JP2784658B2 - ハイグロマイシンの合成中間体 - Google Patents

ハイグロマイシンの合成中間体

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JP2784658B2
JP2784658B2 JP1080592A JP8059289A JP2784658B2 JP 2784658 B2 JP2784658 B2 JP 2784658B2 JP 1080592 A JP1080592 A JP 1080592A JP 8059289 A JP8059289 A JP 8059289A JP 2784658 B2 JP2784658 B2 JP 2784658B2
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    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
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    • Y02A50/30Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は抗豚赤痢剤ハイグロマイシンならびにその誘
導体の製造に有用な合成中間体に関する。
従来の技術および発明が解決しようとする課題 ハイグロマイシン(hygromycin)については、R.C.Pi
ttenberg等が1953年に、ストレプトミセス・ハイグロス
コピクス(Streptomyces hygroscopicus)の培養液中よ
り発見し、その抗菌スペクトルおよび感染実験の結果に
ついて報告したのがはじめてである。[アンチバイオテ
ィクス アニュアル(Antibiotics Annual)1953〜1954
年,157頁]。その後、1957年R.L.Mann等がその化学構造
を決定した[ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミ
カル・ソサイティ(Journal of the American Chemical
Society)第79巻,120頁(1957年)]。又、ストレプト
ミセス・アトロファシエンス(Streptomyces atrofacie
ns)が、同一物質を生産することが知られている(米国
特許3,100,176号(1963年8月6日)。一方、ハイグロ
マイシンに近縁の抗生物質としてY.Sumiki等によって報
告されたストレプトミセス・ノボリトエンシス(Strept
omyces noboritoensis)の生産する抗結核抗生物質ホモ
マイシン(homomycin)[ジャーナル・オブ・アンチバ
イオティクス(Journal of Antibiotics)シリーズ A,
第8巻,170頁,1955年]は、その後K.Isono等のハイグロ
マイシンとの比較研究の結果、両者は同一物質であるこ
とが判明した[ジャーナル・オブ・アンチバイオティク
ス(Journal of Antibiotics)第10巻,21頁,1957年]。
また比較的最近にK.Kakinuma等によって報告されたST-4
331はハイグロマイシンと同定され、その絶対構造が提
出されている[ジャーナル・オブ・アンチバイオティク
ス(Journal of Antibiotics)第29巻,771頁,1976年]
が、その後、Wakisaka等によって、ハイグロマイシンの
絶対構造の訂正とエピハイグロマイシン(epihygromyci
n)の存在およびその絶対構造が提出されている[ジャ
ーナル・オブ・アンチバイオティクス(Journal of Ant
ibiotics)第33巻,695頁(1980年)]。なお、大村ら,
ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス 第40巻1619
頁(1987年)にはハイグロマイシンがハイグロマイシン
Aとして記載されているが、これらは同一物質である。
以上のように、R.L.Mann等の分解生成物の研究〔ジャ
ーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイティ・第
79巻,120頁(1957年)〕やK.Kakinuma等によるNMRスペ
クトルの解析〔アグリカルチュラル・アンド・バイオロ
ジカル・ケミストリー(Agricultural and Biological
Chemistry)第42巻,279頁(1978年)〕からハイグロマ
イシンの絶対構造が推定され、提出されているが、従来
のハイグロマイシンの製造はいずれもストレプトミセス
属のハイグロマイシン生産菌を用いる発酵生産によるも
のであり、化学的合成についての報告は全くされていな
い。
課題を解決するための手段 本発明者らはハイグロマイシンの化学的全合成を目的
とし鋭意検討した結果、ハイグロマイシンの製造に有用
な合成中間体を得、さらに研究を進めハイグロマイシン
類の合成製造法を確立した。
すなわち、本発明は (1)式 〔式中、X1,X2,X3はそれぞれ保護されていてもよい水
酸基を示し、Rはホルミル基またはメチル基を示す〕で
表わされる化合物、および (2)式 〔式中、X1,X2,X3はそれぞれ保護されていてもよい水
酸基を示す〕で表わされる化合物またはその反応性誘導
体と、4位にアミノ基を有し、該アミノ基以外の官能基
が保護されていてもよいアミノサイクリトールまたはア
ミノグリコシドとを縮合反応に付し、必要に応じて保護
基を脱離させることを特徴とする式 〔式中、X1,X2,X3はそれぞれ前記と同意義を有し、A
は4位のアミノ基以外の官能基が保護されていてもよい
4−アミノサイクリトールまたは4−アミノグリコシド
残基を示す〕で表わされる化合物の製造法である。
上記式中、X1,X2,X3でそれぞれ表わされる保護されて
いてもよい水酸基の保護基としては、例えばメチル,エ
チル,i−ブチル,t−ブチルなどの低級アルキル基、ビニ
ル,アリル(Allyl)などの低級アルケニル基、2,2,2−
トリクロロエチルなどのハロ低級アルキル基、メトキシ
メチル,1−エトキシエチル,1−(i−プロポキシ)エチ
ル,t−ブトキシメチル,2−メトキシエトキシメチル,1−
メチル−1−メトキシエチルなどの低級アルコキシ基で
置換されたアルキル基、ベンジル,p−メトキシベンジ
ル,p−ニトロベンジル,ジフェニルメチル,トリフェニ
ルメチルなどのフェニル基で置換された低級アルキル
基、ホルミル,アセチル,クロロアセチル,トリクロロ
アセチル,メトキシアセチル,トリフェニルメトキシア
セチル,フェノキシアセチル,イソブチル,ピバロイ
ル,アダマントイル,ベンゾイル,2,4,6−トリメチルベ
ンゾイル,3−ベンゾイルプロピオニル,α−ナフトイル
などの置換されていてもよいアシル基、p−クロロフェ
ニル,9−アントリル,p−ニトロフェニルなどの置換され
ていてもよいフェニル基、トリメチルシリル,トリエチ
ルシリル,イソプロピルジメチルシリル,t−ブチルジメ
チルシリル,t−ブチルジフェニルシリルなどの置換され
ていてもよいシリル基、テトラハイドロピラニル,テト
ラハイドロチオピラニルなどの置換されていてもよいピ
ラニル基、テトラハイドロフラニル,テトラハイドロチ
オフラニルなどの置換されていてもよいフラニル基、メ
チルチオメチル、メトキシカルボニル、S−ベンジルチ
オカルボニル、N−フェニルカルバモイル、ニトロ、2,
4−ジニトロフェニルスルフェニルなどが挙げられる。X
1,X2,X3はそれぞれ同一あるいは相異っていてもよく、
また、X1,X2の保護基は両者で環を形成するようなメチ
レン,エチリデン,プロピリデン,アセトニデン,ベン
ジリデン,p−メトキシベンジリデン,メトキシメチレ
ン,ジメトキシメチレンなどであってもよい。上記した
保護基のなかでもアシル基,フェニルで置換された低級
アルキル基が好ましく、とりわけアセチル,ベンジルが
好ましい。
上記式(I)で表わされる化合物は例えば、 式 〔式中、X1,X2は前記と同意義〕で表わされる化合物
と、式 〔式中、X3,Rは前記と同意義〕で表わされる化合物と
を縮合反応に付し、得られるα体とβ体との混合物から
β体を分離することにより製造することができる。
該縮合反応としては、例えば光延反応〔M.S.Mauhas
ら,J.Chem.Soc.,1,461(1975)〕によって行うことがで
きる。すなわち、上記化合物(IV)と化合物(V)をテ
トラハイドロフラン(以下、THFと略記することがあ
る)中、窒素雰囲気下トリフェニルホスフィンとジエチ
ルアゾジカルボキシレートとを加え、室温付近で約2時
間撹拌することによって行うことができる。また、得ら
れるα体とβ体との混合物の分離は、例えばシリカゲル
カラムクロマトグラフィーなどによって行うことができ
る。
上記式(IV)で表わされる化合物は、例えばJ.Am.Che
m.Soc.,63,1727(1941)に記載の方法により製造された
で表わされる化合物(1)を出発原料とし、中島らの方
法〔Tetrahedron Lett.,24,2285(1967)〕を改良した
以下に示す反応式によって製造することができる。
〔式中、Ph,Me,Acはそれぞれフェニル,メチル,アセ
チルを示し、X1,X2は前記と同意義を有する〕 すなわち、化合物(1)のエポキシを水酸化カリウム
を用いてトランス−ジアクシアル開環してアルトロ型の
化合物(2)とした後、2位と3位の水酸基を保護し化
合物(3)とする。化合物(3)を脱ベンジリデン化し
て化合物(4)とした後、光延反応〔Oyo Mitsunobu,Sy
nthesis,1,(1981)〕により6位の水酸基のみをヨウ素
化し化合物(5)とする。化合物(5)を塩基(DBU:1,
8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン)によ
って処理しオレフィン体の化合物(6)とした後、酸性
樹脂によって処理して五員環の化合物(IV)を得ること
ができる。また、化合物(5)を無水酢酸で処理しアセ
チル体の化合物(7)を得、これを塩基(DBU)で処理
してヨウ素が脱離した化合物(8)とし、さらにナトリ
ウムメトキサイドによって処理して化合物(6)とした
後、酸性樹脂によって処理して五員環の化合物(IV)を
得ることもできる。
一方、上記式(V)で表わされる化合物は、例えば式 で表わされる化合物を出発原料とし、以下に示す反応式
によって製造することができる。
すなわち、化合物(9)をN.W.Bristowの方法〔J.Che
m.Soc.,513(1957)〕と同様な方法により化合物(10)
とし、次いでChrister Hanssonらの方法〔Acta.Chem.Sc
and.,B30,871(1976)〕と同様な方法により化合物
(V)を得ることができる。
かくして得られる上記式(I)で表わされる化合物は
新規物質であり、ハイグロマイシン類すなわちハイグロ
マイシンならびにその誘導体の製造に有用である。
化合物(I)中、Rがホルミル基である化合物
(I′)はそのまま以下に示すハイグロマイシン類の製
造に用いることができ、一方Rがメチル基である化合物
は、例えば水酸基の保護基をアセチルに変換し、次いで
硝酸2アンモニウムセリウム(IV)(CAN)によって酸
化してRがホルミル基である化合物(I′)に導き、以
下に示すハイグロマイシン類の製造に用いることができ
る。
以下に、式 〔式中、X1,X2,X3は前記と同意義を有する〕で表わさ
れる化合物を出発原料とするハイグロマイシン類の合成
製造法の一例を示す。
〔式中、Ph,Me,Butはそれぞれフェニル,メチル,t−
ブチルを示し、X1,X2,X3は前記と同意義を有する〕 すなわち、化合物(I′)をWittig反応により増炭し
てt−ブチルエステル体の化合物(11)とし、次いでt
−ブチルエステルを脱保護してカルボン酸の化合物(I
I)とした後、4位にアミノ基を有し、該アミノ基以外
の官能基が保護されていてもよいアミノサイクリトール
(以下、単に4−アミノサイクリトールと略記すること
がある)または4位にアミノ基を有し、該アミノ基以外
の官能基が保護されていてもよいアミノグリコシド(以
下、単に4−アミノグリコシドと略記することがある)
と縮合反応に付し、必要に応じて保護基を脱離すること
によって化合物(III)を得ることができる。
化合物(II)から化合物(III)への反応における縮
合反応は、たとえば通常のアミド結合形成反応によって
行うことができる。すなわちジシクロヘキシルカルボジ
イミド(DCC),N,N′−カルボニルジイミダゾール,ジ
フェニルリン酸アジド,シアノリン酸ジエチルなどのア
ミド形成試薬を単独で用いるか、もしくは化合物(II)
をたとえば2,4,5−トリクロロフェノール,ペンタクロ
ロフェノール,ペンタフルオロフェノール,2−ニトロフ
ェノール,4−ニトロフェノールなどのフェノール類また
はN−ヒドロキシスクシンイミド,1−ヒドロキシベンズ
トリアゾール,N−ヒドロキシピペリジン,N−ヒドロキシ
−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミドなどの
N−ヒドロキシ化合物をジシクロヘキシルカルボジイミ
ドなどの触媒の存在下に縮合させ活性なエステル体に変
換した後、4−アミノサイクリトールまたは4−アミノ
グリコシドと反応させるか、もしくは化合物(II)をク
ロル炭酸エチル,クロル炭酸イソブチル,クロル炭酸ベ
ンジルなどの酸塩化物と反応させ混合酸無水物体に変換
した後4−アミノサイクリトールまたは4−アミノグリ
コシドと反応させることによって行うことができる。本
アミド結合反応は、化合物(II)をそのままあるいは化
合物(II)の反応性誘導体(例、活性なエステル体,混
合酸無水物体など)に変換した後4−アミノサイクリト
ールまたは4−アミノグリコシドと反応させるいずれの
場合も、好ましくは有機塩基たとえば三級アミン類
(例、トリエチルアミン,N−メチルピペリジン)の添加
によって促進させることができる。反応温度は通常−20
°〜+50℃程度であり好ましくは−10°〜+25℃程度で
あり、通常用いる溶媒としてはたとえばジオキサン,テ
トラヒドロフラン,アセトニトリル,ピリジン,N,N−ジ
メチルホルムアミド(DMF),N,N−ジメチルアセトアミ
ド,ジメチルスルホキシド,N−メチルピロリドン,クロ
ロホルム,塩化メチレンなどがあげられ、単独もしくは
混合溶媒として用いてもよい。
また化合物(III)は、化合物(II)を適当な有機溶
媒(例、ベンゼン,トルエン,エーテルなど)中、塩基
(例、ピリジン,ジメチルアニリン,トリエチルアミ
ン)の存在下または非存在下、0〜120℃程度でSO-W
2〔式中、Wはハロゲン原子を示す〕またはオキシ塩化
リンを反応させて化合物(II)の酸ハライド(化合物
(II)の反応性誘導体)とした後、4−アミノサイクリ
トールまたは4−アミノグリコシドと反応させることに
よっても製造することができる。本反応は通常、水その
他の有機溶媒(例、アセトニトリル,ジメチルホルムア
ミド,ジメチルアセトアミド,ジメチルスルホキシド,
テトラヒドロフラン,ベンゼン,トルエン,酢酸エチ
ル,クロロホルム,塩化メチレンなど)の単独または混
合溶媒の存在下もしくは非存在下、−20°〜+150℃程
度の温度範囲に保つことによって進行させることができ
る。この際、反応速度促進の目的でたとえば炭酸カリウ
ム,水酸化ナトリウム,炭酸水素ナトリウム,ピリジ
ン,トリエチルアミンなどの塩基を反応系中に共存させ
ることもできる。
本発明における4位にアミノ基を有し、該アミノ基以
外の官能基が保護されていてもよいアミノサイクリトー
ル(4−アミノサイクリトール)としては、例えばイノ
シトール,クエルシトール,ゲブラキトール,コンズリ
トール,ビブルニトール,ミチリトールなどのサイクリ
トールの4位にアミノ基を有するものが挙げられる。該
サイクリトールは該アミノ基以外の置換基を有していて
もよく、また該アミノ基以外の官能基は保護されていて
もよい。該官能基が水酸基である場合、保護基としては
前述のX1,X2,X3でそれぞれ表わされる保護されていても
よい水酸基の保護基と同様の保護基が挙げられる。
なお、4−アミノサイクリトールが式 〔式中、X4,X5,X6はそれぞれ保護されていてもよい水
酸基を示す〕で表わされる化合物である場合には、化合
物(II)と縮合反応に付すことによって式 〔式中、各記号は前記と同意義を有する〕で表わされ
るハイグロマイシンまたは水酸基が保護されたハイグロ
マイシンが得られる。
上記式(VI)において、X4,X5,X6でそれぞれ表わされ
る保護されていてもよい水酸基の保護基としては、前述
のX1,X2,X3でそれぞれ表わされる保護されていてもよい
水酸基の保護基と同様の保護基が挙げられる。
上記式(III′)において、X1,X2,X3,X4,X5およびX6
が全てアセチルであるハイグロマイシンヘキサアセテー
トは、前述のアグリカルチュラル・バイオロジカル・ケ
ミストリー,第42巻,279頁(1978年)に記載された公知
化合物であり、本発明の方法により得られたハイグロマ
イシンヘキサアセテートのNMRスペクトルの結果は上記
文献値と一致することが確認されている。
上記式(III)において、Aで表わされる4位のアミ
ノ基以外の官能基が保護されていてもよい4−アミノサ
イクリトール残基は、上記した4位にアミノ基を有し、
該アミノ基以外の官能基が保護されていてもよいアミノ
サイクリトール(4−アミノサイクリトール)から4位
のアミノ基を1つ除いた残基を意味し、該残基は4位に
結合手を1つ有する。
本発明における4位にアミノ基を有し、該アミノ基以
外の官能基が保護されていてもよいアミノグリコシド
(4−アミノグリコシド)としては、グリコシド,マン
ノシド,フルクトシドなどのグリコシドの4位にアミノ
基を有するものが挙げられる。該グリコシドは該アミノ
以外の置換基を有していてもよく、また該アミノ基以外
の官能基は保護されていてもよい。該官能基が水酸基で
ある場合、保護基としては前述のX1,X2,X3でそれぞれ表
わされる保護されていてもよい水酸基の保護基と同様の
保護基が挙げられる。
上記式(III)において、Aで表わされる4位のアミ
ノ基以外の官能基が保護されていてもよい4−アミノグ
リコシド残基は、上記した4位にアミノ基を有し、該ア
ミノ基以外の官能基が保護されていてもよいアミノグリ
コシド(4−アミノグリコシド)から4位のアミノ基を
1つ除いた残基を意味し、該残基は4位に結合手を1つ
有する。
かくして得られる化合物(III)は反応物から通常用
いられる分離精製手段(例、抽出,濃縮,ろ過,再結
晶,分配あるいは液体クロマトグラフィー,薄層クロマ
トグラフィー(tlc)など)を用いることにより単離す
ることができ、また必要に応じて公知の手段〔例、アル
カリ加水分解法(J.Am.Chem.Soc.,79,5060(1957))な
ど〕で保護基を脱離することができる。
作用 本発明の化合物(I)はハイグロマイシン類の製造に
おける合成中間体として有用である。また、本発明のハ
イグロマイシン類合成製造法によれば、化学的にハイグ
ロマイシン類を合成製造できるので、ハイグロマイシン
関連誘導体特にアミノサイクリトール部分に修飾を施し
たハイグロマイシン類似化合物を容易に製造することが
できる。
従って、本発明はハイグロマイシンの合成および新規
抗生物質の提供を可能ならしめるものである。
実施例 以下に実施例を示して本発明をさらに具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるべきものではない。
本明細書において用いる略号を第1表に例示する。
実施例1(1) メチル 4,6−O−ベンジリデン−2,3−ジ−O−ベン
ジル−α−D−アルトピラノシド[化合物(3)]の合
蒸留水(170ml)に水酸化カリウム(6.64g,118mmol)
を溶解し、J.Am.Chem.Soc.,63,1727(1941)に記載の方
法により製造された化合物(1)(5.00g,18.9mmol)を
加え均一系になるまで加熱還流した(約48時間)。展開
系トルエン:酢酸エチル=3:1のtlc上Rf=0.50の化合物
(1)のスポットが消失し、Rf=0.13に化合物(2)の
スポットが認められた。反応液を室温まで冷却した後、
減圧濃縮(エタノールとトルエンで数回ずつ共沸),真
空乾燥して、化合物(2)のカリウム塩を得た。これを
ジメチルスルホキシド(DMSO)(60ml)に溶解し、室温
で撹拌しながら塩化ベンジル(13.5ml,118mmol)をDMSO
(40ml)に溶かした溶液を約1時間かけて滴下し、さら
に室温にて3時間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチ
ル=3:1のtlc上Rf=0.13の化合物(2)のスポットが消
失し、Rf=0.78に主生成物化合物(3)のスポットが認
められた。反応液を氷水に注下し、塩化メチレン(500m
l×2)を用いて抽出し、芒硝乾燥した。減圧濃縮,真
空乾燥して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(150gを用い、最初にトルエンだけ流し、次
にトルエン:酢酸エチル=20:1の溶媒を流した)にて精
製して、得られた黄色シロップ状残渣をエタノールから
再結晶して化合物(3)を白色結晶として得た。
収量 5.97g(化合物(1)からの収率68.3%) m.p. 86〜87.5℃ ▲[α]18 D▼ −1.21°(c 2.48,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3) δ=7.36 m 15H 5.55 s 1H 4.75 d 1H(J1・2=3.00Hz) 4.68-3.56 m 10H 3.42 s 3H 実施例1(2) メチル 2,3−ジ−O−ベンジル−α−D−アルトロ
ピラノシド[化合物(4)]の合成 80%酢酸水溶液(40ml)に化合物(3)(7.00g,15.1
mmol)を加え、80〜85℃にて30分間加熱撹拌した。展開
系トルエン:エタノール=5:1のtlc上Rf=0.91の化合物
(3)のスポットが消失し、Rf=0.53に化合物(4)の
スポットが認められた。反応液を室温まで冷却した後、
減圧濃縮(エタノールとトルエンで交互に共沸),真空
乾燥してシロップ状残渣を得た。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(100g,トルエン/アセ
トン=5/1)にて精製して化合物(4)を無色透明シロ
ップとして得た。
収量 5.67g ▲[α]24 D▼ +59.2°(c 1.64,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3) δ=7.30 s 10H 4.78-4.36 m 5H 3.88-3.56 m 6H 3.39 s 3H 2.84 bs 2H 実施例1(3) メチル 2,3−ジ−O−ベンジル−6−ヨード−α−
D−アルトロピラノシド[化合物(5)]の合成 遮光,窒素雰囲気下、化合物(4)(4.39g,11.7mmo
l)とトリフェニルホスフィン(3.69g,14.1mmol)をTHF
(25ml)に溶かし、0℃にて撹拌下、アゾジカルボン酸
ジエチル(2.22ml,14.1mmol)を加え、5分後ヨウ化メ
チル(0.88ml,14.1mmol)を加えすぐ室温に上げて19時
間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=5:1のtlc上
化合物(4)のスポットが消失し、Rf=0.57に主生成物
化合物(5)のスポットが認められた。反応液を酢酸エ
チル(300ml)に希釈し、飽和重曹水,飽和食塩水(各2
00ml×1)で洗浄した後芒硝乾燥した。減圧濃縮,真空
乾燥して得られた黄色シロップ状残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(150g,トルエン:酢酸エチル=2
0:1)にて精製して化合物(5)を無色透明シロップと
して得た。
収量 4.19g(化合物(4)から73.8%の収率) ▲[α]27 D▼ +50.5°(c 1.00,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3) δ=7.43-7.24 m 10H 4.78-4.26 m 6H 3.88-3.10 m 5H 3.49 s 3H 元素分析 計算値(C21H25O5I) C:52.08 H:5.20(%) 実験値 C:51.77 H:5.11(%) バイルシュタイン試験: 陽性 実施例1(4) 2,3−ジ−O−ベンジル−6−デオキシ−D−アラビ
ノ−5−ヘキソウロフラノース[化合物(IV)]の合成 化合物(5)(5.01g,10.3mmol)をトルエン(30ml)
に溶かし、DBU(3.10ml,20.7mmol)を加え、80〜85℃に
て23時間撹拌した。展開系酢酸エチル:トルエン=1:7
のtlc上Rf=0.45の化合物(5)のスポットが消失し、R
f=0.28に化合物(6)のスポットが認められた。反応
液を酢酸エチル(200ml)で希釈し、0.5N硫酸,飽和重
曹水,蒸留水(各200ml)で洗浄し、芒硝乾燥した。減
圧濃縮して得られた残渣を、THF:H2O=5:2の混合溶媒に
溶かし、アンバーライトIR-120Bを加え、室温にて22時
間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=7:1のtlc上
Rf=0.28の化合物(6)のスポットが消失し、Rf=0.23
に化合物(IV)のスポットが認められた。樹脂をろ別
し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(100g,トルエン:酢酸エチル=10:1)
にて精製して化合物(IV)を無色透明シロップとして得
た。
収量 2.36g(化合物(5)からの収率66.7%) ▲[α]25 D▼ −20.3°(c 0.97,クロロホルム) (クロロホルム中で30分間放置後測定) ▲[α]24 D▼ −11.9°(c 0.72,クロロホルム) (クロロホルム中で一晩放置後測定)1 H NMR(CDCl3) δ=7.46-7.14 m 10H 5.49 bs 1/3H 5.40 bs 2/3H 4.68-3.56 m 4H 2.23 s 1H 2.16 s 2H IR(付着法)3450(−OH),1720(>C=O)cm-1 α:β≒2:1 実施例1(5) メチル 4−O−アセチル−2,3−ジ−O−ベンジル
−6−ヨード−α−D−アルトロピラノシド[化合物
(7)]の合成 化合物(5)(311mg,0.643mmol)を蒸留ピリジン(2
ml)に溶かし、無水酢酸(2ml)を加えて、室温にて24
時間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=7:1のtlc
上、Rf=0.50の化合物(5)のスポットが消失し、Rf=
0.65に化合物(7)のスポットが認められた。減圧濃縮
して得られた残渣を酢酸エチル(50ml)に溶かし、1N塩
酸,飽和重曹水,蒸留水(各50ml)で洗浄し、芒硝乾燥
した。減圧濃縮,真空乾燥して化合物(7)を無色透明
シロップとして得た。
収量 265mg(化合物(5)からの収率78.2%)1 H NMR(CDCl3) δ=7.43-7.20 m 10H 5.00 dd 1H J=4.0,8.6Hz 4.68 d 1H J=2.5Hz 4.57 s 2H 4.53 dd 2H J=13.8,15.3Hz 4.10 dt 1H J=8.6,9.8,4.0Hz 3.88 dd 1H J=4.0,5.2Hz 3.65 dd 1H J=2.5,5.2Hz 3.36 dd 1H J=4.0,13.0Hz 3.17 dd 1H J=9.8,13.0Hz 3.49 s 3H 2.02 s 3H IR(付着法)1740cm-1 実施例1(6) メチル 4−O−アセチル−2,3−O−ベンジル−5
−メチレン−α−D−アラビノピラノシド[化合物
(8)]の合成 化合物(7)(159mg,0.302mmol)をトルエン(2ml)
に溶かし、DBU(90μl,0.604mmol)を加え、80〜85℃に
て3.5時間加熱撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル
=15:1のtlc上(二重展開)Rf=0.64の化合物(7)の
スポットが消失し、Rf=0.58に化合物(8)のスポット
が認められた。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチ
ル(20ml)で希釈して、0.5N塩酸,飽和重曹水,蒸留水
(各20ml)で洗浄し、芒硝乾燥した。減圧濃縮,真空乾
燥して淡黄色シロップとして化合物(8)を得た。
収量 104mg(化合物(7)からの収率86.3%)1 H NMR(CDCl3) δ=7.36 s 10H 5.73 d 1H J4・5=4.5Hz 4.85-4.58 m 6H 4.46 d 1H J1・2=6.5Hz 3.91-3.42 m 2H 3.59 s 3H 2.09 s 3H 実施例1(7) 2,3−ジ−O−ベンジル−6−デオキシ−D−アラビ
ノ−5−ヘキソウロフラノース[化合物(IV)]の合成 化合物(8)(104mg,0.262mmol)をメタノール(2m
l)に溶かし、1Mナトリウムメトキシサイド(262μl,0.
262mmol)を加え、室温にて2時間撹拌した。展開系ト
ルエン:酢酸エチル=15:1のtlc上Rf=0.60の化合物
(8)のスポットが消失し、Rf=0.22の化合物(6)の
スポットが認められた。減圧濃縮し、得られた残渣をTH
F/H2O=5/2の混合溶媒に溶かし、アンバーライトIR-120
Bを加え、室温にて18時間撹拌した。展開系トルエン:
酢酸エチル=7:1のtlc上Rf=0.28の化合物(6)のスポ
ットが消失し、Rf=0.23に化合物(IV)のスポットが認
められた。樹脂をろ別し、減圧濃縮,真空乾燥して、無
色透明シロップとして化合物(IV)を得た。
収量 89.4mg(化合物(8)からの収率99.7%) 各種スペクトルデータは、実施例1(4)と一致し
た。
実施例1(8) 3,4−O−ベンジル−ベンズアルデヒド[化合物(1
0)]の合成 化合物(9)(10.0g,72.4mmol)をエタノール(50m
l)に溶かし、塩化ベンジル(20.0ml,174mmol),炭酸
カリウム(22.0g,159mmol),ヨウ化ナトリウム(500m
g)を加え、4時間加熱還流した。展開系トルエン:酢
酸エチル=7:1のtlc上原点の化合物(9)のスポットが
消失し、Rf=0.66の化合物(10)のスポットが認められ
た。反応液を室温まで冷却した後、蒸留水(20ml)を加
えて、1N水酸化ナトリウム水溶液(160ml)と氷(40g)
の中に注下した。析出した結晶をろ過し、エタノールか
ら再結晶して化合物(10)を淡黄色結晶として得た。
収量 20.1g(化合物(9)からの収率89.1%) m.p. 87.0-88.5℃ (文献値 89℃)1 H NMR(CDCl3) δ=9.90 s 1H 7.75-7.02 m 13H 5.29 s 2H 5.24 s 2H 実施例1(9) 3−O−ベンジル−4−ヒドロキシ−ベンズアルデヒ
ド[化合物(V)]の合成 60%水素化ナトリウム(2.60g,65.0mmol)をn−ヘキ
サンにて洗浄した後、蒸留トルエン(100ml)に懸濁さ
せ、p−トルエンチオール(8.07g,65.0mmol)を氷冷下
加え、30分間撹拌した。これに化合物(10)(15.8g,4
9.6mmol)とヘキサメチルリン酸トリアミド(11.5ml)
を加え、22時間加熱還流した。展開系トルエン:酢酸エ
チル=7:1のtlc上、Rf=0.66の化合物(10)のスポット
が消失し、Rf=0.42の化合物(V)のスポットが認めら
れた。反応液を室温まで冷却し、塩化メチレン(300m
l)で希釈し、2N水酸化ナトリウム水溶液(250ml×2)
で酸性成分を抽出した。水層を濃塩酸を用いてpH=1に
調製し、塩化メチレン(500ml)で再抽出し、蒸留水(2
50ml)で洗浄し、芒硝乾燥した。減圧濃縮,真空乾燥し
て得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(200g,トルエン:酢酸エチル=30:1)にて精製して得
られた結晶をエタノールから再結晶して化合物(V)を
淡黄色結晶として得た。
収量 3.54g(化合物(10)からの収率31.3%) m.p. 113-114.5℃ (文献値114℃)1 H NMR(CDCl3) δ=9.85 s 1H 7.59-7.36 m 7H 7.09 d 1H J=9.0Hz 5.17 s 2H 実施例1(10) 2−O−ベンジル−4−ホルミルフェニル2′,3′−
ジ−O−ベンジル−6′−デオキシ−D−アラビノ−
5′−ヘキソフラノシド[化合物(I−1)]の合成 窒素雰囲気下、化合物(IV)(1.79g,5.24mmol)と化
合物(V)(1.32g,5.76mmol)とトリフェニルホスフィ
ン(1.65g,6.29mmol)とをTHF(15ml)に溶かし、室温
にて撹拌中アゾジカルボン酸ジエチル(0.990ml,6.29mm
ol)をTHF(5ml)に溶かした溶液を20分間かけて滴下し
た。さらに室温にて2.5時間撹拌した。展開系n−ヘキ
サン:酢酸エチル=2:1のtlc上、Rf=0.43の化合物(I
V)のスポットとRf=0.63の化合物(V)のスポットが
消失し、Rf=0.50,0.56の化合物(I−1)のスポット
が認められた。反応液を減圧濃縮し、得られた橙色シロ
ップ状残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(15
0g,n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製して化合
物(I−1)を無色透明シロップとして得た。
収量 2.22g(化合物(IV)からの収率76.8%)1 H NMR(CDCl3) δ=9.87 s 1H 7.57-6.61 m 18H 5.98 s 4/9H 5.81 d 5/9H J1・2=4.5Hz 5.15-4.12 m 9H 2.15 s 4/3H 2.03 s 5/3H IR(付着法)1720(>C=O),1690(−CHO)cm-1 Massスペクトル M 計算値: C34H32O7として552.2139 実験値: 552.2152 M+1 計算値: C34H33O7として553.2226 実験値: 553.2222 α:β≒4:5 実施例2 2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル 6′−デオキ
シ−β−D−アラビノ−5′−ヘキソウロフラノシド
[化合物(I−2)]およびそのα−アノマー[化合物
(I-2α)]の合成 化合物(I−1)(192mg,0.347mmol)を酢酸エチル
(2ml)に溶解させ、20%水酸化パラジウム−カーボン
(40mg)を加え、室温水素ガス雰囲気下、15分間接触還
元した。展開系トルエン:酢酸エチル=7:1のtlc上Rf=
0.38の化合物(I−1)のスポットが消失し、原点にス
ポットが認められ、また展開系酢酸エチルのtlc上ではR
f=0.69に化合物(I-2α)のスポットが、Rf=0.66に化
合物(I−2)のスポットが認められた。触媒をろ別し
た後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(和光ゲル C-300,5g,トルエン:酢
酸エチル=1:1)にて分離して化合物(I−2),化合
物(I-2α)をそれぞれ無色透明シロップとして得た。
収量 化合物(I−2):42.9mg(化合物(I−1)か
らの収率46.1%) 化合物(I-2α):36.1mg(化合物(I−1)から
の収率38.8%) ・化合物(I−2) ▲[α]26 D▼ −141.2°(c 1.26,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3,400MHz) δ=6.90 d 1H J6・5=8.54Hz 6.74 d 1H J3・5=1.83Hz 6.58 dd 1H J5・3=1.83Hz,J5・6=8.54Hz 5.38 d 1H J1・2′=4.27Hz 4.44 t 1H J2・3′,J3・4′=7.33Hz 4.35 d 1H J4・3′=7.32Hz 4.27 dd 1H J2・1′=4.27Hz,J2・3′=
7.33Hz 2.22 s 3H 2.16 s 3H13 C NMR(CDCl3,100MHz) IR(付着法) 3350(−OH),1710(>C=O)cm-1 Massスペクトル M 計算値: C13H16O6として268.0947 実験値: 268.0931 ・化合物(I-2α) ▲[α]25 D▼+79.7°(c 1.16,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3) δ=6.62 d 1H J6・5=9.0Hz 6.46-6.20 m 2H 5.40 s 1H 4.36-4.00 m 3H 2.10 s 6H IR(付着法) 3350(−OH),1710(>C=O)cm-1 Massスペクトル M 計算値: C13H16O6として268.0947 実験値: 268.0930 実施例3 2−O−アセチル−4−メチルフェニル 2′,3′−
ジ−O−アセチル−6′−デオキシ−β−D−アラビノ
−5′−ヘキソウロフラノシド[化合物(I−3)]の
合成 化合物(I−2)(275mg,1.03mmol)を蒸留ピリジン
(1ml)に溶かし、無水酢酸(1ml)を加えて室温で30分
間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=6:1のtlc
上、原点の化合物(I−2)のスポットが消失し、Rf=
0.32に化合物(I−3)のスポットが認められた。反応
液を減圧濃縮(トルエンと共沸)して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル C-300
12g,トルエン:酢酸エチル=10:1)にて精製して化合物
(I−3)を無色透明シロップとして得た。
収量 386mg(化合物(I−2)からの収率95.6%) ▲[α]22 D▼ −132.7°(c 1.41,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3) δ=7.34-6.85 m 3H 6.04-5.78 m 2H 5.20 dd 1H J1・2′=4.5Hz,
J2・3′=6.0Hz 4.33 d 1H J3・4′=4.8Hz 2.31 s 6H 2.11 s 6H IR(付着法) 1750,1720(>C=O)cm-1 Massスペクトル M 計算値: C19H22O9として394.1264 実験値: 394.1267 実施例4 2−O−アセチル−4−ホルミルフェニル2′,3′−
ジ−O−アセチル−6′−デオキシ−β−D−アラビノ
−5′−ヘキソウロフラノシド[化合物(I−4)]の
合成 化合物(I−3)(46.1mg,0.117mmol)をアセトニト
リル(0.5ml)に溶かし、0℃にて撹拌しながら、硝酸
二アンモニウムセリウム(IV)(256mg,0.468mmol)を
蒸留水1mlに溶かした溶液を15分間かけて滴下した。さ
らに0〜5℃で2日間撹拌した。展開系n−ヘキサン:
酢酸エチル=1:1のtlc上、Rf=0.51の化合物(I−3)
のスポットが消失し、Rf=0.30の化合物(I−4)のス
ポットとRf=0.40の副生成物のスポットが認められた。
反応液を酢酸エチル(20ml)で希釈し、5%チオ硫酸ナ
トリウム水溶液、飽和重曹水、蒸留水(各15ml)で洗浄
し、芒硝乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル C-300 2g,n
−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、化合物
(I−4)を無色透明シロップとして得た。また、ジエ
チルエーテル−酢酸エチル−n−ヘキサンにて結晶化し
たものを分析用試料とした。
収量 16.7mg(化合物(I−3)からの収率35.0%) m.p. 114-116℃ ▲[α]22 D▼−240.2°(c 0.54,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3,400MHz) δ=9.90 s 1H 7.77 dd 1H J5・3=1.83Hz,J5・6=8.54Hz 7.60 d 1H J3・5=1.83Hz 7.36 d 1H J6・5=8.55Hz 6.05 d 1H J1・2′=4.28Hz 5.85 dd 1H J3・2′=6.11Hz,J3・4′=
4.89Hz 5.22 dd 1H J2・3′=6.11Hz,J3・1′=
4.28Hz 4.38 d 1H J4・3′=4.88Hz 2.34 s 3H 2.13 s 6H 2.07 s 3H13 C NMR IR(付着法)1750(>C=O),1690(−CHO)cm-1 Massスペクトル M 計算値: C19H20O10として408.1057 実験値: 408.1039 実施例5(1) 窒素雰囲気下、化合物(I−4)178mg(0.435mmol)
をCH2Cl2(3.5ml)に溶かし、室温で撹拌中、 (0.478mmol)1.1eqをCH2Cl2 3.5mlに溶かしたものを
約15分かけて滴下し、室温で10時間撹拌した。反応液を
濃縮した後シリカゲルカラムクロマトグラフィー[和光
ゲル C-300,15g,酢酸エチル:n−ヘキサン=1:2]にて
精製して無色透明シロップとして化合物(11)を得た
(190mg,84%)。なお、展開系酢酸エチル:n−ヘキサン
=1:1のtlc上、Rf=0.58の化合物(11)のスポットが認
められた。
1H NMR(CDCl3,400MHz) δ=7.47 bd J=1.22Hz 1H 7.11 bs 1H 7.25 m 2H 5.97 d J=4.28Hz 1H 5.21 dd J=4.28,6.10Hz 1H 5.85 dd J=6.11,5.49Hz 1H 4.35 d J=5.49Hz 1H 2.32 s 3H 1.53 s 9H 2.05 bd J=1.22Hz 3H 2.12 s 3H×2 2.11 s 3H ・Massスペクトル M 計算値: C26H32O11として520.1945 実験値: 520.1939 実施例5(2) 化合物(11)113mg(0.218mmol)を蒸留塩化メチレン
2mlに溶かし、氷冷下トリフルオロ酢酸236μl(2.18mm
ol)10eqを加え、室温にて一晩撹拌した。反応液を減圧
濃縮して(クロロホルムで共沸)化合物(II-1)110mg
を得た。
1H NMR(CDCl3,400MHz) δ=7.71 bs 1H 7.17 d J=2.44Hz 1H 7.26 m 2H 5.99 d J=4.27Hz 1H 5.21 dd J=6.71Hz,4.27Hz 1H 5.85 dd J=4.88Hz,6.72Hz 1H 4.37 d J=4.89Hz 1H 2.33 s 3H 2.07 s 2.13 s 6H 2.11 s 3H 実施例5(3) 化合物(II-1)20.0mg(43.1μmol)をDMF 1mlに溶か
し、N−ヒドロキシコハク酸イミド10.4mg(90.4μmo
l)2.1eqとDCC19.5mg(0.1mmol)2.2eqを加え、室温に
て7時間撹拌した。反応系をロートにてろ過し、不溶物
を取り除いてトルエンで洗浄した。ろ液を減圧濃縮して
トルエンを留去した後、アミノサイ (0.0602mmol)1.4eqを加えて50℃で一晩撹拌した。ア
ミノサイクリトール13.1mgをさらに加えた後、3時間で
反応を停止させた。減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(和光ゲル C-300,MeOH:CHCl3=1:10)
にて精製し、縮合体[化合物(III-1)]12.3mgを得
た。
この縮合体12.3mgを蒸留ピリジン0.5mlに溶かし、無
水酢酸0.5mlを加えて1時間撹拌し、反応液をトルエン
で共沸して減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(和光ゲル C-300,酢酸エチル:n−ヘキサン
=3:2)にて精製し、ハイグロマイシンヘキサアセテー
ト[化合物(III-2)]10.0mgを得た(化合物(II-1)
からの収率30%)。なお、展開系 MeOH:CHCl3=1:5のt
lc上で、Rf=0.64のハイグロマイシンヘキサアセテート
のスポットが認められた。
1H NMR(CDCl3,400MHz) δ=7.20 m 3H 7.05 d J=1.46Hz, 1H 6.70 d J・2′=8.30Hz 1H 5.97 d J1・2″=4.39Hz 1H 5.84 dd J3・4″=4.88Hz,J2・3″=6.35H
z 1H 5.65 t J3・4=6.38Hz 1H 5.49 dd J3・4=6.35Hz,J4・5=2.93Hz 1H 5.37 s 5.21 dd J2・3″=6.35Hz,J1・2″=4.39H
z 1H 4.97 J=8.30,6.35,1.46Hz 1H 4.93 bs 4.80 s 4.35.d J3・4″=4.88Hz 1H 4.34 dd J5・4=2.93Hz,J5・6=6.83Hz 1H 4.30 dd J5・6=6.84Hz,J6・1=2.44Hz 1H 2.32 s 3H 2.05 s 3H 2.19 s 3H 2.13 s 3H 2.03 s 3H 2,14 s 6H 2.12 s 3H 参考例1(1) ハイグロマイシンヘキサアセテート[化合物(III-
2)]の合成 ハイグロマイシン(ハイグロマイシン:エピハイグロ
マイシン=4:1の混合物)(500mg)をピリジン(10ml)
に溶かし、無水酢酸(5ml)を加え、室温にて2時間撹
拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=1:1のtlc上、原
点のハイグロマイシンのスポットが消失し、Rf=0.39の
化合物(III-2)のスポットが認められた。反応液に氷
冷下メタノール(4ml)を加え、減圧濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル
C-300 30g,トルエン:アセトン=4:1)にて精製して
化合物(III-2)を無色透明シロップとして得た。
収量 576mg1 H NMR(CDCl3,400MHz) δ=7.25-7.19 m 3H 7.05 d 1H J3・5′=1.96Hz 6.75 bd 1H J=8.30Hz 5.97 d 1H J1・2″=4.39Hz 5.84 dd 1H J3・4″=4.88Hz,J3・2″=
6.35Hz 5.63 t 1H J3・4=6.84Hz 5.49 dd 1H J4・5=2.44Hz,J4・3=6.84Hz 5.36 s 5.20 dd 1H J2・3″=6.35Hz,J1・2″=
4.39Hz 4.96 m 1H 4.92 bs 1H 4.81 s 4.35 d 1H J4・3″=4.88Hz 4.33-4.32 m 2H 2.32 s 3H 2.18 s 3H 2.13 s 3H 2.125 s 6H 2.11 s 3H 2.05 bd 3H J=1.47Hz 2.03 s 3H13 C NMR 98.8 147.3 ※ ※ 74.2 140.0 46.0 171.1,170.5,170.1, 76.3 115.1 ※ ※ 169.6,169.3,168.6,168.5 84.8 131.3 ※ ※ (※を含む) 205.3 128.3 77.3 21.0,20.9,20.8,20.7, 25.9 124.2 74.5 20.4,20.4 ※※は次の4つのうちいずれかである 131.1 ※ 73.9,72.3,71.2,69.6 データは実施例5(3)で得られた化合物と一致し
た。
参考例2 2−O−アセチル−4−ホルミルフェニル2′,3′−
ジ−O−アセチル−6′−デオキシ−β−D−アラビノ
−5′−ヘキソウロフラノシド[化合物(I−4)]と
1D-1,3,4−トリ−O−アセチル−2−デオキシ−5,6-O
−メチレン−2−(2−オキソプロパノイル)アミノ−
ネオ−イノシトール(化合物(12))の合成 ハイグロマイシン(ハイグロマイシン:エピハイグロ
マイシン=4:1)(500mg)を蒸留ピリジン(10ml)に溶
かし、無水酢酸(5ml)を加え、室温にて2時間撹拌し
た。展開系トルエン:酢酸エチル=1:1のtlc上、原点の
ハイグロマイシンのスポットが消失し、Rf=0.39の化合
物(III-2)のスポットが認められた。反応液に氷冷下
メタノール(4ml)を加え、減圧濃縮(トルエンと数回
共沸),真空乾燥して、化合物(III-2)を得た。化合
物(III-2)を塩化メチレン(10ml)に溶かし、−78℃
にて撹拌中にオゾンを20分間吹き込んだ。展開系トルエ
ン:アセトン=2:1のtlc上Rf=0.32の化合物(III-2)
が消失し、新たにスポットがRf=0.49,0.60に認められ
た。反応液にジメチルスルフィド(3ml)を加え、−78
℃から室温まで温度を上げながら15時間撹拌した。展開
系トルエン:アセトン=3:1のtlc上でRf=0.59の化合物
(I−4)のスポットとRf=0.53の化合物(12)のスポ
ットが認められた。減圧濃縮して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル C-300 35g,
トルエン:アセトン=10:1)によって分離精製して、化
合物(I−4),化合物(12)ともに無色透明シロップ
として得た。また、化合物(I−4)はジエチルエーテ
ル−酢酸エチル−n−ヘキサンにて結晶化したものを分
析用試料とした。
収量 化合物(I−4) 285mg 化合物(12) 239mg ・化合物(I−4) ▲[α]22 D▼ −219.6°(c 0.55,クロロホルム) m.p. 110-114℃ IR(付着法)1740(>C=O),1690(−CHO)cm-1 1 H NMR(CDCl3,400MHz) δ=9.89 s 1H 7.77 dd 1H J5・6=8.54Hz,J5・3=2.44Hz 7.60 d 1H J3・5=1.83Hz 7.36 d 1H J6・5=8.55Hz 6.05 d 1H J1・2′=4.28Hz 5.85 dd 1H J3・4′=4.89Hz,J3・2′=
6.71Hz 5.23 dd 1H J2・3′=6.71Hz,J2・1′=
4.28Hz 4.38 d 1H J4・3′=4.88Hz 2.34 s 3H 2.13 s 3H 2.13 s 3H 2.07 s 3H13 C NMR(CDCl3,100MHz) δ=204.6 189.8 152.5 140.8 131.7 129.6 123.9 115.0 98.5 84.9 76.3 170.1,169.4,168.2 74.2 25.8 20.8,20.35,20.33 データは実施例4で得られた化合物と一致した。
・化合物(12)1 H NMR(CDCl3,400MHz) δ=7.28 bs 1H 5.54 t 1H J3・2=J3・4=7.33Hz 5.46 dd 1H J4・3=7.33Hz,J4・5=3.05Hz 5.33 s 4.92 bt 1H J1・2=J1・6=2.44Hz 4.80 m 1H 4.80 s 1H 4.32 dd 1H J5・6=6.72Hz,J5・4=3.05Hz 4.29 dd 1H J6・5=6.72Hz,J6・1=2.44Hz 2.47 s 3H 2.17 s 3H 2.13 s 3H 2.05 s 3H 参考例3 2−O−アセチル−4−メチルフェニル 2′,3′−
ジ−O−アセチル−6′−デオキシ−α−D−アラビノ
−5′−ヘキソウロフラノシド[化合物(I-3α)]の
合成 化合物(I-2α)(73.7mg,0.275mmol)をピリジン(1
ml)に溶かし、無水酢酸(1ml)を加え、室温にて15分
間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=6:1のtlc上
原点の化合物(I-2α)のスポットが消失し、Rf=0.30
に化合物(I-3α)のスポットが認められた。反応液を
減圧濃縮して(トルエンと共沸)得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル C-300 3g,
トルエン:酢酸エチル=10:1)にて精製して化合物(I-
3α)を無色透明シロップとして得た。
収量 92.4mg(化合物(I-2α)からの収率85.3%) ▲[α]21 D▼ +80.1°(c 0.77,クロロホルム)1 H NMR(CDCl3) δ=7.32-6.83 m 3H 5.70 s 1H 5.41-5.21 m 2H 4.68 d 1H 2.33 s 3H 2.30 s 3H 2.15 s 3H 2.10 s 3H IR(付着法)1750,1730(>C=O)cm-1 Massスペクトル M+ 計算値: C19H22O9として394.1264 実験値: 394.1254 参考例4 2−O−アセチル−4−ホルミルフェニル 2′,3′
−ジ−O−アセチル−6′−デオキシ−α−D−アラビ
ノ−5′−ヘキソウロフラノシド[化合物(I-4α)]
の合成 化合物(I-3α)(66.6mg,0.168mmol)をアセトニト
リル(0.7ml)に溶かし、0℃にて撹拌しながら硝酸2
アンモニウムセリウム(IV)(413mg,1.10mmol)を蒸留
水(0.7ml)に溶かした溶液を約15分間かけて滴下し
た。さらに0〜5℃で3.5時間撹拌した。展開系n−ヘ
キサン:酢酸エチル=1:1のtlc上Rf=0.54の化合物(I-
3α)のスポットが消失し、Rf=0.33の化合物(I-4α)
のスポットとRf=0.44の副生成物のスポットが認められ
た。反応液を酢酸エチル20mlで希釈し、5%チオ硫酸ナ
トリウム水溶液,飽和重曹水,蒸留水(各15ml)で洗浄
し、有機層を芒硝乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル C-
300 3g,n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し化
合物(I-4α)を無色透明シロップとして得た。
収量 19.0mg(化合物(I-4α)からの収率27.5%) ▲[α]24 D▼ +52.0°(c 0.95,クロロホルム) IR(付着法)1740(>C=O),1690(−CHO)cm-1 1 H NMR(CDCl3,400MHz) δ=9.90 s 1H 7.76 dd 1H J5・3=1.83Hz,J5・6=8.54Hz 7.62 d 1H J3・5=1.83Hz 7.40 d 1H J6・5=8.55Hz 5.87 s 1H 5.31 m 2H 4.66 d 1H J3・4′=4.28Hz 2.34 s 3H 2.31 s 3H 2.18 s 3H 2.13 s 3H13 C NMR(CDCl3,100MHz) δ=203.3 189.9 152.4 141.1 131.8 129.6 123.8 116.4 104.3 87.6 80.1 169.7,169.3,168.2 76.9 26.6 20.7,20.6,20.5 Massスペクトル M+1 計算値: C19H21O10として409.1133 実験値: 409.1135
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07H 15/203 A61K 31/70 CA(STN) REGISTRY(STN) WPIDS(STN)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式 〔式中、X1,X2,X3はそれぞれ保護されていてもよい水酸
    基を示し、Rはホルミル基またはメチル基を示す〕で表
    わされる化合物。
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