JP2855474B2 - Silicon wafer manufacturing method - Google Patents
Silicon wafer manufacturing methodInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 （１）発明の目的 ［産業上の利用分野］ 本発明は、シリコンウェーハの製造方法に関し、特
に、化学研磨工程で表裏両面が化学研磨された未鏡面研
磨の引上シリコンウェーハに対し平行偏光をブリュース
ター角で入射せしめて測定した光透過特性と表裏両面が
鏡面研磨された対照としての浮遊帯域シリコンウェーハ
に対し平行偏光をブリュースター角で入射せしめて測定
した光透過特性とから引上シリコンウェーハの格子間酸
素濃度を算出し基準値と比較することにより格子間酸素
濃度が不良の引上シリコンウェーハを排除してなるシリ
コンウェーハの製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Object of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a silicon wafer, and in particular, to a method of polishing a non-mirror surface whose front and rear surfaces are chemically polished in a chemical polishing step. Light transmission characteristics measured by injecting parallel polarized light at a Brewster angle to a silicon wafer and light transmission measured by injecting parallel polarized light at a Brewster angle to a floating band silicon wafer as a control whose front and back surfaces are mirror-polished The present invention relates to a method for manufacturing a silicon wafer by calculating an interstitial oxygen concentration of a pulled silicon wafer from characteristics and comparing the calculated value with a reference value, thereby removing a pulled silicon wafer having a defective interstitial oxygen concentration.
［従来の技術］ 従来、この種のシリコンウェーハの製造方法として
は、表裏両面が化学研磨され未た鏡面研磨されていない
製造ラインから抜き取られた引上シリコンウェーハと、
表裏両面が鏡面研磨されかつ化学研磨によって引上シリ
コンウェーハの表裏両面と同一の光学的挙動を確保する
よう加工された対照としての浮遊帯域シリコンウェーハ
とに対して赤外光を同時に入射せしめることにより、引
上シリコンウェーハの光透過特性および浮遊帯域シリコ
ンウェーハの光透過特性を測定して引上シリコンウェー
ハの格子間酸素濃度を求め、その求められた格子間酸素
濃度に応じて不良の引上シリコンウェーハか否かを判断
するものが、提案されていた。[Prior art] Conventionally, as a method of manufacturing this type of silicon wafer, a pull-up silicon wafer extracted from a production line that has been chemically polished on both front and back sides and has not been mirror-polished,
By injecting infrared light simultaneously into the floating zone silicon wafer as a control, both sides of which are mirror-polished and chemically polished, and processed to ensure the same optical behavior as the front and back sides of the pulled silicon wafer. The light transmission characteristics of the pulled silicon wafer and the light transmission characteristics of the floating zone silicon wafer are measured to obtain the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer, and the defective raised silicon is determined according to the obtained interstitial oxygen concentration. A device for determining whether a wafer is a wafer has been proposed.
［解決すべき問題点］ しかしながら、従来のシリコンウェーハの製造方法で
は、引上シリコンウェーハと浮遊帯域シリコンウェーハ
とが光学的挙動を同一とされていたので、（ｉ）測定作
業が煩雑で時間を要する欠点があり、ひいては（ii）製
造ライン中で引上シリコンウェーハを全数検査すること
が事実上不可能となる欠点があって、（iii）不良の引
上シリコンウェーハに不必要な加工処理を施してしまう
欠点があり、結果的に（iv）製造ラインの生産性を改善
できない欠点があった。[Problems to be Solved] However, in the conventional method of manufacturing a silicon wafer, since the pulled silicon wafer and the floating zone silicon wafer have the same optical behavior, (i) the measurement operation is complicated and time is required. (Ii) there is a drawback that it is virtually impossible to inspect all the lifted silicon wafers in the production line, and (iii) unnecessary processing is performed on defective lifted silicon wafers. And (iv) as a result, the productivity of the production line cannot be improved.
そこで、本発明は、これらの欠点を除去する目的で、
表裏両面が鏡面研磨された浮遊帯域シリコンウェーハを
そのまま対照として使用可能とすることにより測定作業
を簡潔としかつ引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度
を製造ライン中の所望の箇所で全数検査可能としてなる
シリコンウェーハの製造方法を提供せんとするものであ
る。Therefore, the present invention aims to eliminate these disadvantages,
By making it possible to use a floating zone silicon wafer with mirror-polished front and back surfaces as it is as a control, the measurement operation can be simplified, and the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer can be 100% inspected at a desired point in the production line. It is intended to provide a method for manufacturing a silicon wafer.
（２）発明の構成 ［問題点の解決手段］ 本発明により提供される問題点の解決手段は、 「引上シリコン単結晶から切り出されたウェーハに対し
化学研磨工程を含む一連の処理工程を施すことにより引
上シリコンウェーハを作成してなるシリコンウェーハの
製造方法において、 （ａ）化学研磨工程で表裏両面が化学研磨された未鏡面
研磨の引上シリコンウェーハに対し平行偏光をブリュー
スター角で入射せしめることにより引上シリコンウェー
ハの光透過特性を測定するための第１の工程と、 （ｂ）表裏両面が鏡面研磨された対照としての浮遊帯域
シリコンウェーハに対し平行偏光をブリュースター角で
入射せしめることにより浮遊帯域シリコンウェーハの光
透過特性を測定するための第２の工程と、 （ｃ）第１の工程によって測定された引上シリコンウェ
ーハの光透過特性と第２の工程によって測定された浮遊
帯域シリコンウェーハの光透過特性とから引上シリコン
ウェーハの格子間酸素濃度を算出するための第３の工程
と、 （ｄ）第３の工程によって算出された引上シリコンウェ
ーハの格子間酸素濃度を基準値と比較するための第４の
工程と、 （ｅ）第４の工程によって比較された結果に応じ格子間
酸素濃度が不良の引上シリコンウェーハを排除するため
の第５の工程と を備えてなることを特徴とするシリコンウェーハの製造
方法」 である。(2) Configuration of the Invention [Solution of Problem] The solution of the problem provided by the present invention is to perform a series of processing steps including a chemical polishing step on a wafer cut from a pulled silicon single crystal. (A) Parallel polarized light is incident at a Brewster angle on a non-mirror polished silicon wafer whose front and back surfaces are chemically polished in a chemical polishing step. A first step for measuring the light transmission characteristics of the pull-up silicon wafer by applying the same; and (b) parallel polarized light is incident at a Brewster angle on a floating band silicon wafer as a control whose front and rear surfaces are mirror-polished. A second step for measuring the light transmission characteristics of the floating zone silicon wafer, and (c) the light transmission characteristic measured by the first step. A third step for calculating the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer from the light transmission characteristics of the upper silicon wafer and the light transmission characteristics of the floating zone silicon wafer measured in the second step; (d) A fourth step for comparing the interstitial oxygen concentration of the pulled-up silicon wafer calculated in the third step with a reference value; and (e) the interstitial oxygen concentration is defective according to the result of the fourth step. And a fifth step for eliminating the raised silicon wafer.
［作用］ 本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法は、上述
の［問題点の解決手段］の欄に明示したごとく、化学研
磨工程で表裏両面が化学研磨された未鏡面研磨の引上シ
リコンウェーハの光透過特性と表裏両面が鏡面研磨され
た浮遊帯域シリコンウェーハの光透過特性とから引上シ
リコンウェーハの格子間酸素濃度を算出し基準値と比較
することにより格子間酸素濃度が不良の引上シリコンウ
ェーハを排除しているので、 （ｉ）表裏両面が鏡面研磨された浮遊帯域シリコンウェ
ーハを加工することなく鏡面のままで使用可能とする作
用 をなし、ひいては （ii）引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度の測定作
業を簡潔とする作用 をなし、これにより （iii）引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度を製造
ライン中の所望の箇所で全数検査によって測定可能とす
る作用 をなし、結果的に （iv）製造ラインの生産性を改善する作用 をなす。[Operation] The silicon wafer manufacturing method according to the present invention provides a method for producing a non-mirror polished silicon wafer that has been chemically polished on both front and back surfaces in a chemical polishing step, as clearly described in the section of [Means for Solving the Problems]. Calculate the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer from the light transmission characteristics and the light transmission characteristics of the floating zone silicon wafer whose front and back surfaces are mirror-polished, and compare it with the reference value. Since the wafer is eliminated, (i) the floating zone silicon wafer whose front and back surfaces are mirror-polished can be used as a mirror surface without being processed, and (ii) the lattice spacing of the pulled-up silicon wafer This function simplifies the operation of measuring the oxygen concentration. (Iii) 100% inspection of the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer at a desired place in the production line. No action to be measured by, resulting in (iv) an action to improve the productivity of the production line.
［実施例］ 次に、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法に
ついて、その好ましい実施例を挙げ、添付図面を参照し
つつ、具体的に説明する。[Examples] Next, a method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings by way of preferred embodiments.
（添付図面の説明） 第１図は、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方
法の第１の実施例を実行する測定装置を示すための簡略
構成図である。(Description of the accompanying drawings) Fig. 1 is a simplified configuration diagram showing a measuring apparatus for performing a first embodiment of a method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention.
第２図は、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方
法の第１の実施例を実行する搬送装置を示すための簡略
構成図である。FIG. 2 is a simplified configuration diagram showing a transfer apparatus for executing the first embodiment of the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention.
第３図および第４図は、本発明にかかるシリコンウェ
ーハの製造方法の一実施例を説明するための説明図であ
る。FIG. 3 and FIG. 4 are explanatory views for explaining one embodiment of the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention.
（第１の実施例の構成・作用） まず、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法の
第１の実施例について、その構成および作用を詳細に説
明する。First, the configuration and operation of the first embodiment of the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention will be described in detail.
本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法は、製造
ライン中の化学研磨工程に付随して実行される洗浄工程
ののち、ゲッタリング工程および鏡面研磨工程に先行し
て格子間酸素濃度の測定工程が実行される。In the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention, after the cleaning step performed accompanying the chemical polishing step in the manufacturing line, the interstitial oxygen concentration measurement step is performed prior to the gettering step and the mirror polishing step. Is done.
すなわち、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方
法における測定工程は、製造ライン中の化学研磨工程に
よって表裏両面が化学研磨され洗浄工程で洗浄された引
上シリコンウェーハ（“化学研磨引上シリコンウェー
ハ”という）に対し平行偏光をブリュースター角φＢで
入射せしめることにより引上シリコンウェーハ（すなわ
ち化学研磨引上シリコンウェーハ）の光透過特性（ここ
では透過光強度IOBS;以下同様）を測定するための第１
の工程と、表裏両面が鏡面研磨された対照としての浮遊
帯域シリコンウェーハ（“鏡面研磨浮遊帯域シリコンウ
ェーハ”という）に対し平行偏光をブリュースター角φ
Ｂで入射せしめることにより浮遊帯域シリコンウェーハ
（すなわち鏡面研磨浮遊帯域シリコンウェーハ）の光透
過特性（ここでは透過光強度IO;以下同様）を測定する
ための第２の工程と、第１の工程によって測定された引
上シリコンウェーハ（すなわち化学研磨引上シリコンウ
ェーハ）の光透過特性（ここでは透過光強度IOBS）と第
２の工程によって測定された浮遊帯域シリコンウェーハ
（すなわち鏡面研磨浮遊帯域シリコンウェーハ）の光透
過特性（ここでは透過光強度IO）とから引上シリコンウ
ェーハの格子間酸素濃度［OiC］を算出するための第３
工程と、第３の工程によって算出された引上シリコンウ
ェーハの格子間酸素濃度［OiC］を基準値と比較するた
めの第４の工程と、第４の工程によって比較された結果
に応じて格子間酸素濃度［OiC］が不良の（たとえば基
準値を超えた）引上シリコンウェーハを排除するための
第５の工程とを備えている。That is, the measuring step in the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention is a pull-up silicon wafer whose front and rear surfaces are chemically polished by a chemical polishing step in a manufacturing line and which is cleaned in a cleaning step (referred to as “chemically polished pull-up silicon wafer”). pulling the silicon wafer by allowed to incident parallel polarized light at Brewster angle phi B relative) (i.e. chemical polishing pulling the light transmission characteristics of the silicon wafer) (where transmitted light intensity I OBS is; for measuring the same applies hereinafter) First
And a parallel polarized light with a Brewster angle φ for a floating zone silicon wafer (referred to as “mirror polished floating zone silicon wafer”) as a control whose front and back surfaces are mirror-polished.
A second step for measuring the light transmission characteristics (here, transmitted light intensity I O ; hereinafter the same) of the floating zone silicon wafer (that is, the mirror-polished floating zone silicon wafer) by being incident at B , and a first step. Transmission characteristics (here, the transmitted light intensity I OBS ) of the pulled silicon wafer (ie, chemically polished pulled silicon wafer) measured by the floating zone silicon wafer (ie, mirror-polished floating zone silicon) measured by the second step. The third method for calculating the interstitial oxygen concentration [O iC ] of the pulled silicon wafer from the light transmission characteristics of the wafer (here, the transmitted light intensity I O ).
And a fourth step for comparing the interstitial oxygen concentration [O iC ] of the pulled silicon wafer calculated in the third step with a reference value, and according to a result compared in the fourth step. A fifth step of removing a lifted silicon wafer having a defective interstitial oxygen concentration [O iC ] (for example, exceeding a reference value).
第1,第２の工程で、それぞれ、引上シリコンウェーハ
（すなわち化学研磨引上シリコンウェーハ）および浮遊
帯域シリコンウェーハ（すなわち鏡面研磨浮遊帯域シリ
コンウェーハ）に対してそれぞれブリュースター角φＢ
で平行偏光を入射せしめる根拠は、引上シリコンウェー
ハ（すなわち化学研磨引上シリコンウェーハ）および浮
遊帯域シリコンウェーハ（すなわち鏡面研磨浮遊帯域シ
リコンウェーハ）への平行偏光の入射および出射に際し
て反射が生じることを実質的に阻止し、引上シリコンウ
ェーハ（すなわち化学研磨引上シリコンウェーハ）およ
び浮遊帯域シリコンウェーハ（すなわち鏡面研磨浮遊帯
域シリコンウェーハ）の内部で多重反射が生じることを
防止することにある。ここで、平行偏光とは、入射対照
（ここでは化学研磨引上シリコンウェーハならびに鏡面
研磨浮遊帯域シリコンウェーハ）への入射面に平行な成
分のみを有する偏光をいう。また、引上シリコンウェー
ハとは、引上法（いわゆる“チョクラルスキー法”）に
よって製造されたシリコン単結晶（“引上シリコン単結
晶”という）から切り出されたウェーハに対し化学研磨
工程を含む一連の処理工程を施すことにより加工された
シリコンウェーハをいい、通常はシリコン単結晶切断工
程によって発生した表裏の表面の破砕層を除去するため
に機械研磨工程ののちに化学研磨されている。更に、浮
遊帯域シリコンウェーハとは、浮遊帯域溶融法によって
製造されたシリコン単結晶から作成されたシリコンウェ
ーハをいう。In the first and second steps, respectively, the Brewster angle φ B with respect to the pulled silicon wafer (ie, chemically polished pulled silicon wafer) and floating zone silicon wafer (ie, mirror-polished floating zone silicon wafer).
The reason for making the parallel polarized light incident on the substrate is that reflection occurs when entering and exiting the parallel polarized light on the pulled silicon wafer (ie, chemically polished pulled silicon wafer) and the floating zone silicon wafer (ie, mirror polished floating zone silicon wafer). The object of the present invention is to substantially prevent the occurrence of multiple reflections inside the lifted silicon wafer (ie, chemically polished lifted silicon wafer) and the floating zone silicon wafer (ie, mirror-polished floating zone silicon wafer). Here, the parallel polarized light refers to polarized light having only a component parallel to the plane of incidence on an incidence control (here, a chemically polished silicon wafer and a mirror-polished floating zone silicon wafer). In addition, a pulled silicon wafer includes a chemical polishing step for a wafer cut out of a silicon single crystal (referred to as “pulled silicon single crystal”) manufactured by a pulling method (so-called “Czochralski method”). A silicon wafer processed by performing a series of processing steps, and is usually chemically polished after a mechanical polishing step to remove a crushed layer on the front and back surfaces generated by the silicon single crystal cutting step. Further, the floating zone silicon wafer refers to a silicon wafer formed from a silicon single crystal manufactured by a floating zone melting method.
第２の工程で、浮遊帯域シリコンウェーハが対照とし
て採用されている根拠は、その格子間酸素濃度［OiF］
が引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度［OiC］に比
べて極めて小さいことにある。また、浮遊帯域シリコン
ウェーハの表裏両面が鏡面研磨されている根拠は、入射
光（ここでは平行偏光）が表裏両面で散乱されることを
防止することにある。In the second step, the reason why the floating zone silicon wafer is used as a control is that its interstitial oxygen concentration [O iF ]
Is extremely lower than the interstitial oxygen concentration [O iC ] of the pulled silicon wafer. The reason why both surfaces of the floating zone silicon wafer are mirror-polished is to prevent incident light (here, parallel polarized light) from being scattered on both surfaces.
第３の工程で、第１の工程によって測定された引上シ
リコンウェーハ（すなわち化学研磨引上シリコンウェー
ハ）の光透過特性（ここでは透過光強度IOBS）と第２の
工程によって測定された浮遊帯域シリコンウェーハ（す
なわち鏡面研磨浮遊帯域シリコンウェーハ）の光透過特
性（ここでは透過光強度IO）とから引上シリコンウェー
ハの格子間酸素濃度［OiC］を算出する要領は、以下の
とおりである。In a third step, the light transmission characteristics (here, the transmitted light intensity I OBS ) of the pulled silicon wafer (ie, the chemically polished pulled silicon wafer) measured in the first step and the floating measured in the second step. The procedure for calculating the interstitial oxygen concentration [O iC ] of the pulled silicon wafer from the light transmission characteristics (here, the transmitted light intensity I O ) of the band silicon wafer (that is, the mirror-polished floating band silicon wafer) is as follows. is there.
まず、引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度
［OiC］は、引上シリコンウェーハの格子間酸素の振動
に起因した光吸収係数（“引上シリコンウェーハの光吸
収係数”ともいう）αＥと変換係数ｋ（現在3.03×1017
個/cm2と考えられている；以下同様）とを用いて ［OiC］＝ｋαＥ のごとく表現できる。ここで、引上シリコンウェーハの
光吸収係数αＥは、格子間酸素の振動に起因した波数11
06cm-1における肉厚ｄの引上シリコンウェーハの吸光度
Ａとブリュースター角φＢで入射された平行偏光の光路
長ｌ＝1.042dとを用いて、ランベルト−ベールの法則か
ら、 のごとく表現できる。First, the interstitial oxygen concentration of the pulling silicon wafer [O iC] is (also referred to as "light absorption coefficient of the pulling silicon wafer") optical absorption coefficient due to the vibration of the interstitial oxygen in pulling silicon wafer and alpha E Conversion coefficient k (currently 3.03 × 10 17
// cm 2 ; the same applies hereinafter) and [O iC ] = kα E. Here, the light absorption coefficient α E of the pulled silicon wafer is represented by the wave number 11 due to the vibration of interstitial oxygen.
By using the optical path length l = 1.042d parallel polarized light incident in the absorbance A and Brewster angle phi B of pulling the silicon wafer thickness d of 06cm -1, Lambert - from Beer's law, Can be expressed as
引上シリコンウェーハの吸光度Ａは、表裏両面が鏡面
研磨された引上シリコンウェーハ（“鏡面研磨引上シリ
コンウェーハ”ともいう）の光透過特性（ここでは透過
光強度Ｉ）と浮遊帯域シリコンウェーハ（すなわち鏡面
研磨浮遊帯域シリコンウェーハ）の光透過特性（ここで
は透過光強度IO）とを用いて のごとく表現できるので、化学研磨引上シリコンウェー
ハの光透過特性（ここでは透過光強度IOBS）と鏡面研磨
浮遊帯域シリコンウェーハの光透過特性（ここでは透過
光強度IO）と化学研磨引上シリコンウェーハの表面にお
ける光散乱特性（ここでは散乱光強度IS1）と化学研磨
引上シリコンウェーハの裏面における光散乱特性（ここ
では散乱光強度IS2）とを用いて のごとく表現できる。The absorbance A of the lifted silicon wafer is determined by measuring the light transmission characteristics (here, transmitted light intensity I) of the lifted silicon wafer whose front and back surfaces are mirror-polished (also referred to as “mirror-polished lifted silicon wafer”) and the floating band silicon wafer ( In other words, using the light transmission characteristics (here, the transmitted light intensity I O ) of the mirror-polished floating zone silicon wafer The light transmission characteristics of the chemically polished silicon wafer (here, transmitted light intensity I OBS ), the light transmission characteristics of the mirror-polished floating zone silicon wafer (here, transmitted light intensity I O ) and the chemical polishing Using the light scattering characteristics on the front surface of the silicon wafer (here, scattered light intensity I S1 ) and the light scattering characteristics on the back surface of the chemically polished silicon wafer (here, scattered light intensity I S2 ) Can be expressed as
したがって、引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度
［Oic］は、 と求められる。Therefore, the interstitial oxygen concentration [O ic ] of the pulled silicon wafer is Is required.
ここで、 は、化学研磨引上シリコンウェーハの光透過特性（ここ
では透過光強度IOBS）と化学研磨引上シリコンウェーハ
の表面における光散乱特性（ここでは散乱光強度IS1）
と化学研磨引上シリコンウェーハの裏面における光散乱
特性（ここでは散乱光強度IS2）との和と鏡面研磨浮遊
帯域シリコンウェーハの光透過特性（ここでは透過光強
度IO）との比の逆数の自然数である吸光度特性から算出
すればよく、具体的には格子間酸素濃度［Oic］が０で
ない場合の吸光度特性（実線で示す）の波数1106cm-1に
おける値（すなわちピーク値）と格子間酸素濃度
［Oic］が０である場合の吸光度特性（破線で示す）の
波数1106cm-1における値とから第２図に示したごとく求
めればよい。here, Are the light transmission characteristics (here, transmitted light intensity I OBS ) of the chemically polished silicon wafer and the light scattering characteristics (here, scattered light intensity I S1 ) of the surface of the chemically polished silicon wafer.
Reciprocal of the ratio of the sum of the light scattering characteristics (here, the scattered light intensity I S2 ) on the back surface of the chemically polished silicon wafer and the light transmission characteristics (here, the transmitted light intensity I O ) of the mirror-polished floating zone silicon wafer may be calculated from the absorbance characteristic is a natural number, the value (or peak value) at a wave number 1106cm -1 absorbance characteristics when specifically interstitial oxygen concentration [O ics] is not 0 (indicated by a solid line) and grating during the oxygen concentration [O ics] may be determined from the value of wavenumber 1106cm -1 absorbance characteristics when it is 0 (indicated by a broken line) as shown in Figure 2.
（第１の実施例の実行装置） また、第１図および第２図を参照しつつ、本発明にか
かるシリコンウェーハの製造方法の第１の実施例を実行
するための測定装置について、その構成および作用を詳
細に説明する。(Execution device of the first embodiment) The configuration of a measurement device for executing the first embodiment of the method of manufacturing a silicon wafer according to the present invention will be described with reference to FIGS. The operation will be described in detail.
10は、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法を
実行するための測定装置（単に、“測定装置”ともい
う）であって、グローバー灯などの光源11と、光源11か
ら与えられた光を半透明鏡12Aによって２つに分けて可
動鏡12Bおよび固定鏡12Cによって反射せしめたのち重ね
合わせることにより干渉光を形成するマイケルソン干渉
計12と、マイケルソン干渉計12から与えられた光（すな
わち干渉光）を偏光せしめて得た平行偏光を後述の搬送
装置20によって供給された試料（ここでは化学研磨引上
シリコンウェーハ）Ｍおよび対照（ここでは鏡面研磨浮
遊帯域シリコンウェーハ）Ｒに与えるための偏光子13
と、試料Ｍの光透過特性（ここでは平行偏光の透過光強
度IOBS）および対照Ｒの光透過特性（ここでは平行偏光
の透過光強度IO）を検出するための検出器14と、検出器
14に接続されており試料Ｍの光透過特性（すなわち透過
光強度IOBS）および対照Ｒの光透過特性（すなわち透過
光強度IO）から吸光度特性を算出したのち試料Ｍの格子
間酸素濃度を算出するための計算装置15と、計算装置15
によって算出された格子間酸素濃度を基準値（たとえば
上限基準値および下限基準値）と比較するための比較装
置16とを備えている。試料Ｍおよび対照Ｒと検出器14と
の間には、必要に応じ、反射鏡17A,17Bが挿入されてい
る。ちなみに、マイケルソン干渉計12と偏光子13との間
には、必要に応じ、反射鏡（図示せず）が挿入されてい
てもよい。Reference numeral 10 denotes a measurement device (also simply referred to as a “measurement device”) for executing the method of manufacturing a silicon wafer according to the present invention. A Michelson interferometer 12 which is divided into two by a transparent mirror 12A and reflected by a movable mirror 12B and a fixed mirror 12C and then superposed to form an interference light, and a light given by the Michelson interferometer 12 (ie, interference The polarized light for giving parallel polarized light obtained by polarizing the light to the sample (here, chemically polished silicon wafer) M and the control (here, mirror polished floating zone silicon wafer) R supplied by the transfer device 20 described later. Child 13
A detector 14 for detecting the light transmission characteristics of the sample M (here, the transmitted light intensity I OBS of parallel polarized light) and the light transmission characteristics of the control R (here, the transmitted light intensity I O of parallel polarized light); vessel
14 and calculates the absorbance characteristics from the light transmission characteristics of the sample M (that is, the transmitted light intensity I OBS ) and the light transmission characteristics of the control R (that is, the transmitted light intensity I O ), and then calculates the interstitial oxygen concentration of the sample M. Calculation device 15 for calculating, and calculation device 15
And a comparison device 16 for comparing the interstitial oxygen concentration calculated by the above with a reference value (for example, an upper limit reference value and a lower limit reference value). Reflectors 17A and 17B are inserted between the sample M and the control R and the detector 14 as needed. Incidentally, a reflection mirror (not shown) may be inserted between the Michelson interferometer 12 and the polarizer 13 as necessary.
搬送装置20は、試料Ｍおよび対照Ｒをそれぞれ搬送容
器T11,T12から１つずつ押し出すための押出部材と、押
出部材21によって押し出された試料Ｍおよび対照Ｒを１
つずつ一端部から他端部へ搬送するための搬送ペルト22
と、搬送ベルト22の他端部においては試料Ｍおよび対照
Ｒを１つずつ把持して測定領域まで搬送し測定領域で回
転装置23Aにより試料Ｍおよび対照Ｒを回転せしめて平
行偏光に対しブリュースター角φＢに保持し格子間酸素
濃度の測定が終了したのち再び回転装置23Aにより試料
Ｍおよび対照Ｒを当初の状態まで回転せしめて測定領域
から除去するための把持部材23と、把持と23によって測
定領域から除去された開放された試料Ｍおよび対照Ｒを
一端部で受け取って他端部に配置された搬送容器T21,T
22,T23,T24まで搬送するための他の搬送ベルト24とを備
えている。対照Ｒは、搬送容器T12に対して収容されて
いるが、搬送容器T11に試料Ｍとともに収容されていて
もよい（このときには搬送容器T12が除去される）。搬
送容器T21,T22,T23,T24は、それぞれ、たとえば格子間
酸素濃度が上限の基準値を超えた不良の試料Ｍを収容す
るための搬送容器と、格子間酸素濃度が上限の基準値と
下限の基準値との間にある良好な試料Ｍを収容するため
の搬送容器と、格子間酸素濃度がの下限の基準値に達し
ない不良の試料Ｍを収容するための搬送容器と、対照Ｒ
を収容するための搬送容器として準備されており、測定
装置10の比較装置16による比較の結果に応じて試料Ｒを
受け取り、また対照Ｒを受け取るために搬送ベルト24の
他端部に移動される。The transfer device 20 includes an extruding member for extruding the sample M and the control R one by one from the transfer containers T 11 and T 12 , respectively, and a sample M and a control R extruded by the extruding member 21.
Transport pelt 22 for transporting one end at a time to the other
At the other end of the conveyor belt 22, the sample M and the control R are gripped one by one and conveyed to the measurement area, and the sample M and the control R are rotated by the rotating device 23A in the measurement area so that Brewster a gripping member 23 for removing from the measurement region rotated again by the rotation device 23A later for holding the corner phi B is the measurement of the interstitial oxygen concentration has been completed sample M and the control R to the initial state, by gripping and 23 The open sample M and the control R removed from the measurement area are received at one end, and the transport containers T 21 and T arranged at the other end.
And a further conveyor belt 24 for conveying to 22, T 23, T 24. Control R has been accommodated with respect to the transport container T 12, which may be accommodated with the sample M (in this case the transport containers T 12 is removed) in the transport container T 11. The transport containers T 21 , T 22 , T 23 , and T 24 are, for example, a transport container for storing a defective sample M in which the interstitial oxygen concentration exceeds the upper limit reference value, and the interstitial oxygen concentration has the upper limit. A transport container for accommodating a good sample M between the reference value and the lower reference value, and a transport container for accommodating a defective sample M whose interstitial oxygen concentration does not reach the lower reference value. , Control R
Is prepared as a transport container for receiving the sample R in accordance with the result of the comparison by the comparing device 16 of the measuring device 10 and moved to the other end of the transport belt 24 to receive the control R. .
しかして、測定装置10では、光源11から与えられた光
からマイケルソン干渉計12によって作成された干渉光
が、偏光子13によって平行偏光とされたのち、搬送装置
20によって搬送容器T11,T12から１つずつ押し出された
のち測定領域まで搬送され保持された試料Ｍおよび対照
Ｒに対しブリュースター角φＢで入射される。Thus, in the measuring device 10 , the interference light generated by the Michelson interferometer 12 from the light supplied from the light source 11 is converted into parallel polarized light by the polarizer 13, and then the carrier device
To the sample M and the control R which is conveyed to the measurement area after being pushed out one by one from the transport container T 11, T 12 is held by 20 is incident at the Brewster angle phi B.
試料Ｍおよび対照Ｒでは、その光学特性に応じて吸収
ならびに散乱が行なわれるので、検出器14による検出結
果から計算装置15によって算出された吸光度特性は、第
３図に示したごとき形状となる。In the sample M and the control R, absorption and scattering are performed in accordance with the optical characteristics. Therefore, the absorbance characteristics calculated by the calculation device 15 from the detection results by the detector 14 have the shapes shown in FIG.
計算装置15は、第３図もしくはこれに相当する表から を求めたのち試料（すなわち化学研磨引上シリコンウェ
ーハ）Ｍの光吸収係数αＥを のごとく算出し、更に試料（すなわち化学研磨引上シリ
コンウェーハ）Ｍの格子間酸素濃度［Oic］を のごとく算出する。The calculation device 15 is obtained from FIG. 3 or a table corresponding thereto. , The light absorption coefficient α E of the sample (that is, the chemically polished silicon wafer) M is calculated as Further, the interstitial oxygen concentration [ Oic ] of the sample (ie, the chemically polished silicon wafer) M is calculated as follows . Calculate as
そののち、比較装置16が、計算装置15によって算出さ
れた試料（すなわち化学研磨引上シリコンウェーハ）Ｍ
の格子間酸素濃度［Oic］を基準値（たとえば上限基準
値および下限基準値）と比較する。Thereafter, the comparison device 16 calculates the sample (ie, the chemically polished silicon wafer) M calculated by the calculation device 15.
Is compared with a reference value (for example, an upper reference value and a lower reference value).
比較装置16の比較結果は、搬送装置20に与えられてお
り、試料Ｍおよび対照Ｒを搬送容器T21,T22,T23,T24に
収容するために利用される。Comparison result of the comparison device 16 is supplied to the conveying device 20 is utilized to accommodate the sample M and control R to transport containers T 21, T 22, T 23 , T 24.
（第２の実施例） 更に、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法の
第２の実施例について、その構成および作用を詳細に説
明する。Second Embodiment Further, the configuration and operation of a second embodiment of the method of manufacturing a silicon wafer according to the present invention will be described in detail.
第２の実施例は、ゲッタリング工程に先行する格子間
酸素濃度の測定工程に加え、ゲッタリング工程に後続し
て格子間酸素濃度の測定工程を実行してなることを除
き、第１の実施例と同一の構成を有している。The second embodiment is similar to the first embodiment except that the interstitial oxygen concentration measurement step is performed after the gettering step and the interstitial oxygen concentration measurement step is performed after the gettering step. It has the same configuration as the example.
ゲッタリング工程に後続する格子間酸素濃度の測定工
程は、ゲッタリング工程に先行する格子間酸素濃度の測
定工程すなわち第１の実施例の測定工程と同一の構成を
有している。The step of measuring the interstitial oxygen concentration subsequent to the gettering step has the same configuration as the step of measuring the interstitial oxygen concentration preceding the gettering step, that is, the measuring step of the first embodiment.
したがって、第２の実施例は、上述の第１の実施例を
参照すれば容易に理解できようから、ここでは、これ以
上の説明を省略する。Therefore, the second embodiment can be easily understood by referring to the above-described first embodiment, and further description is omitted here.
（第３の実施例） 加えて、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法
の第３の実施例について、その構成および作用を詳細に
説明する。Third Embodiment In addition, the configuration and operation of a third embodiment of the method of manufacturing a silicon wafer according to the present invention will be described in detail.
第３の実施例は、ゲッタリング工程に先行する格子間
酸素濃度の測定工程に代え、ゲッタリング工程に後続し
て格子間酸素濃度の測定工程を実行してなることを除
き、第１の実施例と同一の構成を有している。The third embodiment is similar to the first embodiment except that the step of measuring the interstitial oxygen concentration is performed after the gettering step, instead of the step of measuring the interstitial oxygen concentration preceding the gettering step. It has the same configuration as the example.
ゲッタリング工程に後続する格子間酸素濃度の測定工
程は、第１の実施例の測定工程と同一の構成を有してい
る。The measurement process of the interstitial oxygen concentration subsequent to the gettering process has the same configuration as the measurement process of the first embodiment.
したがって、第３の実施例は、上述の第１の実施例を
参照すれば容易に理解できようから、ここでは、これ以
上の説明を省略する。Therefore, the third embodiment can be easily understood by referring to the above-described first embodiment, and further description is omitted here.
（具体例） 併せて、本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法
の理解を促進する目的で、具体的な数値などを挙げて説
明する。ここでは、便宜上、上述の第１の実施例の場合
について説明する。(Specific Example) In addition, for the purpose of promoting understanding of the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention, specific numerical values will be described. Here, for convenience, the case of the above-described first embodiment will be described.
実施例１〜22 引上シリコンウェーハは、まず、表裏両面が化学研磨
された状態（すなわち化学研磨引上シリコンウェーハの
状態）で、本発明にかかる製造方法にしたがって格子間
酸素濃度［Oic］が測定された（第１表参照）。Examples 1 to 22 First, the pulled silicon wafer was subjected to chemical polishing on both the front and back surfaces (that is, the state of the chemically polished pulled silicon wafer), and the interstitial oxygen concentration [ Oic ] according to the manufacturing method according to the present invention. Was measured (see Table 1).
そののち、引上シリコンウェーハは、表裏両面が鏡面
研磨され、この状態（すなわち鏡面研磨引上シリコンウ
ェーハの状態）で、本発明にかかる製造方法にしたがっ
て格子間酸素濃度［Oic］＊が測定された（第１表参
照）。After that, the pulled silicon wafer is mirror-polished on both front and back surfaces, and in this state (ie, the state of the mirror-polished pulled silicon wafer), the interstitial oxygen concentration [ Oic ] * is measured according to the manufacturing method according to the present invention. (See Table 1).
化学研磨引上シリコンウェーハについて測定された格
子間酸素濃度［Oic］と鏡面研磨引上シリコンウェーハ
について測定された格子間酸素濃度［Oic］＊とは、そ
れぞれを縦軸Ｙおよび横軸Ｘとするグラフ上にプロット
したところ、第４図に示すとおり、直線Ｙ＝Ｘ上にあっ
て十分に一致していた。The interstitial oxygen concentration [O ic ] measured for the chemically polished silicon wafer and the interstitial oxygen concentration [O ic ] * measured for the mirror polished silicon wafer are represented by a vertical axis Y and a horizontal axis X, respectively. As shown in FIG. 4, the plots were on the straight line Y = X, and sufficiently matched.
これにより、本発明によれば、化学研磨引上シリコン
ウェーハおよび鏡面研磨浮遊帯域シリコンウェーハをそ
のまま試料および対照として採用することにより、引上
シリコンウェーハの格子間酸素濃度［Oic］を製造ライ
ン中で直接に測定できることが判明した。Thus, according to the present invention, the interstitial oxygen concentration [O ic ] of the pulled silicon wafer in the production line can be determined in the production line by using the chemically polished pulled silicon wafer and the mirror polished floating zone silicon wafer as a sample and a control as they are. It was found that it could be measured directly.
（変形例） なお、上述では、マイケルソン干渉計12を利用した場
合についてのみ説明したが、本発明は、こ れに限定されるものではなく、マイケルソン干渉計に代
え分光器を利用する場合をも包摂している。(Modification) Although only the case where the Michelson interferometer 12 is used has been described above, the present invention The present invention is not limited to this, and includes a case where a spectroscope is used instead of the Michelson interferometer.
また、格子間酸素濃度の測定工程が化学研磨工程に後
続したゲッタリング工程の前後で実行される場合につい
てのみ説明したが、本発明は、これらに限定されるもの
ではなく、格子間酸素濃度の測定工程が化学研磨工程に
後続し鏡面研磨工程に先行する他の所望の箇所（たとえ
ばシリコンウェーハの検査工程）で実行される場合も包
摂している。Further, only the case where the measurement step of the interstitial oxygen concentration is performed before and after the gettering step following the chemical polishing step has been described, but the present invention is not limited to these, and the present invention is not limited thereto. The case where the measurement step is performed at another desired place (for example, a silicon wafer inspection step) following the chemical polishing step and preceding the mirror polishing step is also included.
（３）発明の効果 上述より明らかなように、本発明にかかるシリコンウ
ェーハの製造方法は、上述の［問題点の解決手段］の欄
に開示したごとく、化学研磨工程で表裏両面が化学研磨
された未鏡面研磨の引上シリコンウェーハの光透過特性
と表裏両面が鏡面研磨された浮遊帯域シリコンウェーハ
の光透過特性とから引上シリコンウェーハの格子間酸素
濃度を算出し基準値と比較することにより格子間酸素濃
度が不良の引上シリコンウェーハを排除しているので、 （ｉ）表裏両面が鏡面研磨された浮遊帯域シリコンウェ
ーハを加工することなく鏡面のままで使用可能とできる
効果 を有し、ひいては （ii）引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度の測定作
業を簡潔とできる効果 を有し、これにより （iii）引上シリコンウェーハの格子間酸素濃度を製造
ライン中の所望の箇所で全数検査によって測定可能とで
きる効果 を有し、結果的に （iv）製造ラインの生産性を改善できる効果 を有する。(3) Effects of the Invention As is clear from the above description, the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention is characterized in that the front and back surfaces are chemically polished in the chemical polishing step as disclosed in the section of [Means for Solving the Problems]. By calculating the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer from the light transmission characteristics of the unmirror-polished silicon wafer and the light transmission characteristics of the floating zone silicon wafer with mirror-polished front and back surfaces, and comparing with the reference value Since the lifted silicon wafer having a poor interstitial oxygen concentration is excluded, (i) there is an effect that the mirror surface can be used as it is without processing the floating zone silicon wafer whose front and rear surfaces are mirror-polished, As a result, (ii) the effect of simplifying the measurement operation of the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer is achieved, and (iii) the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer is thereby reduced. It has the effect of enabling measurement by total inspection at a desired point in the production line, with a consequently (iv) effect of improving the productivity of the production line.
第１図は本発明にかかるシリコンウェーハの製造方法の
第１の実施例を実行するための製造装置を示す簡略構成
図、第２図は本発明にかかるシリコンウェーハの製造方
法の第１の実施例を実行するための搬送装置を示す簡略
構成図、第３図および第４図は本発明にかかるシリコン
ウェーハの製造方法の一実施例を説明するための説明図
である。10 ……測定装置 11……光源 12……マイケルソン干渉計 12A……半透明鏡 12B……可動鏡 12C……固定鏡 13……偏光子 14……検出器 15……計算装置 16……比較装置 17A,17B……反射鏡20 ……搬送装置 21……押出部材 22……搬送ベルト 23……把持部材 23A……回転装置 24……搬送ベルト Ｍ……試料 Ｒ……対照 T11,T12……搬送容器 T21〜T24……搬送容器FIG. 1 is a simplified configuration diagram showing a manufacturing apparatus for performing a first embodiment of a method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention, and FIG. 2 is a first embodiment of a method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention. FIGS. 3 and 4 are schematic diagrams showing a transfer device for carrying out the example, and FIGS. 3 and 4 are explanatory views for explaining one embodiment of the method for manufacturing a silicon wafer according to the present invention. 10 Measurement device 11 Light source 12 Michelson interferometer 12A Translucent mirror 12B Movable mirror 12C Fixed mirror 13 Polarizer 14 Detector 15 Calculation device 16 comparator 17A, 17B ...... reflector 20 ...... conveying device 21 ...... extrusion member 22 ...... conveyor belt 23 ...... gripping member 23A ...... rotating device 24 ...... conveyor belt M ...... sample R ...... control T 11, T 12 …… Transport container T 21 〜T 24 …… Transport container
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｚ (56)参考文献 特開 昭56−160643（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−154648（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−132935（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−83135（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−71934（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/66 G01N 21/21 G01N 21/59 G01R 31/26 H01L 21/304Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 identification code FI H01L 21/66 H01L 21 / 66Z (56) References JP-A-56-166063 (JP, A) JP-A-56-154648 (JP, A JP-A-1-132935 (JP, A) JP-A-64-83135 (JP, A) JP-A-55-71934 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 21/66 G01N 21/21 G01N 21/59 G01R 31/26 H01L 21/304
Claims (1)
ーハに対し化学研磨行程を含む一連の処理工程を施すこ
とにより引上シリコンウェーハを作成してなるシリコン
ウェーハの製造方法において、 （ａ）化学研磨工程で表裏両面が化学研磨された未鏡面
研磨の引上シリコンウェーハに対し平行偏光をブリュー
スター角で入射せしめることにより引上シリコンウェー
ハの光透過特性を測定するための第１の工程と、 （ｂ）表裏両面が鏡面研磨された対照としての浮遊帯域
シリコンウェーハに対し平行偏光をブリュースター角で
入射せしめることにより浮遊帯域シリコンウェーハの光
透過特性を測定するための第２の工程と、 （ｃ）第１の工程によって測定された引上シリコンウェ
ーハの光透過特性と第２の工程によって測定された浮遊
帯域シリコンウェーハの光透過特性とから引上シリコン
ウェーハの格子間酸素濃度を算出するための第３の工程
と、 （ｄ）第３の工程によって算出された引上シリコンウェ
ーハの格子間酸素濃度を基準値と比較するための第４の
工程と、 （ｅ）第４の工程によって比較された結果に応じ格子間
酸素濃度が不良の引上シリコンウェーハを排除するため
の第５の工程と を備えてなることを特徴とするシリコンウェーハの製造
方法。1. A method of manufacturing a silicon wafer by producing a pulled silicon wafer by subjecting a wafer cut from a pulled silicon single crystal to a series of processing steps including a chemical polishing step. A first step for measuring the light transmission characteristics of the pulled silicon wafer by allowing parallel polarized light to enter at a Brewster angle with respect to the non-mirror polished pulled silicon wafer whose front and rear surfaces are chemically polished in the polishing step; (B) a second step of measuring the light transmission characteristics of the floating band silicon wafer by injecting parallel polarized light at a Brewster angle into the floating band silicon wafer as a control whose front and rear surfaces are mirror-polished; c) the light transmission characteristics of the lifted silicon wafer measured by the first step and the floating band measured by the second step A third step for calculating the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer from the light transmission characteristics of the recon wafer, and (d) a reference based on the interstitial oxygen concentration of the pulled silicon wafer calculated in the third step. And (e) a fifth step for eliminating a pulled-up silicon wafer having a poor interstitial oxygen concentration according to the result of the comparison in the fourth step. A method for producing a silicon wafer.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2224712A JP2855474B2 (en) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | Silicon wafer manufacturing method |
| KR1019910013266A KR0156939B1 (en) | 1990-07-31 | 1991-07-31 | Method of measuring interstitial oxygen concentration |
| US07/738,043 US5287167A (en) | 1990-07-31 | 1991-07-31 | Method for measuring interstitial oxygen concentration |
| EP91112865A EP0469572B1 (en) | 1990-07-31 | 1991-07-31 | A method measuring interstitial oxygen concentration |
| DE69130245T DE69130245T2 (en) | 1990-07-31 | 1991-07-31 | Method of measuring interstitial oxygen concentration |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2224712A JP2855474B2 (en) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | Silicon wafer manufacturing method |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04106948A JPH04106948A (en) | 1992-04-08 |
| JP2855474B2 true JP2855474B2 (en) | 1999-02-10 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2224712A Expired - Fee Related JP2855474B2 (en) | 1990-07-31 | 1990-08-27 | Silicon wafer manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2855474B2 (en) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5571934A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-30 | Hitachi Ltd | Method of evaluating impurity doping amount in semiconductor |
| JPS56154648A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-30 | Fujitsu Ltd | Measurement of semiconductor impurity concentration |
| JPS56160643A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-10 | Fujitsu Ltd | Measuring method for impurity concentration and distribution thereof |
| JPS6483135A (en) * | 1987-09-25 | 1989-03-28 | Hitachi Ltd | Measuring apparatus of polarized infrared ray for thin film |
| JPH01132935A (en) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Kawasaki Steel Corp | Method and apparatus for analyzing film |
-
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|---|---|
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