JP2738806B2 - 精密ガラス凹版の作成方法 - Google Patents
精密ガラス凹版の作成方法Info
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- JP2738806B2 JP2738806B2 JP15662693A JP15662693A JP2738806B2 JP 2738806 B2 JP2738806 B2 JP 2738806B2 JP 15662693 A JP15662693 A JP 15662693A JP 15662693 A JP15662693 A JP 15662693A JP 2738806 B2 JP2738806 B2 JP 2738806B2
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- glass
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、タンポ印刷に代表され
るグラビアオフセット印刷において用いられるガラス凹
版を作成するための方法に関し、精密な電子回路や液晶
マスクあるいはカラーフィルターの印刷といった非常に
高い精度が必要とされる印刷に用いられるガラス凹版の
作成に利用することができる。
るグラビアオフセット印刷において用いられるガラス凹
版を作成するための方法に関し、精密な電子回路や液晶
マスクあるいはカラーフィルターの印刷といった非常に
高い精度が必要とされる印刷に用いられるガラス凹版の
作成に利用することができる。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラス凹版を作成するに際して
は、主に、フッ酸を用いてエッチングを行なっていた。
ところが、エッチャントとしてフッ酸を用いた場合には
エッチング速度がきわめて速く、例えば、ソーダライム
ガラスにパターン深さ１０μｍのエッチングを行なう場
合には、エッチング時間は約２〜３秒程度で充分であ
る。そのため、正確に所定の深さにエッチングを行なう
ことが困難であり、エッチング深さのばらつきが非常に
大きいという問題点があった。
は、主に、フッ酸を用いてエッチングを行なっていた。
ところが、エッチャントとしてフッ酸を用いた場合には
エッチング速度がきわめて速く、例えば、ソーダライム
ガラスにパターン深さ１０μｍのエッチングを行なう場
合には、エッチング時間は約２〜３秒程度で充分であ
る。そのため、正確に所定の深さにエッチングを行なう
ことが困難であり、エッチング深さのばらつきが非常に
大きいという問題点があった。
【０００３】上記問題点を解決するために開発されたバ
ッファードフッ酸（ＨＦ／ＮＨ3）はエッチング速度が
非常に遅く、所定深さにエッチングを行なうことが可能
である。しかし、バッファードフッ酸は、主に、サブミ
クロンオーダーのエッチング深さが必要とされるＬＳＩ
やＶＬＳＩ等の半導体のパターンニングに用いられるエ
ッチャントであり、これを用いて、グラビヤオフセット
印刷用の凹版に必要とされる３〜５０μｍといった深い
エッチングを行なうと、断面形状がフラットにならず、
Ｗ形や丸形になってしまう傾向にある。
ッファードフッ酸（ＨＦ／ＮＨ3）はエッチング速度が
非常に遅く、所定深さにエッチングを行なうことが可能
である。しかし、バッファードフッ酸は、主に、サブミ
クロンオーダーのエッチング深さが必要とされるＬＳＩ
やＶＬＳＩ等の半導体のパターンニングに用いられるエ
ッチャントであり、これを用いて、グラビヤオフセット
印刷用の凹版に必要とされる３〜５０μｍといった深い
エッチングを行なうと、断面形状がフラットにならず、
Ｗ形や丸形になってしまう傾向にある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】エッチング深さに大き
なばらつきがあったり、エッチング断面形状がＷ形や丸
形であったりすると、印刷時のインキ膜厚み、形状が不
均一になるので、高精度・高密度な印刷を行なうことが
困難である。
なばらつきがあったり、エッチング断面形状がＷ形や丸
形であったりすると、印刷時のインキ膜厚み、形状が不
均一になるので、高精度・高密度な印刷を行なうことが
困難である。
【０００５】そこで、本発明は、エッチング深さのばら
つきを極力少なくすることができ、しかも、エッチング
断面形状が非常にフラットになるようなガラス凹版作成
方法を提供しようとするものである。
つきを極力少なくすることができ、しかも、エッチング
断面形状が非常にフラットになるようなガラス凹版作成
方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラスをエッ
チングして凹版を作成する際に、エッチャントとして、
フッ酸と硝酸と氷酢酸との混合溶液を用いるものであ
る。
チングして凹版を作成する際に、エッチャントとして、
フッ酸と硝酸と氷酢酸との混合溶液を用いるものであ
る。
【０００７】また、本発明は、上記構成において、ガラ
スとしてソーダライムガラスまたはノンアルカリガラス
を用いるものである。
スとしてソーダライムガラスまたはノンアルカリガラス
を用いるものである。
【０００８】
【作用】従来のガラスエッチング経験より、エッチャン
トを変更することによりエッチング速度、エッチング断
面形状が大きく変わることが判っている。
トを変更することによりエッチング速度、エッチング断
面形状が大きく変わることが判っている。
【０００９】そこで、種々のエッチャントを用いて試験
を行なったところ、エッチング速度はフッ酸の濃度を薄
くすることで調整可能であることが判った。そして、各
種フッ酸混合溶液を用いて試験を進めると、フッ酸：硝
酸：氷酢酸の混合溶液がエッチング速度、断面形状とも
に非常にバランスのとれたエッチャントであることが判
明した。
を行なったところ、エッチング速度はフッ酸の濃度を薄
くすることで調整可能であることが判った。そして、各
種フッ酸混合溶液を用いて試験を進めると、フッ酸：硝
酸：氷酢酸の混合溶液がエッチング速度、断面形状とも
に非常にバランスのとれたエッチャントであることが判
明した。
【００１０】硝酸にはフッ酸の濃度を希釈する働きと、
フッ酸が溶かしたガラス表面を洗浄する働きとがあり、
これら働きにより、非常にフラットなエッチング断面形
状を得ることができる。また、エッチャントを繰り返し
用いてエッチングを行なうと、エッチャントの純度が低
下し、その結果、エッチング速度が遅くなり、エッチン
グ断面形状も劣化するといった問題が起こる。氷酢酸を
一部添加することで、そのようなエッチャントの経時変
化が非常に少なくなる。
フッ酸が溶かしたガラス表面を洗浄する働きとがあり、
これら働きにより、非常にフラットなエッチング断面形
状を得ることができる。また、エッチャントを繰り返し
用いてエッチングを行なうと、エッチャントの純度が低
下し、その結果、エッチング速度が遅くなり、エッチン
グ断面形状も劣化するといった問題が起こる。氷酢酸を
一部添加することで、そのようなエッチャントの経時変
化が非常に少なくなる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００１２】（実施例１）
【００１３】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：１
０：１０）の混合溶液中に１８０秒浸漬し、浸漬後すぐ
に純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッ
チング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザ
ーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：１
０：１０）の混合溶液中に１８０秒浸漬し、浸漬後すぐ
に純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッ
チング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザ
ーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
【００１４】（実施例２）
【００１５】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：５：
５）の混合溶液中に１００秒浸漬し、浸漬後すぐに純水
にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッチング
深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザーテッ
ク社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：５：
５）の混合溶液中に１００秒浸漬し、浸漬後すぐに純水
にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッチング
深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザーテッ
ク社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
【００１６】（実施例３）
【００１７】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：１
５：１５）の混合溶液中に２５０秒浸漬し、浸漬後すぐ
に純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッ
チング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザ
ーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：１
５：１５）の混合溶液中に２５０秒浸漬し、浸漬後すぐ
に純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッ
チング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザ
ーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
【００１８】（実施例４）
【００１９】ガラス基板としてノンアルカリガラス（コ
ーニング社 ＃７０５９）を用い、表面にクロム膜を蒸
着（膜厚さ１０００オングストロ−ム）したクロムブラ
ンクスをレーザーにて１００μｍ幅のストライプパター
ンを形成した。形成したこのハードマスクをフッ酸：硝
酸：氷酢酸（混合比率１：１０：１０）の混合溶液中に
３５０秒浸漬し、浸漬後すぐに純水にてリンス、ＩＲ乾
燥を行なった後に線幅とエッチング深さ、断面形状を走
査型レーザー顕微鏡（レーザーテック社製１ＬＭ２１
Ｗ）にて測定した。
ーニング社 ＃７０５９）を用い、表面にクロム膜を蒸
着（膜厚さ１０００オングストロ−ム）したクロムブラ
ンクスをレーザーにて１００μｍ幅のストライプパター
ンを形成した。形成したこのハードマスクをフッ酸：硝
酸：氷酢酸（混合比率１：１０：１０）の混合溶液中に
３５０秒浸漬し、浸漬後すぐに純水にてリンス、ＩＲ乾
燥を行なった後に線幅とエッチング深さ、断面形状を走
査型レーザー顕微鏡（レーザーテック社製１ＬＭ２１
Ｗ）にて測定した。
【００２０】（比較例１）
【００２１】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸溶液中に１．５秒浸漬し、浸漬後す
ぐに純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエ
ッチング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レー
ザーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸溶液中に１．５秒浸漬し、浸漬後す
ぐに純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエ
ッチング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レー
ザーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
【００２２】（比較例２）
【００２３】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硫酸（混合比率１：１０）の混合
溶液中に８５秒浸漬し、浸漬後すぐに純水にてリンス、
ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッチング深さ、断面形
状を走査型レーザー顕微鏡（レーザーテック社製１ＬＭ
２１Ｗ）にて測定した。
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硫酸（混合比率１：１０）の混合
溶液中に８５秒浸漬し、浸漬後すぐに純水にてリンス、
ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッチング深さ、断面形
状を走査型レーザー顕微鏡（レーザーテック社製１ＬＭ
２１Ｗ）にて測定した。
【００２４】（比較例３）
【００２５】ガラス基板としてノンアルカリガラス（コ
ーニング社 ＃７０５９）を用い、表面にクロム膜を蒸
着（膜厚さ１０００オングストロ−ム）したクロムブラ
ンクスをレーザーにて１００μｍ幅のストライプパター
ンを形成した。形成したこのハードマスクをフッ酸：硫
酸（混合比率１：１０）の混合溶液中に１５０秒浸漬
し、浸漬後すぐに純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった
後に線幅とエッチング深さ、断面形状を走査型レーザー
顕微鏡（レーザーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定し
た。
ーニング社 ＃７０５９）を用い、表面にクロム膜を蒸
着（膜厚さ１０００オングストロ−ム）したクロムブラ
ンクスをレーザーにて１００μｍ幅のストライプパター
ンを形成した。形成したこのハードマスクをフッ酸：硫
酸（混合比率１：１０）の混合溶液中に１５０秒浸漬
し、浸漬後すぐに純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった
後に線幅とエッチング深さ、断面形状を走査型レーザー
顕微鏡（レーザーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定し
た。
【００２６】（比較例４）
【００２７】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：１：
１）の混合溶液中に３０秒浸漬し、浸漬後すぐに純水に
てリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッチング深
さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザーテック
社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：１：
１）の混合溶液中に３０秒浸漬し、浸漬後すぐに純水に
てリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッチング深
さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザーテック
社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
【００２８】（比較例５）
【００２９】ガラス基板としてソーダライムガラスを用
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：２
０：２０）の混合溶液中に４００秒浸漬し、浸漬後すぐ
に純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッ
チング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザ
ーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
い、表面にクロム膜を蒸着（膜厚さ１０００オングスト
ロ−ム）したクロムブランクスをレーザーにて１００μ
ｍ幅のストライプパターンを形成した。形成したこのハ
ードマスクをフッ酸：硝酸：氷酢酸（混合比率１：２
０：２０）の混合溶液中に４００秒浸漬し、浸漬後すぐ
に純水にてリンス、ＩＲ乾燥を行なった後に線幅とエッ
チング深さ、断面形状を走査型レーザー顕微鏡（レーザ
ーテック社製１ＬＭ２１Ｗ）にて測定した。
【００３０】以上の実施例１〜４、比較例１〜５におけ
るエッチング深さ（平均値、標準偏差）、断面形状の測
定結果を図１にまとめて示す。実施例１〜４は、比較例
１〜５に比べ、エッチング深さのばらつきが極めて少な
く、また、エッチング断面形状もフラットであり、非常
に良好な結果を示した。
るエッチング深さ（平均値、標準偏差）、断面形状の測
定結果を図１にまとめて示す。実施例１〜４は、比較例
１〜５に比べ、エッチング深さのばらつきが極めて少な
く、また、エッチング断面形状もフラットであり、非常
に良好な結果を示した。
【００３１】フッ酸：硝酸：氷酢酸の混合比率について
は、目的とするエッチング深さによって異なるが、実施
例１〜４から明らかなように、グラビヤオフセット印刷
で用いられる凹版の深さとして必要とされる３〜５０μ
ｍの範囲においては、フッ酸：硝酸：氷酢酸の混合比率
を１：５〜１５：５〜１５の範囲とすることにより、良
好なエッチングを得ることができる。さらに深いエッチ
ング深さを必要とする場合には混合比率を１：５〜７：
５〜７とし、フッ酸の濃度をやや高くすることにより、
浅いエッチング深さを必要とする場合には、混合比率を
１：１０〜１５：１０〜１５とし、フッ酸の濃度をやや
低くすることにより、エッチング速度、断面形状ともに
バランスのとれたエッチングを行なうことができる。
は、目的とするエッチング深さによって異なるが、実施
例１〜４から明らかなように、グラビヤオフセット印刷
で用いられる凹版の深さとして必要とされる３〜５０μ
ｍの範囲においては、フッ酸：硝酸：氷酢酸の混合比率
を１：５〜１５：５〜１５の範囲とすることにより、良
好なエッチングを得ることができる。さらに深いエッチ
ング深さを必要とする場合には混合比率を１：５〜７：
５〜７とし、フッ酸の濃度をやや高くすることにより、
浅いエッチング深さを必要とする場合には、混合比率を
１：１０〜１５：１０〜１５とし、フッ酸の濃度をやや
低くすることにより、エッチング速度、断面形状ともに
バランスのとれたエッチングを行なうことができる。
【００３２】また、エッチング深さの微調整のために、
フッ酸：硝酸：氷酢酸の混合溶液でエッチングした後、
さらに、エッチング速度の遅いバッファードフッ酸等に
てエッチングする２段階エッチングとすることも可能で
ある。エッチング量が少ない範囲では、バッファードフ
ッ酸でも非常にフラットなエッチング断面形状を得るこ
とができる。
フッ酸：硝酸：氷酢酸の混合溶液でエッチングした後、
さらに、エッチング速度の遅いバッファードフッ酸等に
てエッチングする２段階エッチングとすることも可能で
ある。エッチング量が少ない範囲では、バッファードフ
ッ酸でも非常にフラットなエッチング断面形状を得るこ
とができる。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、フッ酸と硝酸と氷
酢酸との混合溶液をエッチャントとして用いることによ
り、エッチング深さのばらつきが少なく、断面形状もフ
ラットなガラス凹版を作成することが可能となる。この
ような効果は、ガラスとしてソーダライムガラスまたは
ノンアルカリガラスを用いた場合に最も顕著に発揮され
る。
酢酸との混合溶液をエッチャントとして用いることによ
り、エッチング深さのばらつきが少なく、断面形状もフ
ラットなガラス凹版を作成することが可能となる。この
ような効果は、ガラスとしてソーダライムガラスまたは
ノンアルカリガラスを用いた場合に最も顕著に発揮され
る。
【００３４】本発明は非常に精密なパターンのエッチン
グに適しており、高密度プリント基板の印刷やレジスト
印刷、液晶カラーフィルターの印刷等に用いられる精密
ガラス凹版の作成方法として、その工業的利用価値は極
めて高い。
グに適しており、高密度プリント基板の印刷やレジスト
印刷、液晶カラーフィルターの印刷等に用いられる精密
ガラス凹版の作成方法として、その工業的利用価値は極
めて高い。
【図１】本発明の実施例におけるエッチング深さ、断面
形状の測定結果と、比較例におけるエッチング深さ、断
面形状の測定結果を示す図である。
形状の測定結果と、比較例におけるエッチング深さ、断
面形状の測定結果を示す図である。
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラスをエッチングして凹版を作成する
際に、エッチャントとして、フッ酸と硝酸と氷酢酸との
混合溶液を用いることを特徴とする精密ガラス凹版の作
成方法。 - 【請求項２】 ガラスとしてソーダライムガラスまたは
ノンアルカリガラスを用いることを特徴とする請求項１
の精密ガラス凹版の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15662693A JP2738806B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 精密ガラス凹版の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15662693A JP2738806B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 精密ガラス凹版の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH079652A JPH079652A (ja) | 1995-01-13 |
| JP2738806B2 true JP2738806B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=15631816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15662693A Expired - Fee Related JP2738806B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 精密ガラス凹版の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2738806B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4729763B2 (ja) * | 2005-04-14 | 2011-07-20 | テクノクオーツ株式会社 | 基板のエッチング方法 |
| JPWO2012036231A1 (ja) * | 2010-09-15 | 2014-02-03 | 国際先端技術総合研究所株式会社 | 光触媒能を有するガラス |
| CN104445973A (zh) * | 2014-11-28 | 2015-03-25 | 张家港市德力特新材料有限公司 | 一种用于电子设备屏幕上的玻璃的制备方法 |
-
1993
- 1993-06-28 JP JP15662693A patent/JP2738806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH079652A (ja) | 1995-01-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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