口率は５２％、１０〜１０００ＭHz帯の電
磁波に対するシールド率は５０dB、可視光反射率は５％
以下であった。
ング加工に際し、ターゲット２１をステンレス鋼（ＳＵ
Ｓ３３）製とする以外は実施例２と同様にして実施例３
の電磁波遮蔽用スクリーンを得た。この電磁波遮蔽用ス
クリーンの開口率は５２％、１０〜１０００ＭHz帯の電
磁波に対するシールド率は５０dB、可視光反射率は５％
以下であった。
【００３２】
【発明の効果】上記のとおり、請求項１記載の電磁波遮
蔽用スクリーンは、導電性カーボンからなる被膜をスパ
ッタ蒸着膜とするものであるから、膜厚を従来のディッ
ピングによる被膜に比べて薄くして開口率を４０〜７５
％にすることが容易であり、かつ耐剥離性を向上するこ
とができ、また上記蒸着膜の可視光反射率が１０％以下
であるため映像が見易くなり、しかも電磁波遮蔽機能を
従来程度に維持することができる。また、スクリーンの
構成モノフィラメントに軟鉄線を用いるので、スパッタ
蒸着膜は導電性カーボンの１層だけでよく、工数が少な
くなる。
蔽用スクリーンは、導電性カーボンからなる被膜をスパ
ッタ蒸着膜とするものであるから、膜厚を従来のディッ
ピングによる被膜に比べて薄くして開口率を４０〜７５
％にすることが容易であり、かつ耐剥離性を向上するこ
とができ、また上記蒸着膜の可視光反射率が１０％以下
であるため映像が見易くなり、しかも電磁波遮蔽機能を
従来程度に維持することができる。また、スクリーンの
構成モノフィラメントに軟鉄線を用いるので、スパッタ
蒸着膜は導電性カーボンの１層だけでよく、工数が少な
くなる。
【００３３】請求項２に記載の電磁波遮蔽用スクリーン
は、スクリーンの構成モノフィラメントにポリエステル
繊維のモノフィラメントからなる芯線を用い、合金のス
パッタ蒸着膜１層で導電性および透磁性を与えたもので
あるから、従来の合成繊維モノフィラメントを用いたも
のに比べて被覆層の数を少なく、合計厚みを薄くし開口
率を大きくすることができ、かつ合金のスパッタ蒸着膜
の接着性が良い。
は、スクリーンの構成モノフィラメントにポリエステル
繊維のモノフィラメントからなる芯線を用い、合金のス
パッタ蒸着膜１層で導電性および透磁性を与えたもので
あるから、従来の合成繊維モノフィラメントを用いたも
のに比べて被覆層の数を少なく、合計厚みを薄くし開口
率を大きくすることができ、かつ合金のスパッタ蒸着膜
の接着性が良い。
【００３４】そして、請求項３に記載された電磁波遮蔽
用スクリーンは、導電性と透磁性を付与するための膜厚
を従来のメッキ法の１／６以下に薄くすることができ
る。また、請求項４に記載された電磁波遮蔽用スクリー
ンは、導電性カーボンの膜厚を従来のディッピング法に
比べて１／１０以下に薄くすることができる。
用スクリーンは、導電性と透磁性を付与するための膜厚
を従来のメッキ法の１／６以下に薄くすることができ
る。また、請求項４に記載された電磁波遮蔽用スクリー
ンは、導電性カーボンの膜厚を従来のディッピング法に
比べて１／１０以下に薄くすることができる。
【図１】電磁波遮蔽用スクリーンの構成糸の断面図であ
る。
る。
【図２】スパッタ装置の一例を示す断面図である。
【図３】スパッタ装置の他の例を示す断面図である。
【図４】複合型ターゲットの平面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ線断面図である。
Ｆ：薄地織物 １０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ：薄地織物の構成糸 １１：軟鉄線（フィラメント） １２：導電性カーボンのスパッタ蒸着膜 １３：合成繊維からなる芯線 １４：合金のスパッタ蒸着膜 ２０：スパッタ用チャンバ ２１：ターゲット ２１ａ：銅板 ２１ｂ：ニッケル製の栓 ２２：ターゲットソース ２３：アノード ２４：水冷シリンダー ２５：送り出し軸 ２６：巻取り軸 ２９：真空ポンプ ３０：ガスボンベ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 勝祥 愛知県蒲郡市浜町36番地 株式会社鈴寅 内 (72)発明者 黒木 定雄 愛知県蒲郡市浜町36番地 株式会社鈴寅 内 (72)発明者 横溝 徹 東京都日野市豊田２丁目50番地の３ エ ヌ・ビー・シー工業株式会社内 (72)発明者 川端下 栄治 東京都日野市豊田２丁目50番地の３ エ ヌ・ビー・シー工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平９−306366（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−274489（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−298923（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−140698（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H05K 9/00
Claims (4)
- 【請求項１】 経糸および緯糸が導電性および透磁性を
備えた細いモノフィラメントからなる多孔状の薄地織物
であり、上記のフィラメントにおける薄地織物の少なく
とも片側部分が導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜
で被覆された電磁波遮蔽用スクリーンにおいて、上記の
モノフィラメントが軟鉄またはステンレス鋼からなる線
径１５〜５００μｍの金属線であり、導電性カーボンか
らなるスパッタ蒸着膜表面の可視光反射率が１０％以下
であることを特徴とする電磁波遮蔽用スクリーン。 - 【請求項２】 経糸および緯糸が導電性および透磁性を
備えた細いモノフィラメントからなる多孔状の薄地織物
であり、上記のフィラメントにおける薄地織物の少なく
とも片側部分が導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜
で被覆された電磁波遮蔽用スクリーンにおいて、上記の
モノフィラメントが線径１５〜５００μｍのポリエステ
ルモノフィラメントからなる芯線を銅・ニッケル合金ま
たはステンレス鋼からなるスパッタ蒸着膜で被覆したも
のであり、導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜表面
の可視光反射率が１０％以下であることを特徴とする電
磁波遮蔽用スクリーン。 - 【請求項３】 銅・ニッケル合金またはステンレス鋼か
らなるスパッタ蒸着膜が１０００〜１００００Åの厚さ
を有する請求項２に記載された電磁波遮蔽用スクリー
ン。 - 【請求項４】 導電性カーボンからなるスパッタ蒸着膜
が１００〜１０００Åの厚さを有する請求項１ないし３
のいずれかに記載された電磁波遮蔽用スクリーン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36861597A JP2892339B1 (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 電磁波遮蔽用スクリーン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36861597A JP2892339B1 (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 電磁波遮蔽用スクリーン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2892339B1 true JP2892339B1 (ja) | 1999-05-17 |
| JPH11195892A JPH11195892A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=18492286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36861597A Expired - Lifetime JP2892339B1 (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 電磁波遮蔽用スクリーン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2892339B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6293407B2 (ja) * | 2012-08-24 | 2018-03-14 | セーレン株式会社 | 磁界シールド性電磁波シールド材 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60140698A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | 旭化成ポリフレックス株式会社 | 電子部品包装用シート |
| JPH0770054B2 (ja) * | 1986-06-18 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH08274489A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Yazaki Corp | 導電性粘着シート |
| JP3674146B2 (ja) * | 1996-05-07 | 2005-07-20 | 株式会社富士通ゼネラル | 光学フィルタ装置 |
-
1997
- 1997-12-26 JP JP36861597A patent/JP2892339B1/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11195892A (ja) | 1999-07-21 |
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