JP2790605B2 - ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いたテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 - Google Patents
ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いたテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JP2790605B2 JP2790605B2 JP5329960A JP32996093A JP2790605B2 JP 2790605 B2 JP2790605 B2 JP 2790605B2 JP 5329960 A JP5329960 A JP 5329960A JP 32996093 A JP32996093 A JP 32996093A JP 2790605 B2 JP2790605 B2 JP 2790605B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pentafluorophenyl
- derivative
- tetrakis
- pentafluorophenylmagnesium
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- -1 tetrakis (pentafluorophenyl) borate derivative Chemical class 0.000 title claims description 24
- XAKYZKCEVPSNOC-UHFFFAOYSA-N Fc1c(F)c(F)c([Mg])c(F)c1F Chemical class Fc1c(F)c(F)c([Mg])c(F)c1F XAKYZKCEVPSNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 5
- OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N tris(pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1B(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 claims description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- SXPRVMIZFRCAGC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-methylbenzene Chemical compound CC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F SXPRVMIZFRCAGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- AMQDBUIQKQUCKY-UHFFFAOYSA-M magnesium;1,2,3,4,5-pentafluorobenzene-6-ide;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].FC1=[C-]C(F)=C(F)C(F)=C1F AMQDBUIQKQUCKY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 7
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical group CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical group CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical group CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical group CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAOBNHGMDZXYHW-UHFFFAOYSA-N Br.FC1=CC(F)=C(F)C(F)=C1F Chemical compound Br.FC1=CC(F)=C(F)C(F)=C1F VAOBNHGMDZXYHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N Diisoamyl ether Chemical group CC(C)CCOCCC(C)C AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical compound [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical group CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N trihydridoboron Substances B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
- C07F5/027—Organoboranes and organoborohydrides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
マグネシウム誘導体を用いたテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボレート誘導体の新規な製造方法に関す
る。本発明で得られるホウ素誘導体はカチオン錯体重合
反応の助触媒の中間体として極めて重要な物質である。
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体
とシクロペンタジエニル遷移金属錯体いわゆるメタロセ
ン誘導体を使用してカチオン錯体を発生させ、これを触
媒とした重合反応の研究の学術文献あるいは特許が著し
く増えている。例えば、Macromol. Chem. Rapid Commu
n.,2, p.p.663 〜 667 (1991) 等がある。しかし、従
来テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導
体の製造にはペンタフルオロフェニル基源として臭化ペ
ンタフルオロベンゼンより誘導したペンタフルオロフェ
ニルリチウムを使用するプロセスで製造されていた。
温度が高くなるほど分解しやすくさらに−20℃以上にな
ると爆発的に分解するため、通常は−70℃程度の非常に
低い温度で発生させて同温度で使用する。従って、低温
の設備が必要となるためコスト面で非常に問題がありさ
らに製造時の安全面においても問題があった。
P.307 (昭和51年3月20日発行;編者社団法人日本化
学;発行所丸善株式会社)に記載されているテトラフェ
ニルホウ酸ナトリウムの製造方法と同様な方法でテトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体を製造
しようとすると収率良く製造することはできなかった。
に鑑み、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト誘導体を製造する際に、ペンタフルオロフェニルマグ
ネシウム誘導体をペンタフルオロフェニル基源として使
用しかつ非常に低い温度を使用しなくてもよい製造方法
を種々検討することにより本発明に至ったものである。
般式[IV] (C6 F5 )2-n MgXn [IV] (式中、nは0または1の整数を示し、Xはハロゲンを
示す。)で表されるペンタフルオロフェニルマグネシウ
ム誘導体のみをペンタフルオロフェニル基源として用い
ることを特徴とする、テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート誘導体の製造方法に関する。
体的な方法として以下順次説明する。鎖状エーテル系溶
媒あるいは鎖状エーテル系溶媒と炭化水素系溶媒の混合
溶液中、1当量の式[I] BX3 [I] [式中、Xはハロゲンあるいは次の一般式[II] OR [II] (式中、Rは炭素数が1〜10の炭化水素基を示し、該炭
化水素基には反応に影響を及ぼさない官能基を含んでい
ても良い。)で表される置換基あるいは次の一般式[II
I] NRR′ [III] (式中、RおよびR′は同一のあるいは相異なる水素あ
るいは炭素数が1〜20の炭化水素基を示し、該炭化水素
基には反応に影響を及ぼさない官能基を含んでいても良
く、RおよびR′がそれぞれ結合して環を形成していて
も良い。)で表される置換基を示し、エーテル系溶媒と
の1対1の錯体を形成していても良い。]で表されるホ
ウ素化合物と 3.7当量以上の前記式[IV]で表されるペ
ンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を−40〜250
℃の範囲で混合し、50〜200 ℃の範囲で1時間以上反応
させることにより式[V] [(C6 F5 )4 B]2-n MgXn [V] (式中、nは0または1の整数を示し、Xはハロゲンを
示す。)で表されるテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート誘導体を製造する。
ルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジペ
ンチルエーテル及びジイソペンチルエーテル等の飽和炭
化水素基を2つ持つエーテル類を示し、炭化水素系溶媒
とは沸点が50℃以上の脂肪族及び芳香族炭化水素系溶媒
を示す。
体の使用量は、式[I]で表されるホウ素化合物を反応
に用いる場合理論量としては4当量であるがここに示し
た3.7 当量未満の場合テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート誘導体の収率の低下が顕著なため 3.7当
量以上の使用が望ましい。
るいはトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランとエー
テル系溶媒との1対1の錯体をホウ素化合物として用
い、これを式[IV]で表されるペンタフルオロフェニル
マグネシウム誘導体と反応させて式[V]で表されるテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体を
製造する反応を行わせる場合理論量としては1当量であ
るが式[VI]で表されるトリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボランの使用量が 0.7当量未満の場合テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の収率の低
下が顕著なため 0.7当量以上の使用が望ましい。
体とホウ素化合物の混合温度は−40℃より低い温度でペ
ンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体の種類によっ
て結晶化する場合があるためこれ以上の温度が望まし
く、 250℃より高い温度ではペンタフルオロフェニルマ
グネシウム誘導体の分解が起こるためこれ以下の温度が
望ましい。
行が極めて遅く 200℃より高いと生成したテトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体が分解する
ため50〜200 ℃で反応させるのが望ましい。
重合反応の助触媒の中間体として極めて重要な物質であ
るテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導
体を−70℃の低温での反応が必要なペンタフルオロフェ
ニルリチウムを用いることなくペンタフルオロフェニル
マグネシウム誘導体より1工程で高収率で製造する方法
を提供できる点で発明の効果は甚大である。
するが本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
により何等の限定も受けるものではない。
3つ口フラスコに18.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(60.2g,41.2
mmol)に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体(1.37
g,9.65mmol)とトルエン(43.4g,50ml)を25〜30℃
で混合した。反応混合物を85℃に加熱して3時間攪拌し
た後、反応溶液を19F−NMRによりペンタフルオロト
ルエンを内部標準物質に用いて定量したところテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の収率は
100%であった。
3つ口フラスコに18.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(60.2g,41.2
mmol)に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体(1.39
g,9.79mmol)とイソプロピルエーテル(21.8g,30m
l)を25〜30℃で混合した。反応混合物を69℃に加熱し
て2時間攪拌した後、反応溶液を19F−NMRによりペ
ンタフルオロトルエンを内部標準物質に用いて定量した
ところテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
誘導体の収率は93.9%であった。
3つ口フラスコに18.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(54.2g,37.1
mmol)に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体(1.25
g,8.8mmol)とジブチルエーテル(22.9g,30ml)を25
〜30℃で混合した。反応混合物を 130℃に加熱して2時
間攪拌した後、反応溶液を19F−NMRによりペンタフ
ルオロトルエンを内部標準物質に用いて定量したところ
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体
の収率は93.6%であった。
3つ口フラスコに18.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(131.65g,9
0.1mmol)に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体(3.0
5g,21.5mmol)とキシレン(86.8g, 100ml)を25〜3
0℃で混合した。反応混合物を 120℃に加熱して2時間
攪拌した後、反応溶液を19F−NMRによりペンタフル
オロトルエンを内部標準物質に用いて定量したところテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の
収率は96.9%であった。
3つ口フラスコに18.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(60.2g,41.2
mmol)に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体(1.37
g,9.65mmol)とヘキサン(33.0g,50ml)を25〜30℃
で混合した。反応混合物を50℃に加熱して2時間攪拌し
た後、反応溶液を19F−NMRによりペンタフルオロト
ルエンを内部標準物質に用いて定量したところテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の収率は
78.7%であった。
3つ口フラスコに18.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(60.2g,41.2
mmol)に三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体(1.39
g,9.79mmol)とヘキサン(39.0g,50ml)を25〜30℃
で混合した。反応混合物を80℃に加熱して3時間攪拌し
た後、反応溶液を19F−NMRによりペンタフルオロト
ルエンを内部標準物質に用いて定量したところテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の収率は
100%であった。
3つ口フラスコに18.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニ
ルマグネシウムのジエチルエーテル溶液(60.2g,41.2
mmol)に20.0wt%のトリス(ペンタフルオロフェニル)
ボラン(104.96g,41.0mmol)のトルエン溶液を25〜30
℃で混合した。反応混合物を85℃に加熱して3時間攪拌
した後、反応溶液を19F−NMRによりペンタフルオロ
トルエンを内部標準物質に用いて定量したところテトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の収率
は99.7%であった。
8.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニルマグネシウ
ムのジエチルエーテル溶液(60.2g,41.2mm
ol)に1mol/Lの三塩化ホウ素のヘキサン溶液
(10.0mL,10.0mmol)とトルエン(10
0mL)を25〜30℃で混合した。反応混合物を85
℃に加熱して3時間攪拌した後、反応溶液を19F−N
MRによりペンタフルオロトルエンを内部標準物質に用
いて定量したところテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート誘導体の収率は94.1%であった。
8.5wt%の臭化ペンタフルオロフェニルマグネシウ
ムのジエチルエーテル溶液(60.2g,41.2mm
ol)にトリメチルホウ酸(1.04g,10.0mm
ol)とトルエン(100mL)を25〜30℃で混合
した。反応混合物を85℃に加熱して3時間攪拌した
後、反応溶液を19F−NMRによりペンタフルオロト
ルエンを内部標準物質に用いて定量したところテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の収率は
91.2%であった。
つ口フラスコに20.0wt%の臭化ペンタフルオロフェニル
マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液(55.9g,41.2
mmol)を装入し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体
(1.39g,9.79mmol)を25〜30℃で混合した。反応混合
物を25℃で12時間攪拌した後、反応溶液を19F−NMR
によりペンタフルオロトルエンを内部標準物質に用いて
定量したところテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート誘導体の収率は約50%であった。
Claims (2)
- 【請求項1】 次の一般式[I] BX3 [I] [式中、Xはハロゲンあるいは次の一般式[II] OR [II] (式中、Rは炭素数が1〜10の炭化水素基を示し、該炭
化水素基には反応に影響を及ぼさない官能基を含んでい
ても良い。)で表される置換基あるいは次の一般式[II
I] NRR′ [III] (式中、RおよびR′は同一のあるいは相異なる水素あ
るいは炭素数が1〜20の炭化水素基を示し、該炭化水素
基には反応に影響を及ぼさない官能基を含んでいても良
く、RおよびR′がそれぞれ結合して環を形成していて
も良い。)で表される置換基を示し、エーテル系溶媒と
の1対1の錯体を形成していても良い。]で表されるホ
ウ素化合物を1当量に対し、次の一般式[IV] (C6 F5 )2-n MgXn [IV] (式中、nは0または1の整数を示し、Xはハロゲンを
示す。)で表されるペンタフルオロフェニルマグネシウ
ム誘導体 3.7当量以上を反応させ、次の一般式[V] [(C6 F5 )4 B]2-n MgXn [V] (式中、nは0または1の整数を示し、Xはハロゲンを
示す。)で表されるテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート誘導体を製造する方法。 - 【請求項2】 次の一般式[VI] (C6 F5 )3 B [VI] で表されるトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランあ
るいはトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランとエー
テル系溶媒との1対1の錯体1当量に対し、次の一般式
[IV] (C6 F5 )2-n MgXn [IV] (式中、nは0または1の整数を示し、Xはハロゲンを
示す。)で表されるペンタフルオロフェニルマグネシウ
ム誘導体 0.7当量以上を反応させ、次の一般式[V] [(C6 F5 )4 B]2-n MgXn [V] (式中、nは0または1の整数を示し、Xはハロゲンを
示す。)で表されるテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート誘導体を製造する方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5329960A JP2790605B2 (ja) | 1992-12-28 | 1993-12-01 | ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いたテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 |
US08/170,762 US5488169A (en) | 1992-12-28 | 1993-12-21 | Method of producing tetrakis(pentafluorophenyl)borate derivatives using pentafluorophenylmagnesium derivatives |
EP93120977A EP0604961A3 (en) | 1992-12-28 | 1993-12-27 | Process for the preparation of tetrakis (pentafluorophenyl) borate derivatives using pentafluorophenyl magnesium derivatives. |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4-361480 | 1992-12-28 | ||
JP36148092 | 1992-12-28 | ||
JP5329960A JP2790605B2 (ja) | 1992-12-28 | 1993-12-01 | ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いたテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06247980A JPH06247980A (ja) | 1994-09-06 |
JP2790605B2 true JP2790605B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=26573381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5329960A Expired - Fee Related JP2790605B2 (ja) | 1992-12-28 | 1993-12-01 | ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いたテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5488169A (ja) |
EP (1) | EP0604961A3 (ja) |
JP (1) | JP2790605B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5600004A (en) * | 1995-02-21 | 1997-02-04 | Albemarle Corporation | Process for preparing pentafluorophenyl compounds |
US5693261A (en) * | 1995-02-21 | 1997-12-02 | Albemarle Corporation | Preparation of pentafluorophenyl compounds |
JPH09295984A (ja) * | 1996-05-01 | 1997-11-18 | Tosoh Akzo Corp | ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いるテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 |
WO1998016533A1 (en) * | 1996-10-15 | 1998-04-23 | Boulder Scientific Company | Method for the production of tetrakis (pentafluorophenyl) borates |
IL122004A0 (en) | 1996-10-25 | 1998-03-10 | Nippon Catalytic Chem Ind | Producing process of (fluoroaryl) borane compound and producing process of tetrakis (fluoroaryl) borate derivative |
US6231790B1 (en) * | 1996-11-19 | 2001-05-15 | Boulder Scientific Company | Tetrakis-pentafluorophenyl borates from pentafluorophenyl grignard reagents |
ES2174308T3 (es) * | 1996-11-22 | 2002-11-01 | Albemarle Corp | Reacciones de intercambio de halogenos y usos de las mismas. |
WO1998034938A1 (fr) * | 1997-02-06 | 1998-08-13 | Showa Denko K.K. | Procede de production de composes au bore |
ES2254855T3 (es) * | 1997-03-10 | 2006-06-16 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Procedimiento para preparar derivados de tetraquis (fluoroaril) borato. |
US5959151A (en) * | 1998-04-09 | 1999-09-28 | Albemarle Corporation | Process for the purification of pentafluorophenyl boron compounds |
DE69910707T2 (de) | 1998-09-07 | 2004-06-17 | Nippon Shokubai Co. Ltd. | Verfahren zur Reinigung von Tetrakis(fluoraryl)boratverbindungen |
US6096928A (en) * | 1999-07-14 | 2000-08-01 | Boulder Scientific Company | Method for the production of tetrakis (pentafluorophenyl) borates |
US6169208B1 (en) | 1999-12-03 | 2001-01-02 | Albemarle Corporation | Process for producing a magnesium di[tetrakis(Faryl)borate] and products therefrom |
US6162950A (en) * | 1999-12-03 | 2000-12-19 | Albemarle Corporation | Preparation of alkali metal tetrakis(F aryl)borates |
US6476271B2 (en) | 2000-06-19 | 2002-11-05 | Honeywell International, Inc. | Process for the preparation of ether-free salts of tetrakis(pentafluorophenyl) borate |
US7205441B2 (en) * | 2002-05-15 | 2007-04-17 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for producing tetrakis (fluoroaryl) borate-magnesium compound |
BR0305034A (pt) | 2002-06-06 | 2004-07-20 | Nippon Catalytic Chem Ind | Composição para absorção de água, processo para produção da mesma, absorvente e produto absorvente |
CN107522724B (zh) | 2012-11-27 | 2019-08-16 | 阿尔比马尔公司 | 产生四(氟芳基)硼酸盐的方法 |
CN110041354A (zh) * | 2019-04-15 | 2019-07-23 | 镇江巨杰新材料技术研发中心(有限合伙) | 一种四五氟苯硼酸钾盐的合成方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2853525A (en) * | 1953-06-20 | 1958-09-23 | Wittig Georg | Process of producing sodium tetraphenylboron |
-
1993
- 1993-12-01 JP JP5329960A patent/JP2790605B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-21 US US08/170,762 patent/US5488169A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-27 EP EP93120977A patent/EP0604961A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0604961A2 (en) | 1994-07-06 |
EP0604961A3 (en) | 1994-12-28 |
US5488169A (en) | 1996-01-30 |
JPH06247980A (ja) | 1994-09-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2790605B2 (ja) | ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いたテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 | |
US7314903B2 (en) | Catalyst system for the polymerization of olefins | |
EP1392705B1 (en) | Catalyst system for the polymerization of olefins | |
US8629292B2 (en) | Stereoselective synthesis of bridged metallocene complexes | |
JP2574012B2 (ja) | ポリシラン化合物の製造方法 | |
CN112745366B (zh) | 硅基桥联的茂金属化合物及其制备方法、应用 | |
DE60117569T2 (de) | Liganden mit wenigstens einem fluorosilizium-substituenten zur herstellung von metallocenen | |
EP1730156B1 (en) | Process for producing tetrakis(fluoroaryl)borate salts | |
JP3856905B2 (ja) | トリチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートの製造方法 | |
US6248265B1 (en) | Clean generation of a fluoroaryl grignard reagent | |
KR101931234B1 (ko) | 신규한 리간드 화합물 및 전이금속 화합물 | |
KR100576971B1 (ko) | 올레핀 중합용 이핵 전이금속 화합물의 제조 방법 | |
CN1286256A (zh) | 一种二烃基亚甲基桥联芴基环戊二烯基稀土配合物、合成方法及用途 | |
JPH09295984A (ja) | ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いるテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 | |
JPH06247981A (ja) | ペンタフルオロベンゼンより調製したペンタフルオロフェニルアルカリ金属塩を用いたテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法 | |
Bank et al. | Steric effects in the metalations of 1, 1-di-p-tolylethane. Kinetic vs. equilibrium control | |
JP2002504912A (ja) | オルガノアルカリ金属化合物の製造法 | |
JP2868199B2 (ja) | 鎖状エーテル系溶媒中においてペンタフルオロベンゼンを用いたペンタフルオロフェニルアルカリ金属塩の製造方法 | |
JP2023501982A (ja) | メタロセン化合物及びその製造方法並びに適用 | |
Hess | o-Phenylene bridged diamidophosphine complexes of groups 4 and 5 metals for dinitrogen activation | |
JP2000063394A (ja) | フラーレン誘導のメタロセン | |
KR20220139686A (ko) | 4족 금속 다이메틸 올레핀 중합 촉매의 할로겐화 반응 | |
JP2021134134A (ja) | 鉄錯体及び鉄ハロゲン錯体並びにアンモニア及びヒドラジンの製造方法 | |
JPH0853466A (ja) | ジオルガノハロボラン化合物、オルガノジハロボラン化合物、アルコキシジオルガノボラン化合物及びジアルコキシオルガノボラン化合物の製造方法 | |
JP2000001492A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980602 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080612 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090612 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090612 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100612 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100612 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110612 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130612 Year of fee payment: 15 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |