JP2843895B2 - Exposure equipment - Google Patents
Exposure equipmentInfo
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- exposure
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- exposure amount
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造用露光装置
に関し、特にＩＣ、ＬＳＩ等の製造に使用される半導体
回路パターン焼付装置の焼付露光量を最適にするための
改良を施した露光装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor, and more particularly, to an exposure apparatus which is improved to optimize a printing exposure amount of a semiconductor circuit pattern printing apparatus used for manufacturing ICs and LSIs. It is about.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の露光装置は特公昭６１−３４２５
２号に記載されているように、被記録体からの光又は被
写体を照明する光の強度を光電検出器で検出し、この検
出値に対応する周波数の出力パルスを得て、このパルス
を計数し、所定のパルス数に達した際にシャッターを閉
じる構成である。このような露光量制御において、シャ
ッターの動作遅れ時間すなわちシャッターの閉じ信号が
発生してから、シャッターが完全に閉じるまでの時間遅
れを補正するためシャッター開動作時にシャッター作動
遅れ時間に対応するパルス数を計数し、このパルス数を
考慮してシャッター閉じ信号の発生タイミングを補正す
るものであった。2. Description of the Related Art A conventional exposure apparatus is disclosed in JP-B-61-3425.
As described in No. 2, the intensity of light from a recording medium or light illuminating a subject is detected by a photoelectric detector, an output pulse having a frequency corresponding to the detected value is obtained, and this pulse is counted. The shutter is closed when a predetermined number of pulses is reached. In such exposure amount control, the number of pulses corresponding to the shutter operation delay time during the shutter opening operation in order to correct the shutter operation delay time, that is, the time delay from when the shutter close signal is generated to when the shutter is completely closed. Is counted, and the generation timing of the shutter closing signal is corrected in consideration of the number of pulses.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、シャッター作動が遅れ時間がある一定値に
固定されていたため、シャッターの形状にバラつきがあ
る場合、シャッター作動遅れ時間がシャッターの形状バ
ラつきに応じてバラつくため、またシャッターの取付位
置が照明光の光軸に対してずれていた場合、シャッター
開動作時にシャッター作動遅れ時間分計数したパルスが
シャッター閉動作時に得られるシャッター作動遅れ時間
分のパルス数と一致せず、このため焼付露光量が、目標
値と一致しないという欠点があった。However, in the above-mentioned prior art, the shutter operation delay time is fixed to a certain constant value. Therefore, when the shutter shape varies, the shutter operation delay time varies with the shutter shape variation. If the position of the shutter is displaced from the optical axis of the illumination light, the pulse counted for the shutter operation delay time during the shutter opening operation is equivalent to the shutter operation delay time obtained during the shutter closing operation. There is a drawback that the number of pulses does not coincide with the number of pulses, and therefore, the print exposure does not coincide with the target value.
【０００４】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みなさ
れたものであって、シャッター形状や取付位置のばらつ
きにかかわらず焼付露光量を目標値と一致させることが
できる露光装置の提供を目標とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and has as its object to provide an exposure apparatus capable of making a printing exposure amount equal to a target value irrespective of variations in shutter shape and mounting position. I do.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、被記録体を露光するための露光光を発生
する光源ランプと、光源ランプと被記録体の間の露光光
路に配置され露光光路を開閉するシャッターと、シャッ
ターを通過した光源ランプからの露光光を検出する光検
出器を有し、シャッター閉指令に応じてシャッターが開
状態から閉状態になるまでに要する時間をシャッター作
動遅れ時間として設定し、シャッター開指令に応じてシ
ャッターが閉状態から開状態へなる際、設定されたシャ
ッター作動遅れ時間の間に光検出器の検出値に基づいて
求められる露光量を補正量として求め、シャッター開指
令の発生後から光検出器の検出値に基づいて求められる
実露光量と予め設定されている目標露光量が補正量分だ
け補正された状態で一致した際にシャッター閉指令を発
生させ、シャッター閉指令に応じてシャッターを開状態
から閉状態とすることにより被記録体の露光を行なう露
光装置において、シャッター開指令に応じてシャッター
が閉状態から開状態となった後でシャッター閉指令に応
じてシャッターが開状態から閉状態となるまでの間に光
検出器の検出値に基づいて求められる実露光量と目標露
光量を比較し、両者が一致しない際にはシャッター作動
遅れ時間を補正する補正手段を有することを特徴とす
る。また、シャッターが露光光路を開閉するためのシャ
ッター羽根を複数有する場合には、通常、補正手段はシ
ャッター羽根ごとにシャッター作動遅れ時間を補正す
る。In order to achieve the above object, the present invention provides a light source lamp for generating exposure light for exposing a recording medium and an exposure light path between the light source lamp and the recording medium. A shutter that opens and closes the exposure light path, and a photodetector that detects exposure light from a light source lamp that has passed through the shutter, and determines the time required for the shutter to change from the open state to the closed state in response to a shutter close command. When the shutter changes from the closed state to the open state in response to the shutter open command, the exposure amount calculated based on the detection value of the photodetector during the set shutter operation delay time is set as the operation delay time. After the shutter open command is generated, the actual exposure amount obtained based on the detection value of the photodetector and the preset target exposure amount are corrected by the correction amount. When a shutter is closed, a shutter close command is generated, and the shutter is changed from an open state to a closed state in response to the shutter close command. After the shutter is opened, the actual exposure amount and the target exposure amount, which are obtained based on the detection value of the photodetector, are compared between the open state and the closed state in response to the shutter closing command. A feature is provided in that a correction means is provided for correcting the shutter operation delay time when they do not match. When the shutter has a plurality of shutter blades for opening and closing the exposure optical path, the correcting means normally corrects the shutter operation delay time for each shutter blade.
【０００６】[0006]
【実施例】図１は、本発明の第一の実施例に係わる半導
体回路パターン焼付け装置を示す。図中、１は光源とな
るランプである。２はランプ１によって照明されるマス
クであり半導体回路パターンが形成されている。３はウ
エハでありマスク２の回路パターンがその上面に形成さ
れる。４はランプ１からの照明光を遮断するシャッター
である。５はシャッター４を通過した光の強度を検出す
る光センサーである。この光センサー５によって検出さ
れた光強度はアンプ６によって電圧信号に変換される。
７は電圧信号を周波数信号に変換するＶ／Ｆコンバータ
である。８はＶ／Ｆコンバータ７からのパルス数をカウ
ントするパルスカウンタである。９は露光制御を行うＣ
ＰＵである。１０は前記シャッター４を開閉駆動する駆
動回路である。FIG. 1 shows a semiconductor circuit pattern printing apparatus according to a first embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a lamp serving as a light source. Reference numeral 2 denotes a mask illuminated by the lamp 1, on which a semiconductor circuit pattern is formed. Reference numeral 3 denotes a wafer on which a circuit pattern of the mask 2 is formed. Reference numeral 4 denotes a shutter that blocks illumination light from the lamp 1. Reference numeral 5 denotes an optical sensor that detects the intensity of light that has passed through the shutter 4. The light intensity detected by the light sensor 5 is converted into a voltage signal by the amplifier 6.
Reference numeral 7 denotes a V / F converter for converting a voltage signal into a frequency signal. Reference numeral 8 denotes a pulse counter for counting the number of pulses from the V / F converter 7. 9 is C for performing exposure control.
PU. Reference numeral 10 denotes a drive circuit for driving the shutter 4 to open and close.
【０００７】上記構成の露光装置による露光シーケンス
を図３に示す。露光を行う場合、露光すべき目標露光量
が露光量設定器１１よりＣＰＵ９に与えられる。ＣＰＵ
９は目標露光量をＲＡＭ１２に格納し（ステップ２
０）、シャッター駆動回路１０に対しシャッター開指令
を発生し（ステップ２１）、シャッター４を開駆動す
る。シャッター４が開くとランプ１からの露光光がシャ
ッター４を通過し、マスク２を通してウエハ３を照明す
ると同時に光センサー５に入射し、アンプ６で電圧信号
に変換され、さらにＶ／Ｆコンバータ７によりパルス列
に変換される。このパルス数はパルスカウンタ８により
計数される。ＣＰＵ９はシャッター開指令を発生した時
刻よりシャッター作動遅れ時間の計測を開始する（ステ
ップ２２）。この計測はあらかじめ不揮発生メモリＮＶ
ＲＡＭ１４に格納されていたシャッター作動遅れ時間値
だけ発振器１３の出力パルスを計数することにより行わ
れる。この計測が終了すると（ステップ２３）、パルス
カウンタの計数値（シャッター作動遅れ時間分露光量）
を読み（ステップ２４）、ＲＡＭ１２に格納しておいた
目標露光量より遅れ時間分露光量を引いた露光量（補正
露光量）を計算し、ＲＡＭ１２に格納する（ステップ２
５）。FIG. 3 shows an exposure sequence performed by the exposure apparatus having the above configuration. When performing exposure, a target exposure amount to be exposed is given from the exposure amount setting unit 11 to the CPU 9. CPU
9 stores the target exposure amount in the RAM 12 (step 2).
0), a shutter open command is issued to the shutter drive circuit 10 (step 21), and the shutter 4 is driven to open. When the shutter 4 opens, the exposure light from the lamp 1 passes through the shutter 4, illuminates the wafer 3 through the mask 2 and simultaneously enters the optical sensor 5, is converted into a voltage signal by the amplifier 6, and is further converted by the V / F converter 7. It is converted into a pulse train. This pulse number is counted by the pulse counter 8. The CPU 9 starts measuring the shutter operation delay time from the time when the shutter open command is generated (step 22). This measurement is performed in advance in the nonvolatile memory NV
This is performed by counting the output pulses of the oscillator 13 by the shutter operation delay time value stored in the RAM 14. When this measurement is completed (step 23), the count value of the pulse counter (exposure amount for the shutter operation delay time)
(Step 24), calculate the exposure amount (corrected exposure amount) by subtracting the exposure amount for the delay time from the target exposure amount stored in the RAM 12, and store it in the RAM 12 (Step 2).
5).
【０００８】次にＣＰＵ９はパルスカウンタ８の計数値
を読み（ステップ２６）、計数値がＲＡＭ１２に格納し
た補正露光量と一致するまでループする（ステップ２
７）。両者が一致したら、ＣＰＵ９はシャッター駆動回
路１０に対しシャッター閉指令を発生し（ステップ２
８）、シャッター４が閉じて露光が終了する。Next, the CPU 9 reads the count value of the pulse counter 8 (step 26), and loops until the count value matches the corrected exposure amount stored in the RAM 12 (step 2).
7). If they match, the CPU 9 issues a shutter close command to the shutter drive circuit 10 (step 2).
8) The shutter 4 closes and the exposure ends.
【０００９】図２はシャッター４の構造例を示す。この
例は３枚の羽根Ａ１５、Ｂ１６、Ｃ１７をもつ円板をモ
ーター１８で回転駆動させる構成である。図２の状態は
羽根Ａ１５によりビーム１９が遮断されている閉の状態
であり、円板を６０°矢印方向に回転させると開状態と
なり照明光１９が通過する。さらに６０°矢印方向に回
転させると羽根Ｂ１６により、照明光１９が遮断され閉
の状態となる。シャッター作動遅れ時間とは、シャッタ
ー４が開状態から閉状態になるまでに要する時間であ
る。シャッター４の各羽根Ａ１５、Ｂ１６、Ｃ１７の割
出角度のバラつき、およびシャッター４とビーム１９の
位置関係のバラつきにより、シャッター作動遅れ時間は
各羽根毎と、各シャッター毎において一定値ではなく、
微小量バラつく。FIG. 2 shows an example of the structure of the shutter 4. In this example, a disk having three blades A15, B16, and C17 is driven to rotate by a motor 18. The state shown in FIG. 2 is a closed state in which the beam 19 is blocked by the blade A15. When the disk is rotated in the direction of the arrow 60 °, the state is opened and the illumination light 19 passes. When it is further rotated in the direction of the arrow by 60 °, the illuminating light 19 is cut off by the blade B16, and the blade is closed. The shutter operation delay time is a time required for the shutter 4 to change from the open state to the closed state. Due to variations in the index angles of the blades A15, B16, and C17 of the shutter 4, and variations in the positional relationship between the shutter 4 and the beam 19, the shutter operation delay time is not a constant value for each blade and for each shutter.
Minute variations.
【００１０】以上のことを図を用いてさらに詳細に説明
する。図８（Ａ）は、シャッター４の各羽根Ａ１５、Ｂ
１６、Ｃ１７の割出角度のバラつきがなく、かつ照明光
のビーム１９に対してシャッター４の位置関係が理想的
な場合のシャッターの開閉動作と、シャッターの後の光
強度の変化の様子を示す。図中シャッターの開閉動作を
実線で示し、これに伴う光強度の変化を一点鎖点で示
す。いま時刻にシャッターの開動作が開始されると、
それに伴い光強度は、ゼロよりランプ１の輝度により決
まる最大値まで増加する。その後時刻でシャッターの
開動作が終了し、そのままの状態で露光が続行する。こ
の後時刻でシャッター閉動作が開始され、それに伴い
光強度は前記最大値より、ゼロまで減少する。その後時
刻でシャッターの閉動作が終了し、露光が終了する。
このとき、シャッター作動遅れ時間とは、前記時刻か
らまでの時間であり、この間に得られる露光量（Ｖ／
Ｆコンバータのパルス数）は図中８−Ａ２で示す斜線部
の台形の面積に等しい。いま図８（Ａ）で示す露光の場
合、シャッター作動遅れ時間は、前記時刻からまで
の時間に等しく、また、シャッター開動作開始からシャ
ッター作動遅れ時間の間だけ計数したＶ／Ｆコンバータ
の出力パルス数（露光量）は図８（Ａ）の８−Ａ１で示
す斜線部の台形の面積となり、これが前記８−Ａ２の面
積と一致する。このとき、図８（Ａ）で示す露光の実際
の露光量は目標露光量と一致する。この場合の時刻か
らまでの時間を以後シャッター作動遅れ時間と定める
ものとする。The above will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 8A shows the blades A15 and B of the shutter 4.
16 shows the opening and closing operation of the shutter and the change of the light intensity after the shutter when there is no variation in the index angles of C16 and C17 and the positional relationship of the shutter 4 is ideal with respect to the beam 19 of the illumination light. . In the drawing, the opening / closing operation of the shutter is indicated by a solid line, and the change in light intensity associated with the opening / closing operation is indicated by a one-dot chain point. When the shutter opening operation starts at the current time,
Accordingly, the light intensity increases from zero to a maximum value determined by the brightness of the lamp 1. Thereafter, at a time, the shutter opening operation is completed, and the exposure is continued as it is. At a later time, the shutter closing operation is started, and accordingly, the light intensity decreases from the maximum value to zero. At a later time, the shutter closing operation ends, and the exposure ends.
At this time, the shutter operation delay time is the time from the above-mentioned time, and the exposure amount (V /
The number of pulses of the F converter is equal to the area of the trapezoid in the hatched area indicated by 8-A2 in the figure. In the case of the exposure shown in FIG. 8A, the shutter operation delay time is equal to the time from the above time, and the output pulse of the V / F converter counted only during the shutter operation delay time from the start of the shutter opening operation. The number (exposure amount) is the area of the trapezoid in the hatched area indicated by 8-A1 in FIG. At this time, the actual exposure amount of the exposure shown in FIG. 8A matches the target exposure amount. In this case, the time from the time is hereinafter referred to as a shutter operation delay time.
【００１１】次に、図８（Ｂ）はシャッター羽根Ａ１
５、Ｂ１６、Ｃ１７の割り出し角度にバラつきがあった
場合の例である。本例では前記図２のように羽根Ａ１５
により照明光のビーム１９が遮断された状態で露光が開
始され、シャッター羽根が６０°矢印方向に回転するこ
とによりシャッター開状態となり、さらに６０°矢印方
向に回転することにより、羽根Ｂ１６によりビーム１９
が遮断され、露光が終了する。ここで、このような３枚
の羽根を有するシャッターの場合各羽根の割り出し角度
は理想的にはそれぞれ６０°であるが、実際の例とし
て、羽根Ａ１５が６０°より小さく、羽根Ｂ１６が６０
°より大きい割り出し角度の場合、シャッター開動作終
了時刻は’、シャッター閉動作終了時刻は’となり
時刻から’までの時間は、シャッター作動遅れ時間
よりも短く、時刻から’までの時間はシャッター遅
れ時間よりも長くなる。このためシャッター閉動作時に
シャッター遅れ時間の間に得られる露光量８−Ｂ２とシ
ャッター開時にシャッター遅れ時間分だけ計測した露光
量８−Ｂ１は各時間における光強度変化（増加減少）の
様子が対称とならず、両者は一致しない。従って図８
（Ｂ）での露光で実際に得られる総露光量と目標露光量
との間には誤差が生じて両露光量は一致しない。Next, FIG. 8B shows a shutter blade A1.
This is an example in which the index angles of 5, B16, and C17 vary. In this example, as shown in FIG.
Exposure is started in a state where the beam 19 of the illumination light is blocked by the shutter blade, and the shutter blade is rotated in the direction of the arrow 60 ° to open the shutter, and further rotated in the direction of the arrow 60 °, so that the beam 19 is
Is shut off, and the exposure ends. Here, in the case of such a shutter having three blades, the index angle of each blade is ideally 60 °, but as a practical example, the blade A15 is smaller than 60 ° and the blade B16 is 60 °.
When the index angle is greater than °, the shutter open operation end time is ', the shutter close operation end time is', and the time from time to 'is shorter than the shutter operation delay time, and the time from time to' is the shutter delay time. Longer than Therefore, the exposure amount 8-B2 obtained during the shutter delay time when the shutter is closed and the exposure amount 8-B1 measured for the shutter delay time when the shutter is opened are symmetric in light intensity change (increase / decrease) at each time. And they do not match. Therefore, FIG.
An error occurs between the total exposure amount actually obtained by the exposure in (B) and the target exposure amount, and the two exposure amounts do not match.
【００１２】次にシャッター羽根と照明光ビームとの位
置関係による誤差について説明する。第９図（Ａ）は、
図右上に示してあるようにシャッター羽根に対してビー
ムが右寄りに偏位し、第９図（Ｂ）は左寄りに偏位する
場合を示す。なお、このときシャッター羽根の割り出し
角度のバラつきはないものとする。いずれの場合におい
ても、シャッター作動遅れ時間はシャッター閉動作開始
時刻からシャッター閉動作終了時刻までの時間に等
しく、かつこの時間は、シャッター開動作開始時刻か
らシャッター開動作終了時刻までの時間に等しい。Next, an error due to the positional relationship between the shutter blades and the illumination light beam will be described. FIG. 9 (A)
As shown in the upper right of the figure, the beam is shifted to the right with respect to the shutter blade, and FIG. 9 (B) shows the case where the beam is shifted to the left. At this time, it is assumed that there is no variation in the index angle of the shutter blade. In any case, the shutter operation delay time is equal to the time from the shutter closing operation start time to the shutter closing operation end time, and this time is equal to the time from the shutter opening operation start time to the shutter opening operation end time.
【００１３】前記図８（Ａ）のシャッター羽根とビーム
が理想的な位置関係にある場合に比べ、図９（Ａ）の例
での露光ではシャッターの動作に対する光強度変化の応
答が速く、そのため、シャッター作動遅れ時間内（時刻
〜時刻）に得られる露光量（図中斜線部９−Ａ２の
面積）より、シャッター開動作開始からシャッター作動
遅れ時間分だけ計測した露光量（図中斜線部９−Ａ１の
面積）の方が大きくなり、両者が一致せず実際に得られ
る露光量と目標露光量との間にはやはり誤差が生じ一致
しない。In the exposure in the example of FIG. 9A, the response of the light intensity change to the operation of the shutter is faster than in the case where the shutter blade and the beam have an ideal positional relationship in FIG. 8A. From the exposure amount (the area of the shaded area 9-A2 in the figure) obtained within the shutter operation delay time (time to time), the exposure amount measured by the shutter operation delay time from the start of the shutter opening operation (the shaded area 9 in the figure). −A1) is larger, and the two do not coincide with each other, so that there is still an error between the actually obtained exposure amount and the target exposure amount, and they do not coincide.
【００１４】さらに、図９（Ｂ）の例では図８（Ａ）の
例より、シャッターの動作に対する光強度変化の応答が
遅くなり、図中斜線部９−Ｂ２の面積より９−Ｂ１の面
積の方が小さくなり露光量誤差が生じる。いま、実際の
露光で得られる露光量と目標露光量を一致させるために
は、シャッター開動作時に露光量の補正を行うため、計
測するシャッター作動遅れ時間を調整し、シャッター閉
動作開始からシャッター閉動作終了までに得られる露光
量と等しい露光量が計測できればよいことになる。Further, in the example of FIG. 9B, the response of the light intensity change to the operation of the shutter is slower than that of the example of FIG. Is smaller and an exposure error occurs. Now, in order to make the exposure amount obtained by actual exposure coincide with the target exposure amount, the shutter operation delay time to be measured is adjusted in order to correct the exposure amount during the shutter opening operation, and the shutter closing operation is started from the shutter closing operation. It suffices if an exposure amount equal to the exposure amount obtained until the end of the operation can be measured.
【００１５】このため、露光量の制御精度をより向上さ
せるためには、各シャッター毎、さらに各ブレード毎に
シャッター作動遅れ時間を設ける必要がある。Therefore, in order to further improve the control accuracy of the exposure amount, it is necessary to provide a shutter operation delay time for each shutter and for each blade.
【００１６】各々のシャッター作動遅れ時間の最適値を
自動的に求める方法を図４のフローチャートに示す。装
置の電源が投入されると、ＣＰＵ９はＮＶＲＡＭ１４よ
り、シャッター４の各羽根Ａ１５、Ｂ１６、Ｃ１７用に
あらかじめＮＶＲＡＭ Ａ、Ｂ、Ｃに格納されていたシ
ャッター作動遅れ時間を読み込み、ＲＡＭ１２のＲＡＭ
Ａ、Ｂ、Ｃに格納する（ステップ３０）。ここで、Ｎ
ＶＲＡＭ１４にあらかじめ格納しておく各羽根用作動遅
れ時間値は、初期には各羽根共通の標準的な値としてお
く。次に羽根Ａ１５により、露光を行う（ステップ３
１）。次に、羽根Ａ１５による露光データを用いて、羽
根Ａ１５の作動遅れ時間値の補正を行う（ステップ３
２）。補正方法の詳細は後述する。次に羽根Ｂ１６、羽
根Ｃ１７で、同様に露光と作動遅れ時間補正を行い（ス
テップ３３〜３６）、次に再び羽根Ａ１５の露光（ステ
ップ３０）に戻るという繰り返し制御である。FIG. 4 is a flowchart showing a method for automatically obtaining the optimum value of each shutter operation delay time. When the power of the apparatus is turned on, the CPU 9 reads the shutter operation delay time previously stored in the NVRAMs A, B, and C for the blades A15, B16, and C17 of the shutter 4 from the NVRAM 14, and stores the RAM 12 in the RAM 12.
A, B, and C are stored (step 30). Where N
The blade operation delay time value stored in advance in the VRAM 14 is initially set to a standard value common to the blades. Next, exposure is performed by the blade A15 (step 3).
1). Next, the operation delay time value of the blade A15 is corrected using the exposure data from the blade A15 (step 3).
2). Details of the correction method will be described later. Next, the exposure and the operation delay time correction are similarly performed by the blade B16 and the blade C17 (steps 33 to 36), and then the process returns to the exposure of the blade A15 (step 30) again.
【００１７】次にシャッター作動遅れ時間の補正方法の
詳細を図５に示すフローチャートを用いて説明する。こ
こでは、例として羽根Ａ１５を使って露光した場合を示
す。羽根Ａ１５での露光が終了した後、ＣＰＵ９はパル
スカウンタ８の計数値を読み込む（ステップ３７）。こ
こでパルスカウンタ８の計数値は、実際の露光で得られ
た露光量の値と一致している。次にこの計数値と目標露
光量を比較し、両者が一致していれば（ステップ３
８）、ＲＡＭ Ａに格納されている羽根Ａ１５用の作動
遅れ時間値は最適なので補正せず、終了する。また、パ
ルスカウンタ８の計数値が目標露光量より大きい場合は
（ステップ３９）、羽根Ａ１５用の作動遅れ時間値を短
くするように補正し（ステップ４１）、この補正値をＲ
ＡＭ Ａに格納し（ステップ４２）、露光操作を終了す
る。逆に、パルスカウンタ８の計数値が、目標露光量よ
り小さい場合は（ステップ３９）、羽根Ａ１５用の作動
遅れ時間を長くするように補正し（ステップ４０）、補
正値をＲＡＭ Ａに格納し（ステップ４２）、終了す
る。羽根Ｂ１６、Ｃ１７用の作動遅れ時間の補正方法も
同様である。Next, the details of the method of correcting the shutter operation delay time will be described with reference to the flowchart shown in FIG. Here, a case where exposure is performed using the blade A15 is shown as an example. After the exposure by the blade A15 is completed, the CPU 9 reads the count value of the pulse counter 8 (Step 37). Here, the count value of the pulse counter 8 coincides with the value of the exposure amount obtained in the actual exposure. Next, this count value is compared with the target exposure amount, and if they match (step 3).
8), the operation delay time value for the blade A15 stored in the RAM A is optimal, and the processing is terminated without correction. If the count value of the pulse counter 8 is larger than the target exposure amount (step 39), a correction is made so as to shorten the operation delay time value for the blade A15 (step 41).
The result is stored in the memory A (Step 42), and the exposure operation ends. Conversely, when the count value of the pulse counter 8 is smaller than the target exposure amount (step 39), the operation delay time for the blade A15 is corrected to be longer (step 40), and the correction value is stored in the RAM A. (Step 42) ends. The same applies to the method of correcting the operation delay time for the blades B16 and C17.
【００１８】このとき補正するシャッター作動遅れ時間
の補正量の決定方法は以下のとおりである。いま目標露
光量をＳとし実際の焼付露光で得られた露光量をＲとす
る。露光量Ｒが得られた露光におけるシャッター作動遅
れ時間をＴとする。また前記露光における光強度をＩと
すれば（Ｉはシャッター開駆動終了時におけるＶ／Ｆコ
ンバータの出力パルス周波数を計測することにより得ら
れる）、次回の露光で用うるべきシャッター作動遅れ時
間Ｔ’は次式（ａ）で算出することができる。The method of determining the correction amount of the shutter operation delay time to be corrected at this time is as follows. Now, let S be the target exposure amount, and let R be the exposure amount obtained by actual printing exposure. Let T be the shutter operation delay time in the exposure in which the exposure amount R is obtained. If the light intensity in the exposure is I (I is obtained by measuring the output pulse frequency of the V / F converter at the end of the shutter opening drive), the shutter operation delay time T ′ to be used in the next exposure Can be calculated by the following equation (a).
【００１９】 Ｔ’＝Ｔ＋（Ｓ−Ｒ）／Ｉ ．．． （ａ） 又は光強度を計測せず、前記ＳとＲの大小関係のみによ
り一定の微小時間だけシャッター作動遅れ時間を長く又
は短く補正する方法を用いてもよい。T ′ = T + (SR) / I. . . (A) Alternatively, a method may be used in which the shutter operation delay time is corrected to be longer or shorter by a fixed short time only based on the magnitude relationship between S and R without measuring the light intensity.
【００２０】前記方法で露光、作動遅れ時間補正を繰り
返すことにより、シャッター作動遅れ時間は漸近的に最
適値に接近し、実際の露光で得られる露光量も漸近的に
目標露光量に接近する。ここで、露光を重ねるにつれ最
適値に近づいたシャッター作動遅れ時間値について、こ
れらはＲＡＭ１２のＲＡＭ Ａ、Ｂ、Ｃに格納されてい
るため、露光装置の電源を落とすと消滅してしまう。こ
のため、装置の電源を落とす際に、不揮発性ＲＡＭ１４
のＮＶＲＡＭ Ａ、Ｂ、ＣにＲＡＭＡ、Ｂ、Ｃの値を格
納する作業を行う（図６）。これにより電源再投入時に
もシャッター４の各羽根Ａ１５、Ｂ１６、Ｃ１７の最適
な作動遅れ時間が保存され、目標露光量により近い値で
の露光が可能となる。By repeating the exposure and the operation delay time correction by the above method, the shutter operation delay time asymptotically approaches the optimum value, and the exposure amount obtained in the actual exposure also asymptotically approaches the target exposure amount. Here, the shutter operation delay time values approaching the optimum value as the exposure is repeated are stored in the RAMs A, B, and C of the RAM 12, and thus disappear when the power of the exposure apparatus is turned off. For this reason, when powering down the device, the nonvolatile RAM 14
The values of the RAMs A, B, and C are stored in the NVRAMs A, B, and C (FIG. 6). As a result, even when the power is turned on again, the optimal operation delay time of each of the blades A15, B16, and C17 of the shutter 4 is preserved, and exposure with a value closer to the target exposure amount becomes possible.
【００２１】前記実施例において、シャッター作動遅れ
時間の自動補正方法を示したが、次に自動補正モードと
固定モードの併用方式を図７に示す。ここでは、自動補
正モード、書き込みモード、固定モードという３つのモ
ードを用いる。図７（Ａ）の自動補正モードは前記図４
に示した動作と同じである。また図７（Ｂ）の書き込み
モードは前記図６に示した動作と同じてある。露光装置
使用者はまず、自動補正モードにより装置を稼動する。
装置使用初期では、露光装置により実際に焼付けられる
露光量と目標露光量が相違していても自動補正機能によ
り実際の露光量は漸近的に目標露光量に近づく。両者が
十分近づいたときに、書き込みモードを実行し、シャッ
ター４の各羽根Ａ１５、Ｂ１６、Ｃ１７の作動遅れ時間
値を不揮発性メモリ１４に書き込み、記憶する。以降は
露光装置を固定モードにより稼動する。このモードは書
き込みモードにより記憶されたシャッター作動遅れ時間
値により、露光を行い（ステップ４５、４６、４
７、）、シャッター作動遅れ時間の自動補正は行わない
モードである。このモードでは、自動補正により、実際
に焼付けられる露光量が変化しないため、露光量の安定
度が向上する。In the above embodiment, a method of automatically correcting the shutter operation delay time has been described. Next, FIG. 7 shows a method of using both the automatic correction mode and the fixed mode. Here, three modes are used: an automatic correction mode, a write mode, and a fixed mode. The automatic correction mode of FIG.
Is the same as the operation shown in FIG. The write mode in FIG. 7B is the same as the operation shown in FIG. First, the user of the exposure apparatus operates the apparatus in the automatic correction mode.
In the initial stage of using the apparatus, the actual exposure amount asymptotically approaches the target exposure amount by the automatic correction function even if the exposure amount actually printed by the exposure device and the target exposure amount are different. When both are sufficiently close to each other, the writing mode is executed, and the operation delay time values of the blades A15, B16, and C17 of the shutter 4 are written and stored in the nonvolatile memory 14. Thereafter, the exposure apparatus is operated in the fixed mode. In this mode, exposure is performed according to the shutter operation delay time value stored in the writing mode (steps 45, 46, and 4).
7,), a mode in which automatic correction of the shutter operation delay time is not performed. In this mode, the exposure amount actually printed is not changed by the automatic correction, so that the stability of the exposure amount is improved.
【００２２】[0022]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
シャッター形状や取付位置のばらつきにかかわらず実露
光量を目標露光量に正確に一致させることができる。こ
のため、本発明によれば、高精度な露光量制御が可能と
なる。As described above, according to the present invention,
The actual exposure amount can be made to exactly match the target exposure amount irrespective of variations in the shutter shape and the mounting position. Therefore, according to the present invention, highly accurate exposure amount control can be performed.
【図１】 本発明の実施例に係わる露光装置における露
光量制御系のブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of an exposure amount control system in an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】 本発明が適用される露光装置のシャッター形
状の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a shutter shape of an exposure apparatus to which the present invention is applied.
【図３】 本発明に係わる露光シーケンスのフローチャ
ートである。FIG. 3 is a flowchart of an exposure sequence according to the present invention.
【図４】 本発明に係わるシャッター作動時間補正のフ
ローチャートである。FIG. 4 is a flowchart of a shutter operation time correction according to the present invention.
【図５】 本発明に係わるシャッターの作動時間補正の
詳細なフローチャートである。FIG. 5 is a detailed flowchart of a shutter operation time correction according to the present invention.
【図６】 シャッター作動時間値書き込みのフローチャ
ートである。FIG. 6 is a flowchart of writing a shutter operation time value.
【図７】 （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）はそれぞれ本発明に係わ
る露光装置の自動補正モード、書き込みモード、固定モ
ードのフローチャートである。FIGS. 7A, 7B, and 7C are flowcharts of an automatic correction mode, a writing mode, and a fixed mode of the exposure apparatus according to the present invention, respectively.
【図８】 シャッター羽根の割出角度のバラつきの有無
によるシャッター動作と光強度変化のタイミング説明図
である。FIG. 8 is a timing chart for explaining a shutter operation and a change in light intensity depending on whether there is variation in the indexing angle of shutter blades.
【図９】 露光ビームとシャッターとの位置関係の誤差
によるシャッター動作と光強度変化のタイミング説明図
である。FIG. 9 is a timing chart illustrating a shutter operation and a change in light intensity due to an error in the positional relationship between the exposure beam and the shutter.
１；ランプ、２；マスク、３；ウエハ、４；シャッタ
ー、５；センサ、６；プリアンプ、７；Ｖ／Ｆコンバー
タ、８；パルスカウンタ、９；ＣＰＵ、１０；シャッタ
ー駆動回路、１１；露光量設定器、１２；ＲＡＭ、１
３；発振器、１４；不揮発性メモリ、１５；羽根Ａ、１
６；羽根Ｂ、１７；羽根Ｃ、１８；モータ、１９；露光
ビーム。1, lamp 2, mask 3, wafer 4, shutter 5, sensor 6, preamplifier 7, V / F converter 8, pulse counter 9, CPU 10, shutter drive circuit 11, exposure amount Setting device, 12; RAM, 1
3; oscillator; 14; nonvolatile memory; 15; blade A, 1
6; Blade B, 17; Blade C, 18; Motor, 19; Exposure beam.
Claims (2)
する光源ランプと、前記光源ランプと前記被記録体の間
の露光光路に配置され前記露光光路を開閉するシャッタ
ーと、前記シャッターを通過した前記光源ランプからの
露光光を検出する光検出器を有し、シャッター閉指令に
応じて前記シャッターが開状態から閉状態になるまでに
要する時間をシャッター作動遅れ時間として設定し、シ
ャッター開指令に応じて前記シャッターが閉状態から開
状態へなる際、前記設定されたシャッター作動遅れ時間
の間に前記光検出器の検出値に基づいて求められる露光
量を補正量として求め、前記シャッター開指令の発生後
から前記光検出器の検出値に基づいて求められる実露光
量と予め設定されている目標露光量が前記補正量分だけ
補正された状態で一致した際に前記シャッター閉指令を
発生させ、前記シャッター閉指令に応じて前記シャッタ
ーを開状態から閉状態とすることにより前記被記録体の
露光を行なう露光装置において、前記シャッター開指令
に応じて前記シャッターが閉状態から開状態となった後
で前記シャッター閉指令に応じて前記シャッターが開状
態から閉状態となるまでの間に前記光検出器の検出値に
基づいて求められる実露光量と前記目標露光量を比較
し、両者が一致しない際には前記シャッター作動遅れ時
間を補正する補正手段を有することを特徴とする露光装
置。A light source lamp for generating exposure light for exposing a recording medium; a shutter disposed in an exposure light path between the light source lamp and the recording medium to open and close the exposure light path; A light detector that detects exposure light from the light source lamp that has passed therethrough, and sets a time required for the shutter to change from an open state to a closed state in response to a shutter close command as a shutter operation delay time; When the shutter changes from the closed state to the open state according to the command, the exposure amount obtained based on the detection value of the photodetector during the set shutter operation delay time is obtained as a correction amount, and the shutter opening time is obtained. After the command is issued, the actual exposure amount obtained based on the detection value of the photodetector and the target exposure amount set in advance are corrected by the correction amount. When the shutter is closed, the shutter closing command is generated, and the exposure device performs exposure of the recording medium by changing the shutter from the open state to the closed state in response to the shutter closing command. An actual exposure amount obtained based on a detection value of the photodetector until the shutter is changed from the open state to the closed state according to the shutter close command after the shutter is changed from the closed state to the open state. An exposure apparatus comprising: a correction unit that compares the target exposure amounts and corrects the shutter operation delay time when the two do not match.
るためのシャッター羽根を複数有し、前記補正手段は前
記シャッター羽根ごとに前記シャッター作動遅れ時間を
補正することを特徴とする請求項１の露光装置。2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the shutter has a plurality of shutter blades for opening and closing the exposure light path, and the correction unit corrects the shutter operation delay time for each of the shutter blades. apparatus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3278927A JP2843895B2 (en) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | Exposure equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3278927A JP2843895B2 (en) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | Exposure equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0594932A JPH0594932A (en) | 1993-04-16 |
| JP2843895B2 true JP2843895B2 (en) | 1999-01-06 |
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ID=17604021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3278927A Expired - Fee Related JP2843895B2 (en) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | Exposure equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2843895B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5100088B2 (en) * | 2006-11-07 | 2012-12-19 | キヤノン株式会社 | Exposure apparatus and device manufacturing method |
-
1991
- 1991-10-01 JP JP3278927A patent/JP2843895B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0594932A (en) | 1993-04-16 |
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