JP2835185B2 - シャドウマスクパターン描画装置における位置制御装置 - Google Patents
シャドウマスクパターン描画装置における位置制御装置Info
- Publication number
- JP2835185B2 JP2835185B2 JP40261390A JP40261390A JP2835185B2 JP 2835185 B2 JP2835185 B2 JP 2835185B2 JP 40261390 A JP40261390 A JP 40261390A JP 40261390 A JP40261390 A JP 40261390A JP 2835185 B2 JP2835185 B2 JP 2835185B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- origin
- wavelength
- counter
- value
- shadow mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光ヘッドと感光材を
相対移動させながら露光を繰り返すことによりシャドウ
マスク製造用のマスクパターン原板全体を露光する装置
に関し、特に、その露光ヘッドと感光材の相対位置を正
確に制御する装置に関する。
相対移動させながら露光を繰り返すことによりシャドウ
マスク製造用のマスクパターン原板全体を露光する装置
に関し、特に、その露光ヘッドと感光材の相対位置を正
確に制御する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高解像度ＴＶやコンピュータグラ
フィック用表示用装置が開発される中、カラーブラウン
管用シャドウマスクは、大サイズ化と共に、高微細化、
高品位化の要求も益々強くなっている。
フィック用表示用装置が開発される中、カラーブラウン
管用シャドウマスクは、大サイズ化と共に、高微細化、
高品位化の要求も益々強くなっている。
【０００３】ところで、シャドウマスクは、薄い鋼材に
レジストを塗布し、表裏をマスクパターン原板を用いて
パターニングし、表裏を同時又は片面ずつエッチングし
て形成するもので、そのマスクパターン原板の良し悪し
が最終製品であるシャドウマスクの品質に大きく影響す
る。したがって、表裏用のマスクパターン原板をいかに
高精度に作成するかが、シャドウマスクの品質を左右す
る。マスクパターン原板を高精度に作成する阻害因子と
して上げられるものにムラがある。このムラは、規則正
しく配列されるべき小孔パターンの位置精度の低下によ
って起きる。この位置精度の低下を抑えることが、ムラ
の少ないシャドウマスクを作成する上で不可欠になって
いる。
レジストを塗布し、表裏をマスクパターン原板を用いて
パターニングし、表裏を同時又は片面ずつエッチングし
て形成するもので、そのマスクパターン原板の良し悪し
が最終製品であるシャドウマスクの品質に大きく影響す
る。したがって、表裏用のマスクパターン原板をいかに
高精度に作成するかが、シャドウマスクの品質を左右す
る。マスクパターン原板を高精度に作成する阻害因子と
して上げられるものにムラがある。このムラは、規則正
しく配列されるべき小孔パターンの位置精度の低下によ
って起きる。この位置精度の低下を抑えることが、ムラ
の少ないシャドウマスクを作成する上で不可欠になって
いる。
【０００４】ところで、従来のシャドウマスク製造用の
マスクパターン原板は、マスクパターン原板となる感光
材と露光ヘッドを相対的にＸ−Ｙ方向に歩進的に移動さ
せながら露光を繰り返すことにより全体のパターニング
を行っている。その装置の１例の要部斜視図を図２に示
す。すなわち、感光材Ｐは、Ｙ方向に移動制御されるス
テージ１の上にセットされる。一方、マスクの孔パター
ンを縮小レンズ３により縮小して感光材Ｐ上に投影露光
する露光ヘッド２は、図示していないＸ方向移動制御台
に取り付けられている。したがって、ステージ１と露光
ヘッド２をそれぞれＹ方向、Ｘ方向に正確に所定ピッチ
で歩進させながら露光を繰り返すことにより、マスクパ
ターン原板のパターニングが行なえる。このような正確
な歩進制御するために、露光ヘッド２には、Ｘ方向干渉
計７とＹ方向干渉計８とが取り付けられており、各干渉
計の一部を構成する移動鏡１１、１２が各干渉計に対向
してステージ１に取り付けられている。なお、露光ヘッ
ド２には、各干渉計に入出射する光を移動鏡１１、１２
に向けるための鏡９、１０も取り付けられている。そし
て、このような装置本体Ｂには、各干渉計共通で近接す
る２つの周波数ｆ1 、ｆ2 の光を同時に発振するのレー
ザ光源４と、その光の一部をＹ方向干渉計８に向けるた
めに分割するビームスプリッター５と、残りの光をＸ方
向干渉計７に向ける鏡６と、各干渉計からのビート光を
受光して各方向への移動量を検知するためのＸ方向検出
器１３及びＹ方向検出器１４とが設けられている。そし
て、各干渉計の光学的構成は図３に示すようになってい
る。すなわち、干渉計７（８）は、偏光ビームスプリッ
ター１５と、その上下の面に接着されたコーナキューブ
ミラー１６、１７からなり、その入射側の面と反対の面
には、４分の１波長板１８が配置されている。レーザ光
源４からの周波数ｆ1 の光は紙面に平行に偏光してお
り、周波数ｆ2 の光は紙面に垂直に偏光している。この
２つの光が偏光ビームスプリッター１５に入射し、紙面
に平行に偏光した周波数ｆ1 はスプリット面を透過し、
４分の１波長板１８で円偏光に変換され、移動鏡１１
（１２）に当たってドップラーシフトΔｆを受け、再度
４分の１波長板１８に入射し、ここで紙面に垂直な偏光
に変換され、今度はスプリット面で反射され、下側のコ
ーナキューブミラー１７に入射し、光路が多少ずれて戻
り、スプリット面で反射されて先の光路からずれた光路
を経て４分の１波長板１８で円偏光に変換され、移動鏡
１１（１２）に再度当たってドップラーシフトΔｆを受
け、合計２Δｆのドップラーシフトとなって４分の１波
長板１８に入射し、ここで紙面に平行な偏光に変換さ
れ、スプリット面を通過して出射する。一方、紙面に垂
直に偏光した周波数ｆ2 の光はスプリット面で反射さ
れ、上側のコーナキューブミラー１６に入射し、光路が
多少ずれて戻り、スプリット面で再度反射されて、２Δ
ｆのドップラーシフトを受けた周波数ｆ1 の信号と重ね
合って出力する。したがって、露光ヘッド２に対する感
光材Ｐの相対移動量は、各方向について、移動鏡１１、
１２からの戻り光のドップラーシフト２Δｆを取り出し
（そのためには、例えば、周波数ｆ1 ±２Δｆとｆ2 の
ビート信号周波数から周波数ｆ1 とｆ2 のビート信号周
波数を減算すればよい。）、例えばドップラー周波数２
Δｆの各周期毎にパルスを出すようにしてこのパルス数
を累計することにより、Δｆ＝２ｖｎｆ／ｃ＝２ｖｎ／
λ0 ＝２ｖ／λの関係から、移動量ｄがｄ＝Ｎ×λ／４
として求まる。ただし、ここで、ｖは移動鏡１１、１２
の速度、ｎは空気の屈折率、ｆはレーザ光の周波数、ｃ
は真空中の光速、λ0 は真空中の波長、λは空気中の波
長である。したがって、このようなパルスの数を計数す
ることにより、ステージ１と露光ヘッド２をそれぞれＹ
方向、Ｘ方向に正確な所定ピッチで歩進させながら露光
を繰り返すことができ、正確なマスクパターン原板のパ
ターニングが行なえる。その他の装置の例として、露光
ヘッドがＸ−Ｙ方向に移動する場合、感光材を載せたス
テージがＸ−Ｙ方向に移動する場合も上記と同様であ
る。
マスクパターン原板は、マスクパターン原板となる感光
材と露光ヘッドを相対的にＸ−Ｙ方向に歩進的に移動さ
せながら露光を繰り返すことにより全体のパターニング
を行っている。その装置の１例の要部斜視図を図２に示
す。すなわち、感光材Ｐは、Ｙ方向に移動制御されるス
テージ１の上にセットされる。一方、マスクの孔パター
ンを縮小レンズ３により縮小して感光材Ｐ上に投影露光
する露光ヘッド２は、図示していないＸ方向移動制御台
に取り付けられている。したがって、ステージ１と露光
ヘッド２をそれぞれＹ方向、Ｘ方向に正確に所定ピッチ
で歩進させながら露光を繰り返すことにより、マスクパ
ターン原板のパターニングが行なえる。このような正確
な歩進制御するために、露光ヘッド２には、Ｘ方向干渉
計７とＹ方向干渉計８とが取り付けられており、各干渉
計の一部を構成する移動鏡１１、１２が各干渉計に対向
してステージ１に取り付けられている。なお、露光ヘッ
ド２には、各干渉計に入出射する光を移動鏡１１、１２
に向けるための鏡９、１０も取り付けられている。そし
て、このような装置本体Ｂには、各干渉計共通で近接す
る２つの周波数ｆ1 、ｆ2 の光を同時に発振するのレー
ザ光源４と、その光の一部をＹ方向干渉計８に向けるた
めに分割するビームスプリッター５と、残りの光をＸ方
向干渉計７に向ける鏡６と、各干渉計からのビート光を
受光して各方向への移動量を検知するためのＸ方向検出
器１３及びＹ方向検出器１４とが設けられている。そし
て、各干渉計の光学的構成は図３に示すようになってい
る。すなわち、干渉計７（８）は、偏光ビームスプリッ
ター１５と、その上下の面に接着されたコーナキューブ
ミラー１６、１７からなり、その入射側の面と反対の面
には、４分の１波長板１８が配置されている。レーザ光
源４からの周波数ｆ1 の光は紙面に平行に偏光してお
り、周波数ｆ2 の光は紙面に垂直に偏光している。この
２つの光が偏光ビームスプリッター１５に入射し、紙面
に平行に偏光した周波数ｆ1 はスプリット面を透過し、
４分の１波長板１８で円偏光に変換され、移動鏡１１
（１２）に当たってドップラーシフトΔｆを受け、再度
４分の１波長板１８に入射し、ここで紙面に垂直な偏光
に変換され、今度はスプリット面で反射され、下側のコ
ーナキューブミラー１７に入射し、光路が多少ずれて戻
り、スプリット面で反射されて先の光路からずれた光路
を経て４分の１波長板１８で円偏光に変換され、移動鏡
１１（１２）に再度当たってドップラーシフトΔｆを受
け、合計２Δｆのドップラーシフトとなって４分の１波
長板１８に入射し、ここで紙面に平行な偏光に変換さ
れ、スプリット面を通過して出射する。一方、紙面に垂
直に偏光した周波数ｆ2 の光はスプリット面で反射さ
れ、上側のコーナキューブミラー１６に入射し、光路が
多少ずれて戻り、スプリット面で再度反射されて、２Δ
ｆのドップラーシフトを受けた周波数ｆ1 の信号と重ね
合って出力する。したがって、露光ヘッド２に対する感
光材Ｐの相対移動量は、各方向について、移動鏡１１、
１２からの戻り光のドップラーシフト２Δｆを取り出し
（そのためには、例えば、周波数ｆ1 ±２Δｆとｆ2 の
ビート信号周波数から周波数ｆ1 とｆ2 のビート信号周
波数を減算すればよい。）、例えばドップラー周波数２
Δｆの各周期毎にパルスを出すようにしてこのパルス数
を累計することにより、Δｆ＝２ｖｎｆ／ｃ＝２ｖｎ／
λ0 ＝２ｖ／λの関係から、移動量ｄがｄ＝Ｎ×λ／４
として求まる。ただし、ここで、ｖは移動鏡１１、１２
の速度、ｎは空気の屈折率、ｆはレーザ光の周波数、ｃ
は真空中の光速、λ0 は真空中の波長、λは空気中の波
長である。したがって、このようなパルスの数を計数す
ることにより、ステージ１と露光ヘッド２をそれぞれＹ
方向、Ｘ方向に正確な所定ピッチで歩進させながら露光
を繰り返すことができ、正確なマスクパターン原板のパ
ターニングが行なえる。その他の装置の例として、露光
ヘッドがＸ−Ｙ方向に移動する場合、感光材を載せたス
テージがＸ−Ｙ方向に移動する場合も上記と同様であ
る。
【０００５】ところで、シャドウマスクパターンのムラ
は、従来より、図２のようなシャドウマスクパターン描
画装置によるパターン描画時の小孔パターン配列ムラが
原因とされているが、その大半は、干渉計を用いた測長
系に使用するレーザ光の波長の不安定さによるものであ
る（上記ｄ＝Ｎ×λ／４の式より明らかなように、レー
ザ光の波長λが変化すると、同じ計数Ｎでも実際の移動
量ｄは異なったものとなってしまう。）。空気中の波長
λは、気圧、気温、湿度に応じて変化するため、レーザ
光の波長の不安定要因としては、レーザ光が通過する光
路の空気の1)気圧、2)気温、3)湿度があげられる。電子
ビーム描画装置では、レーザ光が通過する光路を真空中
に置くことで波長の不安定さから解放されるが、装置が
大きいシャドウマスクパターン描画装置では、装置全体
を高真空系に入れることがコスト的に不可能なため、レ
ーザ光の光路の空気の1)気圧、2)気温、3)湿度による波
長変化をリアルタイムで補正する必要がある。そのため
の位置制御システムの例を図６と図７に示す。
は、従来より、図２のようなシャドウマスクパターン描
画装置によるパターン描画時の小孔パターン配列ムラが
原因とされているが、その大半は、干渉計を用いた測長
系に使用するレーザ光の波長の不安定さによるものであ
る（上記ｄ＝Ｎ×λ／４の式より明らかなように、レー
ザ光の波長λが変化すると、同じ計数Ｎでも実際の移動
量ｄは異なったものとなってしまう。）。空気中の波長
λは、気圧、気温、湿度に応じて変化するため、レーザ
光の波長の不安定要因としては、レーザ光が通過する光
路の空気の1)気圧、2)気温、3)湿度があげられる。電子
ビーム描画装置では、レーザ光が通過する光路を真空中
に置くことで波長の不安定さから解放されるが、装置が
大きいシャドウマスクパターン描画装置では、装置全体
を高真空系に入れることがコスト的に不可能なため、レ
ーザ光の光路の空気の1)気圧、2)気温、3)湿度による波
長変化をリアルタイムで補正する必要がある。そのため
の位置制御システムの例を図６と図７に示す。
【０００６】図６の例においては、目標位置入力装置２
０から各回の露光毎に露光ヘッド２と感光材の相対的に
位置させるべき目標位置が入力される。実際には、予め
プログムされて順次入力されるものである。一方、図３
に示したような干渉計とそれから得られたドップラーシ
フトをパルス化して出力する回路とからなる干渉計測長
器２２からのパルス信号は、パルスカウンタ２３により
加減算される。上記したように、このパルスカウント値
は、露光ヘッド２と感光材の相対の移動量、すなわちＸ
−Ｙステージ系２１の位置を表す。ところで、シャドウ
マスクパターン描画装置が置かれた雰囲気の気圧を検出
する気圧計２４、気温を検出する温度計２５、湿度を検
出する湿度計２６が設けられており、これらの検出器か
らの検出信号は、レーザ波長算出装置２７に送られ、こ
こで予め記憶されたテーブルを参照にして、真空中の波
長λ0 を補正して得られるその状態の空気中の実際の波
長λが求められる（なお、気圧、気温、湿度と波長の関
係を表すオーエンズの式に従って波長を求めるようにし
てもよい。）。パルスカウンタ２３に累計されているカ
ウント値にレーザ波長算出装置２７から与えられる波長
λを掛算器２８により乗じて、Ｘ−Ｙステージ系２１の
現在位置が求められる（なお、ｎ分の１波長の移動毎に
１パルスを出す測長器を用いる場合には、λ／ｎを乗じ
る。）。目標位置入力装置２０から入力された目標位置
と上記のように補正されて求められた現在位置との差
を、位置エラー算出のための減算器２９により求め、そ
の誤差信号をアンプ３０により増幅して、Ｙ−Ｘステー
ジ系２１をＸ、Ｙ方向へ移動させるサーボモータ３１に
加えることにより、露光ヘッド２と感光材の相対目標位
置、すなわち、測長系の波長変化による測定値のズレを
補正した目標位置へ正確に歩進移動させて露光を繰り返
すことができる。なお、制御の開始に当たっては、最初
に干渉計７、８の移動鏡１１、１２を原点（基準位置）
に戻し、その位置でリセット装置３２によりカウンタ２
３をゼロにリセットしてから、移動制御か開始される。
図７の例は、図６の制御系を変形して、割算器３３によ
り目標位置入力装置２０から入力された目標位置を、レ
ーザ波長算出装置２７出力された実際の波長λで割っ
て、目標位置を予め量子化しておいて、この量子化した
目標デジタル値とパルスカウンタ２３に累計されている
現在位置を表すデジタル値とを比較して誤差信号を発生
させるようにしたものであり、本質的に同様の作用をす
る。
０から各回の露光毎に露光ヘッド２と感光材の相対的に
位置させるべき目標位置が入力される。実際には、予め
プログムされて順次入力されるものである。一方、図３
に示したような干渉計とそれから得られたドップラーシ
フトをパルス化して出力する回路とからなる干渉計測長
器２２からのパルス信号は、パルスカウンタ２３により
加減算される。上記したように、このパルスカウント値
は、露光ヘッド２と感光材の相対の移動量、すなわちＸ
−Ｙステージ系２１の位置を表す。ところで、シャドウ
マスクパターン描画装置が置かれた雰囲気の気圧を検出
する気圧計２４、気温を検出する温度計２５、湿度を検
出する湿度計２６が設けられており、これらの検出器か
らの検出信号は、レーザ波長算出装置２７に送られ、こ
こで予め記憶されたテーブルを参照にして、真空中の波
長λ0 を補正して得られるその状態の空気中の実際の波
長λが求められる（なお、気圧、気温、湿度と波長の関
係を表すオーエンズの式に従って波長を求めるようにし
てもよい。）。パルスカウンタ２３に累計されているカ
ウント値にレーザ波長算出装置２７から与えられる波長
λを掛算器２８により乗じて、Ｘ−Ｙステージ系２１の
現在位置が求められる（なお、ｎ分の１波長の移動毎に
１パルスを出す測長器を用いる場合には、λ／ｎを乗じ
る。）。目標位置入力装置２０から入力された目標位置
と上記のように補正されて求められた現在位置との差
を、位置エラー算出のための減算器２９により求め、そ
の誤差信号をアンプ３０により増幅して、Ｙ−Ｘステー
ジ系２１をＸ、Ｙ方向へ移動させるサーボモータ３１に
加えることにより、露光ヘッド２と感光材の相対目標位
置、すなわち、測長系の波長変化による測定値のズレを
補正した目標位置へ正確に歩進移動させて露光を繰り返
すことができる。なお、制御の開始に当たっては、最初
に干渉計７、８の移動鏡１１、１２を原点（基準位置）
に戻し、その位置でリセット装置３２によりカウンタ２
３をゼロにリセットしてから、移動制御か開始される。
図７の例は、図６の制御系を変形して、割算器３３によ
り目標位置入力装置２０から入力された目標位置を、レ
ーザ波長算出装置２７出力された実際の波長λで割っ
て、目標位置を予め量子化しておいて、この量子化した
目標デジタル値とパルスカウンタ２３に累計されている
現在位置を表すデジタル値とを比較して誤差信号を発生
させるようにしたものであり、本質的に同様の作用をす
る。
【０００７】
【発明か解決しようとする課題】しかしながら、図６、
図７の位置制御システムにより、露光ヘッドと感光材の
相対位置決め精度が雰囲気の状況に左右されないように
描画装置を構成しても、小孔パターン配列の位置精度低
下による不定期なムラの発生がみられる。その１例を図
８に示す。この例は、気温がほぼ一定で、気圧が変化す
る雰囲気（（ａ）参照）において、１日以上かけて１面
目と２面目のマスクパターン（（ｂ）参照）を連続して
描画した例である。２面目において、気圧が急激に変化
した時に、スジ状のムラが発生している。
図７の位置制御システムにより、露光ヘッドと感光材の
相対位置決め精度が雰囲気の状況に左右されないように
描画装置を構成しても、小孔パターン配列の位置精度低
下による不定期なムラの発生がみられる。その１例を図
８に示す。この例は、気温がほぼ一定で、気圧が変化す
る雰囲気（（ａ）参照）において、１日以上かけて１面
目と２面目のマスクパターン（（ｂ）参照）を連続して
描画した例である。２面目において、気圧が急激に変化
した時に、スジ状のムラが発生している。
【０００８】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、露光ヘッドと感光材を歩進的
に相対移動させながら露光を繰り返すことによりシャド
ウマスク製造用のマスクパターン原板全体を露光するシ
ャドウマスクパターン描画装置において、干渉計からな
る露光ヘッド位置制御装置の気圧、気温、湿度の影響を
考慮した補正をして、不定期的なムラを除いた位置制御
装置を提供することである。
ものであり、その目的は、露光ヘッドと感光材を歩進的
に相対移動させながら露光を繰り返すことによりシャド
ウマスク製造用のマスクパターン原板全体を露光するシ
ャドウマスクパターン描画装置において、干渉計からな
る露光ヘッド位置制御装置の気圧、気温、湿度の影響を
考慮した補正をして、不定期的なムラを除いた位置制御
装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のシャドウマスク
パターン描画装置における位置制御装置は、マイケルソ
ン干渉計の移動鏡の原点からの移動量を干渉計からの干
渉縞ないしドップラーシフト周波数をカウンタでカウン
トすることにより制御して、シャドウマスクパターン描
画装置の露光ヘッドと感光材の相対位置を制御する装置
であって、移動鏡の原点をマイケルソン干渉計のビーム
スプリッターから離れた位置に設定し、移動鏡を原点に
移動してカウンタのカウント値をゼロにリセットし、そ
の後にカウンタのカウント値にその時の空気中の波長を
掛けて得られた値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移
動鏡の位置をフィードバック制御する位置制御装置にお
いて、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント値を
ゼロにリセットする時の空気中の波長を記憶する手段を
設け、ビームスプリッターと原点の間の距離をこの記憶
手段に記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に
加算した後に、その時の空気中の波長を掛け、得られた
値からビームスプリッターと原点の間の距離を差し引
き、その値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移動鏡の
位置をフィードバック制御することを特徴とするもので
ある。
パターン描画装置における位置制御装置は、マイケルソ
ン干渉計の移動鏡の原点からの移動量を干渉計からの干
渉縞ないしドップラーシフト周波数をカウンタでカウン
トすることにより制御して、シャドウマスクパターン描
画装置の露光ヘッドと感光材の相対位置を制御する装置
であって、移動鏡の原点をマイケルソン干渉計のビーム
スプリッターから離れた位置に設定し、移動鏡を原点に
移動してカウンタのカウント値をゼロにリセットし、そ
の後にカウンタのカウント値にその時の空気中の波長を
掛けて得られた値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移
動鏡の位置をフィードバック制御する位置制御装置にお
いて、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント値を
ゼロにリセットする時の空気中の波長を記憶する手段を
設け、ビームスプリッターと原点の間の距離をこの記憶
手段に記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に
加算した後に、その時の空気中の波長を掛け、得られた
値からビームスプリッターと原点の間の距離を差し引
き、その値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移動鏡の
位置をフィードバック制御することを特徴とするもので
ある。
【００１０】また、マイケルソン干渉計の移動鏡の原点
からの移動量を干渉計からの干渉縞ないしドップラーシ
フト周波数をカウンタでカウントすることにより制御し
て、シャドウマスクパターン描画装置の露光ヘッドと感
光材の相対位置を制御する装置であって、移動鏡の原点
をマイケルソン干渉計のビームスプリッターから離れた
位置に設定し、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウ
ント値をゼロにリセットし、その後にカウンタのカウン
ト値と移動鏡の目標位置をその時の空気中の波長で割っ
て得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィード
バック制御する位置制御装置において、移動鏡を原点に
移動してカウンタのカウント値をゼロにリセットする時
の空気中の波長を記憶する手段を設け、移動鏡の目標位
置にビームスプリッターと原点の間の距離を加えてから
その時の空気中の波長で割るように構成し、この商と、
ビームスプリッターと原点の間の距離を前記記憶手段に
記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に加算し
て得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィード
バック制御するように変形することもできる。
からの移動量を干渉計からの干渉縞ないしドップラーシ
フト周波数をカウンタでカウントすることにより制御し
て、シャドウマスクパターン描画装置の露光ヘッドと感
光材の相対位置を制御する装置であって、移動鏡の原点
をマイケルソン干渉計のビームスプリッターから離れた
位置に設定し、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウ
ント値をゼロにリセットし、その後にカウンタのカウン
ト値と移動鏡の目標位置をその時の空気中の波長で割っ
て得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィード
バック制御する位置制御装置において、移動鏡を原点に
移動してカウンタのカウント値をゼロにリセットする時
の空気中の波長を記憶する手段を設け、移動鏡の目標位
置にビームスプリッターと原点の間の距離を加えてから
その時の空気中の波長で割るように構成し、この商と、
ビームスプリッターと原点の間の距離を前記記憶手段に
記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に加算し
て得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィード
バック制御するように変形することもできる。
【００１１】
【作用】本発明においては、移動鏡を原点に移動してカ
ウンタのカウント値をゼロにリセットする時の空気中の
波長を記憶する手段を設け、ビームスプリッターと原点
の間の距離をこの記憶手段に記憶された波長で割った値
を前記カウンタの値に加算した後に、その時の空気中の
波長を掛け、得られた値からビームスプリッターと原点
の間の距離を差し引き、その値と移動鏡の目標位置の差
に基づいて移動鏡の位置をフィードバック制御するよう
にしているので、ビームスプリッターと原点の間のデッ
トパスにおける空気の気圧、気温、湿度の変化に基づい
て波長が変化しても、この変化による位置ズレが補正さ
れ、シャドウマスクパターン描画装置の環境の気圧、気
温、湿度が変化しても、描画されたシャドウマスクには
不定期的なムラが発生することはない。
ウンタのカウント値をゼロにリセットする時の空気中の
波長を記憶する手段を設け、ビームスプリッターと原点
の間の距離をこの記憶手段に記憶された波長で割った値
を前記カウンタの値に加算した後に、その時の空気中の
波長を掛け、得られた値からビームスプリッターと原点
の間の距離を差し引き、その値と移動鏡の目標位置の差
に基づいて移動鏡の位置をフィードバック制御するよう
にしているので、ビームスプリッターと原点の間のデッ
トパスにおける空気の気圧、気温、湿度の変化に基づい
て波長が変化しても、この変化による位置ズレが補正さ
れ、シャドウマスクパターン描画装置の環境の気圧、気
温、湿度が変化しても、描画されたシャドウマスクには
不定期的なムラが発生することはない。
【００１２】
【実施例】〕例えば、図２に示したようなシャドウマス
クパターン描画装置において、例えば図３に示したよう
な光学系からなる干渉系を測長系に用いる場合、露光ヘ
ッド２の移動量は、移動鏡１１、１２の移動方向に選ん
だ測定開始点（原点）から測定される。その理由は、図
３に示したようなマイケルソン干渉計からなる測長系
は、相対移動距離を測定するものであるからである。こ
の測定開始点は、機械的な配置上、偏光ビームスプリッ
ター１５から空気をはさんで測長方向にある程度離して
設けざるを得ない。このことは、移動鏡１１、１２を完
全に干渉計７、８に密着できないことからも理解でき
る。そして、実際の露光ヘッドの位置制御に当たって
は、この測定開始点（原点）に露光ヘッドを戻して、図
６、図７に示すように、リセット装置３２により制御装
置をリセットしてから、所望に目標位置へ移動制御を開
始させる。
クパターン描画装置において、例えば図３に示したよう
な光学系からなる干渉系を測長系に用いる場合、露光ヘ
ッド２の移動量は、移動鏡１１、１２の移動方向に選ん
だ測定開始点（原点）から測定される。その理由は、図
３に示したようなマイケルソン干渉計からなる測長系
は、相対移動距離を測定するものであるからである。こ
の測定開始点は、機械的な配置上、偏光ビームスプリッ
ター１５から空気をはさんで測長方向にある程度離して
設けざるを得ない。このことは、移動鏡１１、１２を完
全に干渉計７、８に密着できないことからも理解でき
る。そして、実際の露光ヘッドの位置制御に当たって
は、この測定開始点（原点）に露光ヘッドを戻して、図
６、図７に示すように、リセット装置３２により制御装
置をリセットしてから、所望に目標位置へ移動制御を開
始させる。
【００１３】ところで、種々検討の結果、上記したよう
なシャドウマスクパターンの不定期的なムラは、上記原
点と偏光ビームスプリッターの間の光路（以下、デッド
パスと言う。）の空気中における波長変化によって発生
することが分かった。この点をもう少し説明すると、こ
のデッドパスの距離は、具体的には、０．２〜０．３ｍ
程度あり、ピッチのエラーとしては、不定期的に０．１
μｍ程度発生する。すなわち、図６、図７に示した従来
の制御装置においては、図９に示したように、原点を決
めて、その点において制御装置をリセットし（図の
（ａ））、目標位置を入力して図６又は図７のサーボ系
により位置制御して露光ヘッド２を移動しているが（図
の（ｂ））、原点と移動鏡１１（１２）の間の波長変化
のみを補正し、偏光ビームスプリッター７（８）と原点
の間のデッドパス中における波長変化は補正していな
い。そのため、このデッドパスにおいて、波長が変化
し、これに基づいてパルスカウント数が変化するため、
正確な移動距離制御ができなくなり、上記したシャドウ
マスクパターンの不定期的なムラが発生している。
なシャドウマスクパターンの不定期的なムラは、上記原
点と偏光ビームスプリッターの間の光路（以下、デッド
パスと言う。）の空気中における波長変化によって発生
することが分かった。この点をもう少し説明すると、こ
のデッドパスの距離は、具体的には、０．２〜０．３ｍ
程度あり、ピッチのエラーとしては、不定期的に０．１
μｍ程度発生する。すなわち、図６、図７に示した従来
の制御装置においては、図９に示したように、原点を決
めて、その点において制御装置をリセットし（図の
（ａ））、目標位置を入力して図６又は図７のサーボ系
により位置制御して露光ヘッド２を移動しているが（図
の（ｂ））、原点と移動鏡１１（１２）の間の波長変化
のみを補正し、偏光ビームスプリッター７（８）と原点
の間のデッドパス中における波長変化は補正していな
い。そのため、このデッドパスにおいて、波長が変化
し、これに基づいてパルスカウント数が変化するため、
正確な移動距離制御ができなくなり、上記したシャドウ
マスクパターンの不定期的なムラが発生している。
【００１４】そこで、本発明の１実施例においては、こ
の部分で発生する波長変化を補正するために、図１に示
したような位置制御システムを採用している。すなわ
ち、目標位置入力装置２０から各回の露光毎に露光ヘッ
ド２を位置させるべき原点から測った目標位置が入力さ
れる（実際には、予めプログムされて順次入力されるも
のである。）。一方、図３に示したような干渉計とそれ
から得られたドップラーシフト周波数をパルス化して出
力する回路とからなる干渉計測長器２２からのパルス信
号は、パルスカウンタ２３により加減算される。パルス
カウンタ２３は、露光開始時にＸ−Ｙステージ系２１を
原点に戻した時に、リセット装置３２によりゼロにリセ
ットされる。したがって、パルスカウンタ２３のパルス
カウント値は、露光ヘッド２の原点からの移動量、すな
わちＸ−Ｙステージ系２１の原点に対する相対位置を表
す。また、従来の装置（図６）と同様、シャドウマスク
パターン描画装置が置かれた雰囲気の気圧を検出する気
圧計２４、気温を検出する温度計２５、湿度を検出する
湿度計２６が設けられており、これらの検出器からの検
出信号は、レーザ波長算出装置２７に送られ、ここで予
め記憶されたテーブルを参照にして、真空中の波長λ0
を補正して得られるその状態の空気中の実際の波長λが
求められる（なお、気圧、気温、湿度と波長の関係を表
すオーエンズの式（工藤恵栄著「分光学的性質を主とし
た基礎物性図表」共立出版（株）昭４７．５．１５発
行，第１３８頁）に従って波長を求めるようにしてもよ
い。）。パルスカウンタ２３のリセット時の空気中の波
長λS は、リセット装置３２からの信号に基づいて、レ
ーザ波長算出装置２７からレジスター３７に記憶され
る。ところで、デットパス入力装置３４が設けられてお
り、ここからデットパスの長さが与えられる（実際に
は、メモリーに記憶しておき、その記憶を呼び出すこと
によって与えられる。）。デットパス入力装置３４から
出力されたデットパスの長さは、割算器３５において、
レジスター３７に記憶されている原点へのリセット時の
波長λS により割られ、その商（デットパスのリセット
時の波長λS で換算したデジタル値）は、加算器３６に
おいてパルスカウンタ２３のパルスカウント値に加えら
れる。そして、この加算値は、掛算器２８においてレー
ザ波長算出装置２４からのその時点での空気中の波長λ
を乗じることにより、実際のＸ−Ｙステージ系２１の現
在位置（偏光ビームスプリッターから測った位置）が求
められる。そして、減算器３８において、この位置の信
号からデットパス入力装置３４から出力されたデットパ
スの長さを減ずることにより、デットパス及び原点から
現在位置の間の両者での波長変化を補正して原点から測
定したＸ−Ｙステージ系２１の現在位置が得られる。目
標位置入力装置２０から入力された目標位置と上記のよ
うに補正されて求められた現在位置との差を、位置エラ
ー算出のための減算器２９により求め、その誤差信号を
アンプ３０により増幅して、Ｙ−Ｘステージ系２１をＸ
−Ｙ方向へ移動させるサーボモータ３１に加えることに
より、露光ヘッド２を目標位置、すなわち、測長系の全
ての空間での波長変化による測定値のズレを補正した目
標位置へ正確に歩進移動させて露光を繰り返すことがで
きる。
の部分で発生する波長変化を補正するために、図１に示
したような位置制御システムを採用している。すなわ
ち、目標位置入力装置２０から各回の露光毎に露光ヘッ
ド２を位置させるべき原点から測った目標位置が入力さ
れる（実際には、予めプログムされて順次入力されるも
のである。）。一方、図３に示したような干渉計とそれ
から得られたドップラーシフト周波数をパルス化して出
力する回路とからなる干渉計測長器２２からのパルス信
号は、パルスカウンタ２３により加減算される。パルス
カウンタ２３は、露光開始時にＸ−Ｙステージ系２１を
原点に戻した時に、リセット装置３２によりゼロにリセ
ットされる。したがって、パルスカウンタ２３のパルス
カウント値は、露光ヘッド２の原点からの移動量、すな
わちＸ−Ｙステージ系２１の原点に対する相対位置を表
す。また、従来の装置（図６）と同様、シャドウマスク
パターン描画装置が置かれた雰囲気の気圧を検出する気
圧計２４、気温を検出する温度計２５、湿度を検出する
湿度計２６が設けられており、これらの検出器からの検
出信号は、レーザ波長算出装置２７に送られ、ここで予
め記憶されたテーブルを参照にして、真空中の波長λ0
を補正して得られるその状態の空気中の実際の波長λが
求められる（なお、気圧、気温、湿度と波長の関係を表
すオーエンズの式（工藤恵栄著「分光学的性質を主とし
た基礎物性図表」共立出版（株）昭４７．５．１５発
行，第１３８頁）に従って波長を求めるようにしてもよ
い。）。パルスカウンタ２３のリセット時の空気中の波
長λS は、リセット装置３２からの信号に基づいて、レ
ーザ波長算出装置２７からレジスター３７に記憶され
る。ところで、デットパス入力装置３４が設けられてお
り、ここからデットパスの長さが与えられる（実際に
は、メモリーに記憶しておき、その記憶を呼び出すこと
によって与えられる。）。デットパス入力装置３４から
出力されたデットパスの長さは、割算器３５において、
レジスター３７に記憶されている原点へのリセット時の
波長λS により割られ、その商（デットパスのリセット
時の波長λS で換算したデジタル値）は、加算器３６に
おいてパルスカウンタ２３のパルスカウント値に加えら
れる。そして、この加算値は、掛算器２８においてレー
ザ波長算出装置２４からのその時点での空気中の波長λ
を乗じることにより、実際のＸ−Ｙステージ系２１の現
在位置（偏光ビームスプリッターから測った位置）が求
められる。そして、減算器３８において、この位置の信
号からデットパス入力装置３４から出力されたデットパ
スの長さを減ずることにより、デットパス及び原点から
現在位置の間の両者での波長変化を補正して原点から測
定したＸ−Ｙステージ系２１の現在位置が得られる。目
標位置入力装置２０から入力された目標位置と上記のよ
うに補正されて求められた現在位置との差を、位置エラ
ー算出のための減算器２９により求め、その誤差信号を
アンプ３０により増幅して、Ｙ−Ｘステージ系２１をＸ
−Ｙ方向へ移動させるサーボモータ３１に加えることに
より、露光ヘッド２を目標位置、すなわち、測長系の全
ての空間での波長変化による測定値のズレを補正した目
標位置へ正確に歩進移動させて露光を繰り返すことがで
きる。
【００１５】以上の制御装置の作用を数式で説明する
と、目標位置入力装置から入力された目標位置をＡ、デ
ットパス入力装置３４から出力されるデットパスの長さ
をＤとし、図１のフィードバック制御系が動作してＸ−
Ｙステージ系２１が正確に目標位置に達して静止してい
るとする。レジスター３７には、Ｘ−Ｙステージ系２１
を原点へ戻し、パルスカウンタ２３をゼロにリセットし
た時の波長λS が記憶されている。そして、掛算器２８
には、レーザ波長算出装置２７からその時点での空気中
の波長λが入力している。このような状態で、パルスカ
ウンタ２３には、（Ａ＋Ｄ）／λ−Ｄ／λS 個のパルス
がカウントされているはずである。割算器３５からは、
Ｄ／λS のデジタル値が出力されるので、加算器３６か
らは（Ａ＋Ｄ）／λのデジタル値が出力される。したが
って、掛算器２８において、この値にλが掛けられるの
で、掛算器２８から出力される値は（Ａ＋Ｄ）、すなわ
ち、偏光ビームスプリッター１５から移動鏡１１（１
２）の間の距離である。この距離（Ａ＋Ｄ）から減算器
３８においてデットパスの長さＤを減ずることにより、
目標位置Ａが得られる。すなわち、波長がλS からλに
変化しても、このような制御系を用いると、デットパス
での波長変化も補正されて、正確に目標位置にフィード
バック制御することができる。このような、デットパス
入力装置３４、割算器３５、加算器３６、レジスター３
７、減算器３８を設けない図６のような従来のものにお
いては、同じ条件で、減算器３８から出力する値は、Ａ
−Ｄ×λ／λS となり、Ｘ−Ｙステージ系２１が正確に
目標位置Ａに達しているにもかかわらず、フィードバッ
クループにより誤った位置に移動されることになる。し
たがって、以上のような本発明の位置制御装置による
と、シャドウマスクパターン描画装置の環境の気圧、気
温、湿度が変化しても、描画されたシャドウマスクには
不定期的なムラが発生することはない。
と、目標位置入力装置から入力された目標位置をＡ、デ
ットパス入力装置３４から出力されるデットパスの長さ
をＤとし、図１のフィードバック制御系が動作してＸ−
Ｙステージ系２１が正確に目標位置に達して静止してい
るとする。レジスター３７には、Ｘ−Ｙステージ系２１
を原点へ戻し、パルスカウンタ２３をゼロにリセットし
た時の波長λS が記憶されている。そして、掛算器２８
には、レーザ波長算出装置２７からその時点での空気中
の波長λが入力している。このような状態で、パルスカ
ウンタ２３には、（Ａ＋Ｄ）／λ−Ｄ／λS 個のパルス
がカウントされているはずである。割算器３５からは、
Ｄ／λS のデジタル値が出力されるので、加算器３６か
らは（Ａ＋Ｄ）／λのデジタル値が出力される。したが
って、掛算器２８において、この値にλが掛けられるの
で、掛算器２８から出力される値は（Ａ＋Ｄ）、すなわ
ち、偏光ビームスプリッター１５から移動鏡１１（１
２）の間の距離である。この距離（Ａ＋Ｄ）から減算器
３８においてデットパスの長さＤを減ずることにより、
目標位置Ａが得られる。すなわち、波長がλS からλに
変化しても、このような制御系を用いると、デットパス
での波長変化も補正されて、正確に目標位置にフィード
バック制御することができる。このような、デットパス
入力装置３４、割算器３５、加算器３６、レジスター３
７、減算器３８を設けない図６のような従来のものにお
いては、同じ条件で、減算器３８から出力する値は、Ａ
−Ｄ×λ／λS となり、Ｘ−Ｙステージ系２１が正確に
目標位置Ａに達しているにもかかわらず、フィードバッ
クループにより誤った位置に移動されることになる。し
たがって、以上のような本発明の位置制御装置による
と、シャドウマスクパターン描画装置の環境の気圧、気
温、湿度が変化しても、描画されたシャドウマスクには
不定期的なムラが発生することはない。
【００１６】図１の制御装置の場合も、従来の図７のも
のと同様に変形して、図４に示すように、原点からの目
標位置とデットパスの長さを加算器３９により加えて得
た目標位置を、割算器３３でレーザ波長算出装置２７出
力された実際の波長λで割って目標位置を予め量子化し
ておいて、この量子化した目標デジタル値とパルスカウ
ンタ２３のパルスカウント値にデットパスのリセット時
の波長λS で換算したデジタル値を加えた値、すなわ
ち、現在位置を表すデジタル値とを比較して誤差信号を
発生させるようにすることもできる。その作用は、本質
的に図１の場合と同様である。
のと同様に変形して、図４に示すように、原点からの目
標位置とデットパスの長さを加算器３９により加えて得
た目標位置を、割算器３３でレーザ波長算出装置２７出
力された実際の波長λで割って目標位置を予め量子化し
ておいて、この量子化した目標デジタル値とパルスカウ
ンタ２３のパルスカウント値にデットパスのリセット時
の波長λS で換算したデジタル値を加えた値、すなわ
ち、現在位置を表すデジタル値とを比較して誤差信号を
発生させるようにすることもできる。その作用は、本質
的に図１の場合と同様である。
【００１７】ところで、以上の図１、図４の実施例は、
図２に示したような描画装置全体を空気中に置き、ステ
ージ１及び露光ヘッド２の相対位置を制御して描画する
ものであるが、図５に模式図を示すように、ステージ
１、露光ヘッド２、移動鏡１１、１２のみを真空室４０
内に収容し、干渉計７、８を空気中に配置し、干渉計
７、８を通って移動鏡１１、１２に向かう光は真空室４
０の窓４１から導入するようにすることもできる。この
ような場合、デットパスＤの中、ビームスプリッターと
窓４１の間Ｄ′においてのみ波長変化を受ける。このよ
うな場合、図１、４において、デットパスの長さはＤで
なくこのＤ′として制御するようにする。
図２に示したような描画装置全体を空気中に置き、ステ
ージ１及び露光ヘッド２の相対位置を制御して描画する
ものであるが、図５に模式図を示すように、ステージ
１、露光ヘッド２、移動鏡１１、１２のみを真空室４０
内に収容し、干渉計７、８を空気中に配置し、干渉計
７、８を通って移動鏡１１、１２に向かう光は真空室４
０の窓４１から導入するようにすることもできる。この
ような場合、デットパスＤの中、ビームスプリッターと
窓４１の間Ｄ′においてのみ波長変化を受ける。このよ
うな場合、図１、４において、デットパスの長さはＤで
なくこのＤ′として制御するようにする。
【００１８】なお、以上の実施例において、Ｘ−Ｙステ
ージ系２１を原点に移動させて、パルスカウンタ２３を
リセットするリセット装置３２については手動の装置を
考えていたが、Ｘ−Ｙステージ系２１が所定の原点に達
したとき、これを自動的に検知してパルスカウンタ２３
のリセット端子に信号を送るものであれば、公知の機械
的、光学的、電気的、磁気的、光電的手段等の何れのも
のでも用いることができる。
ージ系２１を原点に移動させて、パルスカウンタ２３を
リセットするリセット装置３２については手動の装置を
考えていたが、Ｘ−Ｙステージ系２１が所定の原点に達
したとき、これを自動的に検知してパルスカウンタ２３
のリセット端子に信号を送るものであれば、公知の機械
的、光学的、電気的、磁気的、光電的手段等の何れのも
のでも用いることができる。
【００１９】以上、本発明のシャドウマスクパターン描
画装置における露光ヘッド位置制御装置のいくつかの実
施例について説明してきたが、本発明はこれらの実施例
に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、Ｘ−
Ｙステージ系２１を原点に移動したとき、パルスカウン
タ２３をリセットするのではなく、割算器３５から出力
する値をパルスカウンタ２３にプリセットするようにし
てもよい。また、本発明は、シャドウマスクパターン描
画装置以外にも、マイケルソン干渉計を用いて位置制御
するその他の描画装置、それ以外の装置にも適用するこ
とができる。
画装置における露光ヘッド位置制御装置のいくつかの実
施例について説明してきたが、本発明はこれらの実施例
に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、Ｘ−
Ｙステージ系２１を原点に移動したとき、パルスカウン
タ２３をリセットするのではなく、割算器３５から出力
する値をパルスカウンタ２３にプリセットするようにし
てもよい。また、本発明は、シャドウマスクパターン描
画装置以外にも、マイケルソン干渉計を用いて位置制御
するその他の描画装置、それ以外の装置にも適用するこ
とができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のシャドウ
マスクパターン描画装置における位置制御装置による
と、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント値をゼ
ロにリセットする時の空気中の波長を記憶する手段を設
け、ビームスプリッターと原点の間の距離をこの記憶手
段に記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に加
算した後に、その時の空気中の波長を掛け、得られた値
からビームスプリッターと原点の間の距離を差し引き、
その値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移動鏡の位置
をフィードバック制御するようにしているので、ビーム
スプリッターと原点の間のデットパスにおける空気の気
圧、気温、湿度の変化に基づいて波長が変化しても、こ
の変化による位置ズレが補正され、シャドウマスクパタ
ーン描画装置の環境の気圧、気温、湿度が変化しても、
描画されたシャドウマスクには小孔パターン位置精度低
下による不定期的なムラが発生することはない。
マスクパターン描画装置における位置制御装置による
と、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント値をゼ
ロにリセットする時の空気中の波長を記憶する手段を設
け、ビームスプリッターと原点の間の距離をこの記憶手
段に記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に加
算した後に、その時の空気中の波長を掛け、得られた値
からビームスプリッターと原点の間の距離を差し引き、
その値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移動鏡の位置
をフィードバック制御するようにしているので、ビーム
スプリッターと原点の間のデットパスにおける空気の気
圧、気温、湿度の変化に基づいて波長が変化しても、こ
の変化による位置ズレが補正され、シャドウマスクパタ
ーン描画装置の環境の気圧、気温、湿度が変化しても、
描画されたシャドウマスクには小孔パターン位置精度低
下による不定期的なムラが発生することはない。
【図１】本発明の１実施例のシャドウマスクパターン描
画装置における位置制御装置の構成を説明するための図
である。
画装置における位置制御装置の構成を説明するための図
である。
【図２】シャドウマスクパターン描画装置の要部斜視図
である。
である。
【図３】マイケルソン干渉計の１例の光学的構成を示す
図である。
図である。
【図４】本発明の別の実施例の構成を説明するための図
である。
である。
【図５】描画装置の一部が真空中にある場合の模式図で
ある。
ある。
【図６】従来の１例のシャドウマスクパターン描画装置
における露光ヘッド位置制御システムの構成を説明する
ための図である。
における露光ヘッド位置制御システムの構成を説明する
ための図である。
【図７】従来の別の例の構成を説明するための図であ
る。
る。
【図８】シャドウマスクの描画条件とその際に発生した
ムラを示すための図である。
ムラを示すための図である。
【図９】デットパスを説明するための図である。
Ｐ…感光材 １…ステージ ２…露光ヘッド ４…レーザ光源 ７、８…干渉計 １１、１２…移動鏡 １３、１４…検出器 １５…偏光ビームスプリッター ２０…目標位置入力装置 ２１…Ｘ−Ｙステージ系 ２２…干渉計測長器 ２３…パルスカウンタ ２４…気圧計 ２５…温度計 ２６…湿度計 ２７…レーザ波長算出装置 ２８…掛算器 ２９、３８…減算器 ３０…アンプ ３１…サーボモータ ３２…リセット装置 ３３、３５…割算器 ３４…デットパス入力装置 ３６、３９…加算器 ３７…レジスター ４０…真空室 ４１…窓
Claims (2)
- 【請求項１】 マイケルソン干渉計の移動鏡の原点から
の移動量を干渉計からの干渉縞ないしドップラーシフト
周波数をカウンタでカウントすることにより制御して、
シャドウマスクパターン描画装置の露光ヘッドと感光材
の相対位置を制御する装置であって、移動鏡の原点をマ
イケルソン干渉計のビームスプリッターから離れた位置
に設定し、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント
値をゼロにリセットし、その後にカウンタのカウント値
にその時の空気中の波長を掛けて得られた値と移動鏡の
目標位置の差に基づいて移動鏡の位置をフィードバック
制御する位置制御装置において、移動鏡を原点に移動し
てカウンタのカウント値をゼロにリセットする時の空気
中の波長を記憶する手段を設け、ビームスプリッターと
原点の間の距離をこの記憶手段に記憶された波長で割っ
た値を前記カウンタの値に加算した後に、その時の空気
中の波長を掛け、得られた値からビームスプリッターと
原点の間の距離を差し引き、その値と移動鏡の目標位置
の差に基づいて移動鏡の位置をフィードバック制御する
ことを特徴とするシャドウマスクパターン描画装置にお
ける位置制御装置。 - 【請求項２】 マイケルソン干渉計の移動鏡の原点から
の移動量を干渉計からの干渉縞ないしドップラーシフト
周波数をカウンタでカウントすることにより制御して、
シャドウマスクパターン描画装置の露光ヘッドと感光材
の相対位置を制御する装置であって、移動鏡の原点をマ
イケルソン干渉計のビームスプリッターから離れた位置
に設定し、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント
値をゼロにリセットし、その後にカウンタのカウント値
と移動鏡の目標位置をその時の空気中の波長で割って得
られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィードバッ
ク制御する位置制御装置において、移動鏡を原点に移動
してカウンタのカウント値をゼロにリセットする時の空
気中の波長を記憶する手段を設け、移動鏡の目標位置に
ビームスプリッターと原点の間の距離を加えてからその
時の空気中の波長で割るように構成し、この商と、ビー
ムスプリッターと原点の間の距離を前記記憶手段に記憶
された波長で割った値を前記カウンタの値に加算して得
られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィードバッ
ク制御することを特徴とするシャドウマスクパターン描
画装置における位置制御装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40261390A JP2835185B2 (ja) | 1990-12-17 | 1990-12-17 | シャドウマスクパターン描画装置における位置制御装置 |
| DE4107762A DE4107762B4 (de) | 1990-03-09 | 1991-03-11 | Verfahren zum Herstellen von Master- und Arbeitsmusterplatten für den Ätzprozess |
| US08/067,340 US5500326A (en) | 1990-03-09 | 1993-05-25 | Method of producing master and working pattern plates for etching and photolithographic apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40261390A JP2835185B2 (ja) | 1990-12-17 | 1990-12-17 | シャドウマスクパターン描画装置における位置制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04216557A JPH04216557A (ja) | 1992-08-06 |
| JP2835185B2 true JP2835185B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=18512412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40261390A Expired - Fee Related JP2835185B2 (ja) | 1990-03-09 | 1990-12-17 | シャドウマスクパターン描画装置における位置制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2835185B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5203903B2 (ja) * | 2008-12-01 | 2013-06-05 | 株式会社ミツトヨ | レーザ干渉計 |
-
1990
- 1990-12-17 JP JP40261390A patent/JP2835185B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04216557A (ja) | 1992-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3517903B2 (ja) | 干渉計 | |
| US4173442A (en) | Apparatus and method for determination of wavelength | |
| JPS6039518A (ja) | 干渉計システム | |
| JPH021501A (ja) | レーザ干渉測長器及びそれを用いた位置決め方法 | |
| CN105091781B (zh) | 一种单桢干涉条纹图测量光学表面的方法与装置 | |
| US12025819B2 (en) | Picometer optical comb, and device and method for generating the same | |
| KR100588128B1 (ko) | 리소그래피장치 및 디바이스제조방법 | |
| JPH07117371B2 (ja) | 測定装置 | |
| JPH06229922A (ja) | 高精度空気屈折率計 | |
| Chen | Beam alignment and image metrology for scanning beam interference lithography: fabricating gratings with nanometer phase accuracy | |
| JP2835185B2 (ja) | シャドウマスクパターン描画装置における位置制御装置 | |
| US4345838A (en) | Apparatus for spectrometer alignment | |
| US5801833A (en) | Method of producing master and working pattern plates for etching and photolithographic apparatus therefor | |
| JP3564569B2 (ja) | 実時間表面形状計測方法及び装置 | |
| US5500326A (en) | Method of producing master and working pattern plates for etching and photolithographic apparatus therefor | |
| KR0164225B1 (ko) | 에칭용 마스터 패턴판과 에칭용 워킹 패턴판의 제조방법, 그리고 그것에 사용하는 패턴 노광묘화장치 | |
| JPS5958305A (ja) | 測定方法及びその装置 | |
| Flanders et al. | A precision wide‐range optical gap measurement technique | |
| JP2888215B2 (ja) | 露光装置及び測定方法 | |
| JP3738457B2 (ja) | 干渉測定装置及び干渉測定方法 | |
| JPH05272913A (ja) | 高精度干渉測長計 | |
| JP3010853B2 (ja) | 座標測定システム | |
| JPH06123607A (ja) | 測長装置 | |
| JPS6151241B2 (ja) | ||
| CN113587805A (zh) | 一种应用于波长调谐式移相干涉仪的自适应移相方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |