JP2740814B2 - 光磁記録媒体 - Google Patents
光磁記録媒体Info
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- JP2740814B2 JP2740814B2 JP63247031A JP24703188A JP2740814B2 JP 2740814 B2 JP2740814 B2 JP 2740814B2 JP 63247031 A JP63247031 A JP 63247031A JP 24703188 A JP24703188 A JP 24703188A JP 2740814 B2 JP2740814 B2 JP 2740814B2
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- recording
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、書き換えが可能な光磁気記録媒体に関し、
特に水分による機械的な変形や腐食劣化を効果的に防止
する光磁気記録媒体に関するものである。
特に水分による機械的な変形や腐食劣化を効果的に防止
する光磁気記録媒体に関するものである。
〔従来の技術〕 近年、書き換え可能な光記録媒体として、磁気光学効
果を利用した光磁気記録媒体が精力的に研究開発され、
一部では実用化されるに至っている。この光磁気記録媒
体は大容量高密度記録、非接触記録再生、アクセスの容
易さ等の利点に加え、重ね書き（オーバーライト）が可
能という点で文書情報ファイル、ビデオ・静止画ファイ
ル、コンピューター用メモリ等への利用が期待されてい
る。
果を利用した光磁気記録媒体が精力的に研究開発され、
一部では実用化されるに至っている。この光磁気記録媒
体は大容量高密度記録、非接触記録再生、アクセスの容
易さ等の利点に加え、重ね書き（オーバーライト）が可
能という点で文書情報ファイル、ビデオ・静止画ファイ
ル、コンピューター用メモリ等への利用が期待されてい
る。
上記光磁気記録媒体は、垂直磁化膜すなわち膜面と垂
直な方向に磁化容易軸を有する磁性膜を記録層とし、レ
ーザービームを照射するとともに磁界を印加することに
より情報の記録、再生及び消去を行うようになってい
る。そして記録層には、非晶質構造の重希土類／軽希土
類金属と遷移金属との合金、例えば、Tb-Fe-Co、Gd-Tb-
Fe-Co、Dy-Fe-Co、Dy-Tb-Fe-Co、Gd-Dy-Fe-Co等の材料
の使用が提案されている。これらの材料は酸化による腐
食を受けやすく経時とともに記録層の保磁力や垂直磁気
異方性等の磁気特性が劣化するという欠点がある。この
ため、記録媒体の構成としては記録層をサンドイッチ状
に保護膜でカバーする三層構造が採用されている場合が
多い。
直な方向に磁化容易軸を有する磁性膜を記録層とし、レ
ーザービームを照射するとともに磁界を印加することに
より情報の記録、再生及び消去を行うようになってい
る。そして記録層には、非晶質構造の重希土類／軽希土
類金属と遷移金属との合金、例えば、Tb-Fe-Co、Gd-Tb-
Fe-Co、Dy-Fe-Co、Dy-Tb-Fe-Co、Gd-Dy-Fe-Co等の材料
の使用が提案されている。これらの材料は酸化による腐
食を受けやすく経時とともに記録層の保磁力や垂直磁気
異方性等の磁気特性が劣化するという欠点がある。この
ため、記録媒体の構成としては記録層をサンドイッチ状
に保護膜でカバーする三層構造が採用されている場合が
多い。
一方、光磁気記録媒体用基板としてはプリグルーブ付
のガラス基板やポリカーボネート（PC）基板等が使用さ
れ、特にポリカーボネート基板は安価であるために実用
上有利である。
のガラス基板やポリカーボネート（PC）基板等が使用さ
れ、特にポリカーボネート基板は安価であるために実用
上有利である。
ところが、このポリカーボネート基板は透湿性や酸素
透過性が高く、使用時の温湿度により反りや変形が生じ
やすい。特に湿度の影響が大きく、乾燥状態から多湿状
態へ外気が変化したりすると、反りの発生頻度が高くな
る。さらには、酸素の透過により、記録層に対しても保
護膜のピンホールを介してダメージを与える。
透過性が高く、使用時の温湿度により反りや変形が生じ
やすい。特に湿度の影響が大きく、乾燥状態から多湿状
態へ外気が変化したりすると、反りの発生頻度が高くな
る。さらには、酸素の透過により、記録層に対しても保
護膜のピンホールを介してダメージを与える。
以上の機械的な変形や腐食劣化は、記録層をサンドイ
ッチ状に保護層でカバーする構成にしても十分であると
はいえない。
ッチ状に保護層でカバーする構成にしても十分であると
はいえない。
これに対し、特開昭63-20745号公報には、外界と接し
ている樹脂基板部を撥水性樹脂や低透湿性樹脂でカバー
することにより、C/N、ビットエラーレートの経時的変
化を少なくする技術が開示されている。
ている樹脂基板部を撥水性樹脂や低透湿性樹脂でカバー
することにより、C/N、ビットエラーレートの経時的変
化を少なくする技術が開示されている。
しかしながら、上記公報に開示された技術でカバー層
として使用されている材料は有機質のものであり、撥水
性あるいは低透湿といってもその保護効果は十分である
とはいえず、さらに保護効果を向上させることが望まれ
ていた。
として使用されている材料は有機質のものであり、撥水
性あるいは低透湿といってもその保護効果は十分である
とはいえず、さらに保護効果を向上させることが望まれ
ていた。
本発明はこのような従来技術の問題点を解消し、温湿
度が大きく変化した環境でも反りや変形を防止でき、し
かも再生特性が長期に渡って安定に維持される光磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
度が大きく変化した環境でも反りや変形を防止でき、し
かも再生特性が長期に渡って安定に維持される光磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明によれば、透光性樹
脂基板と、該基板上に形成される非晶質磁性合金膜から
なる記録層と、該記録層の両面を被覆する保護膜を具備
して構成される光磁気記録媒体において、当該記録媒体
の記録面と反対側の基板面及び当該記録媒体の内外周端
部に、無機材料の酸化物と窒化物の複合体からなるカバ
ー層を設けたことを特徴とする光磁気記録媒体が提供さ
れる。
脂基板と、該基板上に形成される非晶質磁性合金膜から
なる記録層と、該記録層の両面を被覆する保護膜を具備
して構成される光磁気記録媒体において、当該記録媒体
の記録面と反対側の基板面及び当該記録媒体の内外周端
部に、無機材料の酸化物と窒化物の複合体からなるカバ
ー層を設けたことを特徴とする光磁気記録媒体が提供さ
れる。
次に、本発明を図面を参照して詳述する。
第１図は本発明による光磁気記録媒体の構成例を示す
断面図である。この光磁気記録媒体は透光性樹脂基板１
上に、第１の保護層（アンダーコート）２、光磁気記録
層３及び第２の保護層（トップコート）４が順次積層さ
れ、さらに当該媒体の記録面とは反対側の面と、当該媒
体の内周側及び外周側の端部（内外周側面部）にカバー
層５が形成されている。
断面図である。この光磁気記録媒体は透光性樹脂基板１
上に、第１の保護層（アンダーコート）２、光磁気記録
層３及び第２の保護層（トップコート）４が順次積層さ
れ、さらに当該媒体の記録面とは反対側の面と、当該媒
体の内周側及び外周側の端部（内外周側面部）にカバー
層５が形成されている。
透光性樹脂基板１には、ポリカーボネート（PC）、ポ
リメチルメタクリレート（PMMA）、エポキシ等の樹脂が
使用される。
リメチルメタクリレート（PMMA）、エポキシ等の樹脂が
使用される。
光磁気記録層３には、Tb、Gd、Dy、Nd等の希土類金属
を少なくとも１種以上と、遷移金属Fe、Coの少なくとも
１種以上とを組合わせた非晶質の磁性合金が使用され
る。このような合金としては例えばTbFeCo、GdTbFeCo、
NdDyFeCo、TbDyFeCo等が例示される。この光磁気記録層
３はスパッタ法、蒸着法等により400〜1000Åの膜厚に
形成される。
を少なくとも１種以上と、遷移金属Fe、Coの少なくとも
１種以上とを組合わせた非晶質の磁性合金が使用され
る。このような合金としては例えばTbFeCo、GdTbFeCo、
NdDyFeCo、TbDyFeCo等が例示される。この光磁気記録層
３はスパッタ法、蒸着法等により400〜1000Åの膜厚に
形成される。
第１及び第２の保護層2,4はSiN、SiAlON等を使用し、
蒸着法やスパッタ法により400〜1000Åの膜厚に形成さ
れる。なお、第１の保護層２はエンハンスメント膜を兼
ねるため、多重反射によってみかけの磁気光学効果がな
るべく大きくなるようにその屈折率に応じた膜厚に設定
する。また、第１の保護層２と第２の保護層４とは同一
の材料で形成してもよいし、各々の機能を考慮し異なっ
た材料で形成してもよい。
蒸着法やスパッタ法により400〜1000Åの膜厚に形成さ
れる。なお、第１の保護層２はエンハンスメント膜を兼
ねるため、多重反射によってみかけの磁気光学効果がな
るべく大きくなるようにその屈折率に応じた膜厚に設定
する。また、第１の保護層２と第２の保護層４とは同一
の材料で形成してもよいし、各々の機能を考慮し異なっ
た材料で形成してもよい。
カバー層５は無機材料の酸化物と窒化物との複合体を
用いて、蒸着法、スパッタ法により100〜3000Åの膜厚
に形成される。カバー層５の形成に使用される具体的な
材料としては、SiAlON等が挙げられる。このカバー層５
は、記録媒体の透湿性や酸素透過性を改善し、温湿度が
大きく変化した環境でも反りや変形を十分防止し、しか
も記録媒体の再生特性を長期に渡って安定に維持可能と
する。
用いて、蒸着法、スパッタ法により100〜3000Åの膜厚
に形成される。カバー層５の形成に使用される具体的な
材料としては、SiAlON等が挙げられる。このカバー層５
は、記録媒体の透湿性や酸素透過性を改善し、温湿度が
大きく変化した環境でも反りや変形を十分防止し、しか
も記録媒体の再生特性を長期に渡って安定に維持可能と
する。
以下に実施例をあげて本発明をさらに説明するが、本
発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
（実施例１） ポリカーボネート基板（直径約130mm、厚さ1.2mm）を
スパッタ装置にセットし、該基板上に、スパッタリング
でSiN保護膜（アンダーコート）を800Åの厚さに成膜
し、その上にTb12Dy12Fe68Co8光磁気記録層を800Åの厚
さに成膜し、さらにSiAlON保護膜（トップコート）を80
0Åの厚さに成膜した。このようにして得たディスクの
記録面と反対側にカバー層が形成できるように、該ディ
スクをスパッタ装置にセットした。そしてスパッタ装置
のチャンバー内の真空度が１×10-7torrに達するまで真
空排気し、ポリカーボネート基板の水分や吸蔵している
空気を脱水、脱気した。次いで、Ar＋Ｏ2の混合ガスをA
r:O2＝5:1の比でチャンバー内が３×10-3torrになるよ
うに導入した。その後、SiAlONターゲットにDC電圧を印
加し、約1KWのパワーで放電させ、1000Åの膜厚となる
まで放電を持続し、カバー層を形成させて、単板構成の
記録媒体を得た。
スパッタ装置にセットし、該基板上に、スパッタリング
でSiN保護膜（アンダーコート）を800Åの厚さに成膜
し、その上にTb12Dy12Fe68Co8光磁気記録層を800Åの厚
さに成膜し、さらにSiAlON保護膜（トップコート）を80
0Åの厚さに成膜した。このようにして得たディスクの
記録面と反対側にカバー層が形成できるように、該ディ
スクをスパッタ装置にセットした。そしてスパッタ装置
のチャンバー内の真空度が１×10-7torrに達するまで真
空排気し、ポリカーボネート基板の水分や吸蔵している
空気を脱水、脱気した。次いで、Ar＋Ｏ2の混合ガスをA
r:O2＝5:1の比でチャンバー内が３×10-3torrになるよ
うに導入した。その後、SiAlONターゲットにDC電圧を印
加し、約1KWのパワーで放電させ、1000Åの膜厚となる
まで放電を持続し、カバー層を形成させて、単板構成の
記録媒体を得た。
一方、カバー層が形成されていないこと以外は上記と
同様にして比較例の記録媒体を得た。
同様にして比較例の記録媒体を得た。
以上のようにして作製した実施例１及び比較例の記録
媒体（単板ディスク）について、まず、反り量を測定し
た。その結果を第２図に示す。カバー層無しの比較例の
記録媒体では100μｍ以上の反りがあり、大きいもので
はこの反りは600μｍにも達していた。ところが、実施
例１の記録媒体によれば、カバー層を設けたため反りは
10μｍ程度に小さくなっていた。これは、カバー層の形
成により、基板の両側で応力のバランスがとれたためと
考えられる。
媒体（単板ディスク）について、まず、反り量を測定し
た。その結果を第２図に示す。カバー層無しの比較例の
記録媒体では100μｍ以上の反りがあり、大きいもので
はこの反りは600μｍにも達していた。ところが、実施
例１の記録媒体によれば、カバー層を設けたため反りは
10μｍ程度に小さくなっていた。これは、カバー層の形
成により、基板の両側で応力のバランスがとれたためと
考えられる。
次に、両記録媒体について、70℃、20％RHの乾燥状態
から70℃、80％RHの高湿下へ連続変化させたときの反り
量及び表面状態を調べた。その結果、反り量は比較例の
記録媒体では２倍程度増加し、実施例１の記録媒体では
変化しなかった。また、比較例の記録媒体の場合には反
り量が大きいためにクラックの発生が認められなかっ
た。
から70℃、80％RHの高湿下へ連続変化させたときの反り
量及び表面状態を調べた。その結果、反り量は比較例の
記録媒体では２倍程度増加し、実施例１の記録媒体では
変化しなかった。また、比較例の記録媒体の場合には反
り量が大きいためにクラックの発生が認められなかっ
た。
以上のように、媒体の反りに対して実施例１のカバー
層は十分な効果を示した。
層は十分な効果を示した。
さらに、両記録媒体について、80℃、85％RHの高温高
湿下での経時変化に対する効果を調べた。第３図に反り
量の経時変化を示す。比較例の記録媒体では、500時間
の経過で反り量がわずかに増加しその後少し減少する傾
向が認められるものの、やはり100μｍ程度の反り量が
あった。これに対し、実施例１の記録媒体では、反り量
は無変化であり、その大きさも10μｍ程度であった。
湿下での経時変化に対する効果を調べた。第３図に反り
量の経時変化を示す。比較例の記録媒体では、500時間
の経過で反り量がわずかに増加しその後少し減少する傾
向が認められるものの、やはり100μｍ程度の反り量が
あった。これに対し、実施例１の記録媒体では、反り量
は無変化であり、その大きさも10μｍ程度であった。
以上のように、実施例１では機械的特性の長期安定性
について大幅な向上が顕著に認められた。
について大幅な向上が顕著に認められた。
次いで、両記録媒体について、80℃、85％RHの高温高
湿下でのエラーレートの経時変化について調べた。その
結果を第４図に示す。なお、図中エラーレートは初期値
で正規化してある。実施例１の記録媒体では2000時間経
過後でも無変化であった。ところが、比較例の記録媒体
では、500時間経過後にエラーレートが10倍に劣化し、
しかもクラック発生等によりそれ以後測定ができない状
況となる位劣化していた。
湿下でのエラーレートの経時変化について調べた。その
結果を第４図に示す。なお、図中エラーレートは初期値
で正規化してある。実施例１の記録媒体では2000時間経
過後でも無変化であった。ところが、比較例の記録媒体
では、500時間経過後にエラーレートが10倍に劣化し、
しかもクラック発生等によりそれ以後測定ができない状
況となる位劣化していた。
以上のように、実施例１の記録媒体ではエラーレート
（再生特性）の長期安定性についても著しい改善が認め
られた。
（再生特性）の長期安定性についても著しい改善が認め
られた。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、記録面
と反対側の基板面と、記録媒体の内外周端部に、無機材
料の酸化物と窒化物の複合体からなるカバー層を設けた
ので、温湿度が大きく変化した環境でも記録媒体の反り
や変形を十分防止できるようになるとともに、再生特性
を長期に渡って安定に維持できるようになる。従って、
信頼性の高い、高品質の光磁気記録媒体の提供が可能と
なる。
と反対側の基板面と、記録媒体の内外周端部に、無機材
料の酸化物と窒化物の複合体からなるカバー層を設けた
ので、温湿度が大きく変化した環境でも記録媒体の反り
や変形を十分防止できるようになるとともに、再生特性
を長期に渡って安定に維持できるようになる。従って、
信頼性の高い、高品質の光磁気記録媒体の提供が可能と
なる。
第１図は本発明による光磁気記録媒体の構成例を示す断
面図、第２図は本発明の実施例と比較例の記録媒体にお
ける反り量の測定結果を示す図、第３図は本発明の実施
例と比較例の記録媒体における高温高湿下での反り量の
経時変化を示す図、第４図は本発明の実施例と比較例の
記録媒体における高温高湿下でのエラーレートの経時変
化を示す図である。 １……透光性樹脂基板 ２……第１の保護層（アンダーコート） ３……光磁気記録層 ４……第２の保護層（トップコート） ５……カバー層
面図、第２図は本発明の実施例と比較例の記録媒体にお
ける反り量の測定結果を示す図、第３図は本発明の実施
例と比較例の記録媒体における高温高湿下での反り量の
経時変化を示す図、第４図は本発明の実施例と比較例の
記録媒体における高温高湿下でのエラーレートの経時変
化を示す図である。 １……透光性樹脂基板 ２……第１の保護層（アンダーコート） ３……光磁気記録層 ４……第２の保護層（トップコート） ５……カバー層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−115037（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−197939（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−122037（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−20156（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−124244（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−139961（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−18729（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−217745（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−253549（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】透光性樹脂基板と、該基板上に形成される
非晶質磁性合金膜からなる記録層と、該記録層の両面を
被覆する保護膜を具備して構成される光磁気記録媒体に
おいて、 当該記録媒体の記録面と反対側の基板面及び当該記録媒
体の内外周端部に、無機材料の酸化物と窒化物の複合体
からなるカバー層を設けたことを特徴とする光磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247031A JP2740814B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光磁記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247031A JP2740814B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光磁記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0294146A JPH0294146A (ja) | 1990-04-04 |
| JP2740814B2 true JP2740814B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=17157379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63247031A Expired - Fee Related JP2740814B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光磁記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2740814B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60115037A (ja) * | 1983-11-26 | 1985-06-21 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPH0719401B2 (ja) * | 1984-12-12 | 1995-03-06 | ティーディーケイ株式会社 | 光磁気記録媒体 |
| JPS6220156A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-28 | Daicel Chem Ind Ltd | 光磁気デイスク |
| JP2504946B2 (ja) * | 1986-02-24 | 1996-06-05 | 沖電気工業株式会社 | 光磁気記録用媒体 |
| JPS63122037A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-26 | Fuji Electric Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS63124244A (ja) * | 1986-11-13 | 1988-05-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスコ |
| JPS63253549A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Hitachi Ltd | 光硬化型樹脂基板光磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH01217745A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-31 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH0218729A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-23 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63247031A patent/JP2740814B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0294146A (ja) | 1990-04-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |