JP2729239B2 - 集積型光起電力装置 - Google Patents
集積型光起電力装置Info
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 36
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims description 14
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 12
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- -1 for example Chemical compound 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- WPPDFTBPZNZZRP-UHFFFAOYSA-N aluminum copper Chemical compound [Al].[Cu] WPPDFTBPZNZZRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001017 electron-beam sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
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- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/0445—PV modules or arrays of single PV cells including thin film solar cells, e.g. single thin film a-Si, CIS or CdTe solar cells
- H01L31/046—PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、太陽電池や光センサ等に用いられる光起電
力装置に係り、特に薄いフィルム上の複数個の発電区域
を直列または直並列接続された集積型光起電力装置に関
する。
力装置に係り、特に薄いフィルム上の複数個の発電区域
を直列または直並列接続された集積型光起電力装置に関
する。
集積型光起電力装置は基本構造として透明の絶縁基板
上に透明電極層、非晶質半導体層、金属電極層を積層し
て構成されている。この集積型光起電力装置の一例を第
2図に示す非晶質シリコン(以下「a−Si」と記す)太
陽電池により説明する。a−Si太陽電池は透明の絶縁基
板上に透明電極層、非晶質半導体層としての非晶質シリ
コン層、及び金属電極層を積層してなる単位太陽電池素
子が直列または直並列接続された構成になっている。
尚、金属電極層は裏面電極とリード線取り出し用端子部
として構成される。
上に透明電極層、非晶質半導体層、金属電極層を積層し
て構成されている。この集積型光起電力装置の一例を第
2図に示す非晶質シリコン(以下「a−Si」と記す)太
陽電池により説明する。a−Si太陽電池は透明の絶縁基
板上に透明電極層、非晶質半導体層としての非晶質シリ
コン層、及び金属電極層を積層してなる単位太陽電池素
子が直列または直並列接続された構成になっている。
尚、金属電極層は裏面電極とリード線取り出し用端子部
として構成される。
即ち、a−Si太陽電池は一枚のガラス基板上に透明電
極2(21〜23)、a−Si膜領域3、裏面電極4(41〜4
3)が積着されて複数の単位太陽電池素子が形成されて
いる。この単位太陽電池素子は、セル間接続用通路50〜
52を通じて該当素子の裏面電極を隣接素子の透明電極に
接触するようにして接続されている。リード線は金属膜
である取り出し用端子部40及び43から取り出されてい
る。
極2(21〜23)、a−Si膜領域3、裏面電極4(41〜4
3)が積着されて複数の単位太陽電池素子が形成されて
いる。この単位太陽電池素子は、セル間接続用通路50〜
52を通じて該当素子の裏面電極を隣接素子の透明電極に
接触するようにして接続されている。リード線は金属膜
である取り出し用端子部40及び43から取り出されてい
る。
リード線取り出し方法としては、接着剤付き導電性テ
ープを端子部40,43上に張り付け、その上からリード線
を半田付けしたり、あるいは導電性接着剤を使ってリー
ド線を端子部に着けるなどの方法が採られている。
ープを端子部40,43上に張り付け、その上からリード線
を半田付けしたり、あるいは導電性接着剤を使ってリー
ド線を端子部に着けるなどの方法が採られている。
従来のリード線取り出し方法において、接着剤付け導
電性テープによる場合はテープを張り付ける手間が掛か
り、また導電性接着剤による場合は接着剤を乾燥させる
工程が入り、生産性に問題があった。
電性テープによる場合はテープを張り付ける手間が掛か
り、また導電性接着剤による場合は接着剤を乾燥させる
工程が入り、生産性に問題があった。
本発明の目的は、リード線の半田付けが容易にできか
つ信頼性が高い集積型光起電力装置を提供することにあ
る。
つ信頼性が高い集積型光起電力装置を提供することにあ
る。
上記の目的を達成させるため、本発明の集積型光起電
力装置は受光面側の透明基板上に透明電極を設け、前記
受光面の裏側に前記透明電極に対向して非晶質半導体を
介して設けられた金属電極を有するアモルファス・シリ
コン系の太陽電池セルを複数個配置し、前記透明電極及
び金属電極を利用して、前記複数個の太陽電池セルが直
列または直並列に接続されると共に、前記金属電極は非
晶質半導体層側からアルミニウム、アルミニウム青銅用
添加金属及び銅の積層金属膜で形成されたものである。
アルミニウム青銅用添加金属としては、例えばニッケ
ル,鉄,及びマンガンが用いられる。
力装置は受光面側の透明基板上に透明電極を設け、前記
受光面の裏側に前記透明電極に対向して非晶質半導体を
介して設けられた金属電極を有するアモルファス・シリ
コン系の太陽電池セルを複数個配置し、前記透明電極及
び金属電極を利用して、前記複数個の太陽電池セルが直
列または直並列に接続されると共に、前記金属電極は非
晶質半導体層側からアルミニウム、アルミニウム青銅用
添加金属及び銅の積層金属膜で形成されたものである。
アルミニウム青銅用添加金属としては、例えばニッケ
ル,鉄,及びマンガンが用いられる。
裏面電極及びリード線取り出し用出力端子部にアルミ
ニウム、アルミニウム青銅用添加金属及び銅から成る積
層金属膜を使用することによって、非晶質シリコンとの
良好な接触を確保し、かつアルミニウム−銅結合の熱的
劣性を中間層のアルミニウム青銅用添加金属、例えばニ
ッケルにより改善することにより、作成される光起電力
装置の収率が高く保たれ、同時に半田付けを容易にする
ことができる。
ニウム、アルミニウム青銅用添加金属及び銅から成る積
層金属膜を使用することによって、非晶質シリコンとの
良好な接触を確保し、かつアルミニウム−銅結合の熱的
劣性を中間層のアルミニウム青銅用添加金属、例えばニ
ッケルにより改善することにより、作成される光起電力
装置の収率が高く保たれ、同時に半田付けを容易にする
ことができる。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。第
1図(f)は、本発明を集積型太陽電池に応用したとき
の基本構造図で、この製造方法の工程が第1図(a)〜
(e)に示されている。
1図(f)は、本発明を集積型太陽電池に応用したとき
の基本構造図で、この製造方法の工程が第1図(a)〜
(e)に示されている。
尚、第2図に示す構成要素と共通の部分には同一符号
が付けられている。
が付けられている。
本発明は裏面電極としての金属電極を従来のアルミニ
ウムによる一層構造に替えてアルミニウム,アルミニウ
ム青銅用添加金属及び銅の3層構造にしたことを特徴と
するものである。即ち、集積型太陽電池は透明の絶縁基
板1上に透明電極層2,非晶質半導体層3,金属電極層4を
積層して構成されており、特に金属電極層4は非晶質半
導体層3側からアルミニウム400,アルミニウム青銅用添
加金属401及び銅402の積層構造になっている。以下に集
積型太陽電池の製造について説明する。
ウムによる一層構造に替えてアルミニウム,アルミニウ
ム青銅用添加金属及び銅の3層構造にしたことを特徴と
するものである。即ち、集積型太陽電池は透明の絶縁基
板1上に透明電極層2,非晶質半導体層3,金属電極層4を
積層して構成されており、特に金属電極層4は非晶質半
導体層3側からアルミニウム400,アルミニウム青銅用添
加金属401及び銅402の積層構造になっている。以下に集
積型太陽電池の製造について説明する。
先ず、図(a)に示すように、ガラス基板1上には熱
CVD、電子ビーム蒸着あるいはスパッタリング法によりI
TO(インジウムスズ酸化物)、SnO2(酸化スズ)からな
る透明電導膜を形成する。この透明電導膜は波長1.06μ
mのYAGレーザビームで加工されて透明電極2(21〜2
3)を形成する。次いで図(b)に示すように、pin接合
を有するa−Si膜3をプラズマCVD法を用いて約0.3〜0.
8μmの厚さに形成し、更に図(c)に示すように、波
長1.06μmのYAGレーザビームでガラス基板側よりa−S
i膜3を加工し、セル間接続通路50〜52を形成する。
CVD、電子ビーム蒸着あるいはスパッタリング法によりI
TO(インジウムスズ酸化物)、SnO2(酸化スズ)からな
る透明電導膜を形成する。この透明電導膜は波長1.06μ
mのYAGレーザビームで加工されて透明電極2(21〜2
3)を形成する。次いで図(b)に示すように、pin接合
を有するa−Si膜3をプラズマCVD法を用いて約0.3〜0.
8μmの厚さに形成し、更に図(c)に示すように、波
長1.06μmのYAGレーザビームでガラス基板側よりa−S
i膜3を加工し、セル間接続通路50〜52を形成する。
次に、a−Si膜3上に複数の裏面電極41〜43及び出力
端子部40及び43(裏面電極兼用)を形成するため、図
(d)に示すように、所定形状の窓を有する裏面電極形
状用マスク6が印刷法により印刷される。この状態でス
パッタ法を用いて、図(e)に示す裏面電極41〜43及び
出力端子部40,43となる積層金属膜が被着される。この
金属膜はa−Si膜側からアルミニウム400、アルミニウ
ム青銅用添加金属401及び銅402を積層した3層構造に形
成され、その膜厚は約0.2〜0.8μmである。その後マス
ク6を除去すると、図(f)に示す所定形状の複数の裏
面電極41〜43及びリード線取り出し用端子部40,43が形
成される。このリード線取り出し用端子部40,43及び裏
面電極41〜42は、セル間接続通路50〜52を通じてそれぞ
れ透明電極21〜23と接続され、単位太陽電池素子を直列
または直並列接続されたアモルファスシリコン系の集積
型太陽電池が構成される。
端子部40及び43(裏面電極兼用)を形成するため、図
(d)に示すように、所定形状の窓を有する裏面電極形
状用マスク6が印刷法により印刷される。この状態でス
パッタ法を用いて、図(e)に示す裏面電極41〜43及び
出力端子部40,43となる積層金属膜が被着される。この
金属膜はa−Si膜側からアルミニウム400、アルミニウ
ム青銅用添加金属401及び銅402を積層した3層構造に形
成され、その膜厚は約0.2〜0.8μmである。その後マス
ク6を除去すると、図(f)に示す所定形状の複数の裏
面電極41〜43及びリード線取り出し用端子部40,43が形
成される。このリード線取り出し用端子部40,43及び裏
面電極41〜42は、セル間接続通路50〜52を通じてそれぞ
れ透明電極21〜23と接続され、単位太陽電池素子を直列
または直並列接続されたアモルファスシリコン系の集積
型太陽電池が構成される。
このように金属電極となる裏面金属膜は、a−Si膜と
の接触が良いアルミニウムと半田付けの容易な銅をアル
ミニウム青銅用添加金属を介して配置することにより、
熱的に強くなる。
の接触が良いアルミニウムと半田付けの容易な銅をアル
ミニウム青銅用添加金属を介して配置することにより、
熱的に強くなる。
その理由としては、アルミニウムと銅を積層すると、
両者の界面にあるアルミニウム−銅合金が熱に脆いた
め、半田付けの際に該合金が破壊されると考えられる。
尚、アルミニウム青銅用添加金属としては、例えばニッ
ケル,鉄,マンガンなどが用いられる。
両者の界面にあるアルミニウム−銅合金が熱に脆いた
め、半田付けの際に該合金が破壊されると考えられる。
尚、アルミニウム青銅用添加金属としては、例えばニッ
ケル,鉄,マンガンなどが用いられる。
第3図は、本発明の集積型太陽電池についての高温高
湿保管試験の結果を表している。本試験の集積型太陽電
池は、環境条件は温度85℃,湿度90%である。尚、湿度
は飽和水蒸気圧に対する現在の水蒸気圧の比をパーセン
トで表したものである。横軸は実施時間で、縦軸は出力
の変化率を示している。太陽電池は、アルミニウム青銅
用添加金属としてニッケルが用いられており、また出力
端子部にはリード線が半田付けされ、この半田付け部分
は何も保護されていない。本実験では1000時間経過して
も出力が余り変化せず、本発明の集積型太陽電池の信頼
性が高いという結果が得られた。
湿保管試験の結果を表している。本試験の集積型太陽電
池は、環境条件は温度85℃,湿度90%である。尚、湿度
は飽和水蒸気圧に対する現在の水蒸気圧の比をパーセン
トで表したものである。横軸は実施時間で、縦軸は出力
の変化率を示している。太陽電池は、アルミニウム青銅
用添加金属としてニッケルが用いられており、また出力
端子部にはリード線が半田付けされ、この半田付け部分
は何も保護されていない。本実験では1000時間経過して
も出力が余り変化せず、本発明の集積型太陽電池の信頼
性が高いという結果が得られた。
上記の通り、本発明によれば、裏面電極としての金属
電極をアルミニウム、アルミニウム青銅用添加金属及び
銅から成る積層金属膜を用いることで、容易に半田付け
ができ、生産性及び信頼性の高い集積型光起電力装置の
製造が可能になった。
電極をアルミニウム、アルミニウム青銅用添加金属及び
銅から成る積層金属膜を用いることで、容易に半田付け
ができ、生産性及び信頼性の高い集積型光起電力装置の
製造が可能になった。
【図面の簡単な説明】 第1図(a)〜(f)は、本発明の集積型光起電力装置
の実施例である集積型太陽電池の製造方法の工程図、第
2図は従来の集積型太陽電池の構成図、第3図は本発明
の集積型太陽電池の高温高湿保管試験の実施結果を示す
図である。 1……透明な絶縁基板、2(21〜23)……透明電極層、
3……非晶質半導体層、4(41〜43)……裏面電極、4
0,43……出力端子部、50〜52……セル間接続通路、400
……アルミニウム、401……アルミニウム青銅用添加金
属、402……銅。
の実施例である集積型太陽電池の製造方法の工程図、第
2図は従来の集積型太陽電池の構成図、第3図は本発明
の集積型太陽電池の高温高湿保管試験の実施結果を示す
図である。 1……透明な絶縁基板、2(21〜23)……透明電極層、
3……非晶質半導体層、4(41〜43)……裏面電極、4
0,43……出力端子部、50〜52……セル間接続通路、400
……アルミニウム、401……アルミニウム青銅用添加金
属、402……銅。
Claims (2)
- 【請求項1】受光面側の透明基板上に透明電極を設け、
前記受光面の裏側に前記透明電極に対向して非晶質半導
体を介して設けられた金属電極を有するアモルファス・
シリコン系の太陽電池セルを複数個配置し、前記透明電
極及び金属電極を利用して、前記複数個の太陽電池セル
が直列または直並列に接続されると共に、前記金属電極
は非晶質半導体側からアルミニウム、アルミニウム青銅
用添加金属及び銅の積層金属膜で形成されていることを
特徴とする集積型光起電力装置。 - 【請求項2】請求項1記載において、アルミニウム青銅
用添加金属としてニッケル,鉄,マンガンが用いられる
ことを特徴とする集積型光起電力装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2276432A JP2729239B2 (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 集積型光起電力装置 |
US07/777,162 US5248345A (en) | 1990-10-17 | 1991-10-16 | Integrated photovoltaic device |
ES91117728T ES2112261T3 (es) | 1990-10-17 | 1991-10-17 | Dispositivo fotovoltaico integrado. |
EP91117728A EP0482511B1 (en) | 1990-10-17 | 1991-10-17 | Integrated photovoltaic device |
DE69128600T DE69128600T2 (de) | 1990-10-17 | 1991-10-17 | Integrierte photo-voltaische Vorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2276432A JP2729239B2 (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 集積型光起電力装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04152679A JPH04152679A (ja) | 1992-05-26 |
JP2729239B2 true JP2729239B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=17569339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2276432A Expired - Lifetime JP2729239B2 (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 集積型光起電力装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5248345A (ja) |
EP (1) | EP0482511B1 (ja) |
JP (1) | JP2729239B2 (ja) |
DE (1) | DE69128600T2 (ja) |
ES (1) | ES2112261T3 (ja) |
Families Citing this family (67)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6720576B1 (en) | 1992-09-11 | 2004-04-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Plasma processing method and photoelectric conversion device |
US5735966A (en) * | 1995-05-15 | 1998-04-07 | Luch; Daniel | Substrate structures for integrated series connected photovoltaic arrays and process of manufacture of such arrays |
JPH11103079A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 集積型光起電力装置の製造方法 |
GB2416621A (en) * | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Cambridge Display Tech Ltd | Laminated interconnects for opto-electronic device modules |
CN102942883B (zh) * | 2006-04-26 | 2015-08-26 | 日立化成株式会社 | 粘接带及使用其的太阳能电池模块 |
US8017860B2 (en) | 2006-05-15 | 2011-09-13 | Stion Corporation | Method and structure for thin film photovoltaic materials using bulk semiconductor materials |
US9105776B2 (en) | 2006-05-15 | 2015-08-11 | Stion Corporation | Method and structure for thin film photovoltaic materials using semiconductor materials |
DE102006057454A1 (de) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Schott Solar Gmbh | Photovoltaisches Modul |
US8071179B2 (en) * | 2007-06-29 | 2011-12-06 | Stion Corporation | Methods for infusing one or more materials into nano-voids if nanoporous or nanostructured materials |
US7919400B2 (en) * | 2007-07-10 | 2011-04-05 | Stion Corporation | Methods for doping nanostructured materials and nanostructured thin films |
US8759671B2 (en) | 2007-09-28 | 2014-06-24 | Stion Corporation | Thin film metal oxide bearing semiconductor material for single junction solar cell devices |
US8058092B2 (en) | 2007-09-28 | 2011-11-15 | Stion Corporation | Method and material for processing iron disilicide for photovoltaic application |
US20090087939A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Stion Corporation | Column structure thin film material using metal oxide bearing semiconductor material for solar cell devices |
US8287942B1 (en) | 2007-09-28 | 2012-10-16 | Stion Corporation | Method for manufacture of semiconductor bearing thin film material |
US8614396B2 (en) * | 2007-09-28 | 2013-12-24 | Stion Corporation | Method and material for purifying iron disilicide for photovoltaic application |
US7998762B1 (en) | 2007-11-14 | 2011-08-16 | Stion Corporation | Method and system for large scale manufacture of thin film photovoltaic devices using multi-chamber configuration |
US8440903B1 (en) | 2008-02-21 | 2013-05-14 | Stion Corporation | Method and structure for forming module using a powder coating and thermal treatment process |
US8075723B1 (en) | 2008-03-03 | 2011-12-13 | Stion Corporation | Laser separation method for manufacture of unit cells for thin film photovoltaic materials |
US8772078B1 (en) | 2008-03-03 | 2014-07-08 | Stion Corporation | Method and system for laser separation for exclusion region of multi-junction photovoltaic materials |
JP2009231505A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Sanyo Electric Co Ltd | 太陽電池 |
US7939454B1 (en) | 2008-05-31 | 2011-05-10 | Stion Corporation | Module and lamination process for multijunction cells |
US8642138B2 (en) | 2008-06-11 | 2014-02-04 | Stion Corporation | Processing method for cleaning sulfur entities of contact regions |
US8003432B2 (en) | 2008-06-25 | 2011-08-23 | Stion Corporation | Consumable adhesive layer for thin film photovoltaic material |
US9087943B2 (en) | 2008-06-25 | 2015-07-21 | Stion Corporation | High efficiency photovoltaic cell and manufacturing method free of metal disulfide barrier material |
US8207008B1 (en) | 2008-08-01 | 2012-06-26 | Stion Corporation | Affixing method and solar decal device using a thin film photovoltaic |
US7855089B2 (en) | 2008-09-10 | 2010-12-21 | Stion Corporation | Application specific solar cell and method for manufacture using thin film photovoltaic materials |
US8008112B1 (en) | 2008-09-29 | 2011-08-30 | Stion Corporation | Bulk chloride species treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8501521B1 (en) | 2008-09-29 | 2013-08-06 | Stion Corporation | Copper species surface treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8236597B1 (en) | 2008-09-29 | 2012-08-07 | Stion Corporation | Bulk metal species treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8008110B1 (en) | 2008-09-29 | 2011-08-30 | Stion Corporation | Bulk sodium species treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8394662B1 (en) | 2008-09-29 | 2013-03-12 | Stion Corporation | Chloride species surface treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8476104B1 (en) | 2008-09-29 | 2013-07-02 | Stion Corporation | Sodium species surface treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8026122B1 (en) | 2008-09-29 | 2011-09-27 | Stion Corporation | Metal species surface treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8425739B1 (en) | 2008-09-30 | 2013-04-23 | Stion Corporation | In chamber sodium doping process and system for large scale cigs based thin film photovoltaic materials |
US7947524B2 (en) | 2008-09-30 | 2011-05-24 | Stion Corporation | Humidity control and method for thin film photovoltaic materials |
US7910399B1 (en) | 2008-09-30 | 2011-03-22 | Stion Corporation | Thermal management and method for large scale processing of CIS and/or CIGS based thin films overlying glass substrates |
US7863074B2 (en) | 2008-09-30 | 2011-01-04 | Stion Corporation | Patterning electrode materials free from berm structures for thin film photovoltaic cells |
US8383450B2 (en) | 2008-09-30 | 2013-02-26 | Stion Corporation | Large scale chemical bath system and method for cadmium sulfide processing of thin film photovoltaic materials |
US8741689B2 (en) | 2008-10-01 | 2014-06-03 | Stion Corporation | Thermal pre-treatment process for soda lime glass substrate for thin film photovoltaic materials |
US20110018103A1 (en) | 2008-10-02 | 2011-01-27 | Stion Corporation | System and method for transferring substrates in large scale processing of cigs and/or cis devices |
US8435826B1 (en) | 2008-10-06 | 2013-05-07 | Stion Corporation | Bulk sulfide species treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
US8003430B1 (en) | 2008-10-06 | 2011-08-23 | Stion Corporation | Sulfide species treatment of thin film photovoltaic cell and manufacturing method |
USD625695S1 (en) | 2008-10-14 | 2010-10-19 | Stion Corporation | Patterned thin film photovoltaic module |
US8168463B2 (en) | 2008-10-17 | 2012-05-01 | Stion Corporation | Zinc oxide film method and structure for CIGS cell |
US8344243B2 (en) | 2008-11-20 | 2013-01-01 | Stion Corporation | Method and structure for thin film photovoltaic cell using similar material junction |
DE102009039750A1 (de) * | 2009-09-02 | 2011-03-10 | Schott Solar Ag | Photovoltaisches Modul |
EP2214213A2 (de) * | 2009-01-29 | 2010-08-04 | SCHOTT Solar AG | Photovoltaisches Modul |
GB2467361A (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-04 | Renewable Energy Corp Asa | Contact and interconnect for a solar cell |
USD662040S1 (en) | 2009-06-12 | 2012-06-19 | Stion Corporation | Pin striped thin film solar module for garden lamp |
USD628332S1 (en) | 2009-06-12 | 2010-11-30 | Stion Corporation | Pin striped thin film solar module for street lamp |
USD632415S1 (en) | 2009-06-13 | 2011-02-08 | Stion Corporation | Pin striped thin film solar module for cluster lamp |
USD652262S1 (en) | 2009-06-23 | 2012-01-17 | Stion Corporation | Pin striped thin film solar module for cooler |
USD662041S1 (en) | 2009-06-23 | 2012-06-19 | Stion Corporation | Pin striped thin film solar module for laptop personal computer |
US8507786B1 (en) | 2009-06-27 | 2013-08-13 | Stion Corporation | Manufacturing method for patterning CIGS/CIS solar cells |
USD627696S1 (en) | 2009-07-01 | 2010-11-23 | Stion Corporation | Pin striped thin film solar module for recreational vehicle |
US8398772B1 (en) | 2009-08-18 | 2013-03-19 | Stion Corporation | Method and structure for processing thin film PV cells with improved temperature uniformity |
DE102009042093A1 (de) * | 2009-09-18 | 2011-03-24 | Inventux Technologies Ag | Niederspannungsmodul mit Rückkontakt |
US8809096B1 (en) | 2009-10-22 | 2014-08-19 | Stion Corporation | Bell jar extraction tool method and apparatus for thin film photovoltaic materials |
US8859880B2 (en) | 2010-01-22 | 2014-10-14 | Stion Corporation | Method and structure for tiling industrial thin-film solar devices |
US8263494B2 (en) | 2010-01-25 | 2012-09-11 | Stion Corporation | Method for improved patterning accuracy for thin film photovoltaic panels |
US9096930B2 (en) | 2010-03-29 | 2015-08-04 | Stion Corporation | Apparatus for manufacturing thin film photovoltaic devices |
US8461061B2 (en) | 2010-07-23 | 2013-06-11 | Stion Corporation | Quartz boat method and apparatus for thin film thermal treatment |
US8628997B2 (en) | 2010-10-01 | 2014-01-14 | Stion Corporation | Method and device for cadmium-free solar cells |
US8998606B2 (en) | 2011-01-14 | 2015-04-07 | Stion Corporation | Apparatus and method utilizing forced convection for uniform thermal treatment of thin film devices |
US8728200B1 (en) | 2011-01-14 | 2014-05-20 | Stion Corporation | Method and system for recycling processing gas for selenization of thin film photovoltaic materials |
US8436445B2 (en) | 2011-08-15 | 2013-05-07 | Stion Corporation | Method of manufacture of sodium doped CIGS/CIGSS absorber layers for high efficiency photovoltaic devices |
DE102013111634A1 (de) * | 2013-10-22 | 2015-05-07 | Solarworld Innovations Gmbh | Solarzelle |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59103383A (ja) * | 1982-12-03 | 1984-06-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置の製造方法 |
US4668840A (en) * | 1984-06-29 | 1987-05-26 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Photovoltaic device |
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JPH02268469A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-11-02 | Atlantic Richfield Co <Arco> | 薄膜半導体デバイスとそれを製造する方法 |
-
1990
- 1990-10-17 JP JP2276432A patent/JP2729239B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-10-16 US US07/777,162 patent/US5248345A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-10-17 EP EP91117728A patent/EP0482511B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-17 ES ES91117728T patent/ES2112261T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-17 DE DE69128600T patent/DE69128600T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04152679A (ja) | 1992-05-26 |
ES2112261T3 (es) | 1998-04-01 |
EP0482511B1 (en) | 1998-01-07 |
DE69128600T2 (de) | 1998-05-28 |
EP0482511A1 (en) | 1992-04-29 |
DE69128600D1 (de) | 1998-02-12 |
US5248345A (en) | 1993-09-28 |
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