JP2796167B2 - Optical fiber manufacturing equipment - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、表面に炭素被膜が形成された光ファイバ
を、高速で紡糸可能とする製造装置に関するものであ
る。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a manufacturing apparatus capable of spinning an optical fiber having a surface coated with a carbon film at a high speed.
［従来の技術］ 石英系光ファイバは、水素と接触するとファイバ内に
拡散した水素分子の分子振動に起因する吸引損失が増大
し、さらにドーパントとして含有されているP2O5、Ge
O2、B2O3などが水素と反応しOH基としてファイバガラス
内に取り込まれるため、OH基の吸収による伝送損失も増
大してしまう問題があった。[Prior Art] Quartz-based optical fibers, when in contact with hydrogen, increase the suction loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber, and further contain P 2 O 5 and Ge contained as dopants.
Since O 2 , B 2 O 3, etc. react with hydrogen and are taken into the fiber glass as OH groups, there is a problem that transmission loss due to absorption of OH groups increases.
このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する
液状の組成物を光ケーブル内に充填する方法（特願昭61
−251808号）などが考えられているが、その効果が不十
分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問題があ
る。To cope with such adverse effects, a method of filling a liquid composition having a hydrogen absorbing ability into an optical cable (Japanese Patent Application No.
No. 251808) is considered, but the effect is insufficient, and the structure becomes complicated, which is economically problematic.
このような問題を解決するため、最近化学気相成長法
（以下、CVD法と略称する）によって光ファイバ表面に
炭素被覆を形成し、これによって光ファイバの耐水素特
性を向上させうることが発表されている。In order to solve such problems, it has recently been announced that a carbon coating can be formed on the surface of an optical fiber by chemical vapor deposition (hereinafter abbreviated as CVD), thereby improving the hydrogen resistance of the optical fiber. Have been.
この方法は紡糸炉で紡糸された光ファイバ裸線を加熱
炉内に挿入すると共に、炭化水素化合物等の原料化合物
を不活性ガス等によりガス化するとともに希釈してなる
原料ガスを供給し、この原料ガスを熱分解させて光ファ
イバ裸線表面に炭素被膜を形成させる方法である。In this method, a bare optical fiber spun in a spinning furnace is inserted into a heating furnace, and a raw material gas obtained by gasifying and diluting a raw material compound such as a hydrocarbon compound with an inert gas or the like is supplied. In this method, a raw material gas is thermally decomposed to form a carbon coating on the bare optical fiber surface.
従来、上記CVD法により光ファイバ裸線表面に炭素被
膜を形成するには、第３図に示したような装置が用いら
れている。Conventionally, an apparatus as shown in FIG. 3 has been used to form a carbon coating on the bare optical fiber surface by the CVD method.
第３図中、符号１は光ファイバ裸線である。光ファイ
バ裸線１は、光ファイバ母材（図示せず）を光ファイバ
紡糸炉２内で溶融紡糸したもので、光ファイバ裸線１は
紡糸されると共に、光ファイバ紡糸炉２の下段に設けら
れたCVD反応炉４内へ冷却筒３を経て供給されるように
なっている。冷却筒３は概略円筒体であって、一端に不
活性ガス等の冷媒供給口3aが、他端に冷媒排出口がそれ
ぞれ接続されてなるものである。この冷却筒３は上段の
光ファイバ紡糸炉２で溶融紡糸された高温の光ファイバ
裸線１を適宜温度にまで冷却するとともに、反応管５上
部のシールを行うためのものである。In FIG. 3, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is obtained by melting and spinning an optical fiber preform (not shown) in an optical fiber spinning furnace 2. The bare optical fiber 1 is spun and provided at a lower stage of the optical fiber spinning furnace 2. The CVD reactor 4 is supplied through the cooling cylinder 3. The cooling cylinder 3 is a substantially cylindrical body having a refrigerant supply port 3a for an inert gas or the like connected to one end and a refrigerant discharge port connected to the other end. The cooling tube 3 cools the hot optical fiber bare wire 1 melt-spun in the upper optical fiber spinning furnace 2 to an appropriate temperature and seals the upper part of the reaction tube 5.
CVD反応炉４は、上段の光ファイバ紡糸炉２内で紡糸
された光ファイバ裸線１表面に炭素被膜をCVD法によっ
て形成するためのものであって、その内部にてCVD反応
を進行させる概略円筒状の反応管５と、この反応管５を
加熱する発熱体６とから構成されている。この反応管５
の上部と下部には、それぞれ図示せぬ光ファイバ裸線導
入孔と光ファイバ裸線導出孔とが設けられており、光フ
ァイバ紡糸炉２にて紡糸された光ファイバ裸線１を挿通
可能となっている。The CVD reactor 4 is for forming a carbon coating on the surface of the bare optical fiber 1 spun in the upper optical fiber spinning furnace 2 by a CVD method, and the outline of the progress of the CVD reaction in the inside thereof. It comprises a cylindrical reaction tube 5 and a heating element 6 for heating the reaction tube 5. This reaction tube 5
An optical fiber bare wire introduction hole and an optical fiber bare wire lead-out hole (not shown) are provided at the upper part and the lower part, respectively, so that the bare optical fiber 1 spun by the optical fiber spinning furnace 2 can be inserted. Has become.
また反応管５の上部には反応管５内へ原料化合物を供
給するための原料ガス供給管７が、下部には未反応ガス
や副生成物等を排気する排気管８が、それぞれ取り付け
られている。さらに反応管５の下部には反応管５をシー
ルするためのガスシール機構９が接続されている。A source gas supply pipe 7 for supplying a raw material compound into the reaction tube 5 is provided at an upper portion of the reaction tube 5, and an exhaust pipe 8 for exhausting unreacted gas and by-products is provided at a lower portion thereof. I have. Further, a gas seal mechanism 9 for sealing the reaction tube 5 is connected to a lower portion of the reaction tube 5.
またこのCVD反応炉４の下段には、樹脂液塗布装置10
と硬化装置11とが連続して設けられており、上記CVD反
応炉４内で光ファイバ裸線１に形成された炭素被膜上に
保護被覆層が形成できるようになっている。In addition, a resin liquid coating device 10
And a curing device 11 are provided continuously, so that a protective coating layer can be formed on the carbon coating formed on the bare optical fiber 1 in the CVD reactor 4.
［発明が解決しようとする課題］ ところが第３図に示した製造装置にあっては、反応管
５内に原料ガスと光ファイバ裸線１とが一緒に供給され
るので、光ファイバ裸線１は熱分解する前の原料ガスと
接触することとなる。そして光ファイバ裸線１表面に、
この未分解の原料ガスが付着し、光ファイバ裸線１表面
への炭素被膜の析出速度が低下される。よって十分な膜
厚の炭素被膜を形成するためには、光ファイバの紡糸速
度を遅くせざるを得ないという問題があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the manufacturing apparatus shown in FIG. 3, since the raw material gas and the bare optical fiber 1 are supplied together into the reaction tube 5, the bare optical fiber 1 Comes into contact with the raw material gas before thermal decomposition. Then, on the surface of the bare optical fiber 1,
The undecomposed raw material gas adheres, and the deposition rate of the carbon coating on the surface of the bare optical fiber 1 is reduced. Therefore, in order to form a carbon film having a sufficient film thickness, there is a problem that the spinning speed of the optical fiber must be reduced.
この発明は上記課題を解決するためになされたもので
あって、十分な膜厚の炭素被膜を有する光ファイバを高
速で紡糸可能とする光ファイバの製造装置を提供するこ
とを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide an optical fiber manufacturing apparatus capable of spinning an optical fiber having a carbon film having a sufficient thickness at a high speed.
［課題を解決するための手段］ この発明の光ファイバの製造装置は、一端に光ファイ
バ裸線導入孔を有し、他端に光ファイバ裸線導出孔を有
する反応管と、この反応管の一端に設けられた原料ガス
供給管と、反応管の他端に設けられた排気管と、反応管
の外周に設けられた発熱体とを具備してなり、その内部
にて原料ガスを熱分解して光ファイバ裸線表面に炭素被
膜を形成する光ファイバの製造装置において、上記光フ
ァイバ裸線導入孔から発熱体近傍にまで光ファイバ裸線
導入管を延設したことを解決手段とした。[Means for Solving the Problems] An apparatus for producing an optical fiber according to the present invention comprises a reaction tube having an optical fiber bare wire introduction hole at one end and an optical fiber bare wire lead-out hole at the other end, It comprises a source gas supply pipe provided at one end, an exhaust pipe provided at the other end of the reaction tube, and a heating element provided at the outer periphery of the reaction tube. In the apparatus for manufacturing an optical fiber in which a carbon coating is formed on the surface of the bare optical fiber, the bare optical fiber introducing pipe is extended from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element.
［作用］ 光ファイバ裸線導入孔から発熱体近傍にまで光ファイ
バ裸線導入管を延設したので、光ファイバ裸線と原料ガ
スとは、原料ガスの熱分解温度にまで加熱された反応管
内で接触する。そして光ファイバ裸線が未分解状態の原
料ガスと接触することがなくなるので、光ファイバ裸線
表面への未分解状態の原料ガスの付着を減少させ、炭素
被膜の析出速度を向上させることができる。よって光フ
ァイバの高速紡糸が可能となる。[Function] Since the bare optical fiber introduction pipe extends from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element, the bare optical fiber and the raw material gas are separated from each other in the reaction tube heated to the thermal decomposition temperature of the raw material gas. Touch with. Since the bare optical fiber does not come into contact with the undecomposed raw material gas, the adhesion of the undecomposed raw material gas to the bare optical fiber surface can be reduced, and the deposition rate of the carbon film can be improved. . Therefore, high-speed spinning of the optical fiber becomes possible.
以下、この発明を詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
第１図はこの発明の光ファイバの製造装置の一例を示
したものである。第１図に示した装置が第３図に示した
ものと異なるところは、反応管５の原料ガス供給管７が
接続された一端側に、反応管５内へ向って、発熱体６近
傍にまで達する光ファイバ裸線導入管12を延設したとこ
ろである。その他の同一部分には、同一符号を付して説
明を省略する。FIG. 1 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus according to the present invention. The difference between the apparatus shown in FIG. 1 and the apparatus shown in FIG. 3 is that one end of the reaction tube 5 to which the source gas supply pipe 7 is connected is located near the heating element 6 toward the inside of the reaction tube 5. The bare optical fiber introduction pipe 12 that reaches up to this point has been extended. The other same parts are denoted by the same reference numerals and the description is omitted.
光ファイバ裸線導入管12は、反応管５と光ファイバ紡
糸炉２とを接続する冷却筒３から反応管５内へ向って、
発熱体６の近傍にまで達するように延設された管であっ
て、その中心軸上に光ファイバ裸線１が挿通されるよう
になっている。この光ファイバ裸線導入管12の開口端の
位置は、原料ガス供給口７が取り付けられた位置よりも
下方であって、発熱体６寄りの内側に設定されている。
このような光ファイバ裸線導入管12を延設すると、原料
ガスと光ファイバ裸線１とは、発熱体６の内側で接触す
ることになる。よって光ファイバ裸線１が未だ十分に熱
せられていない未分解状態の原料ガスと接触することが
なくなるので、光ファイバ裸線１表面への炭素被膜の析
出を効率良く行うことができる。この結果、光ファイバ
の紡糸速度を向上させることができる。The bare optical fiber introduction tube 12 is directed from the cooling tube 3 connecting the reaction tube 5 and the optical fiber spinning furnace 2 into the reaction tube 5,
The tube extends so as to reach the vicinity of the heating element 6, and the bare optical fiber 1 is inserted through the center axis of the tube. The position of the open end of the bare optical fiber introduction pipe 12 is set below the position where the raw material gas supply port 7 is attached and inside the heating element 6.
When such an optical fiber bare wire introduction pipe 12 is extended, the raw material gas and the bare optical fiber wire 1 come into contact with each other inside the heating element 6. Accordingly, the bare optical fiber 1 does not come into contact with the undecomposed raw material gas that has not yet been sufficiently heated, so that the carbon coating can be efficiently deposited on the surface of the bare optical fiber 1. As a result, the spinning speed of the optical fiber can be improved.
さらに、光ファイバ裸線１表面に形成された炭素被膜
中に、未分解状態の原料ガスが含有されることがなくな
るので、この発明の製造装置によって得られる光ファイ
バは耐水素特性の良好なものとなる。Further, since the raw material gas in the undecomposed state is not contained in the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1, the optical fiber obtained by the manufacturing apparatus of the present invention has good hydrogen resistance. Becomes
このような製造装置を用い、光ファイバ裸線１表面に
炭素被膜を形成するには、以下の工程による。The following steps are used to form a carbon coating on the surface of the bare optical fiber 1 using such a manufacturing apparatus.
光ファイバ母材を光ファイバ紡糸炉２内で溶融紡糸す
ると共に、光ファイバ紡糸炉２の下段に設けられた冷却
筒３、CVD反応炉４、樹脂液塗布装置10、硬化装置11内
へ挿通し、これらの中心軸上を所定の線速で走行するよ
うに供給する。The optical fiber preform is melt-spun in the optical fiber spinning furnace 2 and inserted into a cooling cylinder 3, a CVD reaction furnace 4, a resin liquid coating device 10, and a curing device 11 provided at a lower stage of the optical fiber spinning furnace 2. Are supplied so as to travel on these central axes at a predetermined linear velocity.
また冷房供給口3aから冷媒となる不活性ガス等を所定
流量で冷却筒３内に供給し、光ファイバ裸線１を所望温
度に冷却するとともに、反応管５のシールを行う。反応
管５の下部のシールは、ガスシール機構９に不活性ガス
等を所定流量で供給することにより行う。In addition, an inert gas or the like serving as a refrigerant is supplied into the cooling cylinder 3 from the cooling supply port 3a at a predetermined flow rate, thereby cooling the bare optical fiber 1 to a desired temperature and sealing the reaction tube 5. The lower part of the reaction tube 5 is sealed by supplying an inert gas or the like to the gas seal mechanism 9 at a predetermined flow rate.
ついで発熱体６を発熱させて反応管５内を所定温度に
加熱すると共に、原料ガスを原料ガス供給管７より反応
管５内へ供給する。Next, the heating element 6 is heated to heat the inside of the reaction tube 5 to a predetermined temperature, and a source gas is supplied into the reaction tube 5 from a source gas supply tube 7.
この原料ガスに用いられる炭化水素化合物は、熱分解
によって炭素被膜を形成するものであれば特に限定され
るものではなく、たとえばメタン、エタン、プロパン、
エチレン、アセチレン、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族
炭化水素のほか、ベンゼン、ナフタリン等の芳香族炭化
水素を用いることができる。これら原料化合物が液体あ
るいは固体である場合には、不活性ガス等によってガス
化することにより原料ガスとすることができる。The hydrocarbon compound used for this source gas is not particularly limited as long as it forms a carbon film by thermal decomposition. For example, methane, ethane, propane,
In addition to aliphatic hydrocarbons such as ethylene, acetylene, pentane, and hexane, aromatic hydrocarbons such as benzene and naphthalene can be used. When these raw material compounds are liquid or solid, they can be converted to raw material gas by gasification with an inert gas or the like.
原料ガスの供給速度および温度はその種類およびその
混合比率やCVD反応炉４の加熱温度等によって適宜選択
されるが、通常は0.2〜1.0／分程度が好適である。The supply rate and temperature of the raw material gas are appropriately selected depending on the kind and mixing ratio thereof, the heating temperature of the CVD reactor 4, and the like, but usually about 0.2 to 1.0 / min is suitable.
反応管５内の温度は、原料ガスの種類や紡糸速度等に
よって適宜選択できるが、炭化水素化合物の熱分解に十
分な温度であれば良く、500〜1300℃程度が好適であ
る。加熱温度を500℃以下にすると炭化水素化合物の熱
分解が進行せず、また1300℃以上にすると副生成物の煤
が多量に発生すると共に、光ファイバ裸線１表面に形成
される炭素被膜の構造が黒鉛構造に近くなり、十分な耐
水素特性が得られなくなるので好ましくない。またこの
副生成物の煤の発生を防止する目的で、加熱温度は原料
化合物の熱分解温度よりもごく僅かに低温に設定してお
くことが望ましい。The temperature in the reaction tube 5 can be appropriately selected depending on the type of the raw material gas, the spinning speed, and the like, but may be a temperature sufficient for the thermal decomposition of the hydrocarbon compound, and is preferably about 500 to 1300 ° C. When the heating temperature is 500 ° C. or lower, the thermal decomposition of the hydrocarbon compound does not proceed. When the heating temperature is 1300 ° C. or higher, a large amount of soot as a by-product is generated, and the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1 Since the structure becomes close to a graphite structure, sufficient hydrogen resistance cannot be obtained, which is not preferable. In order to prevent the generation of soot as a by-product, the heating temperature is desirably set to be slightly lower than the thermal decomposition temperature of the raw material compound.
このようにして炭素被膜が形成された光ファイバ裸線
１を、下段に設けられた樹脂液塗布装置10内へ導入し、
ついで樹脂液を硬化させる硬化装置11内へ挿通する。樹
脂液塗布装置10内へ挿通された光ファイバ裸線１は、保
護被覆層を形成するための紫外線硬化樹脂液あるいは熱
硬化型樹脂液等が塗布され、ついで塗布された樹脂液に
好適な硬化条件を有する硬化装置11内で硬化されて保護
被覆層が形成される。The optical fiber bare wire 1 on which the carbon coating is formed in this way is introduced into a resin liquid coating device 10 provided in a lower stage,
Next, it is inserted into a curing device 11 for curing the resin liquid. The bare optical fiber 1 inserted into the resin liquid coating device 10 is coated with an ultraviolet curable resin liquid or a thermosetting resin liquid for forming a protective coating layer, and then cured appropriately for the applied resin liquid. The protective coating layer is formed by being cured in the curing device 11 having conditions.
上記のように、冷却筒３から反応管５内部へ向って光
ファイバ裸線導入管12を延設することにより、十分に熱
せられ熱分解した原料ガスとのみ光ファイバ裸線１が接
触するようになるので、炭素被膜の析出速度を向上させ
ることができる。よって光ファイバを高速で紡糸しても
十分な膜厚の炭素被膜を形成することができる。さらに
炭素被膜中に未分解の原料ガスが含有されることがなく
なり、炭素被膜の純度が向上するので、得られた光ファ
イバは耐水素特性に優れたものとなる。As described above, by extending the bare optical fiber introduction pipe 12 from the cooling cylinder 3 toward the inside of the reaction tube 5, the bare optical fiber 1 is brought into contact only with the sufficiently heated and thermally decomposed raw material gas. Therefore, the deposition rate of the carbon film can be improved. Therefore, even if the optical fiber is spun at a high speed, a carbon film having a sufficient thickness can be formed. Further, the undecomposed raw material gas is not contained in the carbon coating, and the purity of the carbon coating is improved, so that the obtained optical fiber has excellent hydrogen resistance.
なおこの例では光ファイバ裸線１表面に単一の炭素被
膜を形成したが、光ファイバ裸線１表面に形成する炭素
被膜の層数はこれに限られるものではなく、２層以上の
炭素被膜を連続して形成しても良い。In this example, a single carbon coating was formed on the surface of the bare optical fiber 1. However, the number of carbon coatings formed on the surface of the bare optical fiber 1 is not limited to this, and two or more carbon coatings may be formed. May be formed continuously.
さらにこの例では炭素被膜上に単一の保護被覆層を形
成したが、この保護被覆層の層数もこれに限られるもの
ではなく、複数の保護被覆層を形成しても良い。Further, in this example, a single protective coating layer is formed on the carbon coating, but the number of protective coating layers is not limited to this, and a plurality of protective coating layers may be formed.
［実施例］ （実施例） 光ファイバ母材から光ファイバ裸線を紡糸する紡糸炉
の下段に、冷却筒となる石英管を介して、同じく石英管
からなる反応管を有する抵抗CVD反応炉を取り付けた。
さらに石英管からなる光ファイバ裸線導入管を上記冷却
筒から反応管内部に向って延設し、第１図に示したと同
様の光ファイバの製造装置とした。[Example] (Example) A resistance CVD reactor having a reaction tube also made of a quartz tube is provided below a spinning furnace for spinning an optical fiber bare wire from an optical fiber preform via a quartz tube serving as a cooling cylinder. Attached.
Further, an optical fiber bare wire introducing tube made of a quartz tube was extended from the cooling tube toward the inside of the reaction tube, and an apparatus for manufacturing an optical fiber similar to that shown in FIG. 1 was obtained.
紡糸炉内にGeO2がドープ剤として含浸されたコア部を
有する外径30mmの単一モード光ファイバ母材を設置し
た。この光ファイバ母材を2000℃に加熱し、順次紡糸速
度を10m/分、50m/分、100m/分に変化させて外径125μｍ
の単一モード光ファイバに紡糸した。さらに抵抗CVD反
応炉内を1200℃に加熱した。約10vol％にヘリウムガス
でガス化したベンゼンを原料ガス供給口より反応管内に
５／分の流量で供給し、光ファイバ裸線表面に炭素被
膜を形成した。そして副生成物と未反応物とは排気管か
ら−6mmHgの排気圧で除去した。A single mode optical fiber preform having an outer diameter of 30 mm and having a core portion impregnated with GeO 2 as a dopant was installed in a spinning furnace. This optical fiber preform is heated to 2000 ° C, and the spinning speed is sequentially changed to 10 m / min, 50 m / min, 100 m / min, and the outer diameter is 125 μm.
Was spun into a single mode optical fiber. Further, the inside of the resistance CVD reactor was heated to 1200 ° C. Benzene gasified with helium gas to about 10 vol% was supplied into the reaction tube at a flow rate of 5 / min from the raw material gas supply port to form a carbon coating on the bare optical fiber surface. By-products and unreacted substances were removed from the exhaust pipe at an exhaust pressure of -6 mmHg.
さらに樹脂コート用ダイスポット内にウレタンアクリ
レート樹脂液（ヤング率70kg/mm2、伸び60％）を封入
し、この中に上記工程にて炭素被膜が形成された光ファ
イバを挿通して、その表面に紫外線硬化型樹脂液を塗布
した後、紫外線ランプを照射して上記樹脂液を硬化させ
て、外径が約250μｍの光ファイバを製造した。Furthermore, a urethane acrylate resin liquid (Young's modulus 70 kg / mm 2 , elongation 60%) is sealed in the resin coating die spot, and the optical fiber on which the carbon film is formed in the above process is inserted into the resin spot, and the surface is coated. After applying an ultraviolet-curable resin liquid to the substrate, the resin liquid was cured by irradiating an ultraviolet lamp to produce an optical fiber having an outer diameter of about 250 μm.
（比較例） 冷却筒から反応管内部へ向って光ファイバ裸線導入管
を設けずに第３図に示したと同様の光ファイバ製造装置
を用いた以外は、実施例と全く同様にして光ファイバを
製造した。(Comparative Example) An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in the example except that an optical fiber manufacturing apparatus similar to that shown in Fig. 3 was used without providing an optical fiber bare wire introduction pipe from the cooling cylinder to the inside of the reaction tube. Was manufactured.
（試験例） 上記実施例および比較例で得られた各光ファイバ表面
に形成された炭素被膜の付着量を調べる目安として、各
光ファイバ表面の電気抵抗値（ｋΩ/cm）を測定した。
電気抵抗値の測定は２端子法にてデジタルマルチメータ
で測定した。この結果を第２図に示した。第２図中、実
線は実施例の光ファイバを、また破線は比較例の光ファ
イバの測定結果をそれぞれ示すものである。なお炭素被
膜は導電性であるために、炭素被膜の電気抵抗値が小さ
い程、多量の炭素被膜が付着していることを示す。(Test Example) As a measure for checking the amount of carbon coating formed on the surface of each optical fiber obtained in the above Examples and Comparative Examples, the electric resistance value (kΩ / cm) of each optical fiber surface was measured.
The electric resistance was measured by a digital multimeter by a two-terminal method. The result is shown in FIG. In FIG. 2, the solid line shows the measurement result of the optical fiber of the example, and the broken line shows the measurement result of the optical fiber of the comparative example. Since the carbon coating is conductive, the smaller the electrical resistance of the carbon coating, the greater the amount of carbon coating attached.
第２図の結果から、この発明の製造装置を用いると、
紡糸速度が速くとも光ファイバ裸線表面に十分な膜厚の
炭素被膜を形成できることが確認できた。From the results in FIG. 2, when the manufacturing apparatus of the present invention is used,
It was confirmed that a carbon film having a sufficient thickness could be formed on the bare optical fiber surface even at a high spinning speed.
［発明の効果］ 以上説明したように、この発明の光ファイバの製造装
置は、光ファイバ裸線導入孔から発熱体近傍にまで光フ
ァイバ裸線導入管を延設したものなので、未分解状態の
原料ガスが光ファイバ裸線と接触することがなくなる。
よって光ファイバを高速で紡糸しても、耐水素特性を示
すに十分な膜厚の炭素被膜を形成することができるよう
になる。[Effects of the Invention] As described above, the optical fiber manufacturing apparatus of the present invention extends the bare optical fiber introduction pipe from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element. The source gas does not come into contact with the bare optical fiber.
Therefore, even if the optical fiber is spun at a high speed, a carbon film having a sufficient thickness to exhibit hydrogen resistance can be formed.
またこの発明の製造装置で得られた光ファイバは、そ
の表面に水素透過阻止能力を有する炭素被膜が形成され
たものであるので、耐水素特性に優れた光ファイバを得
ることができる。In addition, since the optical fiber obtained by the manufacturing apparatus of the present invention has a surface on which a carbon coating having hydrogen permeation inhibiting ability is formed, an optical fiber having excellent hydrogen resistance can be obtained.
【図面の簡単な説明】 第１図はこの発明の光ファイバの製造装置の一例を示し
た概略構成図、第２図は光ファイバの紡糸速度と電気抵
抗値との関係を示したグラフ、第３図は従来の光ファイ
バの製造装置を示した概略構成図である。 １……光ファイバ裸線、 ３……冷却筒、 ４……CVD反応炉、 ５……反応管、 ６……発熱体、 ７……原料ガス供給管、 ８……排気管、 12……光ファイバ裸線導入管。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an optical fiber manufacturing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a graph showing the relationship between the spinning speed and the electric resistance of the optical fiber, and FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a conventional optical fiber manufacturing apparatus. 1 ... bare optical fiber, 3 ... cooling cylinder, 4 ... CVD reactor, 5 ... reaction tube, 6 ... heating element, 7 ... source gas supply pipe, 8 ... exhaust pipe, 12 ... Optical fiber bare wire introduction tube.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下道 毅 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 荒木 真治 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 鈴木 秀雄 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 勝山 豊 東京都千代田区内幸町１丁目１番６号 日本電信電話株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C03C 25/02──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takeshi Shimichi 1440, Rokkazaki, Sakura-shi, Chiba Fujikura Electric Wire Co., Ltd.Sakura Plant (72) Inventor Shinji Araki 1440, Mukurosaki, Sakura-shi, Chiba Fujikura Electric Wire Co., Ltd. Inside the factory (72) Inventor Hideo Suzuki 1440 Mukurosaki, Sakura-shi, Chiba Prefecture Inside the Sakura Factory, Fujikura Electric Cable Co., Ltd. (72) Inventor Yutaka Katsuyama 1-6-1 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (58 ) Surveyed field (Int.Cl. 6 , DB name) C03C 25/02
Claims (1)
に光ファイバ裸線導出孔を有する反応管と、この反応管
の一端に設けられた原料ガス供給管と、反応管の他端に
設けられた排気管と、反応管の外周に設けられた発熱体
とを具備してなり、その内部にて原料ガスを熱分解して
光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成する光ファイバの
製造装置において、 上記光ファイバ裸線導入孔から発熱体近傍にまで光ファ
イバ裸線導入管を延設したことを特徴とする光ファイバ
の製造装置A reaction tube having a bare optical fiber introduction hole at one end and a bare optical fiber lead-out hole at the other end; a raw material gas supply pipe provided at one end of the reaction tube; An exhaust pipe provided at the other end, and a heating element provided on the outer periphery of the reaction tube, and a light for thermally decomposing a raw material gas therein to form a carbon coating on the surface of the bare optical fiber. An apparatus for producing an optical fiber, characterized in that a bare optical fiber introduction pipe extends from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element.
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|---|---|---|---|
| JP2068619A JP2796167B2 (en) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | Optical fiber manufacturing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2068619A JP2796167B2 (en) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | Optical fiber manufacturing equipment |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH03271140A JPH03271140A (en) | 1991-12-03 |
| JP2796167B2 true JP2796167B2 (en) | 1998-09-10 |
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ID=13378956
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|---|---|---|---|---|
| WO2005029591A1 (en) | 2003-09-23 | 2005-03-31 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Linear semiconductor substrate, device using the linear semiconductor substrate, device array, and module |
-
1990
- 1990-03-19 JP JP2068619A patent/JP2796167B2/en not_active Expired - Lifetime
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| JPH03271140A (en) | 1991-12-03 |
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