JP2779635B2 - スチレンオキサイドの製造方法 - Google Patents
スチレンオキサイドの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はスチレンと過酸化水素とを触媒の存在下で反
応させて、スチレンオキサイドを製造する方法に関する
ものである。
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スチレンオキサイドは高分子の安定剤、紫外線吸収
剤、医薬等の合成原料、溶剤の安定剤、或いは合成香料
及び甘味料として有用なフェネチルアルコール及びフェ
ニルアルデヒドの出発原料として、其の用途分野は広範
囲にわたっている。
剤、医薬等の合成原料、溶剤の安定剤、或いは合成香料
及び甘味料として有用なフェネチルアルコール及びフェ
ニルアルデヒドの出発原料として、其の用途分野は広範
囲にわたっている。
（従来の技術） スチレンをエポキシ化してスチレンオキサイドを製造
する方法としては、特開昭55−149,271号公報に記載さ
れているように、有機過酸を使用してスチレンをエポキ
シ化する方法が一般的であるが、此の方法は、下記の如
き欠点があり、必ずしも満足し得る方法ではない。
する方法としては、特開昭55−149,271号公報に記載さ
れているように、有機過酸を使用してスチレンをエポキ
シ化する方法が一般的であるが、此の方法は、下記の如
き欠点があり、必ずしも満足し得る方法ではない。
（１） スチレンを有機過酸により酸化する反応中に有
機過酸がラジカル分解して生成するラジカルのスチレン
への付加反応が起こり、スチレンに対するスチレンオキ
サイドの選択率が低下する。
機過酸がラジカル分解して生成するラジカルのスチレン
への付加反応が起こり、スチレンに対するスチレンオキ
サイドの選択率が低下する。
（２） 反応後に副生する有機酸により、生成したスチ
レンオキサイドが開裂し、エステル及びヒドロキシ化合
物を生成し、スチレンに対するスチレンオキサイドの選
択率が低下する。
レンオキサイドが開裂し、エステル及びヒドロキシ化合
物を生成し、スチレンに対するスチレンオキサイドの選
択率が低下する。
（３） 有機過酸のうち最も工業的に入手し易い過酢酸
は、アセトアルデヒドの空気酸化により製造する、所
謂、ダイセル・ワッカー法で製造されているが、非常に
高価な酸化剤である。
は、アセトアルデヒドの空気酸化により製造する、所
謂、ダイセル・ワッカー法で製造されているが、非常に
高価な酸化剤である。
（４） 有機過酸を使用することによる危険性を回避す
る為に、操作上及び装置上、細心の注意を払わなければ
ならない。
る為に、操作上及び装置上、細心の注意を払わなければ
ならない。
これに対して、過酸化水素による酸化反応は、副生成
物が水のみで、環境汚染問題が存在せず、工業的に入手
し易く、且つ安価である事から、原則的に過酸化水素は
望ましいエポキシ化剤である。然し、スチレンと過酸化
水素との反応によるエポキシド生成反応では、スチレン
転化率及びエポキシドへの選択率が共に低い。転化率が
低いのは、過酸化水素が低温反応では未反応で残り、高
温反応では分解して酸素を発生し、過酸化水素が反応に
有効に消費されない為である。
物が水のみで、環境汚染問題が存在せず、工業的に入手
し易く、且つ安価である事から、原則的に過酸化水素は
望ましいエポキシ化剤である。然し、スチレンと過酸化
水素との反応によるエポキシド生成反応では、スチレン
転化率及びエポキシドへの選択率が共に低い。転化率が
低いのは、過酸化水素が低温反応では未反応で残り、高
温反応では分解して酸素を発生し、過酸化水素が反応に
有効に消費されない為である。
又、エポキシドの選択率が低いのは、過酸化水素と共
に反応系に導入される水及び反応によって生成する水が
原因となってポリオールを生成する為である。
に反応系に導入される水及び反応によって生成する水が
原因となってポリオールを生成する為である。
スチレンのエポキシ化の反応性は下表の通り［エンサ
イクロペディア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド
・テクノメジー（Encyclopedia of Polymer Science an
d Technology）,VI巻,83ページ、インターサイエンス・
パブリッシャーズ・ニューヨーク,1967参照］であり、
スチレンのエポキシ化の相対的反応性は、一般に他のオ
レフィン類より遅く、例えばシクロヘキセンのエポキシ
化の相対的反応性と比較すると、約1/10であり、スチレ
ンのエポキシ化反応が非常に遅い事を示している。 オレフィン 相対的反応性 CH2＝CH2 １ C6H5CH2−CH＝CH2 11 Ｒ−CH＝CH2 25 Ar−CH＝CH−Ar 27 Ar−CH＝CH2 60 Ar−CH＝CH−Ｒ 240 （Ar）2C＝CH2 250 Ｒ−CH＝CH−Ｒ 500 （Ｒ）2C＝CH2 500 シクロヘキセン 675 シクロヘプテン 900 シクロペンテン 1000 （Ｒ）2C＝CH−Ｒ 6500 （Ｒ）2C＝Ｃ（Ｒ）２ ≫6500 表中のArはアリールを、又、Ｒはアルキルを意味して
いる。
イクロペディア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド
・テクノメジー（Encyclopedia of Polymer Science an
d Technology）,VI巻,83ページ、インターサイエンス・
パブリッシャーズ・ニューヨーク,1967参照］であり、
スチレンのエポキシ化の相対的反応性は、一般に他のオ
レフィン類より遅く、例えばシクロヘキセンのエポキシ
化の相対的反応性と比較すると、約1/10であり、スチレ
ンのエポキシ化反応が非常に遅い事を示している。 オレフィン 相対的反応性 CH2＝CH2 １ C6H5CH2−CH＝CH2 11 Ｒ−CH＝CH2 25 Ar−CH＝CH−Ar 27 Ar−CH＝CH2 60 Ar−CH＝CH−Ｒ 240 （Ar）2C＝CH2 250 Ｒ−CH＝CH−Ｒ 500 （Ｒ）2C＝CH2 500 シクロヘキセン 675 シクロヘプテン 900 シクロペンテン 1000 （Ｒ）2C＝CH−Ｒ 6500 （Ｒ）2C＝Ｃ（Ｒ）２ ≫6500 表中のArはアリールを、又、Ｒはアルキルを意味して
いる。
従って、従来からスチレンと過酸化水素との反応によ
りスチレンオキサイドを製造するに当たり、上記の問題
点を解決するために、特定の触媒を使用する方法が提案
されている。例えば、C.ベントウレルロ等（J.Org.Che
m.,53 1553,1988）によると、燐タングステン酸の第４
級アンモニウム塩を過酸化水素のエポキシ化触媒として
使用するとスチレンオキサイドは74％の収率（対過酸化
水素基準）で得られると報告している。
りスチレンオキサイドを製造するに当たり、上記の問題
点を解決するために、特定の触媒を使用する方法が提案
されている。例えば、C.ベントウレルロ等（J.Org.Che
m.,53 1553,1988）によると、燐タングステン酸の第４
級アンモニウム塩を過酸化水素のエポキシ化触媒として
使用するとスチレンオキサイドは74％の収率（対過酸化
水素基準）で得られると報告している。
この方法は、従来の方法と比較して格段に収率が向上
しているが、触媒成分として使用する第４級アンモニウ
ム塩（相間移動触媒）が非常に高価な為、工業的な採用
は困難である。
しているが、触媒成分として使用する第４級アンモニウ
ム塩（相間移動触媒）が非常に高価な為、工業的な採用
は困難である。
又、特開昭55−129,276号公報では、スチレンと過酸
化水素とを、砒素酸化物及び3,5−ジtert−ブチル−４
−ヒドロキシトルエンの存在下で反応させる方法を提案
している。
化水素とを、砒素酸化物及び3,5−ジtert−ブチル−４
−ヒドロキシトルエンの存在下で反応させる方法を提案
している。
然し、砒素酸化物を水性過酸化水素と共に使用する時
は、過酸化水素は急速に分解するか、又は、エポキシ化
速度が非経済的である等の欠点があり、更に、砒素化合
物は毒性が強い事から、製造時及び製品への混入による
使用時における被毒を防止するために、製造設備に重大
な注意を払う必要がある。
は、過酸化水素は急速に分解するか、又は、エポキシ化
速度が非経済的である等の欠点があり、更に、砒素化合
物は毒性が強い事から、製造時及び製品への混入による
使用時における被毒を防止するために、製造設備に重大
な注意を払う必要がある。
米国特許第3,806,467号では、オレフィン類と過酸化
水素とを、ビス（トリ−ｎ−メチル錫オキシ）モリブデ
ン酸触媒下で反応させ、エポキシドを製造する方法を提
案しているが、その実施例を見る限り、シクロヘキセン
エポキシドの収率は高く有効な方法であるが、スチレン
オキサイドの収率は３％弱（対過酸化水素基準）であ
り、スチレンオキサイドの製造法としては好ましい方法
とは言えない。この方法におけるスチレンオキサイドの
収率不良の原因は、生成したスチレンオキサイドが酸化
開裂し、ベンズアルデヒド、更には安息香酸を副生する
ためと考えられる。
水素とを、ビス（トリ−ｎ−メチル錫オキシ）モリブデ
ン酸触媒下で反応させ、エポキシドを製造する方法を提
案しているが、その実施例を見る限り、シクロヘキセン
エポキシドの収率は高く有効な方法であるが、スチレン
オキサイドの収率は３％弱（対過酸化水素基準）であ
り、スチレンオキサイドの製造法としては好ましい方法
とは言えない。この方法におけるスチレンオキサイドの
収率不良の原因は、生成したスチレンオキサイドが酸化
開裂し、ベンズアルデヒド、更には安息香酸を副生する
ためと考えられる。
（問題点を解決するための手段） 上記の米国特許第3,806,467号記載の触媒であるビス
（トリ−ｎ−メチル錫オキシ）モリブデン酸触媒は、工
業的に安価且つ容易に入手可能であり、活性炭及び有機
物吸着樹脂に固定することが可能であることから、反応
系を不均一触媒系にする事が出来、このことにより反応
系から、容易に触媒を分離する事が可能な特徴を有して
いる。そこで本発明者らは、この触媒の助触媒について
鋭意研究した結果、本発明を完成するに至った。
（トリ−ｎ−メチル錫オキシ）モリブデン酸触媒は、工
業的に安価且つ容易に入手可能であり、活性炭及び有機
物吸着樹脂に固定することが可能であることから、反応
系を不均一触媒系にする事が出来、このことにより反応
系から、容易に触媒を分離する事が可能な特徴を有して
いる。そこで本発明者らは、この触媒の助触媒について
鋭意研究した結果、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明はスチレンと過酸化水素とをビス（トリ
−ｎ−アルキル錫オキシ）モリブデン酸触媒の存在下に
反応させてスチレンオキサイドを製造する方法におい
て、次の構造式 （但し、R1,R2,R3はH,CH3,C2H5,C3H7,C4H9またはHOCH2C
H2を示す）を有するアミン類を助触媒として共存させ、
不均一系で反応させることよりなるスチレンオキサイド
の製造方法にある。
−ｎ−アルキル錫オキシ）モリブデン酸触媒の存在下に
反応させてスチレンオキサイドを製造する方法におい
て、次の構造式 （但し、R1,R2,R3はH,CH3,C2H5,C3H7,C4H9またはHOCH2C
H2を示す）を有するアミン類を助触媒として共存させ、
不均一系で反応させることよりなるスチレンオキサイド
の製造方法にある。
本発明方法により低温高活性、高収率且つ高選択率で
目的とするスチレンオキサイドを得ることができる。
目的とするスチレンオキサイドを得ることができる。
本発明に使用する過酸化水素は慣用のものでよく、そ
の濃度が通常５〜90％の水溶液のものを使用することが
できるが、入手の容易な10〜70％濃度のものを使用する
のが好ましい。
の濃度が通常５〜90％の水溶液のものを使用することが
できるが、入手の容易な10〜70％濃度のものを使用する
のが好ましい。
スチレンと過酸化水素を反応させるに当たり、スチレ
ンと過酸化水素との比率は当モル量でよいが、何れか一
方の原料を過小または過大にすることも出来る。例えば
スチレン１モル当たり通常0.1〜3.0モルの過酸化水素を
使用し得るが、好ましくは0.3〜2.0モルを使用する。
ンと過酸化水素との比率は当モル量でよいが、何れか一
方の原料を過小または過大にすることも出来る。例えば
スチレン１モル当たり通常0.1〜3.0モルの過酸化水素を
使用し得るが、好ましくは0.3〜2.0モルを使用する。
本発明において、使用する触媒であるビス（トリ−ｎ
−アルキル錫オキシ）モリブデン酸触媒は公知の方法で
容易に合成し得るが、各触媒成分であるモリブデン青と
トリ−ｎ−アルキル錫オキシドを反応系に別々に添加し
て合成してもよい。トリ−ｎ−アルキル錫オキシドとし
ては、トリ−ｎ−アルキル錫オキシド、トリ−ｎ−エチ
ル錫オキシド、トリ−ｎ−プロピル錫オキシド及びトリ
−ｎ−ブチル錫オキシドが使用し得る。
−アルキル錫オキシ）モリブデン酸触媒は公知の方法で
容易に合成し得るが、各触媒成分であるモリブデン青と
トリ−ｎ−アルキル錫オキシドを反応系に別々に添加し
て合成してもよい。トリ−ｎ−アルキル錫オキシドとし
ては、トリ−ｎ−アルキル錫オキシド、トリ−ｎ−エチ
ル錫オキシド、トリ−ｎ−プロピル錫オキシド及びトリ
−ｎ−ブチル錫オキシドが使用し得る。
触媒の使用量は、スチレン１モル当たり、その使用下
限が通常0.0001モル以上、好ましくは0.001モル以上で
あり、その上限は通常0.1モル以下、好ましくは0.01モ
ル以下である。
限が通常0.0001モル以上、好ましくは0.001モル以上で
あり、その上限は通常0.1モル以下、好ましくは0.01モ
ル以下である。
助触媒として使用するアミン類は、次の構造式 （但し、R1,R2,R3はH,CH3,C2H5,C3H7,C4H9,HOCH2CH2）
を有するものであり、具体的には、アンモニア、第１
級、第２級及び第３級メチルアミン、第１級、第２級及
び第３級エチルアミン、第１級、第２級及び第３級ｎ−
プロピルアミン、第１級、第２級及び第３級イソプロピ
ルアミン、第１級、第２級及び第３級ブチルアミン、第
１級、第２級及び第３級エタノールアミン等が挙げられ
る。
を有するものであり、具体的には、アンモニア、第１
級、第２級及び第３級メチルアミン、第１級、第２級及
び第３級エチルアミン、第１級、第２級及び第３級ｎ−
プロピルアミン、第１級、第２級及び第３級イソプロピ
ルアミン、第１級、第２級及び第３級ブチルアミン、第
１級、第２級及び第３級エタノールアミン等が挙げられ
る。
助触媒であるアミン類の使用量は、ビス（トリ−ｎ−
アルキル錫オキシ）モリブデン酸触媒１モルに対して、
0.1〜2.0モル、好ましくは当モルである。
アルキル錫オキシ）モリブデン酸触媒１モルに対して、
0.1〜2.0モル、好ましくは当モルである。
本発明のエポキシ化反応は不均一系で行われる。この
不均一系は水と混和しない有機溶媒を用いて形成され
る。具体的には、原料スチレン及び酸化生成物であるス
チレンオキサイドは水と混和しない有機溶媒に溶解して
存在し、過酸化水素は水相に存在し、有機溶媒相と水相
の２相が形成される。水と混和しない有機溶媒を用いる
ことにより酸化生成物であるスチレンオキサイドと水と
の接触及び加水分解を避けることができる。
不均一系は水と混和しない有機溶媒を用いて形成され
る。具体的には、原料スチレン及び酸化生成物であるス
チレンオキサイドは水と混和しない有機溶媒に溶解して
存在し、過酸化水素は水相に存在し、有機溶媒相と水相
の２相が形成される。水と混和しない有機溶媒を用いる
ことにより酸化生成物であるスチレンオキサイドと水と
の接触及び加水分解を避けることができる。
本発明で用いる有機溶媒が反応に対して不活性であっ
て水と混和しないものであれば特に制限されないが、そ
の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラ
クロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン、モノクロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチ
レン等が挙げられる。
て水と混和しないものであれば特に制限されないが、そ
の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラ
クロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン、モノクロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチ
レン等が挙げられる。
反応温度は、本発明の触媒が、従来の触媒と比較し
て、非常に活性であることから、比較的低温で行うこと
が可能で、一般には０〜100℃、好ましくは10〜70℃の
範囲である。
て、非常に活性であることから、比較的低温で行うこと
が可能で、一般には０〜100℃、好ましくは10〜70℃の
範囲である。
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるもの
ではない。
が、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるもの
ではない。
（実施例） 実施例−１ 容量50mlの三角フラスコにスチレン43.8ミリモル、ク
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.35ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.35ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を24時間実施した。
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.35ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.35ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を24時間実施した。
スチレン及びスチレンオキサイドはガスクロマトグラ
フィーにより、残存過酸化水素量はヨード滴定法でそれ
ぞれ分析した。結果は第１表の通りである。
フィーにより、残存過酸化水素量はヨード滴定法でそれ
ぞれ分析した。結果は第１表の通りである。
実施例−２ 反応時間を７時間とした以外は、実施例−１と同様に
反応を行った。結果は第１表の通りである。
反応を行った。結果は第１表の通りである。
実施例−３ トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青の代
わりに（トリ−ｎ−ブチル錫オキシ）モリブデン酸を0.
35ミリモル使用した以外は、実施例−１と同様に反応を
行った。結果は第１表の通りである。
わりに（トリ−ｎ−ブチル錫オキシ）モリブデン酸を0.
35ミリモル使用した以外は、実施例−１と同様に反応を
行った。結果は第１表の通りである。
比較例−１ トリメチルアミンを使用しない以外は、実施例−１と
同様に反応を行った。結果は第１表の通りである。
同様に反応を行った。結果は第１表の通りである。
実施例−４ 容量50mlの三角フラスコにスチレン8.7ミリモル、ク
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.35ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.35ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を７時間実施した。
結果は第２表の通りである。
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.35ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.35ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を７時間実施した。
結果は第２表の通りである。
実施例−５ トリメチルアミンの代わりにジメチルアミンを0.35ミ
リモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行っ
た。結果は第２表の通りである。
リモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行っ
た。結果は第２表の通りである。
実施例−６ トリメチルアミンの代わりにモノメチルアミンを0.35
ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行
った。結果は第２表の通りである。
ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行
った。結果は第２表の通りである。
実施例−７ トリメチルアミンの代わりにアンモニアを0.35ミリモ
ル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行った。
結果は第２表の通りである。
ル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行った。
結果は第２表の通りである。
実施例−８ トリメチルアミンの代わりにトリエチルアミンを0.35
ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行
った。結果は第２表の通りである。
ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行
った。結果は第２表の通りである。
実施例−９ トリメチルアミンの代わりにトリイソプロピルアミン
を0.35ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反
応を行った。結果は第２表の通りである。
を0.35ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反
応を行った。結果は第２表の通りである。
実施例−10 トリメチルアミンの代わりにトリブチルアミンを0.35
ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行
った。結果は第２表の通りである。
ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応を行
った。結果は第２表の通りである。
実施例−11 トリメチルアミンの代わりにトリエタノールアミンを
0.35ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応
を行った。結果は第２表の通りである。
0.35ミリモル使用した以外は、実施例−４と同様に反応
を行った。結果は第２表の通りである。
比較例−２ トリメチルアミンを使用しない以外は、実施例−４と
同様に反応を行った。結果は第２表の通りである。
同様に反応を行った。結果は第２表の通りである。
実施例−12 容量50mlの三角フラスコにスチレン8.7ミリモル、ク
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.70ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.14ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を５時間実施した。
結果は第３表の通りである。
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.70ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.14ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を５時間実施した。
結果は第３表の通りである。
実施例−13 トリメチルアミンの添加量を0.21ミリモルに変えた以
外は、実施例−12と同様に反応を行った。結果は第３表
の通りである。
外は、実施例−12と同様に反応を行った。結果は第３表
の通りである。
実施例−14 トリメチルアミンの添加量を0.39ミリモルに変えた以
外は、実施例−12と同様に反応を行った。結果は第３表
の通りである。
外は、実施例−12と同様に反応を行った。結果は第３表
の通りである。
実施例−15 トリメチルアミンの添加量を0.70ミリモルに変えた以
外は、実施例−12と同様に反応を行った。結果は第３表
の通りである。
外は、実施例−12と同様に反応を行った。結果は第３表
の通りである。
実施例−16 反応時間を10時間とした以外は、実施例−15と同様に
反応を行った。結果は第３表の通りである。
反応を行った。結果は第３表の通りである。
実施例−17 容量50mlの三角フラスコにスチレン14.6ミリモル、ク
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.35ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.35ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を７時間実施した。
結果は第４表の通りである。
ロロホルム5ml、トリ−ｎ−ブチル錫オキサイド0.35ミ
リモル、モリブデン青約0.35ミリモルと30％トリメチル
アミン0.35ミリモルを加え、室温で20分間撹拌し、トリ
−ｎ−ブチル錫オキサイド及びモリブデン青が溶解して
から、60％過酸化水素を21.9ミリモルを一度に添加し、
25℃の振盪型恒温槽に浸漬し、反応を７時間実施した。
結果は第４表の通りである。
実施例−18 クロロホルムの代わりにジクロロエタンを5ml使用し
た以外は、実施例−17と同様に反応を行った。結果は第
４表の通りである。
た以外は、実施例−17と同様に反応を行った。結果は第
４表の通りである。
実施例−19 クロロホルムの代わりにベンゼンを5ml使用した以外
は、実施例−17と同様に反応を行った。結果は第４表の
通りである。
は、実施例−17と同様に反応を行った。結果は第４表の
通りである。
比較例−３ クロロホルムの代わりにアセトニトリルを5ml使用し
た以外は、実施例−17と同様に反応を行った。結果は第
４表の通りである。
た以外は、実施例−17と同様に反応を行った。結果は第
４表の通りである。
比較例−４ クロロホルムの代わりにｔ−ブチルアルコールを5ml
使用した以外は、実施例−17と同様に反応を行った。結
果は第４表の通りである。
使用した以外は、実施例−17と同様に反応を行った。結
果は第４表の通りである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 仁藤 浩久 静岡県富士市富士岡580 東海電化工業 株式会社吉原工場内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 301/12 C07D 303/04 B01J 31/34
Claims (1)
- 【請求項１】スチレンと過酸化水素とを、ビス（トリ−
ｎ−アルキル錫オキシ）モリブデン酸と、一般式： （但し、R1,R2,R3はH,CH3,C2H5,C3H7,C4H9またはHOCH2C
H2を示す）によって表わされるアミン類との存在下、不
均一系で反応させることを特徴とするスチレンオキサイ
ドの製造方法。
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