JP2749452B2 - ディスク状のワークを処理するための装置 - Google Patents

ディスク状のワークを処理するための装置

Info

Publication number
JP2749452B2
JP2749452B2 JP7529333A JP52933395A JP2749452B2 JP 2749452 B2 JP2749452 B2 JP 2749452B2 JP 7529333 A JP7529333 A JP 7529333A JP 52933395 A JP52933395 A JP 52933395A JP 2749452 B2 JP2749452 B2 JP 2749452B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
seal
processing
processing compartment
compartment
bath
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP7529333A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09505638A (ja
Inventor
ホステン ダニエル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SHIIMENSU SA
Original Assignee
SHIIMENSU SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SHIIMENSU SA filed Critical SHIIMENSU SA
Publication of JPH09505638A publication Critical patent/JPH09505638A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2749452B2 publication Critical patent/JP2749452B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0085Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/004Sealing devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 ヨーロッパ特許公開第0421127号明細書によれば、プ
リント配線板の処理のための装置が公知であり、これに
よれば、個々のプリント配線板が鉛直に懸架された状態
で水平な搬送路に沿って、順次に配置された処理浴を通
して案内される。処理区画室内に設けられた処理浴を通
過させる形式のプリント配線板の搬送は、無端に循環す
る伝動機構に配置されたクリップにより行われる。この
クリップは電着処理の場合にはプリント配線板を陰極側
に接触させるためにも役立てられる。処理区画室の端壁
にはプリント配線板を通過させるための垂直なスリット
が設けられており、その場合、この通過領域内にはブラ
シシール又はストリップブラシシールとして形成された
シールが設けられている。個々の処理区画室は捕集トラ
フ内に配置されており、これらの捕集トラフからは、捕
集された浴液が適当なポンプを介して連続的に、対応す
る処理区画室内へ戻し案内される。このようにして、浴
液の連続的な戻し案内により、個々の処理区画室内のコ
ンスタントな液面を維持することができる。
アメリカ合衆国特許第4401522号明細書によれば、同
様に構成された、プリント配線板の電解処理のための装
置が公知であり、この場合、処理区画室の端壁に設けら
れた垂直なスリットには、処理区画室にシールとして垂
直に配置されたローラ対が対応して配置されている。こ
のローラ対の弾性的な材料から成る両方のローラは弾性
的に互いに圧着され、かつ通過するプリント配線板の搬
送速度に合わされた回転数で駆動される。
請求項1に記載された本発明には、ディスク状のワー
クを処理するための装置において、ワークを通過させる
ために処理区画室の端壁に設けた垂直なスリットを簡単
な手段により効果的に密閉し、かつスリットの領域内で
の浴液の流出を最小にするという課題が課せられてい
る。
本発明により得られる利点とするところは特に、スリ
ットの密閉が実際に自発的に浴液の圧力により行われる
ことにある。処理浴内のロッド又は管のルーズな配置に
より、これらのロッド又は管は、浴液からこれらに作用
する圧力により、一面においては互いに又は通過するワ
ークに圧着させると共に、他面においては内側から処理
区画室の端壁に圧着される。要するに、まさに浴液の流
出する可能性のある箇所が液圧により密閉される。ロッ
ド又は管の回転可能な支承と、特に公知のシールとして
使用されるローラ対におけるような駆動装置とを省くこ
とができる。
本発明の有利な構成が請求項2以下に記載されてい
る。
請求項2に基づく構成では、ワークの通過時のローラ
又は管の自発的な回転が可能となり、ひいては摩擦に対
して極めて敏感なワークの処理が可能となる。
請求項3に基づきスルース室内にシールを設けること
により、密閉作用に必要な浴液内でのルーズな配置に悪
影響を与えることなしに、シールの確実な案内と保持と
が可能となる。
請求項4の構成によれば、大多数の処理浴により攻撃
されない市販のロッド又は管を使用することができる。
請求項5に基づく構成によれば、通過するワークの種
々異なる高さへのシールの自発的な適合が可能となる。
比較的高さの低いワークでは、下方のセグメントが液圧
により互いに圧着され、他面において上方のセグメント
は通過するワークに圧着される。
次に、図面に本発明の1実施例を示し、以下に詳しく
記述する。
ここに、 第1図は入口側及び出口側にスルース室を備えた処理
区画室の平面図、 第2図は第1図に示した処理区画室の横断面図、 第3図は第1図に示した処理区画室のスルース室の詳
細図、及び、 第4図はスルース室内に配置されたシールがセグメン
トに分割されていることを示す。
第1図及び第2図は捕集トラフAW内に配置されていて
処理浴BBを備えた処理区画室BZが平面図と断面図とで示
されている。この処理区画室を通して、クリップ状の搬
送手段Tに鉛直に懸架されたディスク状のワークWが通
過案内される。処理区画室BZの両方の端面にはスルース
室SKが配置されており、このスルース室内には、円筒形
のプラスチック管により形成されたシールDが対をなし
て垂直向きにルーズに配置されている。処理区画室BZ、
スルース室SK及び捕集トラフAWの端壁はそれぞれ垂直な
スリットSを備えており、このスリットを通して、ディ
スク状のワークWが妨げられることなく通過案内され
る。
スルース室SK及びシールDの機能をさらに説明するた
めに、付加的に第3図が参照される。スルース室SK内に
設けられた処理浴BBの液圧がシールの周囲のほぼ四分の
三に作用し、他面において残りの四分の一には外から通
常の大気圧が作用する。シールDに作用する合力が第3
図に矢印Nで示されている。これから判るように、この
合力NはシールDを通過するワークWに圧着させると共
にスルース室SKの端壁にも圧着させ、このことにより、
浴液の流出を少なくとも著しく阻止する効果的な密閉作
用を生じる。両方のシールDの間にワークWが存在しな
い場合には、両方のシールが合力Nにより互いに圧着さ
れ、これにより、同様に浴液の流出を阻止する。
スルース室SKを通してワークWを搬送方向TRで搬送す
る際に、両方のシールDは自発的に回転する。その場合
の回転方向が第3図で矢印Uで示されている。その場合
のシールDとワークWとの間の摩擦は極めてわずかであ
り、その結果、極めて敏感なワークの場合でも有害な影
響の生じるおそれがない。処理区画室BZ内でワークWに
場合により設けられた敏感な膜も同様に悪影響を被らな
い。
第4図はシールDが垂直方向で複数のセグメントSGに
分割されていることを示す。このことにより、通過する
ワークWの種々異なる高さへシールを自発的に適合する
ことが可能となる。高さの低いワークWが通過すると、
上方のセグメントSGが通過するワークWに圧着され、か
つ下方のセグメントSGが互いに圧着される。
処理区画室の上述の密閉形式は特に電着浴及びその他
の処理浴内でのプリント配線板の処理のために適してい
る。
処理浴内にルーズに配置されたロッド又は管によるこ
の密閉の原理は、突起、リブ又はその他の***部を備え
たディスク状のワークでも、それらの突起部分がわずか
な高さしか有しない場合には使用可能である。その場
合、シール又はそのセグメントに、突起部分に対応して
減径した環状の溝がこれらの突起部分に対応して配置さ
れる。

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】処理浴(BB)を備えた少なくとも1つの処
    理区画室(BZ)内を水平な搬送路に沿って垂直な状態で
    案内されるディスク状のワーク(W)、特にプリント配
    線板を処理するための装置であって、処理区画室(BZ)
    の端壁に、ワーク(W)を通過させるための垂直なスリ
    ット(S)が設けられており、かつ、この垂直なスリッ
    トにシール(D)が対応して配置されている形式のもの
    において、このシール(D)が、垂直な向きで処理浴
    (BB)内にルーズに対をなして配置されたロッド又は管
    により形成されており、これらのロッド又は管が、液圧
    により互いに、又はそのつど通過するワーク(W)と処
    理区画室(BZ)の対応する端壁とに圧着されることを特
    徴とするディスク状のワークを処理するための装置。
  2. 【請求項2】ロッド又は管が円筒状横断面を有している
    ことを特徴とする請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】シール(D)が処理区画室(BZ)の端面側
    に設けられたスルース室(SK)内に配置されていること
    を特徴とする請求項1又は2記載の装置。
  4. 【請求項4】シール(D)がプラスチックから成ること
    を特徴とする請求項1から3までのいずれか1項記載の
    装置。
  5. 【請求項5】シール(D)が垂直方向で複数のセグメン
    ト(SG)からルーズに組み合わされていることを特徴と
    する請求項1から4までのいずれか1項記載の装置。
JP7529333A 1994-05-11 1995-05-09 ディスク状のワークを処理するための装置 Expired - Fee Related JP2749452B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4416708 1994-05-11
DE4416708.3 1994-05-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09505638A JPH09505638A (ja) 1997-06-03
JP2749452B2 true JP2749452B2 (ja) 1998-05-13

Family

ID=6517920

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7529333A Expired - Fee Related JP2749452B2 (ja) 1994-05-11 1995-05-09 ディスク状のワークを処理するための装置

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5772765A (ja)
EP (1) EP0760023B1 (ja)
JP (1) JP2749452B2 (ja)
CN (1) CN1098375C (ja)
DE (1) DE59500956D1 (ja)
DK (1) DK0760023T3 (ja)
ES (1) ES2109104T3 (ja)
WO (1) WO1995031589A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19813528A1 (de) * 1998-03-26 1999-10-07 Siemens Sa Vorrichtung zur Behandlung von plattenförmigen Werkstücken, insbesondere Leiterplatten
TW438906B (en) * 1998-06-11 2001-06-07 Kazuo Ohba Continuous plating apparatus
JP4591984B2 (ja) * 2001-03-15 2010-12-01 株式会社中央製作所 めっき装置の液漏れ防止機構
US7204918B2 (en) * 2003-03-10 2007-04-17 Modular Components National, Inc. High efficiency plating apparatus and method
DE102005033784A1 (de) * 2005-07-20 2007-01-25 Viktoria Händlmeier System zur galvanischen Abscheidung einer leitfähigen Schicht auf einem nichtleitfähigen Trägermaterial
KR100867301B1 (ko) * 2007-03-15 2008-11-10 (주)포인텍 표면처리조
JP2010174265A (ja) * 2009-01-27 2010-08-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd フープ材のめっき装置、及びそれを用いたフープ材の連続めっき方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US312451A (en) * 1885-02-17 Manufacture of tarred paper
US3120795A (en) * 1957-03-21 1964-02-11 Polaroid Corp Photographic products
US4401522A (en) * 1980-09-29 1983-08-30 Micro-Plate, Inc. Plating method and apparatus
US4724856A (en) * 1986-03-17 1988-02-16 Pender Don P Dynamic flood conveyor
US4812101A (en) * 1987-04-27 1989-03-14 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Method and apparatus for continuous throughput in a vacuum environment
DE3733996A1 (de) * 1987-10-08 1989-04-20 Kuesters Eduard Maschf Vorrichtung zur zufuhr einer fluessigkeit in einen laenglichen fluessigkeitsvorrat
DE3929728A1 (de) * 1989-09-07 1991-03-14 Werner M Kraemer Anlage zur herstellung von leiterplatten und verfahren zum betreiben der anlage
CN1057803A (zh) * 1990-06-28 1992-01-15 林森义 不锈钢金属表带的制法
US5186279A (en) * 1991-03-08 1993-02-16 Ball Corporation Method and apparatus for lubricating tab stock
US5592958A (en) * 1995-02-01 1997-01-14 Coates, Asi, Inc. Flood conveyer

Also Published As

Publication number Publication date
US5772765A (en) 1998-06-30
EP0760023B1 (de) 1997-11-05
CN1147839A (zh) 1997-04-16
ES2109104T3 (es) 1998-01-01
EP0760023A1 (de) 1997-03-05
WO1995031589A1 (de) 1995-11-23
DE59500956D1 (de) 1997-12-11
JPH09505638A (ja) 1997-06-03
CN1098375C (zh) 2003-01-08
DK0760023T3 (da) 1998-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2749452B2 (ja) ディスク状のワークを処理するための装置
US3695451A (en) Skimming device
US4724856A (en) Dynamic flood conveyor
DE2633145A1 (de) Vorrichtung zur nassbehandlung fotografischer schichttraeger
US4688917A (en) Device for wet processing of photographic films
US4233159A (en) Solid-liquid separation element and apparatus
US3353337A (en) Two-phase contactor
US3426908A (en) Horizontal vacuum filter
GB1260441A (en) Apparatus for treating textile materials with a treating liquid
EP0444359A2 (en) Dynamic flood conveyor with weir
DE69701121T2 (de) Lamellenabscheider zur Behandlung beladener Flüssigkeit
JP2726235B2 (ja) 織物面のチャネルを有する感光材処理装置
DE69501804T2 (de) Trocknungsvorrichtung und -verfahren
KR930703630A (ko) 사진 처리장치
KR900018416A (ko) 물체의 화학 처리 또는 청소 장치
US4062911A (en) Device for the purification of waste water
US5443725A (en) Continuously operating filtering device
ES509570A0 (es) Perfeccionamientos en un dispositivo de aplicacion de un liquido para el tratamiento o la distribuicion de vegetales".
US3336853A (en) Apparatus for treating sheet-form materials
JPS5617609A (en) Grit scraper
KR910007583A (ko) 고체물질과 유동체의 혼합물로 부터 유동체를 분리하는 장치
KR870003812A (ko) 필터장치
US3659440A (en) Liquid drain structure for hide processing apparatus
CA2121441A1 (en) Counter Cross Flow for an Automatic Tray Processor
ES435495A1 (es) Un aparato depurador en humedo mejorado.

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees