JP2747518B2 - ウエーハのハンドリング装置 - Google Patents
ウエーハのハンドリング装置Info
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- JP2747518B2 JP2747518B2 JP63311338A JP31133888A JP2747518B2 JP 2747518 B2 JP2747518 B2 JP 2747518B2 JP 63311338 A JP63311338 A JP 63311338A JP 31133888 A JP31133888 A JP 31133888A JP 2747518 B2 JP2747518 B2 JP 2747518B2
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、半導体ウエーハの製造工程中や検査工程
中において、ウエーハの表面に非接触で当該ウエーハを
ローディング、アンローディングするための装置に関す
る。
中において、ウエーハの表面に非接触で当該ウエーハを
ローディング、アンローディングするための装置に関す
る。
（従来の技術） 従来、ウエーハを該ウエーハの表面に非接触でローデ
ィング・アンローディングそして搬送する装置として、
ガスを利用したベルヌーイ方式のものと、機械的チャッ
キング方式のものが知られている。前者は、ウエーハに
対してN2等ガスを噴き当ててウエーハの裏面側にガスを
注入し、以て該ウエーハを浮き上らせて一定位置に保持
するものであり（第３図参照）、後者は、面取り加工し
たウエーハのエッジ部を機械的にチャッキングするもの
である。
ィング・アンローディングそして搬送する装置として、
ガスを利用したベルヌーイ方式のものと、機械的チャッ
キング方式のものが知られている。前者は、ウエーハに
対してN2等ガスを噴き当ててウエーハの裏面側にガスを
注入し、以て該ウエーハを浮き上らせて一定位置に保持
するものであり（第３図参照）、後者は、面取り加工し
たウエーハのエッジ部を機械的にチャッキングするもの
である。
（発明が解決しようとする課題） 前者に依れば、ウエーハをガスで保持するため、ウエ
ーハに機械的ダメージが全く付かないという利点はある
が、反面、ローディング・アンローディング中にガスを
噴き出すので、例えばクリーン度の低い環境にあって
は、ダストを撒き散らして他のウエーハにダストを付着
させてしまうという事態を生じ、従ってクリーン度の低
い所では使用できない。また、搬送中にもガスを吹き出
すので、ランニングコストが高くなるという問題があ
る。
ーハに機械的ダメージが全く付かないという利点はある
が、反面、ローディング・アンローディング中にガスを
噴き出すので、例えばクリーン度の低い環境にあって
は、ダストを撒き散らして他のウエーハにダストを付着
させてしまうという事態を生じ、従ってクリーン度の低
い所では使用できない。また、搬送中にもガスを吹き出
すので、ランニングコストが高くなるという問題があ
る。
また、後者に依ればウエーハが機械的にチャッキング
されるため機械的ダメージが付きやすく、機械的精度を
必要とすることのほか、ウエーハの位置検出装置が必須
不可欠であり、OF（オリエンテーションフラット）合せ
の操作が必要であると共に、機械的動作たるチャッキン
グそのものがダストの発塵要因となる。
されるため機械的ダメージが付きやすく、機械的精度を
必要とすることのほか、ウエーハの位置検出装置が必須
不可欠であり、OF（オリエンテーションフラット）合せ
の操作が必要であると共に、機械的動作たるチャッキン
グそのものがダストの発塵要因となる。
本発明は、上記問題点を解消することを課題としてな
されたものである。
されたものである。
（課題を解決するための手段） すなわち、本発明は、底面に円板形のガス案内フラン
ジが形成され、中央にはガス噴出路をそして該ガス噴出
路の外表面側にガス吸引路を更に該ガス噴出路の外表面
側にガス流路を有する三重管構造の基材と、チャック対
象たるウエーハへの距離に応じてガス案内フランジの端
縁部において前記ガス流路内に通流するガス及びスプリ
ングの付勢力によって放射方向に進退移動せしめられ
る、ウエーハ裏面を支持するウエーハ保持爪とから構成
され、ガス案内フランジの内側寄り位置に、該フランジ
下に存するガスをガス吸引路へ導く連通孔を形成してな
るウエーハのハンドリング装置にある。
ジが形成され、中央にはガス噴出路をそして該ガス噴出
路の外表面側にガス吸引路を更に該ガス噴出路の外表面
側にガス流路を有する三重管構造の基材と、チャック対
象たるウエーハへの距離に応じてガス案内フランジの端
縁部において前記ガス流路内に通流するガス及びスプリ
ングの付勢力によって放射方向に進退移動せしめられ
る、ウエーハ裏面を支持するウエーハ保持爪とから構成
され、ガス案内フランジの内側寄り位置に、該フランジ
下に存するガスをガス吸引路へ導く連通孔を形成してな
るウエーハのハンドリング装置にある。
（作 用） 本発明に係るウエーハのハンドリング装置は、次の如
く使用する。
く使用する。
まず、チャッキング前にウエーハ保持爪を外方に後退
させておき、チャッキングしようとするウエーハの直上
から本発明の装置を降下させ、適当位置まで降下したな
らば、ガス噴出路からガスを噴出させてウエーハとガス
案内フランジとの間にガスを流し、同時に両者間に存す
るガスを連通孔からガス吸引路に吸入し、ウエーハをフ
ランジ部側に浮上させ、ウエーハが所定位置まで浮上し
たならばウエーハ保持爪を内側に進出させて上記ガスの
噴出及び吸引を停止する。この結果、ウエーハは自然落
下し、ウエーハ保持爪によって、ウエーハの裏面が受け
止められることになる。そして、上記操作中、噴出ガス
はダスト抜孔からガス吸引路に吸い出され、外部へは放
出されない。
させておき、チャッキングしようとするウエーハの直上
から本発明の装置を降下させ、適当位置まで降下したな
らば、ガス噴出路からガスを噴出させてウエーハとガス
案内フランジとの間にガスを流し、同時に両者間に存す
るガスを連通孔からガス吸引路に吸入し、ウエーハをフ
ランジ部側に浮上させ、ウエーハが所定位置まで浮上し
たならばウエーハ保持爪を内側に進出させて上記ガスの
噴出及び吸引を停止する。この結果、ウエーハは自然落
下し、ウエーハ保持爪によって、ウエーハの裏面が受け
止められることになる。そして、上記操作中、噴出ガス
はダスト抜孔からガス吸引路に吸い出され、外部へは放
出されない。
（実施例） 以下、本発明を、一実施例を示す図面に基いて説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る装置の縦断面図、第２図は同上
の平面図であって、これらの図に示すように、本発明の
装置は、概ねラッパ形状をした三重管構造の基材１と、
ウエーハ保持爪２とから構成される。
の平面図であって、これらの図に示すように、本発明の
装置は、概ねラッパ形状をした三重管構造の基材１と、
ウエーハ保持爪２とから構成される。
具体的に説明すると、基材１の中央にガス噴出路11が
形成され、該ガス噴出路11の外表面側にガス吸引路12が
形成され、上記ガス噴出路11の下端縁に、噴出されたガ
スＧをウエーハＷ表面に拡散案内するためのガス案内フ
ランジ13が形成されている。すなわち、ガス案内フラン
ジ13直下にウエーハが位置している場合に、ガス噴出路
11からガスＧが噴出されると、噴出されたガスＧはガス
案内フランジ13とウエーハＷとで形成される間隙に流出
拡散することになる。
形成され、該ガス噴出路11の外表面側にガス吸引路12が
形成され、上記ガス噴出路11の下端縁に、噴出されたガ
スＧをウエーハＷ表面に拡散案内するためのガス案内フ
ランジ13が形成されている。すなわち、ガス案内フラン
ジ13直下にウエーハが位置している場合に、ガス噴出路
11からガスＧが噴出されると、噴出されたガスＧはガス
案内フランジ13とウエーハＷとで形成される間隙に流出
拡散することになる。
14はガス案内フランジ13の内側寄り位置において、同
心円上に多数形成された連通孔であり、該連通孔14は、
前記ガス案内フランジ13とウエーハＷとの間に存するガ
スＧをガス吸引路12に吸い込む通路となされている。つ
まり、連通孔14にガスＧが吸い込まれる時に生ずる該部
の負圧によって、ウエーハＷが浮上せしめられる。15は
上記ガスＧの噴出・吸入を調整するバルブである。
心円上に多数形成された連通孔であり、該連通孔14は、
前記ガス案内フランジ13とウエーハＷとの間に存するガ
スＧをガス吸引路12に吸い込む通路となされている。つ
まり、連通孔14にガスＧが吸い込まれる時に生ずる該部
の負圧によって、ウエーハＷが浮上せしめられる。15は
上記ガスＧの噴出・吸入を調整するバルブである。
上記した構成は、本発明のベルヌーイ方式的な部分に
係る。そして、本願発明は更に機械的なチャッキング方
式に類似の構成部分を備えている。
係る。そして、本願発明は更に機械的なチャッキング方
式に類似の構成部分を備えている。
すなわち、上記ウエーハ保持爪２は、スプリング21に
よって内側に付勢された状態にて、上記基材１の外周端
縁に複数箇所取付けられており、更に上記ウエーハ保持
爪２は、側面視コ字状とされて、その下側張り出し部22
が、ガス案内フランジ13の少し下方で内側に向って突出
した形態に取付けられている。そして、上記下側張り出
し部22の上面には、ウエーハＷの裏面を点支承するため
の点支承部23が形成されている。そして上記ウエーハ保
持爪２の上側張り出し部24は、上述のスプリング21によ
って内側に引っ張られている。
よって内側に付勢された状態にて、上記基材１の外周端
縁に複数箇所取付けられており、更に上記ウエーハ保持
爪２は、側面視コ字状とされて、その下側張り出し部22
が、ガス案内フランジ13の少し下方で内側に向って突出
した形態に取付けられている。そして、上記下側張り出
し部22の上面には、ウエーハＷの裏面を点支承するため
の点支承部23が形成されている。そして上記ウエーハ保
持爪２の上側張り出し部24は、上述のスプリング21によ
って内側に引っ張られている。
25は、上記ウエーハ保持爪２の上側張り出し部24の延
長端に固着された圧縮板で、この圧縮板25は、今一つの
ガス流路26内に位置している。このガス流路26にガスが
送給されると、上記圧縮板25は外側に移動せしめられ、
これによりスプリング21を圧縮し、以てウエーハ保持爪
２は外側に後退させられる。また、ガス送給が停止する
と、スプリング21の弾性力によって、ウエーハ保持爪２
は内側に復帰する。
長端に固着された圧縮板で、この圧縮板25は、今一つの
ガス流路26内に位置している。このガス流路26にガスが
送給されると、上記圧縮板25は外側に移動せしめられ、
これによりスプリング21を圧縮し、以てウエーハ保持爪
２は外側に後退させられる。また、ガス送給が停止する
と、スプリング21の弾性力によって、ウエーハ保持爪２
は内側に復帰する。
27は上記スプリング21を収めている駆動部で、該駆動
部27とガス吸引路12とを区画する壁板には、駆動部27内
で生ずるダストを排出するためのダスト抜孔28が形成さ
れている。このダスト抜孔28によって、ダストは外部に
放出されずに済む。
部27とガス吸引路12とを区画する壁板には、駆動部27内
で生ずるダストを排出するためのダスト抜孔28が形成さ
れている。このダスト抜孔28によって、ダストは外部に
放出されずに済む。
29は圧縮ガス流路26に設けられたバルブである。３は
制御ボックス、４はガス案内フランジ13に設けたセンサ
であり、センサ４でウエーハＷまでの距離を検知し、制
御ボックス３で上記バルブ15,29の開閉を自動制御する
構成とされている。
制御ボックス、４はガス案内フランジ13に設けたセンサ
であり、センサ４でウエーハＷまでの距離を検知し、制
御ボックス３で上記バルブ15,29の開閉を自動制御する
構成とされている。
次に、本発明の装置を用いてウエーハをローディング
する場合について説明する。
する場合について説明する。
前記ガス案内フランジ13がウエーハＷの直上に来る前
に、バルブ29を開いて圧縮板25を押圧してスプリング21
を縮めつつ、ウエーハ保持爪２を外側に後退せしめ、基
材１のガス案内フランジ13をウエーハＷの直上から降下
させる。この降下時にセンサ４がウエーハＷまでの距離
を検知し、適位距離に到ったならば制御ボックス３から
の信号によりバルブ15が開き、ガス噴出路11からガスＧ
が噴出され、同時にガス吸引路12にガスＧが吸い込まれ
ることになり、ウエーハＷが浮上する。かくしてウエー
ハＷが浮上したことをセンサ４が検知したならば、再び
制御ボックス３の作動でバルブ29が閉じ、ウエーハ保持
爪２がスプリング21によって引っ張られて内側に移動
し、更にバルブ15が閉じてガスＧの噴出・吸引が停止さ
れ、ウエーハＷがウエーハ保持爪２の下側張り出し部22
上に自重により落下し、ウエーハＷの裏面が点支承部23
によって支えられる。この状態でウエーハＷは搬送され
る。勿論アンローディングの時は、上記操作が逆に行な
われる。
に、バルブ29を開いて圧縮板25を押圧してスプリング21
を縮めつつ、ウエーハ保持爪２を外側に後退せしめ、基
材１のガス案内フランジ13をウエーハＷの直上から降下
させる。この降下時にセンサ４がウエーハＷまでの距離
を検知し、適位距離に到ったならば制御ボックス３から
の信号によりバルブ15が開き、ガス噴出路11からガスＧ
が噴出され、同時にガス吸引路12にガスＧが吸い込まれ
ることになり、ウエーハＷが浮上する。かくしてウエー
ハＷが浮上したことをセンサ４が検知したならば、再び
制御ボックス３の作動でバルブ29が閉じ、ウエーハ保持
爪２がスプリング21によって引っ張られて内側に移動
し、更にバルブ15が閉じてガスＧの噴出・吸引が停止さ
れ、ウエーハＷがウエーハ保持爪２の下側張り出し部22
上に自重により落下し、ウエーハＷの裏面が点支承部23
によって支えられる。この状態でウエーハＷは搬送され
る。勿論アンローディングの時は、上記操作が逆に行な
われる。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明は、底面に円板形のガス
案内フランジが形成され、中央にガス噴出路をそして該
ガス噴出路の外表面側にガス吸引路を更に該ガス噴出路
の外表面側にガス流路を有する三重管構造の基材と、チ
ャック対象たるウエーハへの距離に応じてガス案内フラ
ンジの端縁部において前記ガス流路内を通流するガス及
びスプリングの付勢力によって放射方向に自動的に進退
移動せしめられる、ウエーハ裏面を支持するウエーハ保
持爪とからなり、ガス案内フランジの内側寄り位置に、
該フランジ下に存するガスをガス吸引路へ導く連通孔を
形成したものであり、使用されるガスが装置外に逸脱し
ないためダストを撒き散らすことがなく、従って、他の
ウエーハを汚すという事態が避けられ、クリーン度の低
い（例えばクリーンクラス1000程度の）環境でも十分使
用できる。更に、ウエーハの搬送中はガスを使用しない
ためランニングコストを低減できる利点があり、また、
OF合せの必要がなく、水平方向のウエーハ位置検出装置
が不要である等多大の長所を有する。
案内フランジが形成され、中央にガス噴出路をそして該
ガス噴出路の外表面側にガス吸引路を更に該ガス噴出路
の外表面側にガス流路を有する三重管構造の基材と、チ
ャック対象たるウエーハへの距離に応じてガス案内フラ
ンジの端縁部において前記ガス流路内を通流するガス及
びスプリングの付勢力によって放射方向に自動的に進退
移動せしめられる、ウエーハ裏面を支持するウエーハ保
持爪とからなり、ガス案内フランジの内側寄り位置に、
該フランジ下に存するガスをガス吸引路へ導く連通孔を
形成したものであり、使用されるガスが装置外に逸脱し
ないためダストを撒き散らすことがなく、従って、他の
ウエーハを汚すという事態が避けられ、クリーン度の低
い（例えばクリーンクラス1000程度の）環境でも十分使
用できる。更に、ウエーハの搬送中はガスを使用しない
ためランニングコストを低減できる利点があり、また、
OF合せの必要がなく、水平方向のウエーハ位置検出装置
が不要である等多大の長所を有する。
第１図は本発明に係る装置の一実施例を示す縦断面図、
第２図は同上の平面図、第３図はベルヌーイ方式の従来
例図である。 １……基材、２……ウエーハ保持爪、11……ガス噴出
路、12……ガス吸引路、13……ガス案内フランジ、Ｗ…
…ウエーハ、Ｇ……ガス
第２図は同上の平面図、第３図はベルヌーイ方式の従来
例図である。 １……基材、２……ウエーハ保持爪、11……ガス噴出
路、12……ガス吸引路、13……ガス案内フランジ、Ｗ…
…ウエーハ、Ｇ……ガス
Claims (1)
- 【請求項１】底面に円板形のガス案内フランジが形成さ
れ、中央にはガス噴出路をそして該ガス噴出路の外表面
側にガス吸引路を更に該ガス噴出路の外表面側にガス流
路を有する三重管構造の基材と、チャック対象たるウエ
ーハへの距離に応じてガス案内フランジの端縁部におい
て前記ガス流路内を通流するガス及びスプリングの付勢
力によって放射方向に進退移動せしめられる、ウエーハ
裏面を支持するウエーハ保持爪とからなり、 ガス案内フランジの内側寄り位置に、該フランジ下に存
するガスを前記ガス吸引路へ導く連通孔を形成したこと
を特徴とするウエーハのハンドリング装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311338A JP2747518B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | ウエーハのハンドリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311338A JP2747518B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | ウエーハのハンドリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02156651A JPH02156651A (ja) | 1990-06-15 |
| JP2747518B2 true JP2747518B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=18015944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63311338A Expired - Fee Related JP2747518B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | ウエーハのハンドリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2747518B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108116971A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-05 | 河南巨人起重机集团有限公司重庆高新分公司 | 起重机专用行车 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19755694C2 (de) * | 1997-12-16 | 2000-05-31 | Sez Semiconduct Equip Zubehoer | Handhabungsvorrichtung für dünne, scheibenförmige Gegenstände |
| JP2009028863A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Ihi Corp | 非接触搬送装置 |
| KR101306228B1 (ko) * | 2010-05-18 | 2013-09-06 | 주식회사 선반도체 | 에피층 성장에 사용되는 웨이퍼 핸들러 |
| KR101306229B1 (ko) * | 2012-08-10 | 2013-09-06 | 주식회사 선반도체 | 에피층 성장에 사용되는 웨이퍼 핸들러 |
| KR101306227B1 (ko) * | 2012-08-10 | 2013-09-17 | 주식회사 선반도체 | 에피층 성장에 사용되는 웨이퍼 핸들러 |
| CN104803270B (zh) * | 2015-03-31 | 2017-03-15 | 武汉桑普瑞奇科技有限公司 | 气旋致异形物件吸附装置 |
| CN108190717B (zh) * | 2017-12-29 | 2019-10-29 | 宁波瑞曼特新材料有限公司 | 一种真空吸盘及真空吸附结构 |
| CN115583559B (zh) * | 2022-09-13 | 2024-01-30 | 无锡力支真空吸盘吊具有限公司 | 一种挖掘机水下吸吊作业用真空吸盘水渠板铺设*** |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58141536A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体ウエハ−の吸着ヘツド |
| JPS6281725A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-15 | Nec Corp | 半導体ウエハ−チヤツク治具 |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP63311338A patent/JP2747518B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108116971A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-05 | 河南巨人起重机集团有限公司重庆高新分公司 | 起重机专用行车 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02156651A (ja) | 1990-06-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |