JP2800793B2 - Rubbing equipment - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は液晶表示素子にお
いて液晶分子の配向を制御する有機薄膜（液晶配向膜）
を形成する際に施されるラビング処理を行う装置に関す
る。The present invention relates to an organic thin film (liquid crystal alignment film) for controlling the alignment of liquid crystal molecules in a liquid crystal display device.
The present invention relates to an apparatus for performing a rubbing treatment that is performed when forming a film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より液晶配向膜に施されているラビ
ング処理は、例えば特開平４−２２３２３３号公報で開
示されているように、基板面の法線が重力にほぼ平行で
ラビングローラーの回転軸と基板を保持するステージの
移動方向が重力に対してほぼ垂直になるように配置され
た装置を用いて行われていた。2. Description of the Related Art Conventionally, a rubbing process applied to a liquid crystal alignment film is performed by rotating a rubbing roller when the normal of the substrate surface is substantially parallel to gravity, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-223233. This has been performed using a device arranged so that the direction of movement of the stage holding the axis and the substrate is substantially perpendicular to the gravity.
【０００３】図５は、従来例のラビング装置の機構を示
す模式的斜視図であり、図中符号５１はラビングロー
ラ、５２は基板、５３はステージ、５４はラビングロー
ラの回転方向、５５はステージの平行移動方向、５６は
重力方向である。図６は従来例のラビング装置のラビン
グローラのたわみを示す模式的正面図であり、図中６１
はラビングローラ、６２は軸受、６３は重力方向であ
る。FIG. 5 is a schematic perspective view showing a mechanism of a conventional rubbing apparatus. In the figure, reference numeral 51 denotes a rubbing roller, 52 denotes a substrate, 53 denotes a stage, 54 denotes a rotation direction of the rubbing roller, and 55 denotes a stage. And 56 is the direction of gravity. FIG. 6 is a schematic front view showing the deflection of a rubbing roller of a conventional rubbing device.
Is a rubbing roller, 62 is a bearing, and 63 is a direction of gravity.
【０００４】基板５２上を回転するラビングローラ５１
によって液晶配向膜にラビング処理を行ない、基板５２
は固定されたステージ５３によって重力に対してほぼ垂
直な水平方向に平行移動する。A rubbing roller 51 rotating on a substrate 52
Rubbing treatment is performed on the liquid crystal alignment film by the
Is translated in a horizontal direction substantially perpendicular to gravity by the fixed stage 53.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ラビング処理は液晶配
向膜表面近傍の有機分子の分子配向を揃えるための処理
であり、ラビングに用いるローラの布の種類、ローラを
基板におしつける際の圧力、ローラの回転数、基板を保
持するステージの移動速度により液晶配向膜表面近傍の
有機分子の配向状態が変化する。The rubbing treatment is a treatment for aligning the molecular orientation of organic molecules near the surface of the liquid crystal alignment film. The rubbing treatment includes the type of roller cloth used for rubbing, the pressure applied when the roller is pressed against the substrate, and the roller. The orientation of the organic molecules near the surface of the liquid crystal alignment film changes depending on the rotation speed of the substrate and the moving speed of the stage holding the substrate.
【０００６】ラビングローラ回転に伴い、布の押込み圧
力が変化するという問題があり、この原因にはラビング
ローラの断面が円形でない、ローラの断面が円形であっ
てもローラ回転軸が断面の中心にない等が考えられる
が、これらの原因はラビングローラの加工精度を上げる
ことで対処できる。There is a problem that the cloth pressing pressure changes with the rotation of the rubbing roller. This is because the cross section of the rubbing roller is not circular, and even if the cross section of the roller is circular, the roller rotating shaft is located at the center of the cross section. However, these causes can be dealt with by increasing the processing accuracy of the rubbing roller.
【０００７】しかし、従来の装置では、図５に示した様
に基板面法線が重力と平行になるように基板５２が水平
に移動するステージ５３に固定され、ラビングローラ５
１は回転軸が基板面と平行で重力に垂直になるように配
置されている。この状態ではラビングローラ５１が回転
する際、ラビングローラの接触位置やラビングローラの
振れなどによって布の押え込み圧力が変化して液晶配向
膜表面近傍の分子配向状態に不均一が生じる。これが液
晶分子の分子配向状態に影響を与え、表示ムラを発生さ
せるという問題があり、ラビングローラの加工精度の向
上では解決できなかった。However, in the conventional apparatus, as shown in FIG. 5, a substrate 52 is fixed to a stage 53 which moves horizontally so that a normal to the substrate surface is parallel to gravity, and a rubbing roller 5 is provided.
Numeral 1 is arranged so that the rotation axis is parallel to the substrate surface and perpendicular to the gravity. In this state, when the rubbing roller 51 rotates, the pressing force of the cloth changes due to the contact position of the rubbing roller, the run-out of the rubbing roller, and the like, and the molecular alignment state near the liquid crystal alignment film surface becomes non-uniform. This affects the molecular alignment state of liquid crystal molecules, causing a problem of display unevenness, and cannot be solved by improving the processing accuracy of the rubbing roller.
【０００８】しかも、最近はＬＣＤ（液晶ディスプレ
イ）パネルの大型化に伴いラビングローラも大型化し、
ラビングローラ自身の重量も重くなっている。大型のラ
ビングローラでは、その回転軸を水平にした場合（重力
方向と回転軸が直交する場合）、図６に示すようにラビ
ングローラ６１自身の重量によって発生するラビングロ
ーラ６１のたわみも大きくなり中央部が垂れ下がった曲
線状となる。このためラビングローラ６１の中央部と端
部では押込み圧力が異なり、膜の分子配向状態に不均一
が生じ、表示ムラが発生する。また、ラビングローラが
たわんだ状態のまま回転させるとラビングローラの重心
が回転軸上にないためにラビングローラに遠心力による
ブレが生じ、やはり膜の分子配向状態が不均一になって
表示ムラが発生する。In addition, recently, the rubbing roller has become larger with the increase in the size of the LCD (liquid crystal display) panel.
The weight of the rubbing roller itself is also heavy. In the case of a large rubbing roller, when the rotation axis is horizontal (when the direction of gravity is orthogonal to the rotation axis), the deflection of the rubbing roller 61 caused by the weight of the rubbing roller 61 becomes large as shown in FIG. The portion has a curved shape that hangs down. For this reason, the indentation pressure differs between the central portion and the end portion of the rubbing roller 61, causing nonuniformity in the molecular orientation state of the film and display unevenness. In addition, if the rubbing roller is rotated while it is bent, the rubbing roller is not on the rotation axis, causing the rubbing roller to shake due to centrifugal force. Occur.
【０００９】本発明の目的は、ラビングローラの重力に
よるたわみに起因する押し込み圧力への影響を排除し
て、ＬＣＤの表示ムラのないラビング処理のできるラビ
ング装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a rubbing apparatus capable of eliminating the influence of the rubbing roller on the pushing pressure due to the bending caused by the gravity, and performing the rubbing process without LCD display unevenness.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明のラビング装置
は、基板の液晶表示素子の液晶配向膜に、ラビングロー
ラによりラビング処理を施すためのラビング装置におい
て、ラビングローラの回転軸が重力方向に平行に保持さ
れ、基板の液晶配向膜面が重力方向に平行に保持される
ようにステージに固定され、回転するラビングローラ
と、ラビングローラに所定の圧力で接触する基板との、
基板面に平行で重力方向に垂直な相対移動によってラビ
ング処理が行なわれる。A rubbing device according to the present invention is a rubbing device for rubbing a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element on a substrate with a rubbing roller, wherein the rotation axis of the rubbing roller is parallel to the direction of gravity. A rubbing roller fixed to the stage so that the liquid crystal alignment film surface of the substrate is held parallel to the direction of gravity, and a rotating rubbing roller, and a substrate contacting the rubbing roller with a predetermined pressure.
The rubbing process is performed by relative movement parallel to the substrate surface and perpendicular to the direction of gravity.
【００１１】ラビングローラの中心位置が固定され、基
板を固定したステージの基板面に平行で重力方向に垂直
な移動によって相対移動が行なわれてもよく、基板を固
定したステージが固定され、回転するラビングローラの
基板面に平行で重力方向に垂直な移動によって相対移動
が行なわれてもよい。The center position of the rubbing roller may be fixed, and the relative movement may be performed by a movement parallel to the substrate surface of the stage on which the substrate is fixed and perpendicular to the direction of gravity. The stage on which the substrate is fixed is fixed and rotated. The relative movement may be performed by movement of the rubbing roller parallel to the substrate surface and perpendicular to the direction of gravity.
【００１２】また、ラビングローラの中心位置が固定さ
れ、ラビングローラを挟んでほぼ平行に対向する２枚の
基板を固定した２組のステージの、それぞれの基板面に
平行で重力方向に垂直でかつ互いに反対方向への移動に
よって相対移動が行なわれてもよい。Further, the center position of the rubbing roller is fixed, and two sets of stages, each of which has two substrates opposed to each other substantially parallel to each other across the rubbing roller, are parallel to the respective substrate surfaces and perpendicular to the direction of gravity and The relative movement may be performed by movements in opposite directions.
【００１３】ラビングローラが重力方向と平行に保持さ
れているため、ラビングローラには自重に起因するラビ
ングローラ軸に垂直方向のたわみを生ずることがなく、
重心位置の偏りも生じない。Since the rubbing roller is held parallel to the direction of gravity, the rubbing roller does not bend in the direction perpendicular to the rubbing roller shaft due to its own weight.
There is no deviation of the center of gravity.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を用い
て説明する。本発明では、ラビングローラおよびその回
転軸が重力の方向と平行な垂直方向に保持されており、
ラビング処理される基板もラビング面の法線方向が重力
方向と垂直になるようにステージに保持されている。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present invention, the rubbing roller and its rotation axis are held in a vertical direction parallel to the direction of gravity,
The substrate to be rubbed is also held on the stage such that the normal direction of the rubbing surface is perpendicular to the direction of gravity.
【００１５】図１は第１の実施の形態のラビング装置の
機構を示す模式的斜視図であり、図中符号１１はラビン
グローラ、１２はラビングの対象となる基板、１３は基
板を保持するステージ、１４はラビングローラの回転方
向、１５はステージの平行移動方向、１６は重力方向で
ある。図２は第１の実施の形態のラビング装置のステー
ジ部分の模式的斜視図であり、２０はステージ、２１は
基板保持用の凹部、２２は排気孔、２３は真空計、２４
はロータリー真空ポンプ、２５はガイドレールである。FIG. 1 is a schematic perspective view showing the mechanism of the rubbing device according to the first embodiment. In the figure, reference numeral 11 denotes a rubbing roller, 12 denotes a substrate to be rubbed, and 13 denotes a stage for holding the substrate. , 14 are the rotation direction of the rubbing roller, 15 is the parallel movement direction of the stage, and 16 is the direction of gravity. FIG. 2 is a schematic perspective view of a stage portion of the rubbing device according to the first embodiment, wherein 20 is a stage, 21 is a concave portion for holding a substrate, 22 is an exhaust hole, 23 is a vacuum gauge, 24
Is a rotary vacuum pump, and 25 is a guide rail.
【００１６】本発明の第１の実施の形態として回転軸が
鉛直方向を向いたラビングローラが固定位置で回転し、
ステージが水平に平行移動するラビング装置について図
１を参照して説明する。ラビングローラ１１の回転軸が
重力方向１６に平行に配設されており、ラビングローラ
１１は固定位置で回転方向１４の矢印方向に回転する。
ラビングされる基板１２は、移動方向１５に移動可能な
ステージ１３に保持されている。図２に示すようにステ
ージ２０には基板１２の振れを防ぐために基板１２の大
きさと厚さに応じた基板保持用の凹部２１が刻設されて
いる。１実施例では厚さ１．１ｍｍでｌ５０ｍｍ×ｌ５
０ｍｍの大きさのガラス基板をラビングするために、深
さ０．６ｍｍでｌ５０．２ｍｍ×１５０．２ｍｍの凹部
２１を設けた。基板１２が真空チャックによって固定さ
れるために、凹部２１の底面には複数の排気孔２２が設
けられており、ロータリ真空ポンプ２４により排気が行
われる。この例では直径１ｍｍの穴を２０ｍｍ間隔で正
方格子状に４９個設けた。基板１２の密着状態はこの排
気系に真空計２３を設け、その表示（排気系内の圧力）
が２００Ｔｏｒｒ以下の場合に基板保持完了と判断し、
ラビング処理を行った。この密着が不十分だとラビング
終了直後に基板が落下することがある。ステージ１３は
基板１２の全面がラビングされるように基板面を重力に
平行な方向に保った状態で重力方向に水平に平行移動を
行う。ステージ１４の平行移動を行う際の移動の精度を
保つために、図２に示すようにステージ２０は複数のレ
ール上にあり溝によって固定される。According to a first embodiment of the present invention, a rubbing roller having a rotating shaft oriented vertically is rotated at a fixed position,
A rubbing device in which the stage moves horizontally in parallel will be described with reference to FIG. The rotation axis of the rubbing roller 11 is disposed parallel to the direction of gravity 16, and the rubbing roller 11 rotates in the rotation direction 14 in the direction of the arrow at the fixed position.
The substrate 12 to be rubbed is held on a stage 13 movable in a moving direction 15. As shown in FIG. 2, the stage 20 is provided with a substrate holding recess 21 corresponding to the size and thickness of the substrate 12 in order to prevent the substrate 12 from swinging. In one embodiment, a thickness of 1.1 mm and 150 mm × 15
In order to rub a glass substrate having a size of 0 mm, a concave portion 21 having a depth of 0.6 mm and a size of 150.2 mm × 150.2 mm was provided. Since the substrate 12 is fixed by the vacuum chuck, a plurality of exhaust holes 22 are provided on the bottom surface of the concave portion 21, and exhaust is performed by a rotary vacuum pump 24. In this example, 49 holes having a diameter of 1 mm were provided in a square lattice at intervals of 20 mm. A vacuum gauge 23 is provided in this exhaust system to indicate the close contact state of the substrate 12 and the indication (pressure in the exhaust system) is provided.
Is less than 200 Torr, it is determined that the substrate holding is completed,
A rubbing treatment was performed. If the adhesion is insufficient, the substrate may drop immediately after the completion of the rubbing. The stage 13 horizontally translates in the direction of gravity while maintaining the substrate surface in a direction parallel to gravity so that the entire surface of the substrate 12 is rubbed. As shown in FIG. 2, the stage 20 is on a plurality of rails and is fixed by grooves in order to maintain the accuracy of the movement when performing the parallel movement of the stage 14.
【００１７】次に、本発明の第２の実施の形態としてス
テージが固定され、回転軸が鉛直方向を向いたラビング
ローラが回転しながらステージ上を重力方向に垂直に平
行移動するラビング装置について図３を参照して説明す
る。Next, as a second embodiment of the present invention, there is shown a rubbing apparatus in which a stage is fixed and a rubbing roller whose rotation axis is oriented vertically moves parallel to the stage in the direction of gravity while rotating. 3 will be described.
【００１８】図３は第２の実施の形態のラビング装置の
機構を示す模式的正面図であり、図中符号３１はラビン
グローラ、３２はラビングの対象となる基板、３３は基
板を保持するステージ、３４はラビングローラの軸受、
３５はラビングローラ移動用にステージに設けられたレ
ール、３６はラビングローラの移動方向、３７は重力方
向である。FIG. 3 is a schematic front view showing the mechanism of the rubbing device according to the second embodiment. In the figure, reference numeral 31 denotes a rubbing roller, 32 denotes a substrate to be rubbed, and 33 denotes a stage for holding the substrate. , 34 are rubbing roller bearings,
35 is a rail provided on the stage for moving the rubbing roller, 36 is the moving direction of the rubbing roller, and 37 is the direction of gravity.
【００１９】重力方向３７に平行な回転軸を有するラビ
ングローラ３１が回転しながら、ラビングローラ３１の
軸受３４がステージ３３に設けられたレール３５にガイ
ドされて移動方向３６に移動して、ステージ３３に固定
された基板３２の表面をラビングする。While the rubbing roller 31 having a rotation axis parallel to the direction of gravity 37 rotates, the bearing 34 of the rubbing roller 31 is guided by the rail 35 provided on the stage 33 and moves in the movement direction 36, Is rubbed on the surface of the substrate 32 fixed to the substrate.
【００２０】基板３２のステージ３３ヘの保持の方法は
第１の実施の形態と同じで、１実施例では厚さ１．１ｍ
ｍで１５０ｍｍ×１５０ｍｍの大きさのガラス基板をラ
ビングするために深さ０．６ｍｍでｌ５０．２ｍｍ×ｌ
５０．２ｍｍの凹部が設けられている。基板３２が真空
チャックによって固定されるため、凹部の底面に直径１
ｍｍの孔がを２０ｍｍ間隔で正方格子状に４９個設けら
れており、そこからロータリ真空ポンプで排気すること
によって生じる大気圧との圧力差によって基板３２がス
テージ３３に保持される。The method of holding the substrate 32 on the stage 33 is the same as in the first embodiment. In one embodiment, the thickness is 1.1 m.
To rub a glass substrate with a size of 150 mm x 150 mm at a depth of 150 mm x 1 at a depth of 0.6 mm
A recess of 50.2 mm is provided. Since the substrate 32 is fixed by the vacuum chuck, the diameter 1
The substrate 32 is held on the stage 33 by a pressure difference from the atmospheric pressure generated by evacuating the substrate 32 with a rotary vacuum pump from there.
【００２１】次に、本発明の第３の実施の形態として、
回転軸が鉛直方向を向いたラビングローラが固定位置で
回転し、そのラビングローラを挟んで対向する２枚の基
板がステージによりそれぞれ重力方向に垂直に平行移動
して、２枚の基板を同時にラビングするラビング装置に
ついて図４を参照して説明する。Next, as a third embodiment of the present invention,
A rubbing roller whose rotation axis is oriented vertically rotates at a fixed position, and the two substrates facing each other across the rubbing roller are moved in parallel by a stage in a direction perpendicular to the direction of gravity, and the two substrates are simultaneously rubbed. The rubbing device that performs this will be described with reference to FIG.
【００２２】図４は第３の実施の形態のラビング装置の
機構を示す模式的斜視図であり、図中符号４１はラビン
グローラ、４２はラビングの対象となる第１の基板、４
３は基板を保持する第１のステージ、４４は基板を保持
する第２のステージ、４５は回転方向、４６は第１のス
テージの移動方向、４７は第２のステージの移動方向、
４８は重力方向である。FIG. 4 is a schematic perspective view showing the mechanism of the rubbing device according to the third embodiment. In the drawing, reference numeral 41 denotes a rubbing roller, and reference numeral 42 denotes a first substrate to be rubbed.
3 is a first stage for holding a substrate, 44 is a second stage for holding a substrate, 45 is a rotation direction, 46 is a movement direction of the first stage, 47 is a movement direction of the second stage,
48 is the direction of gravity.
【００２３】ラビングローラ４１の回転軸が重力方向４
８に平行に配設されており、ラビングローラ４１は固定
位置で回転する。ラビングされる第１の基板１２および
第２の基板（不図示）は、それぞれ移動方向４６および
４７に移動可能な第１のステージ４３および第２のステ
ージ４４に保持されている。The rotation axis of the rubbing roller 41 is in the direction of gravity 4
The rubbing roller 41 rotates in a fixed position. The first substrate 12 and the second substrate (not shown) to be rubbed are held on a first stage 43 and a second stage 44 which can move in moving directions 46 and 47, respectively.
【００２４】ラビングローラ４１を挟んで対向する２枚
の第１の基板４３および第２の基板が、それぞれの固定
された第１のステージ４３および第２のステージ４４に
より重力方向に垂直に平行移動して２枚の基板が同時に
ラビングされる。それぞれのステージは第１の実施の形
態と同様に平行移動を行う際の精度を保つため、複数の
レール上にステージが、あり溝によって摺動可能に固定
されている。なお、ラビングローラ４１の回転方向４５
に対して両基板の移動方向４６、４７が等しくなるよう
にするため、ステージの移動方向４６、４７は互いに逆
向きとなっている。The first substrate 43 and the second substrate opposing each other with the rubbing roller 41 interposed therebetween are translated by the fixed first stage 43 and second stage 44 in a direction perpendicular to the direction of gravity. Thus, the two substrates are rubbed simultaneously. Each stage has a stage on a plurality of rails and is slidably fixed by a groove in order to maintain accuracy in performing parallel movement as in the first embodiment. In addition, the rotation direction 45 of the rubbing roller 41
In order to make the moving directions 46 and 47 of the two substrates equal to each other, the moving directions 46 and 47 of the stage are opposite to each other.
【００２５】それぞれの基板のステージ４３、４４ヘの
保持の方法は第１の実施の形態と同じで、１実施例では
厚さ１．１ｍｍで１５０ｍｍ×１５０ｍｍの大きさのガ
ラス基板をラビングするために深さ０．６ｍｍでｌ５
０．２ｍｍ×ｌ５０．２ｍｍの凹部が設けられている。
基板３２が真空チャックによって固定されるため、凹部
の底面に直径１ｍｍの孔がを２０ｍｍ間隔で正方格子状
に４９個設けられており、そこからロータリ真空ポンプ
で排気することによって生じる大気圧との圧力差によっ
て基板３２がステージ３３に保持される。The method of holding the respective substrates on the stages 43 and 44 is the same as in the first embodiment. In one embodiment, a glass substrate having a thickness of 1.1 mm and a size of 150 mm × 150 mm is rubbed. 15mm at 0.6mm depth
A recess of 0.2 mm × 150.2 mm is provided.
Since the substrate 32 is fixed by the vacuum chuck, 49 holes each having a diameter of 1 mm are provided on the bottom surface of the concave portion in a square lattice shape at intervals of 20 mm. The substrate 32 is held on the stage 33 by the pressure difference.
【００２６】[0026]
【発明の効果】以上のようなラビングローラと基板との
配置をもったラビング装置では、ラビングローラ自身の
重量によるラビングローラのたわみが発生しないため、
ラビングローラの押込み圧力の変化が少なく、ラビング
に起因したＬＣＤの表示ムラの発生が低減する。In the rubbing apparatus having the above arrangement of the rubbing roller and the substrate, the rubbing roller does not bend due to the weight of the rubbing roller itself.
The change in the pressing pressure of the rubbing roller is small, and the occurrence of uneven display on the LCD due to the rubbing is reduced.
【図１】第１の実施の形態のラビング装置の機構を示す
模式的斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing a mechanism of a rubbing device according to a first embodiment.
【図２】第１の実施の形態のラビング装置のステージ部
分の模式的斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of a stage portion of the rubbing device according to the first embodiment.
【図３】第２の実施の形態のラビング装置の機構を示す
模式的正面図である。FIG. 3 is a schematic front view illustrating a mechanism of a rubbing device according to a second embodiment.
【図４】第３の実施の形態のラビング装置の機構を示す
模式的斜視図である。FIG. 4 is a schematic perspective view showing a mechanism of a rubbing device according to a third embodiment.
【図５】従来例のラビング装置の機構を示す模式的斜視
図である。FIG. 5 is a schematic perspective view showing a mechanism of a conventional rubbing device.
【図６】従来例のラビング装置のラビングローラのたわ
みを示す模式的正面図である。FIG. 6 is a schematic front view showing the deflection of a rubbing roller of a conventional rubbing device.
１１、３１、４１、５１、６１ ラビングローラ １２、３２、４２、５２ 基板 １３、２０、３３、５３ ステージ １４、４５、５４ ラビングローラの回転方向 １５、３６、５５ ステージの移動方向 １６、３７、４８、５６、６３ 重力方向 ２１ 基板保持用の凹部 ２２ 排気孔 ２３ 真空計 ２４ ロータリー真空ポンプ ２５ ガイドレール ３４、６２ ラビングローラの軸受 ３５ ステージに設けられたレール ４２ 第１の基板 ４３ 第１のステージ ４４ 第２のステージ ４６ 第１のステージの移動方向 ４７ 第２のステージの移動方向 11, 31, 41, 51, 61 Rubbing roller 12, 32, 42, 52 Substrate 13, 20, 33, 53 Stage 14, 45, 54 Rotation direction of rubbing roller 15, 36, 55 Stage movement direction 16, 37, 48, 56, 63 Gravity direction 21 Depression for holding substrate 22 Exhaust hole 23 Vacuum gauge 24 Rotary vacuum pump 25 Guide rail 34, 62 Bearing for rubbing roller 35 Rail provided on stage 42 First substrate 43 First stage 44 Second stage 46 Moving direction of first stage 47 Moving direction of second stage
Claims (4)
ビングローラによりラビング処理を施すためのラビング
装置において、 前記ラビングローラの回転軸が重力方向に平行に保持さ
れ、 前記基板の前記液晶配向膜面が重力方向に平行に保持さ
れるようにステージに固定され、 回転する前記ラビングローラと、前記ラビングローラに
所定の圧力で接触する前記基板との、基板面に平行で重
力方向に垂直な相対移動によってラビング処理が行なわ
れる、ことを特徴とするラビング装置。1. A rubbing device for rubbing a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element on a substrate with a rubbing roller, wherein a rotation axis of the rubbing roller is held parallel to a direction of gravity, and The rubbing roller is fixed to the stage so that the film surface is held parallel to the direction of gravity, and the rotating rubbing roller and the substrate that contacts the rubbing roller with a predetermined pressure are perpendicular to the direction of gravity and parallel to the substrate surface. A rubbing device wherein rubbing is performed by relative movement.
れ、前記基板を固定した前記ステージの基板面に平行で
重力方向に垂直な移動によって前記相対移動が行なわれ
る、請求項１に記載のラビング装置。2. The rubbing device according to claim 1, wherein a center position of the rubbing roller is fixed, and the relative movement is performed by a movement parallel to a substrate surface of the stage to which the substrate is fixed and perpendicular to a direction of gravity. .
され、回転する前記ラビングローラの基板面に平行で重
力方向に垂直な移動によって前記相対移動が行なわれ
る、請求項１に記載のラビング装置。3. The rubbing device according to claim 1, wherein the stage on which the substrate is fixed is fixed, and the relative movement is performed by movement of the rotating rubbing roller parallel to the substrate surface and perpendicular to the direction of gravity.
れ、前記ラビングローラを挟んでほぼ平行に対向する２
枚の前記基板を固定した２組の前記ステージの、それぞ
れの基板面に平行で重力方向に垂直でかつ互いに反対方
向への移動によって前記相対移動が行なわれる、請求項
１に記載のラビング装置。4. A rubbing roller having a fixed center position and opposed substantially parallel to each other across the rubbing roller.
The rubbing device according to claim 1, wherein the relative movement is performed by movement of two sets of the stages to which a plurality of the substrates are fixed in a direction parallel to respective substrate surfaces, perpendicular to a direction of gravity, and in directions opposite to each other.
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| JP18471796A JP2800793B2 (en) | 1996-07-15 | 1996-07-15 | Rubbing equipment |
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1996
- 1996-07-15 JP JP18471796A patent/JP2800793B2/en not_active Expired - Fee Related
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| CN102388335A (en) * | 2009-05-12 | 2012-03-21 | 夏普株式会社 | Substrate washing method and substrate washing apparatus |
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