JP2735098B2 - 指紋特異点検出方法及び指紋特異点検出装置 - Google Patents
指紋特異点検出方法及び指紋特異点検出装置Info
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- Theoretical Computer Science (AREA)
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- Image Analysis (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、指紋や掌紋の分
類、特徴抽出方法及び装置に関し、特に指紋に対する特
異点検出方法及び装置に関するものである。
類、特徴抽出方法及び装置に関し、特に指紋に対する特
異点検出方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の計算機による指紋特異点検出方法
としては、指紋をベクトル場として捉え、その局所領域
における発散を面積分することによりコア、デルタとい
った特異点を検出する方法［Ｓ．Ｏｈｔｅｒｕ，Ｈ．Ｋ
ｏｂａｙａｓｈｉ，Ｔ．Ｋｕｂｏ，ａｎｄ Ｆ．Ｎｏｄ
ａ：“Ａｕｔｏｍａｔｅｄ ＦｉｎｇｅｒｐｒｉｎｔＣ
ｌａｓｓｉｆｉｒ”，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ
２ｎｄ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐａｔｔｅｒｎ
Ｒｅｃｏｇｎｉｔｉｏｎ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ａ
ｕｇｕｓｔ，１９７４］、隆線方向の方向分布パターン
と予め作成した標準パターンとのマッチングにより特異
点を検出する方法［中村納他：“方向分布パターンによ
る指紋画像の分類”，電子通信学会論文誌Ｖｏｌ．Ｊ６
５−Ｄ，Ｎｏ．１０，ページ１２８６−１２９３，１９
８２／１０］がある。ここでは、本発明と類似した方法
である後者について、図１７を用いて説明する。
としては、指紋をベクトル場として捉え、その局所領域
における発散を面積分することによりコア、デルタとい
った特異点を検出する方法［Ｓ．Ｏｈｔｅｒｕ，Ｈ．Ｋ
ｏｂａｙａｓｈｉ，Ｔ．Ｋｕｂｏ，ａｎｄ Ｆ．Ｎｏｄ
ａ：“Ａｕｔｏｍａｔｅｄ ＦｉｎｇｅｒｐｒｉｎｔＣ
ｌａｓｓｉｆｉｒ”，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ
２ｎｄ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐａｔｔｅｒｎ
Ｒｅｃｏｇｎｉｔｉｏｎ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ａ
ｕｇｕｓｔ，１９７４］、隆線方向の方向分布パターン
と予め作成した標準パターンとのマッチングにより特異
点を検出する方法［中村納他：“方向分布パターンによ
る指紋画像の分類”，電子通信学会論文誌Ｖｏｌ．Ｊ６
５−Ｄ，Ｎｏ．１０，ページ１２８６−１２９３，１９
８２／１０］がある。ここでは、本発明と類似した方法
である後者について、図１７を用いて説明する。
【０００３】従来方法では、図１８に示すような隆線方
向パターン上のある注目点に対し、方向分布パターン作
成部３０２において、隆線の方向分布パターンを作成
し、距離計算部３０３において、予め特異点ごとに作成
された標準パターンとの距離計算を行い、距離判定部３
０４において、距離値の最も小さくなるカテゴリを検出
結果とする。
向パターン上のある注目点に対し、方向分布パターン作
成部３０２において、隆線の方向分布パターンを作成
し、距離計算部３０３において、予め特異点ごとに作成
された標準パターンとの距離計算を行い、距離判定部３
０４において、距離値の最も小さくなるカテゴリを検出
結果とする。
【０００４】まず、方向分布パターン作成部３０２にお
ける処理を説明する。図１９に示すように、注目点を円
の中心とした１６個の扇状領域を考え、扇状領域Ｗi に
おける隆線方向ｊと中心線Ｌi のなす角度のうち、小さ
い方（９０°以下のもの）をｒj i とする。扇状領域Ｗ
i に含まれるＮ個の隆線方向について平均Ｃi を下記の
数式１によって求め、１６方向に量子化された角度ｉに
ついて２次元的に表現した方向分布パターンを形成す
る。
ける処理を説明する。図１９に示すように、注目点を円
の中心とした１６個の扇状領域を考え、扇状領域Ｗi に
おける隆線方向ｊと中心線Ｌi のなす角度のうち、小さ
い方（９０°以下のもの）をｒj i とする。扇状領域Ｗ
i に含まれるＮ個の隆線方向について平均Ｃi を下記の
数式１によって求め、１６方向に量子化された角度ｉに
ついて２次元的に表現した方向分布パターンを形成す
る。
【０００５】
【数１】 指紋の隆線方向パターンは、ウォール（Ｗｈｏｒｌ）と
ループ（Ｌｏｏｐ）とデルタ（Ｄｅｌｔａ）の３つの特
異点と、特異点ではないペリフェリー（Ｐｅｒｉｐｈｅ
ｒｙ）の合計４つのカテゴリに分類される。ウォールと
ループはコアと呼ばれる。これらウォール、ループ、デ
ルタ、及びペリフェリーに対する方向分布パターンは、
図２０に示すように特徴的な２次元図形パターンとして
観測される。
ループ（Ｌｏｏｐ）とデルタ（Ｄｅｌｔａ）の３つの特
異点と、特異点ではないペリフェリー（Ｐｅｒｉｐｈｅ
ｒｙ）の合計４つのカテゴリに分類される。ウォールと
ループはコアと呼ばれる。これらウォール、ループ、デ
ルタ、及びペリフェリーに対する方向分布パターンは、
図２０に示すように特徴的な２次元図形パターンとして
観測される。
【０００６】次に、距離計算部３０３における処理を説
明する。これらの２次元図形パターンを分類するため
に、予め目視によって隆線方向パターンから特異点及び
周辺部を選定し、カテゴリごとに標準パターンＣt を作
成する。この標準パターンと隆線方向パターンとのパタ
ーン間距離Ｄを下記の数式２によって計算する。
明する。これらの２次元図形パターンを分類するため
に、予め目視によって隆線方向パターンから特異点及び
周辺部を選定し、カテゴリごとに標準パターンＣt を作
成する。この標準パターンと隆線方向パターンとのパタ
ーン間距離Ｄを下記の数式２によって計算する。
【０００７】
【数２】 ここで、ｓは標準パターンの回転量を表す。つまり、角
度に関してずらしマッチングを行うことにより、最小パ
ターン間距離Ｄを求める。
度に関してずらしマッチングを行うことにより、最小パ
ターン間距離Ｄを求める。
【０００８】距離判定部３０４では、カテゴリごとの距
離値Ｄを比較し、この値が最小となるカテゴリを求める
ことによって、指紋特異点ウォール、ループ、デルタを
検出し、検出した指紋特異点を検出結果３０５として出
力する。
離値Ｄを比較し、この値が最小となるカテゴリを求める
ことによって、指紋特異点ウォール、ループ、デルタを
検出し、検出した指紋特異点を検出結果３０５として出
力する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
指紋特異点検出方法には、予め目視によって特異点を選
定し、それら特異点付近の方向分布パターンを用いて標
準パターンを作成しなくてはならない手間、及び、量子
化されたパターン同士の距離計算を行っているため、距
離値が隆線方向パターンの回転に依存し、検出精度が低
下するという欠点があった。これについて、デルタの場
合を例にとり、図２１及び図２２を用いて説明する。デ
ルタの方向分布パターンには、図２１で太い実線で示し
たように山谷が３つづつ現れ、扇状領域の角度を１６方
向に量子化した場合は、黒ぬり正方形で示した点がサン
プリングされる。一方、同一隆線方向パターンを反時計
回りに３６０／３２度だけ回転させた場合は、図２２に
太い実線で示した方向分布パターンが得られ、黒ぬり正
方形で示した点がサンプリングされる。この２つの方向
分布パターンは本来同一のものであるが、サンプリング
点が異なるため、ずらしマッチングを行ってもこれらの
パターン間距離は０にはならない。従って、入力パター
ンと標準パターンとの距離値は隆線方向パターンの回転
に依存して変動し、検出精度が低下する問題がある。
指紋特異点検出方法には、予め目視によって特異点を選
定し、それら特異点付近の方向分布パターンを用いて標
準パターンを作成しなくてはならない手間、及び、量子
化されたパターン同士の距離計算を行っているため、距
離値が隆線方向パターンの回転に依存し、検出精度が低
下するという欠点があった。これについて、デルタの場
合を例にとり、図２１及び図２２を用いて説明する。デ
ルタの方向分布パターンには、図２１で太い実線で示し
たように山谷が３つづつ現れ、扇状領域の角度を１６方
向に量子化した場合は、黒ぬり正方形で示した点がサン
プリングされる。一方、同一隆線方向パターンを反時計
回りに３６０／３２度だけ回転させた場合は、図２２に
太い実線で示した方向分布パターンが得られ、黒ぬり正
方形で示した点がサンプリングされる。この２つの方向
分布パターンは本来同一のものであるが、サンプリング
点が異なるため、ずらしマッチングを行ってもこれらの
パターン間距離は０にはならない。従って、入力パター
ンと標準パターンとの距離値は隆線方向パターンの回転
に依存して変動し、検出精度が低下する問題がある。
【００１０】本発明の課題は、標準パターンの作成が不
要で、なおかつ検出精度が隆線方向パターンの回転に依
存しない高検出精度の指紋特異点検出方法を提供するこ
とにある。
要で、なおかつ検出精度が隆線方向パターンの回転に依
存しない高検出精度の指紋特異点検出方法を提供するこ
とにある。
【００１１】本発明の別の課題は、標準パターンの作成
が不要で、なおかつ検出精度が隆線方向パターンの回転
に依存しない高検出精度の指紋特異点検出装置を提供す
ることにある。
が不要で、なおかつ検出精度が隆線方向パターンの回転
に依存しない高検出精度の指紋特異点検出装置を提供す
ることにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、指紋の
隆線方向を表す隆線方向パターンから指紋特異点を検出
する指紋特異点検出方法において、前記隆線方向パター
ン上の注目点を中心とする円上の複数点の各々における
接線方向を表す接線方向ベクトルと前記円上の複数点の
各々における隆線方向を表す隆線方向ベクトルとの内積
値を求め、前記円上の複数点において求められた内積値
の分布を隆線方向分布として出力する第１のステップ
と、前記隆線方向分布から前記指紋特異点を検出する第
２のステップとを含むことを特徴とする指紋特異点検出
方法が得られる。
隆線方向を表す隆線方向パターンから指紋特異点を検出
する指紋特異点検出方法において、前記隆線方向パター
ン上の注目点を中心とする円上の複数点の各々における
接線方向を表す接線方向ベクトルと前記円上の複数点の
各々における隆線方向を表す隆線方向ベクトルとの内積
値を求め、前記円上の複数点において求められた内積値
の分布を隆線方向分布として出力する第１のステップ
と、前記隆線方向分布から前記指紋特異点を検出する第
２のステップとを含むことを特徴とする指紋特異点検出
方法が得られる。
【００１３】更に本発明によれば、指紋の隆線方向を表
す隆線方向パターンから指紋特異点を検出する指紋特異
点検出装置において、上の注目点を中心とする円上の複
数点の各々における接線方向を表す接線方向ベクトルと
前記円上の複数点の各々における隆線方向を表す隆線方
向ベクトルとの内積値を求め、前記円上の複数点におい
て求められた内積値の分布を隆線方向分布として出力す
る第１の手段と、前記隆線方向分布から前記指紋特異点
を検出する第２の手段とを含むことを特徴とする指紋特
異点検出装置が得られる。
す隆線方向パターンから指紋特異点を検出する指紋特異
点検出装置において、上の注目点を中心とする円上の複
数点の各々における接線方向を表す接線方向ベクトルと
前記円上の複数点の各々における隆線方向を表す隆線方
向ベクトルとの内積値を求め、前記円上の複数点におい
て求められた内積値の分布を隆線方向分布として出力す
る第１の手段と、前記隆線方向分布から前記指紋特異点
を検出する第２の手段とを含むことを特徴とする指紋特
異点検出装置が得られる。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施例について図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００１５】図１を参照すると、本発明の第一の実施例
による指紋特異点検出方法を実施する指紋特異点検出装
置は、指紋の隆線方向を表す隆線方向パターン１０１か
ら指紋特異点（コア、デルタ）を検出するためのもので
あって、前記隆線方向パターン１０１上の注目点を中心
とする円上の複数点の各々における接線方向を表す接線
方向ベクトルと前記円上の複数点の各々における隆線方
向を表す隆線方向ベクトルとの内積値を求め、前記円上
の複数点において求められた内積値の分布を隆線方向分
布として出力する方向分布作成部１０２と、前記隆線方
向分布から前記指紋特異点を検出する指紋特異点検出部
とを含む。
による指紋特異点検出方法を実施する指紋特異点検出装
置は、指紋の隆線方向を表す隆線方向パターン１０１か
ら指紋特異点（コア、デルタ）を検出するためのもので
あって、前記隆線方向パターン１０１上の注目点を中心
とする円上の複数点の各々における接線方向を表す接線
方向ベクトルと前記円上の複数点の各々における隆線方
向を表す隆線方向ベクトルとの内積値を求め、前記円上
の複数点において求められた内積値の分布を隆線方向分
布として出力する方向分布作成部１０２と、前記隆線方
向分布から前記指紋特異点を検出する指紋特異点検出部
とを含む。
【００１６】この指紋特異点検出部は、前記隆線方向分
布をフーリエ展開し、フーリエ展開された結果を周波数
成分ごとに出力するフーリエ展開部１０３と、前記フー
リエ展開された結果の前記周波数成分ごとの強度を計算
する強度計算部１０４と、前記周波数成分ごとの前記強
度から前記指紋特異点を検出し、検出した指紋特異点を
検出結果１０６として出力する強度判定部１０５とを含
む。
布をフーリエ展開し、フーリエ展開された結果を周波数
成分ごとに出力するフーリエ展開部１０３と、前記フー
リエ展開された結果の前記周波数成分ごとの強度を計算
する強度計算部１０４と、前記周波数成分ごとの前記強
度から前記指紋特異点を検出し、検出した指紋特異点を
検出結果１０６として出力する強度判定部１０５とを含
む。
【００１７】即ち、方向分布作成部１０２は、指紋の隆
線方向パターン１０１と注目点を中心とする円の接線方
向との内積を、円の角度ごとに求めることによって隆線
方向分布を作成する。フーリエ展開部１０３は、前記隆
線方向分布をフーリエ展開する。強度計算部１０４は、
フーリエ展開後の周波数成分ごとの強度を求める。強度
判定部１０５は、各周波数成分の強度を比較することに
よって、指紋特異点（コア、デルタ）を検出する。
線方向パターン１０１と注目点を中心とする円の接線方
向との内積を、円の角度ごとに求めることによって隆線
方向分布を作成する。フーリエ展開部１０３は、前記隆
線方向分布をフーリエ展開する。強度計算部１０４は、
フーリエ展開後の周波数成分ごとの強度を求める。強度
判定部１０５は、各周波数成分の強度を比較することに
よって、指紋特異点（コア、デルタ）を検出する。
【００１８】図２を参照すると、本発明の第二の実施例
による指紋特異点検出方法を実施する指紋特異点検出装
置は、図１の方向分布作成部１０２と同様な動作をする
方向分布作成部２０２を含む。即ち、方向分布作成部２
０２は、指紋の隆線方向を表す隆線方向パターン２０１
上の注目点を中心とする円上の複数点の各々における接
線方向を表す接線方向ベクトルと前記円上の複数点の各
々における隆線方向を表す隆線方向ベクトルとの内積値
を求め、前記円上の複数点において求められた内積値の
分布を隆線方向分布として出力する。
による指紋特異点検出方法を実施する指紋特異点検出装
置は、図１の方向分布作成部１０２と同様な動作をする
方向分布作成部２０２を含む。即ち、方向分布作成部２
０２は、指紋の隆線方向を表す隆線方向パターン２０１
上の注目点を中心とする円上の複数点の各々における接
線方向を表す接線方向ベクトルと前記円上の複数点の各
々における隆線方向を表す隆線方向ベクトルとの内積値
を求め、前記円上の複数点において求められた内積値の
分布を隆線方向分布として出力する。
【００１９】図２の指紋特異点検出装置は、更に、前記
隆線方向分布から指紋特異点（コア、デルタ）を検出す
る別の指紋特異点検出部を含む。この別の指紋特異点検
出部は、前記隆線方向分布を複数の部分分布に分け、こ
れら複数の部分分布を、複数の平滑化された部分分布に
それぞれ平滑化する平滑化部２０３と、前記複数の平滑
化された部分分布の値の極性を基に、正から負への極性
の変化及び負から正への極性の変化の回数をゼロ交差数
として検出し、このゼロ交差数から前記指紋特異点を検
出し、検出した指紋特異点を検出結果２０５として出力
するゼロ交差数検出部２０４とを含む。
隆線方向分布から指紋特異点（コア、デルタ）を検出す
る別の指紋特異点検出部を含む。この別の指紋特異点検
出部は、前記隆線方向分布を複数の部分分布に分け、こ
れら複数の部分分布を、複数の平滑化された部分分布に
それぞれ平滑化する平滑化部２０３と、前記複数の平滑
化された部分分布の値の極性を基に、正から負への極性
の変化及び負から正への極性の変化の回数をゼロ交差数
として検出し、このゼロ交差数から前記指紋特異点を検
出し、検出した指紋特異点を検出結果２０５として出力
するゼロ交差数検出部２０４とを含む。
【００２０】次に図１の第一の実施例の作用を図３を用
いて説明する。注目点を中心とする円周上の点における
接線方向と水平方向のなす角度をθ1 、その点における
隆線方向と水平方向のなす角度をθ2 とし、接線方向を
表すベクトルを（Ｒ1 cos ２θ1 ，Ｒ1 sin ２θ1 ）、
隆線方向を表すベクトルを（Ｒ2 cos ２θ2 ，Ｒ2 sin
２θ2 ）として定義する。ここで、Ｒ1 ，Ｒ2 は任意の
定数であり、θ1 及びθ2 は、０からπまでの値をと
る。この２つのベクトルの内積を求めると、 Ｒ1 Ｒ2 （cos ２θ1 cos ２θ2 ＋sin ２θ1 sin ２θ
2 ）＝Ｒ1 Ｒ2 cos２（θ2 −θ1 ） となる。この式から、接線方向と隆線方向が同じ場合に
最大値Ｒ1 Ｒ2 をとり、直交する場合に最小値−Ｒ1 Ｒ
2 をとることがわかる。従って、横軸を円の角度θ、縦
軸を内積値とすると、図４に示すようにウォール（Ｗｈ
ｏｒｌ）、ループ（Ｌｏｏｐ）、ペリフェリー（Ｐｅｒ
ｉｐｈｅｒｙ）、デルタ（Ｄｅｌｔａ）に対して特徴的
な隆線方向分布が得られる。この隆線方向分布をｆ(h)
で表すこととする。ただし、ｍを２以上の整数としたと
きｈは０から（ｍ−１）までの整数を表す。即ち、θ
は、θ＝２πｈ／ｍで表わされることとなる。この隆線
方向分布ｆ(h) を第０〜第（ｍ−１）点でサンプリング
した後、離散フーリエ展開し、下記の数式３によって表
されるフーリエ係数を求める。
いて説明する。注目点を中心とする円周上の点における
接線方向と水平方向のなす角度をθ1 、その点における
隆線方向と水平方向のなす角度をθ2 とし、接線方向を
表すベクトルを（Ｒ1 cos ２θ1 ，Ｒ1 sin ２θ1 ）、
隆線方向を表すベクトルを（Ｒ2 cos ２θ2 ，Ｒ2 sin
２θ2 ）として定義する。ここで、Ｒ1 ，Ｒ2 は任意の
定数であり、θ1 及びθ2 は、０からπまでの値をと
る。この２つのベクトルの内積を求めると、 Ｒ1 Ｒ2 （cos ２θ1 cos ２θ2 ＋sin ２θ1 sin ２θ
2 ）＝Ｒ1 Ｒ2 cos２（θ2 −θ1 ） となる。この式から、接線方向と隆線方向が同じ場合に
最大値Ｒ1 Ｒ2 をとり、直交する場合に最小値−Ｒ1 Ｒ
2 をとることがわかる。従って、横軸を円の角度θ、縦
軸を内積値とすると、図４に示すようにウォール（Ｗｈ
ｏｒｌ）、ループ（Ｌｏｏｐ）、ペリフェリー（Ｐｅｒ
ｉｐｈｅｒｙ）、デルタ（Ｄｅｌｔａ）に対して特徴的
な隆線方向分布が得られる。この隆線方向分布をｆ(h)
で表すこととする。ただし、ｍを２以上の整数としたと
きｈは０から（ｍ−１）までの整数を表す。即ち、θ
は、θ＝２πｈ／ｍで表わされることとなる。この隆線
方向分布ｆ(h) を第０〜第（ｍ−１）点でサンプリング
した後、離散フーリエ展開し、下記の数式３によって表
されるフーリエ係数を求める。
【００２１】
【数３】 求まったフーリエ係数から、各周波数成分ｋごとの強度
は、ａ(k) 2 ＋ｂ(k)2 として得られる。ただし、ｋ＝
０の場合は、ａ(0) 2 ／４である。ウォール、ループ、
ペリフェリー、デルタ付近では、それぞれｋ＝０，１，
２，３に対する強度の値が大きくなるので、これらの値
を比較することによって、特異点を検出することができ
る。
は、ａ(k) 2 ＋ｂ(k)2 として得られる。ただし、ｋ＝
０の場合は、ａ(0) 2 ／４である。ウォール、ループ、
ペリフェリー、デルタ付近では、それぞれｋ＝０，１，
２，３に対する強度の値が大きくなるので、これらの値
を比較することによって、特異点を検出することができ
る。
【００２２】特異点付近の隆線方向分布は、ｓｉｎ関数
を用いて ｆ(h) ＝Ａ(k)sin（２πｋｈ／ｍ＋φ）＝Ａ(k)sinφco
s(２πｋｈ／ｍ）＋Ａ(k)cosφsin(２πｋｈ／ｍ） と近似されるが、フーリエ展開後の周波数成分ｋの強度 ａ(k) 2 ＋ｂ(k) 2 ＝｛Ａ(k)sinφ｝2 ＋｛Ａ(k)cos
φ｝2 ＝Ａ(k) 2 には、隆線方向パターンの回転を表す位相φが含まれな
い。従って、本発明による特異点検出結果は、隆線方向
パターンの回転の影響を受けない。
を用いて ｆ(h) ＝Ａ(k)sin（２πｋｈ／ｍ＋φ）＝Ａ(k)sinφco
s(２πｋｈ／ｍ）＋Ａ(k)cosφsin(２πｋｈ／ｍ） と近似されるが、フーリエ展開後の周波数成分ｋの強度 ａ(k) 2 ＋ｂ(k) 2 ＝｛Ａ(k)sinφ｝2 ＋｛Ａ(k)cos
φ｝2 ＝Ａ(k) 2 には、隆線方向パターンの回転を表す位相φが含まれな
い。従って、本発明による特異点検出結果は、隆線方向
パターンの回転の影響を受けない。
【００２３】次に図２の第二の実施例の作用を説明す
る。第一の実施例と同様の方法によって得られた隆線方
向分布ｆ(h) に対して、例えば連続する３点ごとに平均
値を求めることによって平滑化処理を施した後、ゼロ交
差数を求める。ゼロ交差数とは、値が正から負へ、ある
いは負から正へ変わる回数のことである。ウォールの場
合は０、ループの場合は１、デルタの場合は３となるの
で、このゼロ交差数を用いて特異点を検出することがで
きる。ゼロ交差数は、隆線方向パターンが回転しても変
わらないので、本発明による特異点検出結果は、隆線方
向パターンの回転の影響を受けない。
る。第一の実施例と同様の方法によって得られた隆線方
向分布ｆ(h) に対して、例えば連続する３点ごとに平均
値を求めることによって平滑化処理を施した後、ゼロ交
差数を求める。ゼロ交差数とは、値が正から負へ、ある
いは負から正へ変わる回数のことである。ウォールの場
合は０、ループの場合は１、デルタの場合は３となるの
で、このゼロ交差数を用いて特異点を検出することがで
きる。ゼロ交差数は、隆線方向パターンが回転しても変
わらないので、本発明による特異点検出結果は、隆線方
向パターンの回転の影響を受けない。
【００２４】なお、図１の指紋特異点検出装置におい
て、方向分布作成部１０２とフーリエ展開部１０３との
間に、図２の平滑化部２０３と同様の平滑化部を接続し
てもよい。この際、この平滑化部は、平滑化部２０３と
同様に、方向分布作成部１０２からの隆線方向分布を複
数の部分分布に分け、これら複数の部分分布をそれぞれ
平滑化（平均化）し、複数の平滑化（平均化）された部
分分布をフーリエ展開部１０３に送出する。この平滑化
部を設けない場合には、前記隆線方向分布がノイズを含
んでいると、該ノイズがフーリエ展開部１０３にそのま
ま与えられて、フーリエ展開された結果に誤差が含まれ
ることとなる。これに対して、この平滑化部を設けた場
合には、この平滑化部によって前記隆線方向分布に含ま
れるノイズがフーリエ展開部１０３のフーリエ展開され
た結果に与える影響を減じることができ、フーリエ展開
された結果に含まれる誤差が減じることができる。
て、方向分布作成部１０２とフーリエ展開部１０３との
間に、図２の平滑化部２０３と同様の平滑化部を接続し
てもよい。この際、この平滑化部は、平滑化部２０３と
同様に、方向分布作成部１０２からの隆線方向分布を複
数の部分分布に分け、これら複数の部分分布をそれぞれ
平滑化（平均化）し、複数の平滑化（平均化）された部
分分布をフーリエ展開部１０３に送出する。この平滑化
部を設けない場合には、前記隆線方向分布がノイズを含
んでいると、該ノイズがフーリエ展開部１０３にそのま
ま与えられて、フーリエ展開された結果に誤差が含まれ
ることとなる。これに対して、この平滑化部を設けた場
合には、この平滑化部によって前記隆線方向分布に含ま
れるノイズがフーリエ展開部１０３のフーリエ展開され
た結果に与える影響を減じることができ、フーリエ展開
された結果に含まれる誤差が減じることができる。
【００２５】次に図１及び図２の実施例の動作をより詳
細に説明する。
細に説明する。
【００２６】まず、本発明を実施するにあたり、図１８
に示した隆線方向パターンから、ある注目点を中心に切
り出した７×７の隆線方向パターンを用意する。例え
ば、ウォール、ループ、デルタと呼ばれる特異点付近、
あるいはそれ以外のペリフェリーと呼ばれる領域の代表
的な隆線方向パターンは、図５に示すようなパターンに
なる。
に示した隆線方向パターンから、ある注目点を中心に切
り出した７×７の隆線方向パターンを用意する。例え
ば、ウォール、ループ、デルタと呼ばれる特異点付近、
あるいはそれ以外のペリフェリーと呼ばれる領域の代表
的な隆線方向パターンは、図５に示すようなパターンに
なる。
【００２７】図１の第一の実施例を、図６から図９に示
したフローチャートを用いて説明する。
したフローチャートを用いて説明する。
【００２８】方向分布作成手段１０２のフローチャート
を図６に示す。Ｓ１６０２において、７×７の隆線方向
パターン上の位置を表すｉの値を１に設定する。Ｓ１６
０３において、位置ｉにおける隆線方向と水平方向との
なす角度θ(i) を用いて、ベクトル（ｕ(i) ，ｖ(i) ）
を次式によって求める。
を図６に示す。Ｓ１６０２において、７×７の隆線方向
パターン上の位置を表すｉの値を１に設定する。Ｓ１６
０３において、位置ｉにおける隆線方向と水平方向との
なす角度θ(i) を用いて、ベクトル（ｕ(i) ，ｖ(i) ）
を次式によって求める。
【００２９】ｕ(i) ＝ｃｏｓ２θ(i) ｖ(i) ＝ｃｏｓ２θ(i) Ｓ１６０４において、図１０に示す渦状フィルタの位置
ｉにおける線分と水平方向とのなす角度φ(i) を用い
て、ベクトル（ｘ(i) ，ｙ(i) ）を次式によって求め
る。
ｉにおける線分と水平方向とのなす角度φ(i) を用い
て、ベクトル（ｘ(i) ，ｙ(i) ）を次式によって求め
る。
【００３０】ｘ(i) ＝ｃｏｓ２φ(i) ｙ(i) ＝ｃｏｓ２φ(i) ｘ(i) の値は図１１に示すように、ｙ(i) の値は図１２
に示すように予め計算できるので、Ｓ１６０４ではこの
値を参照するだけでも良い。Ｓ１６０５において、位置
ｉにおける（ｕ(i) ，ｖ(i) ）と（ｘ(i) ，ｙ(i) ）と
の内積ｓ(i) を、次式によって求める。
に示すように予め計算できるので、Ｓ１６０４ではこの
値を参照するだけでも良い。Ｓ１６０５において、位置
ｉにおける（ｕ(i) ，ｖ(i) ）と（ｘ(i) ，ｙ(i) ）と
の内積ｓ(i) を、次式によって求める。
【００３１】 ｓ(i) ＝ｕ(i) ｘ(i) ＋ｖ(i) ｙ(i) Ｓ１６０６において、７×７の全ての領域について内積
値ｓ(i) が計算されたかどうか判断される。すなわち、
ｉ＝４９の場合はＳ１６０８に進み、そうでなければＳ
１６０７でｉが１増加された後、Ｓ１６０３にもどる。
Ｓ１６０８からＳ１６１１の処理で、ｈ＝０〜１５に対
するｆ(h) の値を０に設定する。Ｓ１６１２において、
７×７の隆線方向パターン上の位置を表すｉの値を１に
設定する。Ｓ１６１３からＳ１６１５において、図１３
に示した量子化角度を表す０から１５の値を持つ指標Ｄ
(i) を用いて、内積値ｓ(i) の和を求める。すなわち、
量子化された１６方向ｈ＝０〜１５について、内積値ｓ
(i) の総和を求めることにより、接線の方向分布ｆ(h)
を得る。
値ｓ(i) が計算されたかどうか判断される。すなわち、
ｉ＝４９の場合はＳ１６０８に進み、そうでなければＳ
１６０７でｉが１増加された後、Ｓ１６０３にもどる。
Ｓ１６０８からＳ１６１１の処理で、ｈ＝０〜１５に対
するｆ(h) の値を０に設定する。Ｓ１６１２において、
７×７の隆線方向パターン上の位置を表すｉの値を１に
設定する。Ｓ１６１３からＳ１６１５において、図１３
に示した量子化角度を表す０から１５の値を持つ指標Ｄ
(i) を用いて、内積値ｓ(i) の和を求める。すなわち、
量子化された１６方向ｈ＝０〜１５について、内積値ｓ
(i) の総和を求めることにより、接線の方向分布ｆ(h)
を得る。
【００３２】フーリエ展開手段１０３のフローチャート
を図７に示す。Ｓ１７０２において、周波数成分ｋの値
を０に設定する。Ｓ１７０３において、フーリエ係数ａ
(k)，ｂ(k) の値を０に設定する。Ｓ１７０４からＳ１
７０７において、量子化された１６方向に対する方向分
布ｆ(h) を用い、下記の数式４に従ってフーリエ係数ａ
(k) ，ｂ(k) を計算する。
を図７に示す。Ｓ１７０２において、周波数成分ｋの値
を０に設定する。Ｓ１７０３において、フーリエ係数ａ
(k)，ｂ(k) の値を０に設定する。Ｓ１７０４からＳ１
７０７において、量子化された１６方向に対する方向分
布ｆ(h) を用い、下記の数式４に従ってフーリエ係数ａ
(k) ，ｂ(k) を計算する。
【００３３】
【数４】 Ｓ１７０８において、周波数成分ｋ＝３までフーリエ係
数が計算されたかどうか判断し、ｋ＜３であればＳ１７
０９でｋの値を１増加した後、Ｓ１７０３に戻る。ｋ＝
３であれば処理を終了する。
数が計算されたかどうか判断し、ｋ＜３であればＳ１７
０９でｋの値を１増加した後、Ｓ１７０３に戻る。ｋ＝
３であれば処理を終了する。
【００３４】強度計算手段１０４のフローチャートを図
８に示す。Ｓ１８０２において、ｋ＝０の時の強度Ｐ
(0) がフーリエ係数ａ(0) を用いて計算される。Ｓ１８
０３からＳ１８０６において、ｋ＝１〜３の時の強度Ｐ
(k) が、フーリエ係数ａ(k) ，ｂ(k) を用いて計算され
る。
８に示す。Ｓ１８０２において、ｋ＝０の時の強度Ｐ
(0) がフーリエ係数ａ(0) を用いて計算される。Ｓ１８
０３からＳ１８０６において、ｋ＝１〜３の時の強度Ｐ
(k) が、フーリエ係数ａ(k) ，ｂ(k) を用いて計算され
る。
【００３５】強度判定手段１０５のフローチャートを図
９に示す。Ｓ１９０２において、検出結果を表すＴに０
を代入し、Ｍにｋ＝０の時の強度Ｐ(0) を代入する。Ｓ
１９０３からＳ１９０７において、周波数成分ｋの強度
Ｐ(k) とＭとの比較が行われ、最終的にｋ＝０〜３にお
ける強度Ｐ(k) の最大値がＭに、その時のｋの値がＴに
代入される。処理が終了した時のＴの値が、０の時はウ
ォール、１の時はループ、３の時はデルタとして、特異
点の検出結果とする。Ｔ＝２の時は、特異点は検出され
なかったとする。
９に示す。Ｓ１９０２において、検出結果を表すＴに０
を代入し、Ｍにｋ＝０の時の強度Ｐ(0) を代入する。Ｓ
１９０３からＳ１９０７において、周波数成分ｋの強度
Ｐ(k) とＭとの比較が行われ、最終的にｋ＝０〜３にお
ける強度Ｐ(k) の最大値がＭに、その時のｋの値がＴに
代入される。処理が終了した時のＴの値が、０の時はウ
ォール、１の時はループ、３の時はデルタとして、特異
点の検出結果とする。Ｔ＝２の時は、特異点は検出され
なかったとする。
【００３６】次に図２の第二の実施例を、図１４及び図
１５に示したフローチャートを用いて説明する。
１５に示したフローチャートを用いて説明する。
【００３７】方向分布作成手段２０２のフローチャート
は図６に示したものと同じであり、量子化された１６方
向に対する隆線の方向分布ｆ(h) ，ｈ＝０〜１５が得ら
れる。
は図６に示したものと同じであり、量子化された１６方
向に対する隆線の方向分布ｆ(h) ，ｈ＝０〜１５が得ら
れる。
【００３８】平滑化手段２０３のフローチャートを図１
４に示す。Ｓ２００２において、平滑化後の方向分布ｇ
(0) ，ｇ(15)を求める。Ｓ２００３からＳ２００６にお
いて、ｈ＝１〜１４に対するｇ(h) を求める。
４に示す。Ｓ２００２において、平滑化後の方向分布ｇ
(0) ，ｇ(15)を求める。Ｓ２００３からＳ２００６にお
いて、ｈ＝１〜１４に対するｇ(h) を求める。
【００３９】ゼロ交差数検出手段２０４のフローチャー
トを図１５に示す。Ｓ２１０２において、ゼロ交差点を
表すｃの値を０に設定する。Ｓ２１０３からＳ２１０４
において、ｇ(15)が正かつｇ(0) が負の場合には、ｃの
値を１増加させる。Ｓ２１０５からＳ２１０９におい
て、ｈ＝０〜１４についてｇ(h) とｇ(h+1) の符号の変
化を調べ、ｇ(h) が正かつｇ(h+1) が負の場合には、ｃ
の値を１増加させる。処理が終了した時のｃの値が、０
の時はウォール、１の時はループ、３の時はデルタとし
て特異点の検出結果とする。ｃ＝２の時は、特異点は検
出されなかったとする。
トを図１５に示す。Ｓ２１０２において、ゼロ交差点を
表すｃの値を０に設定する。Ｓ２１０３からＳ２１０４
において、ｇ(15)が正かつｇ(0) が負の場合には、ｃの
値を１増加させる。Ｓ２１０５からＳ２１０９におい
て、ｈ＝０〜１４についてｇ(h) とｇ(h+1) の符号の変
化を調べ、ｇ(h) が正かつｇ(h+1) が負の場合には、ｃ
の値を１増加させる。処理が終了した時のｃの値が、０
の時はウォール、１の時はループ、３の時はデルタとし
て特異点の検出結果とする。ｃ＝２の時は、特異点は検
出されなかったとする。
【００４０】以上、本発明の指紋特異点検出方法の実施
例について述べた。実施例では７×７の渦状パターンを
用いて説明したが、異なるサイズのパターンを用いても
本発明は有効である。また、強度判定手段１０５では、
周波数成分ｋ＝０〜３において、強度Ｐ(k) が最大とな
るｋを検出結果としたが、ｋごとに適当なしきい値を設
定し、強度Ｐ(k) がそのしきい値より大きい場合に、そ
れに対応する特異点が検出されたとしても構わない。さ
らに、ゼロ交差数検出手段２０４において、ゼロ交差数
の代わりに山谷の数を用いても、本発明が有効であるこ
とは容易に推察される。
例について述べた。実施例では７×７の渦状パターンを
用いて説明したが、異なるサイズのパターンを用いても
本発明は有効である。また、強度判定手段１０５では、
周波数成分ｋ＝０〜３において、強度Ｐ(k) が最大とな
るｋを検出結果としたが、ｋごとに適当なしきい値を設
定し、強度Ｐ(k) がそのしきい値より大きい場合に、そ
れに対応する特異点が検出されたとしても構わない。さ
らに、ゼロ交差数検出手段２０４において、ゼロ交差数
の代わりに山谷の数を用いても、本発明が有効であるこ
とは容易に推察される。
【００４１】次に図１及び図２の実施例の効果を説明す
る。
る。
【００４２】図３において、円の法線方向と水平方向の
なす角度θは、接線方向の角度θ1を用いて、θ＝θ1
−π／２として与えられるので、法線方向を表すベクト
ルは、 （Ｒ1 cos ２θ，Ｒ1 sin ２θ）＝−（Ｒ1 cos ２
θ1 ，Ｒ1 sin ２θ1 ） となる。つまり、円の法線方向を表すベクトルを用いて
得られた方向分布は、円の接線方向を用いた場合の結果
と符号が反転するだけなので、フーリエ展開後の強度の
値は、接線方向を表すベクトルを用いた場合と同じであ
る。すなわち、図１０に示した渦状パターンと直交する
図１６に示す放射状パターンを用いた場合でも、渦状パ
ターンを用いた場合と全く同様の特異点検出結果を得る
ことができる。従って、この場合でも本発明は有効であ
る。
なす角度θは、接線方向の角度θ1を用いて、θ＝θ1
−π／２として与えられるので、法線方向を表すベクト
ルは、 （Ｒ1 cos ２θ，Ｒ1 sin ２θ）＝−（Ｒ1 cos ２
θ1 ，Ｒ1 sin ２θ1 ） となる。つまり、円の法線方向を表すベクトルを用いて
得られた方向分布は、円の接線方向を用いた場合の結果
と符号が反転するだけなので、フーリエ展開後の強度の
値は、接線方向を表すベクトルを用いた場合と同じであ
る。すなわち、図１０に示した渦状パターンと直交する
図１６に示す放射状パターンを用いた場合でも、渦状パ
ターンを用いた場合と全く同様の特異点検出結果を得る
ことができる。従って、この場合でも本発明は有効であ
る。
【００４３】また、円の接線方向と隆線方向の外積によ
って方向分布を求めた場合、接線方向の角度をθ1 、隆
線方向の角度をθ2 とすると、 Ｒ1 Ｒ2 （cos ２θ1 sin ２θ2 −sin ２θ1 cos ２θ
2 ）＝Ｒ1 Ｒ2 sin ２（θ2 −θ1 ） となる。すなわち、接線と隆線が同じ方向の場合、ある
いは直交する場合にこの値は０となり、±４５度の場合
に−Ｒ1 Ｒ2 あるいはＲ1 Ｒ2 の値をとる。したがっ
て、ウォールの方向分布は常に０になってしまうが、ル
ープ、デルタ、ペリフェリーについては、内積によって
得られた方向分布と類似した方向分布が得られるので、
これをフーリエ展開し、各周波数成分ごとの強度を求め
ることによって、あるいはゼロ交差数を求めることによ
って、ウォール以外の特異点を検出することができる。
従って、この場合でも本発明は有効である。もちろん、
円の法線方向と隆線方向の外積によって方向分布を求め
た場合も同様に有効である。
って方向分布を求めた場合、接線方向の角度をθ1 、隆
線方向の角度をθ2 とすると、 Ｒ1 Ｒ2 （cos ２θ1 sin ２θ2 −sin ２θ1 cos ２θ
2 ）＝Ｒ1 Ｒ2 sin ２（θ2 −θ1 ） となる。すなわち、接線と隆線が同じ方向の場合、ある
いは直交する場合にこの値は０となり、±４５度の場合
に−Ｒ1 Ｒ2 あるいはＲ1 Ｒ2 の値をとる。したがっ
て、ウォールの方向分布は常に０になってしまうが、ル
ープ、デルタ、ペリフェリーについては、内積によって
得られた方向分布と類似した方向分布が得られるので、
これをフーリエ展開し、各周波数成分ごとの強度を求め
ることによって、あるいはゼロ交差数を求めることによ
って、ウォール以外の特異点を検出することができる。
従って、この場合でも本発明は有効である。もちろん、
円の法線方向と隆線方向の外積によって方向分布を求め
た場合も同様に有効である。
【００４４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
を用いれば、特異点の検出精度が隆線方向パターンの回
転に依存しないため、従来手法に比べて精度良い特異点
が可能となる。また、本発明では標準パターンを作成す
る必要がないため、予め目視によって特異点を選定し、
隆線の方向分布の標準パターンを作成する手間を必要と
しない。
を用いれば、特異点の検出精度が隆線方向パターンの回
転に依存しないため、従来手法に比べて精度良い特異点
が可能となる。また、本発明では標準パターンを作成す
る必要がないため、予め目視によって特異点を選定し、
隆線の方向分布の標準パターンを作成する手間を必要と
しない。
【図１】本発明の第一の実施例による指紋特異点検出方
法を実施する指紋特異点検出装置のブロック図である。
法を実施する指紋特異点検出装置のブロック図である。
【図２】本発明の第二の実施例による指紋特異点検出方
法を実施する指紋特異点検出装置のブロック図である。
法を実施する指紋特異点検出装置のブロック図である。
【図３】本発明の作用を説明するための図である。
【図４】本発明の作用を説明するための図である。
【図５】本発明を説明するための図である。
【図６】図１の第一の実施例を説明するためのフローチ
ャートである。
ャートである。
【図７】図１の第一の実施例を説明するためのフローチ
ャートである。
ャートである。
【図８】図１の第一の実施例を説明するためのフローチ
ャートである。
ャートである。
【図９】図１の第一の実施例を説明するためのフローチ
ャートである。
ャートである。
【図１０】本発明を説明するための図である。
【図１１】本発明を説明するための図である。
【図１２】本発明を説明するための図である。
【図１３】本発明を説明するための図である。
【図１４】図２の第二の実施例を説明するためのフロー
チャートである。
チャートである。
【図１５】図２の第二の実施例を説明するためのフロー
チャートである。
チャートである。
【図１６】図１及び図２の実施例の効果を説明するため
の図である。
の図である。
【図１７】従来の方法を実施するための装置のブロック
図である。
図である。
【図１８】隆線方向パターンの例を示した図である。
【図１９】従来の方法を説明するための図である。
【図２０】従来の方法で得られる方向分布パターンの例
を示す図である。
を示す図である。
【図２１】従来の方法を説明するための図である。
【図２２】従来の方法を説明するめの図である。
１０１ 隆線方向パターン １０２ 方向分布作成部 １０３ フーリエ展開部 １０４ 強度計算部 １０５ 強度判定部 １０６ 検出結果 ２０１ 隆線方向パターン ２０２ 方向分布作成部 ２０３ 平滑化部 ２０４ ゼロ交差検出部 ２０５ 検出結果
Claims (8)
- 【請求項１】 指紋の隆線方向を表す隆線方向パターン
から指紋特異点を検出する指紋特異点方法において、 前記隆線方向パターン上の注目点を中心とする円上の複
数点の各々における接線方向を表す接線方向ベクトルと
前記円上の複数点の各々における隆線方向を表す隆線方
向ベクトルとの内積値を求め、前記円上の複数点におい
て求められた内積値の分布を隆線方向分布として出力す
る第１のステップと、 前記隆線方向分布から前記指紋特異点を検出する第２の
ステップとを含むことを特徴とする指紋特異点検出方
法。 - 【請求項２】 前記第２のステップは、 前記隆線方向分布をフーリエ展開し、フーリエ展開され
た結果を周波数成分ごとに出力するステップと、 前記フーリエ展開された結果の前記周波数成分ごとの強
度を計算するステップと、 前記周波数成分ごとの前記強度から前記指紋特異点を検
出するステップとを含むことを特徴とする請求項１に記
載の指紋特異点検出方法。 - 【請求項３】 前記第２のステップは、 前記隆線方向分布を複数の部分分布に分け、これら複数
の部分分布を、複数の平滑化された部分分布にそれぞれ
平滑化するステップと、 前記複数の平滑化された部分分布をフーリエ展開し、フ
ーリエ展開された結果を周波数成分ごとに出力するステ
ップと、 前記フーリエ展開された結果の前記周波数成分ごとの強
度を計算するステップと、 前記周波数成分ごとの前記強度から前記指紋特異点を検
出するステップとを含むことを特徴とする請求項１に記
載の指紋特異点検出方法。 - 【請求項４】 前記第２のステップは、 前記隆線方向分布を複数の部分分布に分け、これら複数
の部分分布を、複数の平滑化された部分分布にそれぞれ
平滑化するステップと、 前記複数の平滑化された部分分布の値の極性を基に、正
から負への極性の変化及び負から正への極性の変化の回
数をゼロ交差数として検出し、このゼロ交差数から前記
指紋特異点を検出するステップとを含むことを特徴とす
る請求項１に記載の指紋特異点検出方法。 - 【請求項５】 指紋の隆線方向を表す隆線方向パターン
から指紋特異点を検出する指紋特異点検出装置におい
て、 前記隆線方向パターン上の注目点を中心とする円上の複
数点の各々における接線方向を表す接線方向ベクトルと
前記円上の複数点の各々における隆線方向を表す隆線方
向ベクトルとの内積値を求め、前記円上の複数点におい
て求められた内積値の分布を隆線方向分布として出力す
る第１の手段と、 前記隆線方向分布から前記指紋特異点を検出する第２の
手段とを含むことを特徴とする指紋特異点検出装置。 - 【請求項６】 前記第２の手段は、 前記隆線方向分布をフーリエ展開し、フーリエ展開され
た結果を周波数成分ごとに出力するフーリエ展開手段
と、 前記フーリエ展開された結果の前記周波数成分ごとの強
度を計算する強度計算手段と、 前記周波数成分ごとの前記強度から前記指紋特異点を検
出する手段とを含むことを特徴とする請求項５に記載の
指紋特異点検出装置。 - 【請求項７】 前記第２の手段は、 前記隆線方向分布を複数の部分分布に分け、これら複数
の部分分布を、複数の平滑化された部分分布にそれぞれ
平滑化する平滑化手段と、 前記複数の平滑化された部分分布をフーリエ展開し、フ
ーリエ展開された結果を周波数成分ごとに出力するフー
リエ展開手段と、 前記フーリエ展開された結果の前記周波数成分ごとの強
度を計算する強度計算手段と、 前記周波数成分ごとの前記強度から前記指紋特異点を検
出する手段とを含むことを特徴とする請求項５に記載の
指紋特異点検出装置。 - 【請求項８】 前記第２の手段は、 前記隆線方向分布を複数の部分分布に分け、これら複数
の部分分布を、複数の平滑化された部分分布にそれぞれ
平滑化する平滑化手段と、 前記複数の平滑化された部分分布の値の極性を基に、正
から負への極性の変化及び負から正への極性の変化の回
数をゼロ交差数として検出し、このゼロ交差数から前記
指紋特異点を検出するゼロ交差数検出手段とを含むこと
を特徴とする請求項５に記載の指紋特異点検出装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7266661A JP2735098B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 指紋特異点検出方法及び指紋特異点検出装置 |
| US08/731,265 US6002784A (en) | 1995-10-16 | 1996-10-11 | Apparatus and method for detecting features of a fingerprint based on a set of inner products corresponding to a directional distribution of ridges |
| AU68182/96A AU706175B2 (en) | 1995-10-16 | 1996-10-14 | Apparatus and method for detecting features of fingerprint |
| DE69614958T DE69614958T2 (de) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | Gerät und Verfahren zur Detektion von Fingerabdruckmerkmalen |
| CA002187840A CA2187840C (en) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | Apparatus and method for detecting features of fingerprint |
| EP96250230A EP0768616B1 (en) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | Apparatus and method for detecting features of fingerprint |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7266661A JP2735098B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 指紋特異点検出方法及び指紋特異点検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09114978A JPH09114978A (ja) | 1997-05-02 |
| JP2735098B2 true JP2735098B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=17433937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7266661A Expired - Lifetime JP2735098B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 指紋特異点検出方法及び指紋特異点検出装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6002784A (ja) |
| EP (1) | EP0768616B1 (ja) |
| JP (1) | JP2735098B2 (ja) |
| AU (1) | AU706175B2 (ja) |
| CA (1) | CA2187840C (ja) |
| DE (1) | DE69614958T2 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6175923B1 (en) * | 1998-12-08 | 2001-01-16 | Senetas Corporation Limited | Secure system using images of only part of a body as the key where the part has continuously-changing features |
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