JP2729451B2 - Laser marking method and apparatus - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はレーザマーキング方法お
よび装置に係り、特に半導体製造工程で製品に番号や識
別記号等のマークをマーキングさせるのに好適なレーザ
マーキング方法および装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser marking method and apparatus, and more particularly to a laser marking method and apparatus suitable for marking a product with a mark such as a number or an identification symbol in a semiconductor manufacturing process.

【０００２】[0002]

【従来の技術】工場生産ラインで製造される金属、樹
脂、セラミック、ペーパ、布等のワーク上に、任意な文
字、記号、図形、模様等でなるパターンをマーキングす
る場合、従来から一般的にインクジェット方式が採用さ
れている。これは特開昭５７−１４９８１号公報に開示
されているものが知られており、搬送装置によってワー
クとインクジェットのノズルの相対位置を変えることに
よって記録する方式とされ、搬送装置とインクジェット
との連動が不可欠となっている。2. Description of the Related Art When marking a pattern made of arbitrary characters, symbols, figures, patterns, etc. on a work such as metal, resin, ceramic, paper, cloth, etc., which is manufactured in a factory production line, it has been generally used in the past. An ink jet system is employed. This is known from Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 57-14981, in which recording is performed by changing the relative position of a work and an inkjet nozzle by a transport device. Has become indispensable.

【０００３】しかるに、最近の半導体製品等のワーク小
型化に伴い、記録するマークも小さくかつ精密性が要求
されてきている。このため、インクジェット方式に代
り、レーザマーキング装置が着目されている。従来のレ
ーザマーキング装置は、レーザ発振器からのレーザ光を
偏向器によってマスク面にラスタ走査させ、マスクを透
過したレーザ光をワークの表面にマーキングさせるよう
にしている。この場合において、刻印マークに相当する
マークを液晶マスクに分割表示させ、これをラスタ走査
させて透過させた後、偏向器によりワーク表面に照射し
て刻印する走査をなし、これを連続した分割パターンに
ついても繰り返して行うことにより全体パターンを刻印
する方法が知られている（特開平２−１８７２８７
号）。[0003] However, with the recent miniaturization of works such as semiconductor products, small marks to be recorded and high precision are required. For this reason, a laser marking device has attracted attention instead of the ink jet system. In a conventional laser marking apparatus, laser light from a laser oscillator is raster-scanned on a mask surface by a deflector, and laser light transmitted through the mask is marked on the surface of a work. In this case, the mark corresponding to the engraved mark is divided and displayed on the liquid crystal mask, this is raster-scanned, transmitted, and then irradiated on the work surface by the deflector to perform engraving. A method of engraving the entire pattern by repeatedly performing the above is also known (JP-A-2-187287).
issue).

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のレー
ザマーキング装置は、マスクに表示されたパターンに入
射するレーザ光をラスタ走査させる偏向器を必要とする
とともに、マスクを透過したレーザ光をワーク搬送ライ
ンに向けて偏向するに際しても分割パターンを合成する
ようにワーク平面に沿ってＸＹ偏向走査させる偏向器を
必要としていた。このため、ＸＹ偏向走査駆動系がマス
クへのレーザ光入射経路においても、マスク透過光路に
おいても必要とされ、設備負荷が大きく、制御対象が多
いという欠点があった。However, the conventional laser marking apparatus requires a deflector for raster-scanning a laser beam incident on a pattern displayed on a mask, and transports the laser beam transmitted through the mask to a workpiece. When deflecting toward the line, a deflector for performing XY deflection scanning along the work plane is required so as to combine the divided patterns. For this reason, the XY deflection scanning drive system is required both in the path of laser beam incidence to the mask and in the path of light transmitted through the mask.

【０００５】また、従来の液晶マスクを用いたマーキン
グ装置では、マスクにパターンを時分割表示させるよう
にしているが、刻印精度はマスクのドットピッチに依存
している。すなわち、マスクに表示するマークはマスク
ドットのレーザ光透過させるか否かによってオンオフ駆
動されるため、ドットピッチ以上の表示精度をもたせる
ことができない。このため、ドット間の隙間はマーキン
グできないため、刻印マークが不鮮明となる原因となっ
ていた。Further, in a conventional marking device using a liquid crystal mask, a pattern is displayed on the mask in a time-division manner, but the engraving accuracy depends on the dot pitch of the mask. That is, since the mark displayed on the mask is driven on and off depending on whether or not the mask dot transmits the laser beam, it is impossible to provide a display accuracy higher than the dot pitch. For this reason, the gaps between the dots cannot be marked, which causes the engraved marks to be unclear.

【０００６】本発明の目的は、上記従来の問題点に着目
し、ワークへのレーザマーキングを行うに際し、刻印マ
ークをマスクに分割表示させてマーキングを行う場合に
特に有効で、刻印精度を向上させるとともに、分割合成
による刻印作業を簡易に行うことができるようにしたレ
ーザマーキング方法および装置を提供するにある。An object of the present invention is to pay attention to the above-mentioned conventional problems, and it is particularly effective when performing marking by dividing and displaying an engraved mark on a mask when performing laser marking on a work, thereby improving the engraving accuracy. Another object of the present invention is to provide a laser marking method and a laser marking device that can easily perform a marking operation by dividing and combining.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るレーザマーキング方法は、マーキング
パターンを表示するマスクにレーザ発振器からのレーザ
光を第１偏向器により走査させてレーザ光を選択透過さ
せた後、当該マスクの透過光を第２偏向器により偏向し
てワーク表面にマーキング照射するレーザマーキング方
法において、前記マスクには前記第１偏向器による１走
査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示さ
せ、第１偏向器による各分割パターンの１走査透過光毎
に前記第２偏向器によるワーク表面への偏向位置を移動
させて刻印をなすように構成した。In order to achieve the above object, a laser marking method according to the present invention provides a laser beam from a laser oscillator scanned by a first deflector on a mask for displaying a marking pattern. In the laser marking method in which the transmitted light of the mask is deflected by the second deflector and the surface of the work is irradiated with the marking after selectively transmitting the mask, the mask has a divided pattern corresponding to one scan line by the first deflector. Are sequentially and continuously displayed, and the deflection position on the work surface by the second deflector is moved for each scanning transmission light of each divided pattern by the first deflector.
It was configured to make a stamp .

【０００８】また、第２のレーザマーキング方法は、マ
ーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器か
らのレーザ光を第１偏向器により走査させてレーザ光を
選択透過させた後、当該マスクの透過光を第２偏向器に
より偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザマ
ーキング方法において、複数のマスクにマスクドットの
ほぼ半ピッチ分だけずらして同一の刻印パターンを表示
させておき、マスクへの入射レーザ光を分割して走査さ
せるとともに、透過光を合成してワーク表面に照射させ
て刻印をなすように構成した。In a second laser marking method, a laser beam from a laser oscillator is scanned by a first deflector on a mask capable of displaying a marking pattern to selectively transmit the laser beam, and then transmitted through the mask. In the laser marking method in which the laser beam is deflected by the second deflector to irradiate the work surface with the marking, the same engraving pattern is displayed on a plurality of masks while being shifted by substantially a half pitch of the mask dot, and the laser beam incident on the mask Was divided and scanned, and transmitted light was synthesized and irradiated onto the work surface to form a mark.

【０００９】更に、本発明に係るレーザマーキング装置
は、レーザ発振器と、このレーザ発振器からのレーザ光
を１方向に走査する第１偏向器と、当該第１偏向器から
のレーザ光の走査ラインに一致するように刻印パターン
を分割した分割パターンを表示するマスクと、該マスク
を選択透過した走査光を更に偏向してワーク表面のマー
キング位置を移動させる第２偏向器とを備え、前記マス
クには前記分割パターンを連続して表示させるとともに
第２偏向器を各分割パターン走査光ごとに偏向させるよ
うに制御させ、合成されたパターンをワークに刻印させ
る制御手段を備えたものとした。Further, a laser marking device according to the present invention comprises a laser oscillator, a first deflector for scanning laser light from the laser oscillator in one direction, and a scanning line for the laser light from the first deflector. A mask for displaying a divided pattern obtained by dividing the engraved pattern so as to match, and a scanning light selectively transmitted through the mask, further deflected to form a mark on the work surface .
And a second deflector to move the king position, the division pattern of the second deflector is by <br/> controlled so deflect the respective divided pattern scanning light your capital with displaying in succession on the mask And control means for imprinting the synthesized pattern on the work.

【００１０】本発明に係る第２のレーザマーキング装置
としては、レーザ発振器と、このレーザ発振器からのレ
ーザ光を複数方向に分割する光学系と、分割光路の各々
に配置され同一の刻印パターンを表示するとともにマス
クドットがずれるように表示する複数のレーザ光透過型
マスクと、当該マスク透過光を合成する光学系とを備
え、合成されたパターンをワークに刻印可能としたもの
である。As a second laser marking device according to the present invention, a laser oscillator, an optical system for splitting laser light from the laser oscillator in a plurality of directions, and the same marking pattern arranged on each of the split optical paths are displayed. And a plurality of laser light transmitting masks for displaying the mask dots so as to be shifted, and an optical system for synthesizing the transmitted light of the mask, so that the synthesized pattern can be imprinted on the work.

【００１１】この場合において、前記透過型マスクは透
過型液晶マスクとすればよい。In this case, the transmission type mask may be a transmission type liquid crystal mask.

【００１２】[0012]

【作用】上記構成によれば、第１偏向器の１方向走査ラ
イン、例えばＸ方向に対応するように刻印パターンを分
割させた分割パターンがマスクに順次表示され、これが
各分割パターン毎に走査される。この場合、第１偏向器
は１方向走査だけで足りるため、例えばポリゴンミラー
のみによって構成することができる。マスクの走査透過
光は第２偏向器によってワーク表面に照射されるが、こ
れはＸ方向は固定し、Ｙ方向に１分割パターンの透過光
が終了した時に分割ピッチ分だけ移動させる。したがっ
て、マスクの入射光側をＸ方向走査させ、出射光側をＹ
方向走査させるものとなり、この両者によって分割され
たマークを合成刻印できるのである。したがって、マス
クへの照射レーザをラスタ走査させる必要がなくなり、
制御駆動させる要素を減縮させることができるため、制
御性を向上させることができる。According to the above construction, a one-direction scanning line of the first deflector, for example, a division pattern obtained by dividing the engraving pattern so as to correspond to the X direction is sequentially displayed on the mask, and this is scanned for each division pattern. You. In this case, since the first deflector only needs to scan in one direction, the first deflector can be constituted by, for example, only a polygon mirror. The scan transmitted light of the mask is irradiated on the work surface by the second deflector, which is fixed in the X direction and is moved by the division pitch in the Y direction when the transmitted light of one divided pattern is completed. Therefore, the incident light side of the mask is scanned in the X direction, and the outgoing light side is scanned in the Y direction.
The scanning is performed in the direction, and the mark divided by these two can be combined and engraved. Therefore, there is no need to perform raster scanning with the irradiation laser to the mask,
Since the elements to be controlled and driven can be reduced, controllability can be improved.

【００１３】また、マスクへの分割パターンの表示に際
して複数のマスクを設けてこれに同一のパターンを表示
させる。このときの表示パターンは互いのマスクのドッ
トピッチを埋めるようにずらして表示する。そしてこの
各々にレーザ光を分割して走査させ、透過光を合成して
第２偏向器に加えるようにする。このように構成するこ
とで、マスク透過光は合成に際して複数のマスクドット
の隙間を埋めるようにワークに照射されるため、マスク
ドットのピッチ間隔により制限されていた刻印精度を整
数倍で向上させることができるものとなる。In displaying a divided pattern on a mask, a plurality of masks are provided and the same pattern is displayed on the mask. The display patterns at this time are shifted so as to fill the dot pitch of each mask. Then, each of the laser beams is divided and scanned, and the transmitted light is synthesized and applied to the second deflector. With this configuration, since the mask transmitted light is irradiated onto the work so as to fill the gap between the plurality of mask dots during the synthesis, the engraving accuracy limited by the pitch interval of the mask dots can be improved by an integral multiple. Can be done.

【００１４】[0014]

【実施例】以下に本発明に係るレーザマーキング方法お
よび装置の具体的実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the laser marking method and apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【００１５】図１は、実施例に係るレーザマーキング装
置の構成図である。このレーザマーキング装置は、レー
ザ光源となるＹＡＧレーザ発振器１を有し、該ＹＡＧレ
ーザ発振器１からのレーザ光を光学レンズ２で整形させ
た後、Ｘ方向のみの１方向に偏向走査させる第１偏向器
３を備えている。第１偏向器３はＸ方向偏向器なるポリ
ゴンミラーである。実施例のポリゴンミラー３は３６面
体であり、その回転は数段階の定速回転モードとしてあ
り、ワーク毎に最適なモードが選択される。つまり、ポ
リゴンミラー３の一面は後述する液晶マスク上でのＸ方
向の１行に相当し、該ポリゴンミラー３の１回転でＸ方
向の３６個のライン状の分割ブロックの走査を行うこと
が可能である。FIG. 1 is a configuration diagram of a laser marking device according to an embodiment. This laser marking device has a YAG laser oscillator 1 serving as a laser light source, and after shaping a laser beam from the YAG laser oscillator 1 with an optical lens 2, deflects and scans in one direction only in the X direction. A vessel 3 is provided. The first deflector 3 is a polygon mirror serving as an X-direction deflector. The polygon mirror 3 of the embodiment is a 36-sided body, and its rotation is a constant-speed rotation mode of several stages, and an optimum mode is selected for each work. That is, one surface of the polygon mirror 3 corresponds to one row in the X direction on the liquid crystal mask described later, and one rotation of the polygon mirror 3 can scan 36 line-shaped divided blocks in the X direction. It is.

【００１６】また、このような第１偏向器３にて走査さ
れるレーザ光を受光し、これを電気的に透過又は散乱さ
せるパターンを任意に表示できる液晶マスク６が設けら
れており、これによって所望のマークパターンを形成し
得るようにしている。液晶マスク６は、いわゆる高分子
複合形液晶マスクと呼ばれるものであり、例えば「液晶
と樹脂とからなる液晶樹脂複合体（特開平２年第９６７
１４号参照）」がこれに相当する。この液晶マスクは、
無数の平行電極線が液晶表裏に、かつ、該表裏間で互い
に交差するように設けられており、電圧無印加部の液晶
はレーザ光散乱状態であるが、電圧印加部の液晶はレー
ザ光透過状態となる液晶マスクである。このような透過
状態と非透過状態を切替えられる液晶は、本装置に適用
可能であり、例えばＴＮ型液晶等は適用可能である。そ
こでかかる電気的特性を利用し、該電極に選択的に電圧
を印加し、所望のパターンを瞬時に画像化可能としてい
る。本実施例の高分子複合形液晶を用いた液晶マスク６
は、従来の液晶マスクと異なり、偏向板が不要である。
この結果、該液晶マスクを透過したレーザ光の強度は従
来の液晶マスクと比較して２倍以上となる。本実施例で
はこの液晶マスク６を縦８ドット×横２５６ドットでな
るライン状のドットマトリクスでライン状の各分割パタ
ーンを表示している。尚、この液晶マスクは、例えば１
６ドット×５１２ドットのほか、各種準備することがで
きる。Further, there is provided a liquid crystal mask 6 which can receive a laser beam scanned by the first deflector 3 and arbitrarily display a pattern for transmitting or scattering the laser beam. A desired mark pattern can be formed. The liquid crystal mask 6 is a so-called polymer composite type liquid crystal mask, for example, “a liquid crystal resin composite composed of liquid crystal and resin (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 14)). This liquid crystal mask is
Innumerable parallel electrode lines are provided on the front and back of the liquid crystal and intersect each other between the front and back sides. The liquid crystal in the voltage non-applied portion is in a state of scattering laser light, but the liquid crystal in the voltage applied portion is transparent to laser light. This is a liquid crystal mask that is in a state. Such a liquid crystal that can be switched between a transmissive state and a non-transmissive state is applicable to the present device, and for example, a TN type liquid crystal is applicable. Therefore, by utilizing such electric characteristics, a voltage is selectively applied to the electrode, and a desired pattern can be instantaneously imaged. Liquid crystal mask 6 using polymer composite liquid crystal of this embodiment
Does not require a deflecting plate, unlike a conventional liquid crystal mask.
As a result, the intensity of the laser light transmitted through the liquid crystal mask is twice or more as compared with the conventional liquid crystal mask. In the present embodiment, the liquid crystal mask 6 displays each of the line-shaped divided patterns by a line-shaped dot matrix of 8 dots vertically and 256 dots horizontally. The liquid crystal mask is, for example, 1
Various preparations other than 6 dots × 512 dots can be made.

【００１７】このような液晶マスク６には刻印すべきパ
ターンを分割して表示するようにしており、特に表示さ
れる分割パターンは図２に示すように、上記第１偏向器
３を介して走査される１走査ラインに相当する幅で表示
されるように構成されている。これは制御器１１によっ
て行われ、次のように表示される。すなわち、図５に示
す図形９１と文字９２とからなる全体パターン９を、制
御器１１内のメインメモリに横２５６ドット×縦１２８
ドット分に、印字部を１、非印字部を０とする印字情報
として入力して記憶させておく。これを第１偏向器３か
らのレーザ光が１走査で照射できるように、縦１６分割
のライン状の分割パターン情報Ａ〜Ｐに細分割する。こ
のような全体パターン情報および分割パターン情報に対
して、制御器１１では、図４に示すように、液晶マスク
６へは分割パターンＡから順次表示させるのである（同
図（１））。On the liquid crystal mask 6, a pattern to be imprinted is divided and displayed. In particular, the displayed divided pattern is scanned through the first deflector 3 as shown in FIG. It is configured to be displayed with a width corresponding to one scanning line. This is done by the controller 11 and is displayed as follows: That is, the entire pattern 9 composed of the graphic 91 and the characters 92 shown in FIG.
For each dot, the print portion is inputted and stored as print information of 1 for the non-print portion and 0 for the non-print portion. This is subdivided into line-shaped division pattern information A to P of 16 divisions so that the laser light from the first deflector 3 can be irradiated in one scan. The controller 11 sequentially displays the entire pattern information and the divided pattern information on the liquid crystal mask 6 from the divided pattern A as shown in FIG. 4 ((1) in FIG. 4).

【００１８】上記液晶マスク６の出側には形成パターン
に対応して透過したレーザ光をマーキング対象のワーク
１０の表面に向けて偏向するための第２偏向器７が設け
られている。この第２偏向器７は液晶マスク６を透過し
たレーザ光を直接反射するミラーからなるＸ方向偏向器
７Ｘと、このＸ方向偏向器７Ｘからのレーザ光をＹ方向
に偏向することができるレンズからなるＹ方向偏向器７
Ｙとから構成されている。この第２偏向器７は液晶マス
ク６に表示された分割パターンの走査が完了するまで、
当該パターンの印字領域に向って停止している。そし
て、液晶マスク６の分割パターンが変化する間に、当該
新たな分割パターンの印字領域に向って駆動され、該位
置に至った後、当該分割パターンの走査が完了するまで
この位置に停止されている。On the exit side of the liquid crystal mask 6, there is provided a second deflector 7 for deflecting the laser beam transmitted according to the pattern to be formed toward the surface of the workpiece 10 to be marked. The second deflector 7 includes an X-direction deflector 7X including a mirror that directly reflects the laser beam transmitted through the liquid crystal mask 6, and a lens that can deflect the laser beam from the X-direction deflector 7X in the Y direction. Y-direction deflector 7
Y. The second deflector 7 keeps scanning until the scanning of the divided pattern displayed on the liquid crystal mask 6 is completed.
It stops toward the printing area of the pattern. Then, while the division pattern of the liquid crystal mask 6 changes, the liquid crystal mask 6 is driven toward the printing area of the new division pattern, and after reaching the position, is stopped at this position until scanning of the division pattern is completed. I have.

【００１９】このようなＸ方向偏向器７Ｘには反射光を
Ｘ方向に位置決めするための駆動モータ７１が取り付け
られ、また、Ｙ方向偏向器７Ｙにはワーク１０の印字面
に沿って当該Ｙ方向偏向器７Ｙを平行移動させるための
手段７２、７３が取り付けられている。Ｙ方向偏向器７
Ｙの駆動機構の内、７２は制御器１１によって作動タイ
ミング指令によって駆動されるモータであり、７３は平
行移動テーブルである。両者はモータ７２の出力軸に連
結されたリンク機構を介して連結され、モータ７２の駆
動によってテーブル７３をＹ方向に平行移動させること
が可能とされている。更に、この実施例では前記Ｘ方向
偏向器７ＸとＹ方向偏向器７Ｙとの間に対物レンズ８が
配置されており、これはＹ方向偏向器７Ｙから独立させ
て第２偏向器７でのレンズ系の小型化を図りつつ、印字
の位置ずれや照射レーザ光の密度低下を防止させるよう
にしている。A drive motor 71 for positioning the reflected light in the X direction is attached to the X-direction deflector 7X, and the Y-direction deflector 7Y is arranged along the printing surface of the work 10 in the Y-direction. Means 72, 73 for moving the deflector 7Y in parallel are attached. Y direction deflector 7
In the Y drive mechanism, reference numeral 72 denotes a motor driven by the controller 11 according to an operation timing command, and reference numeral 73 denotes a translation table. Both are connected via a link mechanism connected to the output shaft of the motor 72, and the table 73 can be translated in the Y direction by driving the motor 72. Further, in this embodiment, an objective lens 8 is disposed between the X-direction deflector 7X and the Y-direction deflector 7Y, and is independent of the Y-direction deflector 7Y. The size of the system is reduced, and the displacement of the printing position and the decrease in the density of the irradiation laser beam are prevented.

【００２０】ここで、前記ＹＡＧレーザ発振器１はＣＷ
発振をＱスイッチによって制御させる方式とされてい
る。Ｑスイッチは音響光学効果を利用する方法（Ａ／
Ｏ）によっている。このＱスイッチによるレーザ光の発
振強度の低下の程度は、例えばワーク１０への印字が可
能なレーザエネルギの最小値よりも小さくすればよい。Here, the YAG laser oscillator 1 has a CW
The oscillation is controlled by a Q switch. The Q switch uses the acousto-optic effect (A /
O). The degree of the decrease in the oscillation intensity of the laser light by the Q switch may be, for example, smaller than the minimum value of the laser energy capable of printing on the work 10.

【００２１】また、第１偏向器３のレーザ光入射経路に
は集光整形光学系が設置されている。これは各偏向器３
への入射レーザ光が大径ビームであったり、偏向角を有
するときに、これらを集光整形させて印字の変形、ばら
つき、レーザ損失等を軽減させるために設けられる。第
１偏向器３の集光整形光学系はレーザ発振器１とポリゴ
ンミラー３の間に設けられたコリメータレンズ２によっ
て構成されている。これはレーザ発振器１からのレーザ
光Ｐ１のビーム径が大きい場合のビームのエネルギ密度
を増大させるために設けられる。A focusing and shaping optical system is provided on the laser beam incident path of the first deflector 3. This is each deflector 3
When the laser beam incident on the laser beam is a large-diameter beam or has a deflection angle, the beam is condensed and shaped to reduce deformation, variation, laser loss, and the like of printing. The condensing and shaping optical system of the first deflector 3 is constituted by a collimator lens 2 provided between the laser oscillator 1 and the polygon mirror 3. This is provided to increase the energy density of the beam when the beam diameter of the laser beam P1 from the laser oscillator 1 is large.

【００２２】制御器１１は液晶マスク６、ポリゴンミラ
ー３の駆動部３２、レーザ発振器１のＱスイッチ、第２
偏向器７におけるＸ方向偏向器７Ｘの駆動部７１および
Ｙ方向偏向器７Ｙの駆動モータ７２を制御対象とし、次
のような処理を行う。The controller 11 includes a liquid crystal mask 6, a driving unit 32 for the polygon mirror 3, a Q switch for the laser oscillator 1,
The drive unit 71 of the X-direction deflector 7X and the drive motor 72 of the Y-direction deflector 7Y in the deflector 7 are controlled, and the following processing is performed.

【００２３】図３にフローチャートで示したように、制
御器１１はワーク上に印字すべき全体パターンをコンピ
ュータ１２により作成し、０または１のドット情報とし
て内部のメインメモリの予め定められたアドレス群内に
入力して記憶する（ステップ１）。次に、記憶した全体
パターン情報を複数のアドレス群でなるライン状のパタ
ーン情報に分割する（ステップ２）。次いで、レーザ発
振器１を駆動させるが、このとき、Ｑスイッチで当該レ
ーザ発振器１の発振レーザ光の強度を低下させる（ステ
ップ３）。そして、一つのライン状分割パターン情報を
メインメモリから制御器１１の一時メモリに抽出し（ス
テップ４）、この抽出した分割パターン情報を元に液晶
マスク６上に該分割パターンを表示させる（ステップ
５）。この表示ラインパターン幅はポリゴンミラー３に
よる１回のＸ方向走査で走査できるライン幅に一致させ
ておくように抽出表示させるものである。As shown in the flow chart of FIG. 3, the controller 11 creates an entire pattern to be printed on the work by the computer 12, and sets a predetermined address group in the internal main memory as dot information of 0 or 1 And store it (step 1). Next, the stored whole pattern information is divided into line-shaped pattern information composed of a plurality of address groups (step 2). Next, the laser oscillator 1 is driven. At this time, the intensity of the oscillation laser light of the laser oscillator 1 is reduced by the Q switch (step 3). Then, one piece of linear division pattern information is extracted from the main memory to the temporary memory of the controller 11 (step 4), and the division pattern is displayed on the liquid crystal mask 6 based on the extracted division pattern information (step 5). ). This display line pattern width is extracted and displayed so as to match the line width that can be scanned in one X-direction scan by the polygon mirror 3.

【００２４】次に、第２偏向器７を分割パターンのアド
レス情報にしたがってワーク１０上の刻印方向へ駆動さ
せた後、停止させる（ステップ６）。そして、Ｑスイッ
チでレーザを発振させつつ（ステップ７）、当該分割パ
ターンの走査が完了するまで（ステップ９）、第１偏向
器３で液晶マスク６上を走査させる（ステップ８）。走
査終了後、Ｑスイッチでレーザ発振を低強度化させる
（ステップ１０）。Next, the second deflector 7 is driven in the direction of marking on the work 10 in accordance with the address information of the divided pattern, and then stopped (step 6). Then, while the laser is oscillated by the Q switch (step 7), the liquid crystal mask 6 is scanned by the first deflector 3 until the scanning of the divided pattern is completed (step 9) (step 8). After the end of scanning, the intensity of laser oscillation is reduced by the Q switch (step 10).

【００２５】以上の工程（ステップ４〜１０）を、全て
の分割パターン情報の抽出が完了するまで、すなわち全
体パターンのワーク１０上での合成印字が完了するまで
繰り返す（ステップ１１）。そして、次のワーク１０が
なければレーザ発振器１の発振を停止させ（ステップ１
２、１３）、逆に次のワーク１０があればこのワーク１
０が印字位置まで搬送されるのを待ち（ステップ１４、
１５）、前回と同一パターンを印字するのであれば予め
決められた最初のアドレスである分割パターン情報の抽
出工程であるステップ４に戻り、上記と同一の処理を行
う。このようにしてワーク１０上に所定の全体パターン
を合成印字させることができる。The above steps (steps 4 to 10) are repeated until the extraction of all the divided pattern information is completed, that is, until the composite printing of the entire pattern on the work 10 is completed (step 11). If there is no next work 10, the oscillation of the laser oscillator 1 is stopped (step 1).
2, 13) Conversely, if there is the next work 10, this work 1
Wait for 0 to be transported to the printing position (step 14,
15) If the same pattern as that of the previous time is to be printed, the process returns to step 4 which is the step of extracting the divided pattern information which is the predetermined first address, and performs the same processing as described above. In this way, a predetermined whole pattern can be combined and printed on the work 10.

【００２６】なお、前回の印字パターンと異なるパター
ンをマーキングする場合には、制御器１１内のメインメ
モリに新規の全体パターンをドット情報として記憶格納
し（ステップ１）、以後同様の制御処理を繰り返す。When a pattern different from the previous print pattern is to be marked, a new entire pattern is stored as dot information in the main memory in the controller 11 (step 1), and the same control processing is repeated thereafter. .

【００２７】図４および図５は前記制御器１１における
制御のタイミングチャートと、マーキングパターンの例
である。図５に示す図形９１と文字９２とからなる全体
パターン９を、制御器１１内のメインメモリに横２５６
ドット×縦１２８ドット分に、印字部を１、非印字部を
０とする印字情報として入力して記憶させておく。これ
を縦１６分割のライン状の分割パターン情報Ａ〜Ｐに細
分割する。このような全体パターン情報および分割パタ
ーン情報に対して、制御器１１では、図４に示すよう
に、液晶マスク６へは分割パターンＡから順次表示させ
る（同図（１））。第２偏向器７のＸ方向偏向器７Ｘは
ワーク１０上の刻印開始位置に移動させ、以後全体パタ
ーンの刻印が完了するまで位置を固定する（同図
（２））。第２偏向器７Ｙはマスク７に分割パターンＡ
が表示された時に印字開始位置に移動して位置を固定
し、分割パターンＢに切換わったときにパターン分割ピ
ッチ分だけＹ方向に偏向走査させて先行して印字された
分割パターンＡに連続した印字位置に刻印させるように
する。これはマスクへの表示パターンが切換わる毎に行
われる（同図（３））。この間、第１偏向器３はマスク
６に表示された分割パターンをＸ走査し、第２偏向器７
側に透過レーザを出射する（同図（４））。レーザ発振
器１は第１偏向器３による各分割パターンに対応する１
回毎のＸ方向走査時にのみ発振させ、パターンの切換え
時にＱスイッチを働かせて発振強度を下げる（同図
（５））。FIGS. 4 and 5 are timing charts of control in the controller 11 and examples of marking patterns. The entire pattern 9 consisting of the figure 91 and the character 92 shown in FIG.
The print information is input and stored as 1 dot for the print portion and 0 for the non-print portion for 128 dots vertically. This is subdivided into line-shaped division pattern information A to P divided into 16 vertically. The controller 11 sequentially displays the entire pattern information and the divided pattern information on the liquid crystal mask 6 from the divided pattern A as shown in FIG. 4 ((1) in FIG. 4). The X-direction deflector 7X of the second deflector 7 is moved to the marking start position on the work 10, and thereafter the position is fixed until the marking of the entire pattern is completed (FIG. 2B). The second deflector 7 </ b> Y applies the divided pattern A
Is displayed, the position is moved to the print start position to fix the position, and when the pattern is switched to the division pattern B, it is deflected and scanned in the Y direction by the pattern division pitch to continue the division pattern A previously printed. Engrave the print position. This is performed every time the display pattern on the mask is switched (FIG. 3C). During this time, the first deflector 3 scans the divided pattern displayed on the mask 6 in the X direction, and the second deflector 7
The transmission laser is emitted to the side (FIG. 4D). The laser oscillator 1 corresponds to each of the divided patterns by the first deflector 3.
Oscillation is performed only at the time of scanning in the X direction each time, and the oscillation intensity is reduced by operating the Q switch at the time of pattern switching ((5) in the figure).

【００２８】なお、前述した制御器１１は、多数のワー
ク１０が順に設置されたテーブル１４の駆動モータ１３
と、当該モータ１３の回転および停止によってワーク１
０が所定の印字位置に到達したことを検出するセンサ１
４１、１５からの信号を入力するようになっている。制
御器１１はこれらの信号によってテーブル１４との作動
タイミングをも調整しつつ各ワーク１０の表面に同一の
全体パターンを合成印字させるようにしている。The above-described controller 11 is a drive motor 13 for a table 14 on which a number of works 10 are sequentially installed.
And the rotation of the motor 13 and the stop of the work 1
Sensor 1 for detecting that 0 has reached a predetermined printing position
Signals from 41 and 15 are input. The controller 11 controls the timing of operation with the table 14 based on these signals to combine and print the same overall pattern on the surface of each work 10.

【００２９】このような実施例によれば、液晶マスク６
に表示したパターンに入射させるレーザ光は１方向走査
させるだけで足りるため、走査制御機構が極めて簡単な
構成となり制御自体も簡易になる。したがって、刻印速
度が向上する。このような効果に加えて、実施例ではＹ
ＡＧレーザは光学系に対して熱負荷が少ない利点があ
る。第１偏向器３の走査は従来のビーム拡大による一括
照射と異なり、レーザビーム自体のいわゆるピンポイン
ト照射であるため、液晶マスク６へのレーザ照射を均一
化し、かつ高強度化する。しかもレーザ発振器１はＱス
イッチ付きであるため、走査における照射レーザ強度の
尖頭値を高くすることができる。更に液晶マスク６が偏
向板不要であるため、透過レーザ強度が２倍以上とな
る。この結果、ＹＡＧレーザ発振器１を小型化できるだ
けでなく、このような高強度化されたレーザビームをピ
ンポイント状態でマスク６に１方向走査させるだけでよ
いため、マークは明瞭鮮明に刻印されるものとなってい
る。According to such an embodiment, the liquid crystal mask 6
In this case, it is sufficient to scan the laser light in one direction in the pattern shown in FIG. 1, so that the scanning control mechanism has a very simple configuration and the control itself is also simplified. Therefore, the marking speed is improved. In addition to such effects, in the embodiment, Y
The AG laser has an advantage that the thermal load on the optical system is small. Since the scanning of the first deflector 3 is so-called pinpoint irradiation of the laser beam itself, unlike the conventional batch irradiation by beam expansion, the laser irradiation on the liquid crystal mask 6 is made uniform and the intensity is increased. Moreover, since the laser oscillator 1 has a Q switch, the peak value of the irradiation laser intensity in scanning can be increased. Further, since the liquid crystal mask 6 does not require a deflecting plate, the transmitted laser intensity becomes twice or more. As a result, not only can the YAG laser oscillator 1 be miniaturized, but also it is sufficient to scan the mask 6 in one direction on the mask 6 in a pinpoint state with such an intensified laser beam. It has become.

【００３０】第２偏向器７はワーク１０を移動させるこ
となく、大面積で全体パターンを合成印字できる効果を
備えている。なお、集光光学系は大径かつ偏向した偏向
器面への入射レーザ光を極小に集光させるため、印字の
変形、ばらつき、レーザ損失等を軽減させるとともに、
各偏向器の小型化を達成する。制御器１１は印字中、第
１偏向器３の駆動、液晶マスク６の表示変更、第２変更
器７の駆動およびＱスイッチの駆動タイミングを最適制
御する。特にＱスイッチ制御は印字が不要なレーザ光の
発振強度を落としてレーザ光の歪み、他所へのビーム散
乱等の弊害を防止する。したがって、金属やセラミック
等に対しても有効な合成印字をすることができる。しか
も、高強度レーザ光によるＹＡＧレーザマスクマーカの
自損をも防止できる。The second deflector 7 has the effect that the entire pattern can be synthesized and printed over a large area without moving the work 10. In addition, the condensing optical system condenses the laser beam incident on the large-diameter and deflected deflector surface to a minimum, thereby reducing the deformation, variation, laser loss, etc. of printing,
Achieve miniaturization of each deflector. During printing, the controller 11 optimally controls the driving of the first deflector 3, the display change of the liquid crystal mask 6, the driving of the second modifier 7, and the driving timing of the Q switch. In particular, the Q-switch control lowers the oscillation intensity of the laser light that does not require printing, thereby preventing the laser light from being distorted and the beam scattering to other places. Therefore, it is possible to perform effective composite printing even on metals, ceramics, and the like. Moreover, self-damage of the YAG laser mask marker due to the high intensity laser light can be prevented.

【００３１】次に、図６には他の実施例の構成を示す。
これは更にレーザビームを刻印精度が向上するように、
図１に示した実施例の液晶マスクを含むレーザ光の入射
部分と出射部分に改良を加えたものであり、図６は簡略
した構成で示している。すなわち、レーザ発振器１から
発振されるレーザ光をビームスプリッタ８０によって２
光路に分割させている。そして液晶マスクはビームスプ
リッタ８０からの透過光を受ける第１液晶マスク８１
と、他方の分路のレーザ光を受ける第２液晶マスク８２
とを設けている。実施例では第２液晶マスク８２にはミ
ラー８３の反射光を入射させるようにしている。また、
これらの第１、第２液晶マスク８１、８２の出射側では
各透過光を再度合成するようにミラー８４およびビーム
スプリッタ８５を介して合成し、これを集光してワーク
１０に照射させるように構成されている。FIG. 6 shows the structure of another embodiment.
This further improves the laser beam marking accuracy.
FIG. 6 shows a simplified configuration of the laser light including the liquid crystal mask of the embodiment shown in FIG. That is, the laser light oscillated from the laser oscillator 1 is split into two beams by the beam splitter 80.
It is split into optical paths. The liquid crystal mask is a first liquid crystal mask 81 that receives the transmitted light from the beam splitter 80.
And the second liquid crystal mask 82 that receives the laser light of the other shunt.
Are provided. In the embodiment, the reflected light of the mirror 83 is incident on the second liquid crystal mask 82. Also,
On the exit sides of the first and second liquid crystal masks 81 and 82, the transmitted lights are combined via the mirror 84 and the beam splitter 85 so as to be combined again, and are condensed and irradiated onto the work 10. It is configured.

【００３２】ここで、前記第１液晶マスク８１と第２液
晶マスク８２には、同一のパターンを表示させるように
しているが、この場合、一方のマスク８１（８２）への
表示パターンは、他方のマスク８２（８１）への表示パ
ターンに対してマスクのドット間隔の隙間を埋めるよう
に表示させている。すなわち、図７に示すように、液晶
マスク８１、８１への表示パターンは同一であるが、同
図（１）、（２）に示しているように表示箇所が第１マ
スク８１ではパターンが左下に位置するように、第２マ
スク８２ではパターンが右上に位置するように設定して
いる。そして、これらを合成して印字するパターンが同
図（３）に示すように、各液晶マスク８１、８２のマス
クドットの隙間を埋めるような印字となるように刻印を
施すようにしている。第１、第２液晶マスク８１、８２
への表示位置のずれはマスクの製造によって実現し、あ
るいはマスクの配置位置を調整することによって実現す
るようにすればよい。第１、第２液晶マスク８１、８２
としては透過型マスクの複合分散型液晶を用いればよ
い。また、適当な光学系を用いることでＴＮ液晶等の他
の液晶マスクを利用することも可能である。Here, the same pattern is displayed on the first liquid crystal mask 81 and the second liquid crystal mask 82. In this case, the display pattern on one mask 81 (82) is the other. The display pattern of the mask 82 (81) is displayed so as to fill the gap of the dot interval of the mask. That is, as shown in FIG. 7, the display patterns on the liquid crystal masks 81, 81 are the same, but as shown in FIGS. The second mask 82 is set so that the pattern is located at the upper right. Then, as shown in FIG. 3C, the pattern to be synthesized and printed is engraved so as to fill the gap between the mask dots of the liquid crystal masks 81 and 82. First and second liquid crystal masks 81 and 82
The shift of the display position may be realized by manufacturing the mask or by adjusting the arrangement position of the mask. First and second liquid crystal masks 81 and 82
May be used as the composite dispersion type liquid crystal of the transmission type mask. Further, by using an appropriate optical system, another liquid crystal mask such as a TN liquid crystal can be used.

【００３３】このような構成を図１のレーザマーキング
装置に適用する場合には、入射側ビームスプリッタ８０
とミラー８３を第１偏向器３の入射側に配置し、第１偏
向器３を一対設けて各液晶マスク８２を走査させるよう
にし、マスク出射側のミラー８４、ビームスプリッタ８
５を第２偏向器７の入射側に配置するようにすればよ
い。When such a configuration is applied to the laser marking apparatus shown in FIG. 1, the incident side beam splitter 80
And a mirror 83 are arranged on the incident side of the first deflector 3, and a pair of the first deflectors 3 are provided so as to scan each liquid crystal mask 82, and the mirror 84 and the beam splitter 8 on the mask emission side are provided.
5 may be arranged on the incident side of the second deflector 7.

【００３４】このような構成によれば、ドットで表示す
る透過型マスクが持つ画素間がマーキングされない欠点
が、同一パターンを表示する複数のマスクに表示させて
これを分割レーザ光で走査させた後、合成するため、刻
印されるマークは極めて鮮明なものとなり、刻印精度を
更に向上させることができる。According to such a configuration, the disadvantage that pixels between the pixels of the transmission type mask displayed by dots are not marked is caused by displaying the same pattern on a plurality of masks and scanning the same with a divided laser beam. Since the images are combined, the mark to be imprinted becomes extremely sharp, and the accuracy of the imprinting can be further improved.

【００３５】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器
からのレーザ光を第１偏向器により走査させてレーザ光
を選択透過させた後、当該マスクの透過光を第２偏向器
により偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザ
マーキングする際、マスクには前記第１偏向器による１
走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示
させ、第１偏向器による各分割パターンの１走査透過光
毎に前記第２偏向器によるワーク表面への偏向位置をパ
ターン分割方向に移動させてパターン合成刻印をなすよ
うにしたので、制御が容易になって刻印速度を向上させ
ることができる。As described above, according to the present invention,
After a laser beam from a laser oscillator is scanned by a first deflector on a mask capable of displaying a marking pattern and the laser beam is selectively transmitted, the transmitted light of the mask is deflected by a second deflector to mark the work surface. At the time of laser marking for irradiation, the mask is provided with 1st deflector.
The divided patterns corresponding to the scanning lines are sequentially and continuously displayed, and the deflection position of the divided pattern by the first deflector to the work surface by the second deflector is moved in the pattern dividing direction for each scanning transmission light. Since the pattern synthesis engraving is performed, the control becomes easy and the engraving speed can be improved.

【００３６】また、複数のマスクにマスクドットのほぼ
半ピッチ分だけずらして同一の刻印パターンを表示させ
ておき、マスクへの入射レーザ光を分割して走査させる
とともに、透過光を合成してワーク表面に照射させて刻
印をなすように構成することによって同様に刻印を明瞭
かつ鮮明に施すことができる。Further, the same engraving pattern is displayed on a plurality of masks with a shift of substantially half a pitch of the mask dot, and the laser beam incident on the mask is divided and scanned, and the transmitted light is synthesized to synthesize the work. By irradiating the surface to form the engraving, the engraving can also be performed clearly and clearly.

【００３７】したがって、本発明によれば、ワークへの
レーザマーキングを行うに際し、刻印マークをマスクに
分割表示させてマーキングを行う場合に特に有効で、刻
印精度を向上させるとともに、分割合成による刻印作業
を簡易に行うことができるという優れた効果が得られ
る。Therefore, according to the present invention, it is particularly effective when performing marking by dividing and displaying a marking mark on a mask when performing a laser marking on a work. The simple effect can be easily obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】実施例に係るレーザマーキングシステムの構成
図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a laser marking system according to an embodiment.

【図２】液晶マスク表示パターンの第１偏向器による走
査状態の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a scanning state of a liquid crystal mask display pattern by a first deflector.

【図３】制御の処理フローチャートである。FIG. 3 is a processing flowchart of control.

【図４】制御機器のタイムチャートである。FIG. 4 is a time chart of a control device.

【図５】刻印パターンと分割パターンの説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a marking pattern and a division pattern.

【図６】他の実施例の要部構成説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of a main part configuration of another embodiment.

【図７】他の実施例によるマスク表示パターンと刻印マ
ークの説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of a mask display pattern and an engraved mark according to another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ ＹＡＧレーザ発振器 ２、５ 集光光学系 ３ 第１偏向器 ６ 液晶マスク ７ 第２偏向器 ７Ｘ Ｘ方向偏向器 ７Ｙ Ｙ方向偏向器 ８ 対物レンズ ９ 全体パターン １０ ワーク １１ 制御器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 YAG laser oscillator 2, 5 Condensing optical system 3 First deflector 6 Liquid crystal mask 7 Second deflector 7X X-direction deflector 7Y Y-direction deflector 8 Objective lens 9 Overall pattern 10 Work 11 Controller

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−282866（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−268988（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−180285（ＪＰ，Ａ) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-61-282866 (JP, A) JP-A-2-268988 (JP, A) JP-A-3-180285 (JP, A)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 マーキングパターンを表示するマスクに
レーザ発振器からのレーザ光を第１偏向器により走査さ
せてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過光
を第２偏向器により偏向してワーク表面にマーキング照
射するレーザマーキング方法において、前記マスクには
前記第１偏向器による１走査ラインに相当する分割パタ
ーンを順次連続して表示させ、第１偏向器による各分割
パターンの１走査透過光毎に前記第２偏向器によるワー
ク表面への偏向位置を移動させて刻印をなすことを特徴
とするレーザマーキング方法。1. A mask for displaying a marking pattern is scanned by a laser beam from a laser oscillator by a first deflector to selectively transmit the laser beam, and then the transmitted light of the mask is deflected by a second deflector. In the laser marking method for irradiating a marking on a work surface, a division pattern corresponding to one scanning line by the first deflector is sequentially and continuously displayed on the mask, and one scan transmission light of each division pattern by the first deflector is displayed. A laser marking method, wherein the marking is performed by moving the deflection position of the second deflector to the work surface every time. 【請求項２】 マーキングパターンを表示可能なマスク
にレーザ発振器からのレーザ光を第１偏向器により走査
させてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過
光を第２偏向器により偏向してワーク表面にマーキング
照射するレーザマーキング方法において、複数のマスク
にマスクドットのほぼ半ピッチ分だけずらして同一の刻
印パターンを表示させておき、マスクへの入射レーザ光
を分割して走査させるとともに、透過光を合成してワー
ク表面に照射させて刻印をなすことを特徴とするレーザ
マーキング方法。2. A laser beam from a laser oscillator is scanned by a first deflector on a mask capable of displaying a marking pattern to selectively transmit the laser beam, and then the transmitted light of the mask is deflected by a second deflector. In the laser marking method of irradiating the marking on the work surface, the same engraving pattern is displayed on a plurality of masks with a shift of almost half a pitch of the mask dot, and the laser beam incident on the mask is divided and scanned. A laser marking method comprising combining transmitted light and irradiating the work surface to form an engraving. 【請求項３】 レーザ発振器と、このレーザ発振器から
のレーザ光を１方向に走査する第１偏向器と、当該第１
偏向器からのレーザ光の走査ラインに一致するように刻
印パターンを分割した分割パターンを表示するマスク
と、該マスクを選択透過した走査光を更に偏向してワー
ク表面のマーキング位置を移動させる第２偏向器とを備
え、前記マスクには前記分割パターンを連続して表示さ
せるとともに第２偏向器を各分割パターン走査光ごとに
偏向させるように制御させ、合成されたパターンをワー
クに刻印させる制御手段を備えたことを特徴とするレー
ザマーキング装置。3. A laser oscillator; a first deflector for scanning laser light from the laser oscillator in one direction;
A mask for displaying a divided pattern obtained by dividing the engraving pattern so as to match the scanning line of the laser light from the deflector; and a second method for further deflecting the scanning light selectively transmitted through the mask to move the marking position on the work surface. and a deflector, the said mask second deflector causes continuously display the divided pattern for each division pattern scanning light
A laser marking device, comprising: a control unit for controlling the deflection so as to deflect the laser beam and marking the synthesized pattern on a workpiece. 【請求項４】 レーザ発振器と、このレーザ発振器から
のレーザ光を複数方向に分割する光学系と、分割光路の
各々に配置され同一の刻印パターンを表示するとともに
マスクドットがずれるように表示する複数のレーザ光透
過型マスクと、当該マスク透過光を合成する光学系とを
備え、合成されたパターンをワークに刻印可能としたこ
とを特徴とするレーザマーキング装置。4. A laser oscillator, an optical system for splitting laser light from the laser oscillator in a plurality of directions, and a plurality of laser light sources arranged on each of the split optical paths to display the same engraving pattern and to display mask dots so as to be shifted. A laser beam transmission type mask, and an optical system for synthesizing the transmitted light of the mask, wherein the synthesized pattern can be imprinted on a work. 【請求項５】 前記透過型マスクは透過型液晶マスクで
あることを特徴とする請求項３または４に記載のレーザ
マーキング装置。5. The laser marking device according to claim 3, wherein the transmission type mask is a transmission type liquid crystal mask.