JP2738036B2 - 基板用ガラス組成物 - Google Patents
基板用ガラス組成物Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はガラス組成物に関し、特にプラズマディスプ
レー,液晶表示管等のディスプレー用基板および厚膜回
路形成用基板に用いるガラス基板組成物に関する。
レー,液晶表示管等のディスプレー用基板および厚膜回
路形成用基板に用いるガラス基板組成物に関する。
[従来の技術] 例えば、PDP用ガラス基板などは、一般建築用ガラス
(軟化点;730〜740℃)が用いられる。この基板にAl又
はNi電極;絶縁ペースト等を500〜600℃の温度で焼き付
け回路が形成される。さらに後工程にて同温度域でフリ
ットシールすることによりディスプレーバルブが造られ
ている。この工程内でガラス基板に要求されるスペック
に精度および歩留りの点で500〜600℃で熱変形しないこ
と並びに絶縁ペーストあるいはシーリングフリットの熱
膨張係数と基板のそれが整合して反りが発生しないこと
等の要求スペックがある。この熱膨張係数としては75〜
90×10-7/℃程度のものが用いられる。
(軟化点;730〜740℃)が用いられる。この基板にAl又
はNi電極;絶縁ペースト等を500〜600℃の温度で焼き付
け回路が形成される。さらに後工程にて同温度域でフリ
ットシールすることによりディスプレーバルブが造られ
ている。この工程内でガラス基板に要求されるスペック
に精度および歩留りの点で500〜600℃で熱変形しないこ
と並びに絶縁ペーストあるいはシーリングフリットの熱
膨張係数と基板のそれが整合して反りが発生しないこと
等の要求スペックがある。この熱膨張係数としては75〜
90×10-7/℃程度のものが用いられる。
ここで従来用いられている一般建築用ソーダライムガ
ラスでは、例えば570〜600℃の温度で熱処理すると熱変
形が大きいため基板厚みを2〜3mmとしなければならな
い。しかるに一方ディスプレーの軽量化の要求もあり、
薄板化する必要がある。これらの要求に対し、基本的に
高耐熱ガラスが必要となる。
ラスでは、例えば570〜600℃の温度で熱処理すると熱変
形が大きいため基板厚みを2〜3mmとしなければならな
い。しかるに一方ディスプレーの軽量化の要求もあり、
薄板化する必要がある。これらの要求に対し、基本的に
高耐熱ガラスが必要となる。
[発明の解決しようとする課題] 本発明は従来のソーダライムガラスが有していた上記
課題を解消し、前記したような熱変形が小さい、いわゆ
る高耐熱性ガラス基板用組成物であり、且つ、絶縁ペー
ストおよびシーグフリットとの熱膨張係数が整合してい
る組成物の提供を目的とする。
課題を解消し、前記したような熱変形が小さい、いわゆ
る高耐熱性ガラス基板用組成物であり、且つ、絶縁ペー
ストおよびシーグフリットとの熱膨張係数が整合してい
る組成物の提供を目的とする。
さらに従前のソーダライムガラスに比しアルカリ成分
を低減することにより、アルカリマイグレーションの抑
制,化学的耐久性の機能が向上するガラス基板用組成物
の提供を目的とする。
を低減することにより、アルカリマイグレーションの抑
制,化学的耐久性の機能が向上するガラス基板用組成物
の提供を目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明は重量%で実質的に SiO2 55〜65 % Al2O3 5〜15 % CaO 3〜12 % MgO+CaO+SrO+BaO 17〜25 % Li2O+Na2O+K2O 6〜12 % ZrO2 0.5〜 6 % SO3+As2O3+Sb2O3 0〜 0.5% SnO2+TiO2 0〜 3 % La2O3 0〜 5 % からなり、50〜350℃の熱膨張係数が75×10-7/℃〜90×
10-7/℃である基板用ガラス組成物である。
10-7/℃である基板用ガラス組成物である。
本発明による組成物の限定理由は以下のとおりであ
る。
る。
SiO2; ガラスのネットワークフォーマーである。SiO2が55%
未満ではガラスの軟化点が低すぎ、高耐熱化が望めな
い。65%より多いとガラスの熱膨張が小さくなりすぎ、
反り等の歪を生じ好ましくない。望ましくは57〜63%で
ある。
未満ではガラスの軟化点が低すぎ、高耐熱化が望めな
い。65%より多いとガラスの熱膨張が小さくなりすぎ、
反り等の歪を生じ好ましくない。望ましくは57〜63%で
ある。
Al2O3; 高耐熱化および耐薬品性を付与するために必須であ
り、5%より少ないと耐薬品性が悪くなる。15%より多
いと高軟化点化は実現できるが熱膨張が小さくなり好ま
しくない。望ましくは6〜13%である。
り、5%より少ないと耐薬品性が悪くなる。15%より多
いと高軟化点化は実現できるが熱膨張が小さくなり好ま
しくない。望ましくは6〜13%である。
CaO; 3%未満では熱膨張係数が小さくなり過ぎ、他方12%
を越えると失透が生成し易くなるのでいずれも好ましく
ない。
を越えると失透が生成し易くなるのでいずれも好ましく
ない。
MgO+CaO+SrO+BaO; 高融点且つ高膨張化のために必須である。その合量が
17%よりも少ないと所望の熱膨張が得られない。一方、
25%より多いとガラスの失透温度が高くなり過ぎ製板が
困難になる。望ましくは19〜23%である。
17%よりも少ないと所望の熱膨張が得られない。一方、
25%より多いとガラスの失透温度が高くなり過ぎ製板が
困難になる。望ましくは19〜23%である。
Li2O+Na2O+K2O; 軟化点および熱膨張係数さらに耐薬品性向上に必須。
合量で6%より少ないと熱膨張率が小さすぎる。12%よ
り多いと軟化点が低くなりすぎ、耐熱性が低下するので
好ましくない。望ましくは合量で8〜11%である。
合量で6%より少ないと熱膨張率が小さすぎる。12%よ
り多いと軟化点が低くなりすぎ、耐熱性が低下するので
好ましくない。望ましくは合量で8〜11%である。
ZrO2; 化学的特性向上に必須である。0.5%より少ないとそ
の効果はない。6%より多いと熱膨張率が低くなりすぎ
る。望ましくは1〜5%である。
の効果はない。6%より多いと熱膨張率が低くなりすぎ
る。望ましくは1〜5%である。
SO3+As2O3+Sb2O3; 必須成分ではないが清澄剤として用いることができ
る。合量で0.5%を越えると着色等の欠点を生じ易くな
るので好ましくない。
る。合量で0.5%を越えると着色等の欠点を生じ易くな
るので好ましくない。
SnO2+TiO2; 必須成分ではないが、化学的耐久性向上が目的であ
る。合量で3%を越えるとガラスが着色するのが好まし
くない。
る。合量で3%を越えるとガラスが着色するのが好まし
くない。
La2O3; 必須成分ではないが、熱膨張,化学的耐久性あるいは
軟化点の微調整剤として使用される。しかしその含有量
が5%を越えても効果の向上は認められない。
軟化点の微調整剤として使用される。しかしその含有量
が5%を越えても効果の向上は認められない。
[実施例] 本発明によるガラスは、例えば次のように製造する。
目標組成になるように各原料を調合し、これを1450〜15
20℃の温度にて溶解し、製板する。かくして得られたガ
ラス板について、歪点(単位:℃)、軟化点(単位:
℃)、50〜350℃の熱膨張係数(単位:10-7/℃)、熱変
形量(単位:mm)、および電気抵抗(単位:Ω・cm)を
測定し、その結果を次の表に示した。同表には従来使用
されている一般建築用のソーダライムガラスとを対比さ
せて示す。
目標組成になるように各原料を調合し、これを1450〜15
20℃の温度にて溶解し、製板する。かくして得られたガ
ラス板について、歪点(単位:℃)、軟化点(単位:
℃)、50〜350℃の熱膨張係数(単位:10-7/℃)、熱変
形量(単位:mm)、および電気抵抗(単位:Ω・cm)を
測定し、その結果を次の表に示した。同表には従来使用
されている一般建築用のソーダライムガラスとを対比さ
せて示す。
なお、熱変形量は厚さ2mmのガラス板をスパン200mmで
二点支持を行ない、600℃で10分間保持した場合のたわ
み量である。
二点支持を行ない、600℃で10分間保持した場合のたわ
み量である。
同表より明らかなように、本発明によるガラス組成物
は、熱変形量が極めて少なく、耐熱性に優れ、熱膨張係
数が75〜90×10-7/℃の範囲にある。
は、熱変形量が極めて少なく、耐熱性に優れ、熱膨張係
数が75〜90×10-7/℃の範囲にある。
[発明の効果] 本発明によるガラス基板は、600℃前後の熱処理工程
において、従前のガラスが5〜10mm熱変形するのに対
し、0.1mm以下と殆んど変形のない高耐熱性ガラスであ
って、従前のガラスと同等の熱膨張係数を有するため、
他部材の変更なく、高精細度且つ歩留まり改善に大きな
効果を実現し得る。
において、従前のガラスが5〜10mm熱変形するのに対
し、0.1mm以下と殆んど変形のない高耐熱性ガラスであ
って、従前のガラスと同等の熱膨張係数を有するため、
他部材の変更なく、高精細度且つ歩留まり改善に大きな
効果を実現し得る。
Claims (4)
- 【請求項1】実質的に重量%表示で SiO2 55〜65 % Al2O3 5〜15 % CaO 3〜12 % MgO+CaO+SrO+BaO 17〜25 % Li2O+Na2O+K2O 6〜12 % ZrO2 0.5〜 6 % SO3+As2O3+Sb2O3 0〜 0.5% SnO2+TiO2 0〜 3 % La2O3 0〜 5 % からなり、50〜350℃の熱膨張係数が75×10-7/℃〜90×
10-7/℃である基板用ガラス組成物。 - 【請求項2】実質的に重量%表示で SiO2 55〜65 % Al2O3 5〜15 % CaO 3〜12 % MgO+CaO+SrO+BaO 17〜25 % Li2O+Na2O+K2O 8〜11 % ZrO2 1〜 5 % SO3+As2O3+Sb2O3 0〜 0.5% SnO2+TiO2 0〜 3 % La2O3 0〜 5 % からなる請求項1の基板用ガラス組成物。
- 【請求項3】実質的に重量%表示で SiO2 57〜63 % Al2O3 6〜13 % CaO 3〜12 % MgO+CaO+SrO+BaO 19〜23 % Li2O+Na2O+K2O 8〜11 % ZrO2 1〜 5 % SO3+As2O3+Sb2O3 0〜 0.5% SnO2+TiO2 0〜 3 % La2O3 0〜 5 % からなる請求項1または2の基板用ガラス組成物。
- 【請求項4】プラズマディスプレー基板用である、請求
項1、2または3の基板用ガラス組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1173085A JP2738036B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 基板用ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1173085A JP2738036B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 基板用ガラス組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0340933A JPH0340933A (ja) | 1991-02-21 |
JP2738036B2 true JP2738036B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=15953927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1173085A Expired - Lifetime JP2738036B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 基板用ガラス組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2738036B2 (ja) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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FR2727399B1 (fr) * | 1994-10-13 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications |
US5599754A (en) | 1994-10-14 | 1997-02-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof |
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WO1998001400A1 (fr) * | 1995-04-14 | 1998-01-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat |
GB2299991B (en) * | 1995-04-20 | 1998-09-09 | Ag Technology Corp | Glass substrate for magnetic disk |
FR2744440B1 (fr) * | 1996-02-07 | 1998-03-20 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre |
JP3240271B2 (ja) * | 1996-02-29 | 2001-12-17 | ティーディーケイ株式会社 | セラミック基板 |
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JPH10152339A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-06-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 耐熱性ガラス組成物 |
KR100238117B1 (ko) * | 1996-12-05 | 2000-01-15 | 박영구 | 프라즈마 영상표시판넬용 기판유리조성물 |
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DE69902839T2 (de) | 1998-04-28 | 2003-05-28 | Asahi Glass Co Ltd | Flachglas und Substratglas für die Elektronik |
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DE10214449B4 (de) | 2002-03-30 | 2005-03-24 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von alkalifreien Aluminosilicatgläsern |
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EP1961710A4 (en) * | 2005-12-07 | 2009-12-09 | Nippon Electric Glass Co | OUTER TANK FOR FLUORESCENT LAMP WITH EXTERNAL ELECTRODE |
KR101133481B1 (ko) | 2006-05-10 | 2012-06-05 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 디스플레이 기판용 플로트 유리 및 그 제조 방법 |
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CN112521007A (zh) * | 2020-12-27 | 2021-03-19 | 西安赛尔电子材料科技有限公司 | 振动加速度传感器用封接玻璃材料的制备方法和封接工艺 |
-
1989
- 1989-07-06 JP JP1173085A patent/JP2738036B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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---|---|
JPH0340933A (ja) | 1991-02-21 |
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