JP2719643B2 - Sensitive material processing equipment - Google Patents

Sensitive material processing equipment

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JP2719643B2
JP2719643B2 JP32732790A JP32732790A JP2719643B2 JP 2719643 B2 JP2719643 B2 JP 2719643B2 JP 32732790 A JP32732790 A JP 32732790A JP 32732790 A JP32732790 A JP 32732790A JP 2719643 B2 JP2719643 B2 JP 2719643B2
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本発明は、印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしく
はフィルムなどの銀塩タイプの感材を処理する感材処理
装置に関する。
The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as photographic paper, photosensitive paper for direct plate making, or a film.

【従来の技術】[Prior art]

従来、軽印刷用の刷版を直接製版する複写カメラで
は、露光した感材を静止現像液により処理していた。こ
うした用途に用いられる感材は、例えば耐水処理を施し
たベース(紙)の表面にハレーションを防止する層,光
に感じる銀塩乳剤層,銀などの物理現像核が分散したゼ
ラチンを主体とする親水性の層が形成されている。乳剤
層は光の照射を受けてその性質を変え、光の照射を受け
た乳剤層では、現像液が作用しても還元した銀の表面層
への拡散は阻害される。一方、光の照射を受けなかった
乳剤層では、ハロゲン化銀が錯化されて表面層に拡散
し、そこで物理現像されて金属銀を析出し、感脂化され
る。その後、安定化処理を行なって不感脂化処理を施せ
ば、金属銀の析出したところだけが親油性を示して印刷
インキが載るので、刷版が得られたことになる。 感材に対する現像や安定化などの処理は、処理液を満
たした処理槽において行なわれる。従って、処理槽から
搬出された感材には処理液が付着しており、相対向する
ローラ対(いわゆる絞りローラ対)を処理槽下流に配置
し、これにより処理液を除去する構成が採られている。
即ち、絞りローラ対により処理液を絞り取り、次工程に
この処理液を持ち込まないようにしているのである。こ
うした絞りローラ対は、感材表面に付着した処理液を絞
り取るだけでなく、処理槽から感材を引き出すと共に次
行程へ感材を送り込む搬送系の一部を構成している。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a copying camera for directly making a printing plate for light printing, an exposed photosensitive material is treated with a static developer. Sensitive materials used in such applications are mainly made of, for example, a layer which prevents halation on the surface of a water-resistant base (paper), a silver salt emulsion layer which feels light, and gelatin in which physical development nuclei such as silver are dispersed. A hydrophilic layer is formed. The properties of the emulsion layer are changed by the irradiation of light, and the diffusion of the reduced silver to the surface layer is inhibited in the emulsion layer which has been irradiated with the light, even if a developer is applied. On the other hand, in the emulsion layer which has not been irradiated with light, the silver halide is complexed and diffuses into the surface layer, where it is physically developed to precipitate metallic silver and become sensitized. After that, if a stabilization treatment is performed and a desensitization treatment is performed, only the portion where the metallic silver is deposited shows lipophilicity and the printing ink is applied, so that a printing plate is obtained. Processing such as development and stabilization of the photosensitive material is performed in a processing tank filled with a processing solution. Therefore, the processing liquid is attached to the photosensitive material carried out of the processing tank, and a pair of opposing rollers (a so-called squeezing roller pair) is arranged downstream of the processing tank to thereby remove the processing liquid. ing.
That is, the processing liquid is squeezed out by the pair of squeezing rollers so that the processing liquid is not brought into the next process. Such a pair of squeezing rollers constitutes a part of a transport system which not only squeezes out the processing liquid adhering to the surface of the photosensitive material but also pulls out the photosensitive material from the processing tank and sends the photosensitive material to the next step.

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、こうした感材処理装置では、対向する
ローラ対により絞られた古い処理液はローラ対の感材搬
入側に溜まるから、感材の搬送中、絞り取られた処理液
が感材の表面に伝わって流れ出るという問題があった。
流れ出た古い処理液が処理槽に戻ると、処理液の劣化を
早め、処理液が現像液の場合には、現像性能の悪化が避
けられない。更に、古い処理液が感材表面を流れる際、
感材と反応して現像ムラなどを生じ、処理品質の低下を
招くという問題もあった。 また、感材に付着した処理液を絞り取るローラ対に
は、処理液中のスラッジ(ロール状の感材を所定寸法に
裁断する際に生じる切り粉や溶融したゼラチン質より生
じる)が付着・堆積することがあり、ついには感材の幅
方向外側に段差ができて、絞りが不良となることがあっ
た。 本発明は上記問題点を解決し、処理槽から搬出された
感材に付着している処理液を好適に絞り取ることを目的
とする。かかる目的を達成する本発明の構成について以
下に説明する。
However, in such a photosensitive material processing apparatus, the old processing liquid squeezed by the opposing roller pair accumulates on the photosensitive material carry-in side of the roller pair. There was a problem of flowing down and flowing.
When the old processing liquid which has flowed back to the processing tank, the deterioration of the processing liquid is accelerated. When the processing liquid is a developing liquid, the deterioration of the developing performance is inevitable. Furthermore, when an old processing solution flows over the surface of the photosensitive material,
There is also a problem in that it reacts with the light-sensitive material to cause development unevenness and the like, resulting in a reduction in processing quality. In addition, sludge in the processing liquid (arising from cutting powder or melted gelatin generated when the roll-shaped photosensitive material is cut into a predetermined size) adheres to the roller pair for squeezing the processing liquid attached to the photosensitive material. In some cases, the photosensitive material was deposited, and a step was formed on the outer side in the width direction of the light-sensitive material, resulting in a poor aperture. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above problems and to appropriately squeeze out a processing liquid adhering to a light-sensitive material carried out of a processing tank. The configuration of the present invention that achieves the above object will be described below.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本発明の感材処理装置は、 印画紙,ダイレクト製版用の感光紙もしくはフィルム
などの、銀塩タイプの感材を処理する処理装置であっ
て、 前記感材用の処理液を貯留する処理槽に感材を搬入す
るとともに、該処理槽から感材を所定の仰角をもって搬
出する感材搬送手段を備え、 相対向して押圧されたローラ対を、該処理槽から搬送
された感材を挟み込み可能な位置に設け、 該ローラ対の上側ローラを前記感材の搬送方向に対し
て下流側に偏位して配置させると共に、該ローラ対を該
感材の送り方向に回転して該感材表面に付着した処理液
を絞り取る処理液除去手段を設けたこと を特徴としている。 また、ローラ対の少なくとも一方のローラ外周にスク
レーパを当接して設けた、ローラ表面の処理液,スラッ
ジ等の付着物を掻き取る構成とすることも望ましい。
The photosensitive material processing apparatus of the present invention is a processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as a photographic paper, a photosensitive paper or a film for direct plate making, and a processing tank for storing the processing liquid for the photosensitive material. And a photosensitive material transporting means for carrying the photosensitive material out of the processing tank at a predetermined elevation angle, and sandwiching the pair of rollers pressed against each other with the photosensitive material transported from the processing tank. At a possible position, the upper roller of the roller pair is displaced downstream with respect to the conveying direction of the photosensitive material, and the roller pair is rotated in the feeding direction of the photosensitive material to rotate the roller pair. It is characterized in that a treatment liquid removing means for squeezing the treatment liquid adhered to the surface is provided. It is also desirable that a scraper is provided in contact with the outer periphery of at least one of the rollers of the roller pair to scrape off the processing liquid, sludge and other deposits on the roller surface.

【作用】[Action]

上記構成を有する本発明の感材処理装置は、感材用の
処理液を貯留する処理槽の処理液中に、感材を感材搬送
手段により搬入し、搬入された感材が処理液によって処
理された後、所定の仰角をもって搬出する。感材は、そ
の表面には処理液が付着したまま搬出される。 搬出された感材は相対向して押圧されたローラ対に挟
み込まれ、感材表面に付着した処理液は、処理液除去手
段のローラ対が感材の送り方向に回転することにより絞
り取られる。この際、所定の仰角をもって搬出されてき
た感材を、上側ローラが感材の搬送方向に対して下流側
に偏位したローラ対に挟み込むので、このローラ対にお
いて感材の搬送方向は、上側ローラの上記偏位量(角
度)に対応した角度だけ下向きとなる。従って、感材は
ローラ対の手前で上向きに湾曲する。その後、感材はロ
ーラ対に挟み込まれて絞られるので、感材表面から絞り
取られた処理液は、感材の搬送中、上側ローラ外周と上
向きに湾曲した(下向きに搬送される)感材とで形成さ
れる空間に留まることになる。従って、古い処理液が、
搬送中の感材表面を伝ったり、処理槽に戻るということ
がない。 また、ローラ対の少なくとも一方のローラの外周に当
接するスクレーパを設ければ、ローラ表面の処理液,ス
ラッジ等の付着物を掻き取ることができ、ローラへのス
ラッジの付着・堆積が防止される。
The photosensitive material processing apparatus of the present invention having the above-described configuration is configured such that the photosensitive material is transported by the photosensitive material transport unit into the processing solution in the processing tank that stores the processing solution for the photosensitive material, and the loaded photosensitive material is processed by the processing solution. After being processed, it is carried out at a predetermined elevation angle. The photosensitive material is carried out with the processing liquid attached to the surface thereof. The transported photosensitive material is sandwiched between pairs of rollers pressed opposite to each other, and the processing liquid adhering to the surface of the photosensitive material is squeezed out by rotating the roller pair of the processing liquid removing unit in the direction of feeding the photosensitive material. . At this time, the photosensitive material that has been carried out at a predetermined elevation angle is sandwiched between a pair of rollers whose upper rollers are displaced downstream with respect to the transport direction of the photosensitive material. The roller is directed downward by an angle corresponding to the deviation amount (angle) of the roller. Therefore, the photosensitive material curves upward before the roller pair. Thereafter, since the photosensitive material is sandwiched between the roller pairs and squeezed, the processing liquid squeezed from the surface of the photosensitive material is curved upward (conveyed downward) with the outer periphery of the upper roller during the transportation of the photosensitive material. And stay in the space formed by Therefore, the old processing solution
It does not travel along the surface of the photosensitive material being transported or return to the processing tank. In addition, if a scraper is provided in contact with the outer periphery of at least one of the rollers of the roller pair, it is possible to scrape off the processing liquid, sludge, and other deposits on the roller surface, thereby preventing the sludge from adhering and accumulating on the rollers. .

【実施例】【Example】

以上説明した本発明の構成・作用を一層明らかにする
ために、以下本発明の感材処理装置の好適な実施例につ
いて説明する。第1図は、感材処理装置の一実施例であ
る現像処理装置の概略構成図、第2図はこの現像処理装
置を組み込んだスリット露光式複写カメラ1を示す要部
側断面図である。スリット露光式複写カメラ1は、原稿
を複写して軽印刷用の刷版を作製する装置である。 まず、第2図に従って、スリット露光式複写カメラ1
の全体構成について説明する。図示するように、このス
リット露光式複写カメラ1は、筐体2内に後述する投影
光学系や感材処理装置を組み込んだものであり、筐体2
の上面に設けられたコンソールパネル4と、筐体2の上
面にそって水平方向(図における左右方向)に往復動可
能に構成された原稿ホルダ10と、シート状の感材PMを露
光位置に搬送する感材搬送装置20と、原稿ホルダ10内に
保持された原稿に光を照射すると共に原稿で反射された
光を感材PM上面に投影してこれを露光する投影光学系30
と、露光済みの感材PMの現像および安定化処理を行なう
現像処理装置40と、現像処理装置40から搬出された感材
PMを乾燥させる乾燥ユニツト50と、種々のモータや後述
の電磁弁等の駆動制御を司る電子制御装置60とを備え
る。 コンソールパネル4は、露光条件の設定等を行なう各
種設定スイッチや、電源スイッチ,スタートスイッチ等
が設けられており、オペレータにより操作される。コン
ソールパネル4の各スイッチは、電子制御装置60に接続
されている。 原稿ホルダ10は、透明なガラス板で構成された原稿台
11と開閉自在な原稿カバー12とを備えており、原稿は原
稿台11と原稿カバー12との間は下向きに保持される。こ
の原稿ホルダ10は、筐体2に設けられたモータ13によ
り、スプロケット,チェーン,ベルト等の図示しない駆
動系を介して、水平方向に往復駆動され、露光用の照射
光源に対して原稿を搬送する。 感材搬送装置20は、第1の感材ロール21,第2の感材
ロール22の他、第1の感材ロール21からの感材送り出し
専用のロ−ラ対23,第2の感材ロール22からの感材送り
出し専用のローラ対24および各感材ロールからの感材送
り出しに共通して用いる2つのローラ対25,26を備えて
おり、必要に応じてどちらか一方の感材ロール21もしく
は22から、シート状の感材PMを送り出す。本実施例で
は、感材PMとして、シルバーマスター(製品名:三菱製
紙株式会社製、型式SLM-R2)を用いたが、銀塩系の製版
用感光紙であれば、スーパーマスター(製品名:アグフ
ァゲバルト社製、型式SPP)なども用いることができ
る。 第2図は、感材PMが、第1の感材ロール21から3組の
ローラ対23,25,26によって順次その下流に搬送されてい
る状態を示している。第2の感材ロール22の感材PMを用
いる場合には、上記ローラ対23に替わるローラ対24と2
組のローラ対25,26によって、感材PMが第2の感材ロー
ル22から搬送される。 なお、第1の感材ロール21または第2の感材ロール22
からの感材PMの送り出しは、原稿ホルダ10の水平方向移
動に同期して行なわれる。 こうして搬送された感材PMは、2組のローラ対25,26
の間に設定された露光位置にて露光され、この露光位置
における感材PMの裏面側に設けられた切断装置27によ
り、コンソールパネル4から設定された寸法に切断され
る。 感材PMを露光する投影光学系30は、原稿ホルダ10内に
保持された原稿の幅方向に亘って光を照射するための光
源31と、原稿からの反射光LBを反射する3つのミラー32
a,32b,32cからなるミラー群32と、露光位置の感材PM上
面に原稿の像を結像させる投影レンズ33と、感材PM上面
に投影される反射光LBの幅を制限するスリット34とを備
える。投影レンズ33とミラー群32を構成するミラー32b,
32cとは、傾斜台35上に取り付けられたミラー支持板36
およびレンズ支持台37にそれぞれ固定されており、この
投影光学系30における投影倍率は値1に設定されてい
る。なお、上記ミラー支持板36およびレンズ支持台37
は、投影倍率のアライメントの際に傾斜台35上でその位
置が調整され、アライメント完了後に傾斜台35に固定さ
れる。 光源31から原稿に向けて照射された光は原稿下面で反
射し、この反射光LBはミラー群32の各ミラーで順次反射
され、投影レンズ33とスリット34とを通過した後、感材
PMの感光面に結像される。従って、搬送されつつある感
材PMの感光面には、原稿の幅方向に亘るスリット状画像
が投影される。感材PMの搬送は、原稿ホルダ10の水平方
向移動に同期しているので、原稿ホルダ10の水平方向の
移動が完了すると、原稿全体の露光が完了する。その
後、感材PMは切断装置27によって切断される。 なお、ローラ対26の下方側には、感材PMを一様に露光
するため複数のLED38がライン状に設けられており、こ
のLED38を駆動して感材PMを照射することにより、縮小
して露光する際に原稿からの反射光LBで露光できない感
材PMの周辺部分を像形成不要部として焼きとばしてい
る。 現像処理装置40は、投影光学系30の下方に設置されて
おり、導入ローラ41を介して導入される感材PMに対する
現像処理および安定化処理を行なうものである。この現
像処理装置40は、現像液を貯蔵する現像液メインタンク
42と安定化剤を貯蔵する安定化剤メインタンク43が装着
可能で、図示しないモータによりローラ等が一体に駆動
される処理ユニツト44として構成され、筐体2内に収納
されている。現像処理装置40の構成の詳細については後
述する。 感材PMの搬送路に沿って現像処理装置40の下流には乾
燥ユニツト50が配設されている。この乾燥ユニツト50
は、現像処理装置40にて処理された感材PMを張力を掛け
つつ搬送する2組のローラ対51,52と、このローラ対51,
52間に設けられた搬送トレイ53と、この搬送トレイ53に
感材PMの搬送路を挟んで対向する位置に設けられた感材
乾燥用ヒータ54およびファン55と、筐体2の外部に取り
付けられ乾燥された感材PMを収納する外部トレイ56とを
備える。 従って、露光済みの感材PMは、現像処理装置40におけ
る現像・安定化処理を経て感材乾燥用ヒータ54により乾
燥され、筐体2外の外部トレイ56に送り出される。こう
して、原稿からオフセット印刷用の刷版が作製される。 次に、感材PMへの現像・安定化処理を行なう現像処理
装置40について説明する。現像処理装置40の説明には、
その概略構成を示す第1図の他、斜視図(第3図,第4
図),断面図(第5図)を適宜援用する。 第1図に示すように、この現像処理装置40は、導入ロ
ーラ41から導入された露光済みの感材PMを現像液メイン
タンク42内の現像液を用いて現像する現像部70と、安定
化剤メインタンク43内の安定化剤を用いて現像済みの感
材PMに安定化処理を施しこれを乾燥ユニツト50のローラ
対51に送り出す安定部化処理部(以下、安定部と呼ぶ)
72とを備える。 現像部70は、現像液の供給系として、現像液メインタ
ンク42の他、この現像液メインタンク42が着脱されメイ
ンタンク42から現像液を受けて液面を一定に管理する液
面管理筒74と、液面管理筒74から導通管76を介して現像
液が流入する現像液シスターンタンク78と、現像液シス
ターンタンク78からの現像液の流出用の管路79を開閉す
る流入用電磁弁80と、現像液を吐出する現像液ノズル82
とを備えている。この現像液ノズル82には、絞り部(第
5図参照)が組み込まれており、流入用電磁弁80の開弁
期間における現像液ノズル82先端からの現像液吐出量を
制限している。現像液ノズル82先端からの現像液の吐出
量は、絞り部の部位に加わる圧力、即ち液面管理筒74に
おける液面の高さとオリフィスの径とによって定まる。
本実施例では、液面の高さを一定に保っているので、流
入用電磁弁80開弁時における現像液の流量は、現像液メ
インタンク42内の現像液の多少にかかわらず一定に保た
れる。 現像液シスターンタンク78には、その内部を液流入室
78aおよび液滞留室78bに区分けする仕切板84がタンクの
底から立設されており、液流入室78aには導通管76が開
口されている。一方、液滞留室78bの上面には、底面に
向けて挿入されたヒータ86と、タンク内の液量に応じて
上下動するフロート87を有し現像液シスターンタンク78
内の液量を検出するフロートセンサ88とが設けられてい
る。また、現像液シスターンタンク78の底部に連通され
た管路79の入り口には、流出する現像液からごみ等を除
去するメッシュフィルタ90が設けられている。 従って、現像液メインタンク42から導通管76を介して
流入した冷たい現像液は、まず液流入室78aに流入して
仕切板84上端を越え液滞留室78b上部に流れ込む。液滞
留室78b内の現像液はヒータ86により暖められる。ヒー
タ86による現像液の温度は、後述する電子制御装置によ
り所定温度に管理される。所定温度に維持された現像液
は、流入用電磁弁80が開弁すると、現像液ノズル82から
流出する。 次に、感材PMの現像が実際に行なわれる現像処理槽96
まわりの概略構成の働きの概要とについて説明する。現
像部70に感材PMを導入する導入ローラ41の下方には、第
5図矢印X方向に回転して感材PMを送り込む入り口ロー
ラ対92が設けられ、更にその下方には、送り込まれた感
材PMに接して感材PMをガイドし、搬送に際して感材PMに
いわゆる腰を付けるフリーローラ94が配設されている。 現像処理槽96は、断面略U字形であり、第3図に示す
ように、感材PMの幅に応じた幅を有し、現像液の貯留部
95を形成している。この現像処理槽96内には、現像処理
槽96の幅方向に亘って、現像処理槽96の底面に若干の距
離を残した位置に現像液供給ローラ98が配設されてい
る。従って、現像処理槽96の貯留部95に現像液が貯留さ
れれば、現像液供給ローラ98の下部は現像液に一部分浸
漬する。現像液供給ローラ98の表面はスポンジ質の材質
で形成されており、スポンジ質を構成する気泡は個々に
独立した気泡(単独気泡)とされている。現像液供給ロ
ーラ98には、第4図に示すように、上部から滴下する現
像液を現像液供給ローラ98との間に一時的に貯留する現
像液一時貯留部100が組み付けられている。 また、現像処理槽96の底部には、第3図,第5図に示
すように、その幅方向に亘って底部液溜め室101が形成
されており、現像処理槽96の底に開口された複数の連通
孔102により、現像液が流入可能とされている。底部液
溜め室101の内部には、現像液加熱用の棒状ヒータ103が
2本配設されている。底部液溜め室101の中央底部に
は、管路を開閉する排出用電磁弁104を介してこの底部
液溜め室101と導通し使用済み現像液を廃液受けトレイ1
06に排出する現像液排出管108が連設されている。 現像処理槽96の感材PMの搬出側には、安定部72に向け
て所定の仰角αを有するガイド板110が配置されてい
る。ガイド板110は、感材PMとの接触抵抗を小さくする
ために波板を用いて形成されており(第3図参照)、安
定部72の絞りローラ対109に向けた現像済み感材PMの進
入経路を形成する。ガイド板110の下面には、自己温度
制御機能を有する加熱用の面状ヒータ112が取着されて
いる。面状ヒータ112は、第3図に示すように、現像処
理槽96側に設けられた取付金具113や図示しない他の金
具により、ガイド板110に一体に固定されている 現像処理槽96の詳細な構成について説明する。現像処
理槽96の貯留部95は、第3図に示すように、湾曲した周
面板120の両側面に略半月状の側面板122(図において、
向かって左側の側面板は省略されている)を各々接合・
固定することにより形成される。周面板120のガイド板1
10側のおよそ中央には、周面板120を貫通する貫通孔126
が設けられている。現像液が現像液ノズル82から供給さ
れて貯留部95の液量が増加すると、現像液はこの貫通孔
126から流出する。従って、貯留部95の現像液の液面
は、貫通孔126の高さに保持される。 なお、現像処理槽96直下の排出用電磁弁104には、第
1図に示すように、防滴カバー114が設けられ、現像処
理槽96やガイド板110から落下する現像液の付着を防止
している。 現像液一時貯留部100は、第4図および第5図にその
詳細を示すように、現像液供給ローラ98の両端面に当該
ローラの回転を許容して当接する2枚の端面板134と、
この端面板134を両端に固定した断面「フ」の字形状の
支持板136とを備える。また、支持板136を構成する上板
136a中央、現像液ノズル82の先端に対応した位置には、
液通過孔138が設けられ、一方、支持板136を構成する背
板136bには、現像液供給ローラ98に向けて付勢され、こ
のローラ98外周に当接するステンレスの薄板である板ば
ね140が設けられている。 液通過孔138の真下には、上板136aの前端中央からこ
の板ばね140に向けて、液受け板142が連設されている。
液受け板142の先端と板ばね140との間には、僅かな隙間
が設けられている。現像液供給ローラ98とその両端面に
当接された端面板134とローラ98外周面に当接された板
ばね140とで囲まれた部位は、現像液供給ローラ98がこ
の部位では上方に向けて回転していることも相俟って、
現像液ノズル82から滴下する現像液を一時的に溜め置く
ことができる。この部位を、液溜まり部143と呼ぶ。 なお、液受け板142は、現像液を現像液供給ローラ98
の軸方向に効率よく広げる役割を果しているが、液受け
板142がなくとも、現像液は液溜まり部143に一旦溜まる
から、現像液供給ローラ98の軸方向に広がることに変わ
りはない。 現像液ノズル82から滴下する現像液は、第4図および
第5図に示すように、液通過孔138を通過して液受け板1
42に至り、液受け板142の両端や板ばね140との間に形成
された僅かな隙間から板ばね140表面に沿って流れ落ち
る。つまり、現像液供給ローラ98の軸線方向に沿って広
がりつつ液溜まり部143に至り、ここに一時的に貯留さ
れる。液溜まり部143に貯留された現像液の一部は、現
像液供給ローラ98表面の単独気泡層における個々の気泡
に保持され、現像液供給ローラ98の第5図矢印Y方向へ
の回転に伴って汲み出される。 現像液供給ローラ98は、その下部が現像処理槽96に貯
留された現像液に浸漬しているから、回転に伴って汲み
出された新たな現像液は、貯留部95に既に貯留されてい
る現像液中に供給される。新たな現像液は、現像処理槽
96における感材PMの搬入側に拡散・供給される。現像液
が供給されて貯留部95内の現像液が増加すると、新たに
供給された現像液に相当する量から感材PMの搬出に伴っ
て失われる現像液分を除いた量の現像液(旧現像液)
が、周面板120の貫通孔126から外部に流れ出て、現像処
理槽96内の現像液の量はバランスする。 現像液は、底部液溜め室101にも流れ込んでおり、こ
こに内蔵された2本の棒状ヒータ103により加熱され
る。加熱された現像液は、連通孔102を介して貯留部95
との間で対流する。棒状ヒータ103の通電が温度検出器
により検出された現像液温度によりフィードバック制御
されていることも相俟って、現像処理槽96内の現像液
は、極めて短時間に昇温され所定の温度に維持される。 感材PMが現像処理槽96の現像液の貯留部95を通過すれ
ば、感材PMの現像処理に伴い、スラッジが現像液中に混
入する。こうしたスラッジは、貯留部95から底部液溜め
室101に流入し、排出用電磁弁104が開弁されると、現像
液と共に、現像液排出管108を介して廃液受けトレイ106
に排出される。 次に感材PMの搬送について説明する。入り口ローラ対
92により送り込まれた露光済みの感材PMは、フリーロー
ラ94によりガイドされつつ貯留部95に進入し、周面板12
0の内周面にそって貯留部95内を通過する。貯留部95内
を通過する間に、そこに貯留された現像液に反応し現像
処理が開始される。現像液供給ローラ98と周面板120と
の間隙を抜けて貯留部95を通過した後は、傾斜したガイ
ド板110上面に沿って安定部72の入り口に設けられた絞
りローラ対109に向けて送り出される。ガイド板110上の
雰囲気温度は、温度制御機能を有する面状ヒータ112に
よる加熱によって所定の温度近傍に保たれているから、
ガイド板110上を搬送されている間にも、感材PM表面に
付着している現像液により感材PMの現像処理は継続す
る。感材PMの表面に付着している現像液は、安定部72の
入口に設けられた絞りローラ対109により絞り取られ除
去される。 次に、安定化剤による感材PMの安定化系である安定部
72について、第1図を用いて説明する。なお、上記した
現像部70と同一の部材または同一の機能を有する部材に
ついては、その説明を省略し、現像部70における説明を
用いた符号(数値)に補助符号Aを付加して表わすこと
とする。 安定部72は、安定化剤の供給系として、上記現像部70
の現像液供給系と同様に、安定化剤メインタンク43,こ
の安定化剤メインタンク43が着脱される液面管理筒74A,
仕切板84Aを内部に立設した安定化剤シスターンタンク7
8A,液面管理筒74Aと安定化剤シスターンタンク78Aとを
導通する導通管76A,流入用電磁弁80Aを介装した安定化
剤ノズル82A等を備える。安定化剤シスターンタンク78A
内には、現像液シスターンタンク78と同様、フロート87
Aを有するフロートセンサ88A,メッシュフィルタ90Aも備
えられている。流入用電磁弁80Aと安定化剤ノズル82Aと
を介して安定化剤シスターンタンク78Aから安定化剤が
流出すると、その分だけ導通管76Aから安定化剤が流入
する。 安定部72の他の構成部品について、感材PMの搬送に沿
って簡略に説明する。現像部70のガイド板110の上端に
配置された絞りローラ対109を通過した感材PMは、感材P
Mの搬送路に沿って配置されたガイドカバー144およびフ
リーローラ146にガイドされて、安定化処理槽96Aへと搬
入される。安定化処理槽96Aの入口には、感材PMにいわ
ゆる腰を付けるフリーローラ94Aが設けられている。安
定化剤の貯留部95Aを形成する安定化処理槽96Aには、現
像処理槽96と同様、スポンジ質の安定化剤供給ローラ98
Aと、この安定化剤供給ローラ98Aとで安定化剤の液溜ま
り部143Aを形成する安定化剤一時貯留部100Aが設けら
れ、貯留部95Aの感材PMの搬入側に安定化剤を供給す
る。一方、安定化処理槽96Aの底には、現像処理槽96と
同様、底部液溜め室101Aが設けられている。防滴カバー
114A付の排出用電磁弁104Aが開弁されたとき、使用済み
の安定化剤は、安定化剤排出管108Aを介して、底部液溜
め室101Aから廃液受けトレイ106Aに排出される。なお、
安定化剤は温度管理を行なう必要がないことから、底部
液溜め室101Aにヒータは設けられていない。 感材PMの搬送路に沿って安定化処理槽96Aの下流に
は、安定化済み感材PMの進入経路を形成するガイド板11
0Aが安定化処理槽96Aから上方に向けて傾斜して配置さ
れており、ガイド板110Aの上端には、図中Z方向に回転
して安定化済み感材PMを乾燥ユニツト50(第5図参照)
のローラ対51に向けて搬送しつつ感材表面から余分な安
定化剤を絞り取る絞りローラ対109Aが配設されている。
安定化剤供給ローラ98Aおよび各絞りローラ対109,109A
は、既述した現像処理槽96の各ローラと共通の駆動源に
より駆動され、同期して回転される。 第1図矢印Z方向に回転して現像および安定化済みの
感材PMを搬送しつつ感材PMの表面から余分な現像液およ
び安定化剤を絞り取る各絞りローラ対109,109Aは、図示
するように、個々のローラの中心を通る平面が下側のロ
ーラの中心を通る鉛直面から反時計方向に角度βだけ傾
斜するよう、上側ローラを感材の搬送方向に対して下流
側に偏位されて設けられている。従って、絞りローラ対
109,109Aに挟まれて通過する際の感材PMの搬送方向は、
角度βに対応した角度だけ下向きとなる。感材PMは、絞
りローラ対109,109Aまでは所定の仰角αで搬送されてい
るから、各ローラ対109,109Aの手前で、第1図に一点鎖
線で示すように、上向きに湾曲する。 感材PMの表面に付着した現像液もしくは安定化剤の大
部分は、絞りローラ対109,109Aによりその手前側に絞り
取られる。この結果、絞られた現像液もしくは安定化剤
は、上向きに湾曲した(下向きに搬送される)感材PMの
表面と絞りローラ対109,109Aにおける上側のローラ外周
とで形成される空間に、感材PMが絞りローラ対109,109A
を通り抜けるまで留まる。 感材PM搬送中、各絞りローラ対109,109Aに留まる現像
液もしくは安定化剤は、感材PMの切断後端面が絞りロー
ラ対109もしくは109Aを通過すると同時に、絞りローラ
対109,109Aにおける下側のローラ表面を伝わって、各絞
りローラ対109,109A下方に配設された右側絞り液収集板
152または左側絞り液収集板154上に落下し、廃液受けト
レイ106A内に流入する。 各絞りローラ対109,109Aには、各々2個のスクレーパ
150が、その先端がローラ外周に当接する位置に設けら
れている。スクレーパ150は、ローラ表面に傷を付けな
いためにおよびスクレーパ150自身の長寿命化を図るた
めに、先端を滑らかに研磨したステンレス板あるいは先
端をプラスチックで覆ったステンレス板等を耐触性およ
び弾性を有する材質で構成されている。スクレーパ150
の先端を覆うプラスチックとしては、弗素樹脂,ポリエ
ステル,塩化ビニル等の処理液に対する耐薬品性と耐摩
耗性とを有する材料を用いることができる。スクレーパ
150により掻き落とされたスラッジや廃液は、右側絞り
液収集板152および左側絞り液収集板154上に落下し、廃
液受けトレイ106Aに回収される。なお、現像部70と安定
部72の各廃液受けトレイ106,106Aには、廃液タンク156
に至る配管158が設けられており、各トレイ106,106Aに
集められた廃液は、配管158を介して最終的には廃液タ
ンク156に回収される。 以上のように構成された安定部72では、現像部70から
送り込まれる現像済みの感材PMは、絞りローラ対109に
より、付着した現像液を絞り取られ、フリーローラ94A
等によりガイドされつつ貯留部95Aに搬入される。感材P
Mが、貯留部95Aの安定化剤中に入ると安定化処理が開始
され、貯留部95Aを通過した後、ガイド板110A上面に沿
って搬送される間も安定化の処理は進行する。絞りロー
ラ対109Aを通過する際、感材PM上面からは余分な安定化
剤が絞り取られ、その後、感材PMは、ローラ対51によっ
て乾燥ユニツト50に搬送される。 次に、現像液シスターンタンク78等における温度管理
や現像液供給ローラ98等の駆動制御等を司る電子制御装
置60について、第6図に示すブロック図を用いて説明す
る。 第6図に示すように、電子制御装置60は、周知のCPU1
62,ROM164,RAM166や複数の自走式タイマカウンタを内蔵
したタイマ168等を中心に算術論理演算回路として構成
され、これらとコモンバス170を介して相互に接続され
た露光用出力ポート172,現像用入力ポート174,現像用出
力ポート176等の入出力インタフェースを備える。ま
た、電子制御装置60のコモンバス170には、底部液溜め
室101に連通した貯留部95内の現像液および現像液シス
ターンタンク78内の現像液の温度調整を行なう温度調整
回路178と、オペレータが各種の設定等を行なうコンソ
ールパネル4とが接続されている。 露光用出力ポート172には、原稿ホルダ10の駆動用の
モータ13と、感材PMを切断するための切断装置27と、原
稿ホルダ10内の原稿に光を照射するための光源31と、第
1の感材ロール21または第2の感材ロール22から感材PM
を送り出すためのモータ28と、感材PMを一様に露光する
ためのLED38と、安定化済み感材を乾燥するための乾燥
ユニツト50とが接続されている。 一方、現像用入力ポート174には、現像液シスターン
タンク78内のフロートセンサ88と安定化剤シスターンタ
ンク78A内のフロートセンサ88Aとが接続されており、現
像用出力ポート176には、処理ユニツト44の各ローラを
同期して駆動する駆動モータ180と、現像液ノズル82に
設けられた流入用電磁弁80と、安定化剤ノズル82Aに設
けられた流入用電磁弁80Aと、現像液排出管108に設けら
れた排出用電磁弁104と、安定化済排出管108Aに設けら
れた排出用電磁弁104Aと、ガイド板110の近傍雰囲気を
ある程度の温度に加熱するための面状ヒータ112とが接
続されている。 また、温度調整回路178には、現像液シスターンタン
ク78内に設置されたヒータ86およびこのタンク内の液温
を検出する温度センサ85と、底部液溜め室101内に設置
された2本の棒状ヒータ103およびこの液溜め室101内の
液温を検出する温度センサ103aとが接続されている。こ
の温度調整回路178は、貯留部95内の現像液および現像
液シスターンタンク78内の現像液の温度をそれぞれ所定
温度範囲に維持するよう上記各ヒータを加熱制御し、液
温が所定温度範囲内に維持されているか否かを示す信号
をCPU162に出力する。 次に、実施例のスリット露光式複写カメラ1の全体の
動作について簡略に説明する。スリット露光式複写カメ
ラ1に電源が投入されると、第7図に示すように、まず
初期化の処理を実行し(ステップS100)、続いて、待機
処理を実行し(ステップS200)、コンソールパネル4か
らのスタートキーの入力を待って(ステップS300)、露
光・現像処理を実行する(ステップS400)。 ここで、初期化の処理とは、排出用電磁弁104,104Aを
開弁して、現像処理槽および安定化処理槽96A(以下、
必要に応じて両者をまとめて処理槽96と呼ぶ)に残存す
る現像液もしくは安定化剤(以下、必要に応じて両者を
まとめて処理液と呼ぶ)をすべて排出し、排出用電磁便
104,104Aを閉弁した後、流入用電磁弁80,80Aを開弁して
現像液供給ローラ98,安定化剤供給ローラ98Aの回転に伴
って処理液を処理槽96に供給し、温度調整回路178を動
作させて現像液シスターンタンク78および現像処理槽96
内の現像液の温度を、およそ28℃ないし31℃の範囲に昇
温・維持するといった処理である。電源投入時に初期化
の処理を実行することにより、処理槽96内の処理液は、
露光・現像処理のために、新たな処理液に入れ換えら
れ、適正な温度に制御される。 待機処理(ステップS200)では、露光・現像のための
各種設定を行ないつつ、現像が可能な状態で待機する。 スタートキーが押されてオンとなった場合(ステップ
S300)に実行される露光・現像処理(ステップS400)で
は、第8図のタイミングチャートに示すように、投影光
学系30による露光処理を行なうと共に、感材PMの先端が
現像処理槽96に入るのに先立って現像液の流入用電磁弁
80を開いて新たな現像液の供給を開始し、感材PMが搬送
されるにつれて、安定化剤の流入用電磁弁80Aを開いて
新たな安定化剤の供給を開始し、感材PMの通過に従って
これら処理液の供給を停止する。現像処理装置40におけ
る各部の動作は、既に詳述した通りである。 以上説明したように、スリット露光式複写カメラ1に
組み込まれた実施例の現像処理装置40は、感材PMを搬送
しつつ、感材PMに対し現像および安定化処理を施してオ
フセット用刷版を作製する。現像処理装置40は、感材PM
の搬送過程において、絞りローラ対109,109Aまで仰角α
で搬送されてきた感材PMの搬送方向を絞りローラ対109,
109Aの上側ローラの偏位量(角度β)に対応した角度だ
け下向きとして、感材PMを各上側ローラの手前で上向き
に湾曲させる。従って、感材PM表面の現像液および安定
化剤を絞りローラ対109,109Aにより絞り取る際、絞られ
た古い現像液もしくは安定化剤は、上向きに湾曲した
(下向きに搬送される)感材PMの表面と絞りローラ対10
9,109Aにおける上側のローラ外周とで形成される空間
に、感材PMが絞りローラ対109,109Aを通り抜けるまで留
まることになる。この結果、古い処理液が処理槽96内に
戻ることがなく、各処理槽96における処理性能を劣化さ
せることがない。 また、絞られた古い現像液もしくは安定化剤が感材PM
の表面を伝わることがないため、感材PM表面における処
理ムラ(不規則なスジムラ)の発生という問題を解消す
ることができる。 更に、絞りローラ対109,109Aの上側ローラの角度β
を、感材PMを搬送する仰角αが大きくなるほど小さく設
計すれば、感材PMの先端が絞りローラ対109,109Aに噛み
込まれた際の感材PMの湾曲に伴う感材PMの搬送の乱れを
抑制することができる。従って、感材PMの搬送の乱れに
起因する処理槽内の液面の乱れが抑制されて、液面の乱
れ(波)に基づく現像ムラ(感材表面に生じる不規則な
スジムラ)も生じることがない。 また、本実施例では、絞りローラ対90,90Aにスクレー
パ150を設けて、絞りローラ対90,90Aの各ローラに付着
するスラッジ等を掻き落としている。従って、ローラに
スラッジが付着・堆積して絞り不良となることがない。 更に、本実施例では、現像処理槽96に新たな現像液を
供給するに当たって、新たな現像液を感材PMの搬入側、
即ち現像処理開始側に供給しているので、新たな現像液
を優先的に使用して感材PMを高効率かつ均一に現像処理
でき、現像品質の一層の向上を図っている。安定部72に
おける安定化処理についても同様である。 以上本発明の実施例について説明したが、本発明はこ
うした実施例に何等限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施し
得ることは勿論である。 例えば、本実施例では、感材PMを現像処理槽96および
安定化処理槽96Aから各処理槽において処理が完了する
以前に搬出し、表面に付着した各処理液(現像液,安定
化剤)により、各絞りローラ対109,109Aに至る間にも継
続して感材処理する構成について説明したが、大きな現
像処理槽における静止現像液中を波立たないように感材
をゆっくりと搬送する浸漬式現像処理式の構成にも適用
することができる。
The configuration and operation of the present invention described above will be further clarified.
Therefore, a preferred embodiment of the photosensitive material processing apparatus of the present invention will be described below.
Will be described. FIG. 1 is an embodiment of a photosensitive material processing apparatus.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a developing processing apparatus.
Main part showing the slit exposure type copying camera 1 incorporating the camera
It is a side sectional view. The slit exposure type copying camera 1
Is a device for producing a printing plate for light printing by copying the same. First, according to FIG.
Will be described. As shown,
The lit-exposure type copying camera 1 has a projection
It incorporates an optical system and a photosensitive material processing device.
Console panel 4 provided on the upper surface of the
Reciprocable in horizontal direction (left-right direction in the figure) along the surface
Document holder 10 and the sheet-shaped photosensitive material PM
The photosensitive material transport device 20 that transports to the light position and the document holder 10
Irradiates the held original with light and is reflected by the original
Projection optical system 30 that projects light onto the upper surface of photosensitive material PM to expose it
And developing and stabilizing the exposed photosensitive material PM
Development processing device 40 and photosensitive material unloaded from development processing device 40
Drying unit 50 for drying PM, various motors and
And an electronic control unit 60 that controls the drive of the solenoid valves and the like.
You. The console panel 4 is used to set exposure conditions and the like.
Seed setting switch, power switch, start switch, etc.
Is provided, and is operated by an operator. Con
Each switch on the sole panel 4 is connected to the electronic control unit 60
Have been. The document holder 10 is a platen made of a transparent glass plate.
11 and an openable / closable document cover 12.
The space between the platen 11 and the document cover 12 is held downward. This
The original holder 10 is driven by a motor 13 provided in the housing 2.
Not shown, such as sprockets, chains, belts, etc.
Reciprocatingly driven in the horizontal direction via a dynamic system, and irradiation for exposure
The original is conveyed to the light source. The photosensitive material transport device 20 includes a first photosensitive material roll 21 and a second photosensitive material.
Sending out the photosensitive material from the first photosensitive material roll 21 in addition to the roll 22
Dedicated roller pair 23, photosensitive material feed from second photosensitive material roll 22
Feeding roller pair 24 and feeding of photosensitive material from each photosensitive material roll
With two roller pairs 25 and 26 commonly used for
If necessary, either one of the photosensitive material rolls 21 or
Sends out a sheet-like photosensitive material PM from 22. In this embodiment
Is a silver master (product name: Mitsubishi)
SLM-R2) manufactured by Paper Co., Ltd. was used, but silver halide plate making
If it is photosensitive paper, use Super Master (Product name: Agfu
Agagevart model SPP) etc. can also be used.
You. FIG. 2 shows that the photosensitive material PM is composed of three sets from the first photosensitive material roll 21.
Roller pairs 23, 25, 26
It shows a state in which Using the photosensitive material PM of the second photosensitive material roll 22
The roller pair 24 and 2 instead of the roller pair 23
The photosensitive material PM is transferred to the second photosensitive material row by the set of roller pairs 25 and 26.
Conveyed from the file 22. The first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22
Of the photosensitive material PM from the
It is performed in synchronization with the movement. The photosensitive material PM thus transported is composed of two roller pairs 25 and 26.
Exposure is performed at the exposure position set between
The cutting device 27 provided on the back side of the photosensitive material PM
And cut to the dimensions set from the console panel 4.
You. The projection optical system 30 for exposing the photosensitive material PM
Light for irradiating light across the width of the held document
Source 31 and three mirrors 32 for reflecting the reflected light LB from the original
a mirror group 32 composed of a, 32b, and 32c and a photosensitive material PM at an exposure position
Projection lens 33 that forms an image of the original on the surface, and upper surface of photosensitive material PM
And a slit 34 for limiting the width of the reflected light LB projected on the
I can. A projection lens 33 and a mirror 32b constituting a mirror group 32,
32c is a mirror support plate 36 mounted on a tilt base 35.
And the lens support 37, respectively.
The projection magnification in the projection optical system 30 is set to a value of 1.
You. The mirror support plate 36 and the lens support 37
Is positioned on the tilt table 35 during alignment of the projection magnification.
Position is adjusted, and after alignment is complete,
It is. Light emitted from the light source 31 toward the original is reflected by the lower surface of the original.
The reflected light LB is sequentially reflected by each mirror of the mirror group 32.
After passing through the projection lens 33 and the slit 34,
An image is formed on the photosensitive surface of PM. Therefore, the feeling of being conveyed
On the photosensitive surface of the material PM, there is a slit-shaped image
Is projected. The photosensitive material PM is transported horizontally on the original holder 10.
The document holder 10 in the horizontal direction.
When the movement is completed, exposure of the entire document is completed. That
Thereafter, the photosensitive material PM is cut by the cutting device 27. The photosensitive material PM is uniformly exposed to the lower side of the roller pair 26.
A plurality of LEDs 38 are provided in a line to
LED38 is driven to irradiate the photosensitive material PM to reduce the size
When the exposure cannot be performed with the reflected light LB from the original
The peripheral part of the material PM is skipped as an image forming unnecessary part.
You. The development processing device 40 is installed below the projection optical system 30.
The photosensitive material PM introduced through the introduction roller 41
A development process and a stabilization process are performed. This present
The image processing device 40 is a developer main tank for storing the developer.
42 and stabilizer main tank 43 for storing stabilizer
Possible, rollers and other components are driven together by a motor (not shown)
And is housed in the housing 2
Have been. The details of the configuration of the development processing device 40 will be described later.
Will be described. Along the path of the photosensitive material PM, a dry
A drying unit 50 is provided. This dried unit 50
Applies tension to the photosensitive material PM processed by the development processing device 40.
Pairs of rollers 51 and 52 for conveying while moving,
And a transfer tray 53 provided between the transfer trays 53.
Sensitive material provided at a position facing the photosensitive material PM across the transport path
The drying heater 54 and the fan 55 and the outside of the housing 2 are installed.
An external tray 56 for storing the attached and dried photosensitive material PM
Prepare. Accordingly, the exposed photosensitive material PM is transferred to the developing device 40.
After the development and stabilization process, the photosensitive material is dried by the heater 54 for drying the photosensitive material.
It is dried and sent to an external tray 56 outside the housing 2. like this
Then, a printing plate for offset printing is manufactured from the original. Next, a development process for developing and stabilizing the photosensitive material PM
The device 40 will be described. In the description of the development processing device 40,
In addition to FIG. 1 showing the schematic configuration, perspective views (FIGS.
Figures) and cross-sectional views (Fig. 5) are used as appropriate. As shown in FIG. 1, this development processing device 40
The exposed photosensitive material PM introduced from the
Developing unit 70 that develops using developer in tank 42 and stable
Developed using the stabilizer in the main tank 43
The material PM is subjected to a stabilization process and is dried with a 50 unit roller.
Stabilization processing unit to send out to pair 51 (hereinafter referred to as the stability unit)
72. The developing unit 70 includes a developer mainter as a developer supply system.
In addition to the ink tank 42, this developer main tank 42 is
Liquid that receives developer from the reservoir tank 42 and maintains the liquid level at a constant level.
Surface management cylinder 74 and developing from liquid level management cylinder 74 via conduit 76
A developer cistern tank 78 into which the liquid flows,
Opens and closes conduit 79 for developer outflow from turn tank 78
Inflow solenoid valve 80 and developer nozzle 82 for discharging developer
And The developer nozzle 82 has a throttle section (the
(Refer to Fig. 5)
Of the developing solution from the tip of the developing solution nozzle 82 during the period.
Has restricted. Discharge of developer from the tip of developer nozzle 82
The amount is the pressure applied to the portion of the throttle, i.e.,
It depends on the height of the liquid surface and the diameter of the orifice.
In this embodiment, since the liquid level is kept constant,
When the input solenoid valve 80 is opened, the flow rate of the developer
It was kept constant regardless of the amount of developer in the in-tank 42
It is. The developer cistern tank 78 has a liquid inflow chamber
A partition plate 84, which is divided into a liquid storage chamber 78b and a liquid storage chamber 78b,
It stands upright from the bottom, and a conduit 76 opens in the liquid inflow chamber 78a.
Has been spoken. On the other hand, on the bottom of the liquid
According to the amount of liquid in the tank and the heater 86
A developer cistern tank 78 having a float 87 that moves up and down
And a float sensor 88 for detecting the amount of liquid in the
You. It is also connected to the bottom of the developer system tank 78.
At the entrance of the duct 79, dust is removed from the developing solution flowing out.
A mesh filter 90 to be removed is provided. Therefore, from the developer main tank 42 through the conduit 76
The flowing cold developer first flows into the liquid inflow chamber 78a.
It flows over the upper end of the partition plate 84 and into the upper part of the liquid retaining chamber 78b. Stagnation
The developer in the reservoir 78b is heated by the heater 86. He
The temperature of the developer by the heater 86 is controlled by an electronic control unit described later.
Is maintained at a predetermined temperature. Developer maintained at a predetermined temperature
When the inflow electromagnetic valve 80 opens, the developer nozzle 82
leak. Next, a developing tank 96 where the development of the photosensitive material PM is actually performed is performed.
The outline of the operation of the surrounding schematic configuration will be described. Present
Below the introduction roller 41 for introducing the photosensitive material PM into the image section 70,
Fig. 5 Entrance row that rotates in the direction of arrow X and sends photosensitive material PM
La pair 92 is provided, and further below it,
Guides the photosensitive material PM in contact with the material PM and transfers it to the photosensitive material PM during transport.
A so-called waist-free roller 94 is provided. The developing tank 96 has a substantially U-shaped cross section and is shown in FIG.
The width of the photosensitive material PM has a width corresponding to
Form 95. The developing tank 96 contains a developing process.
A little distance from the bottom of the developing tank 96 over the width of the tank 96
The developer supply roller 98 is disposed at a position where the separation is left.
You. Therefore, the developer is stored in the storage section 95 of the development processing tank 96.
Then, the lower part of the developer supply roller 98 is partially immersed in the developer.
Pickle. The surface of the developer supply roller 98 is made of a spongy material
And the bubbles that make up the sponge are individually
It is an independent bubble (single bubble). Developer supply
As shown in FIG. 4, the roller 98
The image liquid is temporarily stored between the developing liquid supply roller 98 and the developing liquid supply roller 98.
An image liquid temporary storage unit 100 is assembled. The bottom of the developing tank 96 is shown in FIGS.
As shown, a bottom liquid reservoir 101 is formed in the width direction.
And a plurality of communication openings opened at the bottom of the developing tank 96.
The holes 102 allow the developer to flow. Bottom liquid
Inside the reservoir 101, a rod-shaped heater 103 for heating the developer is provided.
Two are arranged. At the bottom of the center of the bottom reservoir 101
Is connected to this bottom via a discharge solenoid valve 104 that opens and closes the pipeline.
A waste liquid receiving tray 1 that communicates with the liquid storage chamber 101 and receives used developer
A developer discharge pipe 108 for discharging to 06 is connected. On the unloading side of the photosensitive material PM in the developing tank 96,
Guide plate 110 having a predetermined elevation angle α
You. Guide plate 110 reduces contact resistance with photosensitive material PM
(See Fig. 3).
Of the developed photosensitive material PM toward the squeezing roller pair 109 in the fixed section 72
Form an entry path. The lower surface of the guide plate 110 has a self-temperature
A heating planar heater 112 having a control function is attached.
I have. As shown in FIG. 3, the planar heater 112
The mounting bracket 113 provided on the treatment tank 96 side and other metal
A detailed configuration of the developing tank 96 integrally fixed to the guide plate 110 will be described. Development
As shown in FIG. 3, the storage section 95 of the treatment tank 96 has a curved periphery.
On both sides of the face plate 120, a substantially half-moon shaped side plate 122 (in the figure,
(The side plate on the left side is omitted)
It is formed by fixing. Guide plate 1 for peripheral plate 120
At the approximate center of the 10 side, a through hole 126 penetrating the peripheral plate 120
Is provided. The developer is supplied from the developer nozzle 82.
When the amount of liquid in the storage section 95 increases due to the
Outflow from 126. Therefore, the developer level in the reservoir 95 is
Is held at the height of the through hole 126. The discharge solenoid valve 104 immediately below the developing tank 96 has a
As shown in FIG. 1, a drip-proof cover 114 is provided,
Prevents developer from dropping from bath 96 or guide plate 110
doing. The temporary developer storage 100 is shown in FIGS. 4 and 5.
As shown in detail, both ends of the developer supply roller 98 are
Two end face plates 134 that contact the roller while allowing rotation of the roller,
The end plate 134 is fixed at both ends.
And a support plate 136. Also, the upper plate constituting the support plate 136
At the position corresponding to the center of 136a, the tip of the developer nozzle 82,
A liquid passage hole 138 is provided, while a spine constituting a support plate 136 is provided.
The plate 136b is urged toward the developer supply roller 98,
Plate that is a stainless steel plate that contacts the outer periphery of the roller 98
Nine 140 is provided. Immediately below the liquid passage hole 138, start from the center of the front end of the upper plate 136a.
The liquid receiving plate 142 is provided continuously toward the leaf spring 140.
A slight gap is provided between the tip of the liquid receiving plate 142 and the leaf spring 140.
Is provided. The developer supply roller 98 and both end faces
The end face plate 134 in contact and the plate in contact with the outer peripheral surface of the roller 98
The portion surrounded by the spring 140 is covered with the developer supply roller 98.
In the part of, together with the fact that it rotates upward,
Temporarily store the developer dropped from the developer nozzle 82
be able to. This part is called a liquid pool part 143. The liquid receiving plate 142 is used to supply the developing solution to the developing solution supply roller 98.
Plays the role of efficiently spreading in the axial direction of the
Even if the plate 142 is not provided, the developer temporarily accumulates in the liquid reservoir 143.
From that of the developer supply roller 98 spreads in the axial direction.
No. The developer dropped from the developer nozzle 82 is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the liquid receiving plate 1
42, formed between both ends of the liquid receiving plate 142 and the leaf spring 140
Flows down along the surface of the leaf spring 140 from the slight gap
You. In other words, the developing solution supply roller 98 spreads along the axial direction.
It reaches the liquid pool part 143 while falling, and is temporarily stored here.
It is. Some of the developer stored in the liquid reservoir 143 is
Individual bubbles in the single bubble layer on the surface of the image supply roller 98
And the developer supply roller 98 in the direction of arrow Y in FIG.
Pumped out with the rotation of. The lower portion of the developer supply roller 98 is stored in a developing tank 96.
Since it is immersed in the retained developer,
The discharged new developer is already stored in the storage section 95.
Is supplied to the developing solution. New developing solution
In 96, the photosensitive material PM is diffused and supplied to the carry-in side. Developer
Is supplied and the developer in the reservoir 95 increases, a new
With the removal of photosensitive material PM from the amount equivalent to the supplied developer
(Ex-developer) excluding the amount of developer lost
Flows out of the through hole 126 of the peripheral plate 120 to the outside, and
The amount of the developer in the bath 96 is balanced. The developer also flows into the bottom liquid storage chamber 101,
It is heated by two built-in rod heaters 103
You. The heated developer is supplied to the reservoir 95 through the communication hole 102.
Convection between and. Energization of the rod-shaped heater 103 is a temperature detector
Control based on developer temperature detected by
The developer solution in the developing tank 96
Is raised in a very short time and maintained at a predetermined temperature. When the photosensitive material PM passes through the developer reservoir 95 of the developing tank 96,
For example, sludge is mixed into the developer with the development of the photosensitive material PM.
Enter. These sludges are collected from the bottom 95
After flowing into the chamber 101 and the discharge solenoid valve 104 is opened, the developing
Along with the liquid, the waste liquid receiving tray 106
Is discharged. Next, conveyance of the photosensitive material PM will be described. Entrance roller pair
The exposed photosensitive material PM sent by 92 is
While entering the storage section 95 while being guided by the
It passes through the inside of the storage part 95 along the inner peripheral surface of 0. Inside storage unit 95
Reacts with the developer stored in the
Processing is started. The developer supply roller 98 and the peripheral plate 120
After passing through the storage section 95 after passing through the gap of
A diaphragm provided at the entrance of the stabilizer 72 along the upper surface of the plate 110
Is sent out to the roller pair 109. On guide plate 110
The ambient temperature is controlled by the sheet heater 112 having a temperature control function.
Is maintained near the predetermined temperature by the heating
While being transported on the guide plate 110, the surface of the photosensitive material PM
The developing process of the photosensitive material PM is continued by the attached developer.
You. The developer adhering to the surface of the photosensitive material PM
It is squeezed and removed by the squeeze roller pair 109 provided at the entrance.
Left. Next, the stabilizing part, which is a stabilizing system
72 will be described with reference to FIG. The above
The same member as the developing unit 70 or a member having the same function
The description is omitted, and the description in the developing section 70 is omitted.
Auxiliary code A is added to the code (numerical value) used.
And The stabilizing section 72 serves as a stabilizing agent supply system.
Stabilizer main tank 43
Liquid level control cylinder 74A to which the stabilizer main tank 43 is attached and detached,
Stabilizer cistern tank 7 with partition plate 84A standing inside
8A, liquid level control cylinder 74A and stabilizer cistern tank 78A
Stabilization with conductive tube 76A and inflow solenoid valve 80A
It has an agent nozzle 82A and the like. Stabilizer cistern tank 78A
In the same manner as the developer cistern tank 78, the float 87
Also equipped with float sensor 88A with A and mesh filter 90A
Has been obtained. Inlet solenoid valve 80A and stabilizer nozzle 82A
Stabilizer from the cistern tank 78A
When flowing out, the stabilizer flows in from the conduit 76A
I do. With respect to the other components of the stabilizer 72,
This will be briefly described. At the upper end of the guide plate 110 of the developing section 70
The photosensitive material PM that has passed through the arranged squeezing roller pair 109 becomes the photosensitive material P
The guide cover 144 and the
Guided by the lead roller 146, transported to the stabilization tank 96A
Is entered. At the entrance of the stabilization tank 96A,
A free roller 94A for providing a loose waist is provided. Cheap
The stabilization tank 96A, which forms the storage area 95A for the stabilizing agent,
As with the image processing tank 96, a sponge-type stabilizer supply roller 98 is provided.
A and the stabilizing agent supply roller 98A.
A temporary storage section 100A for forming the stabilizer 143A is provided.
Supply the stabilizer to the loading side of the photosensitive material PM in the storage section 95A.
You. On the other hand, at the bottom of the stabilization tank 96A,
Similarly, a bottom liquid storage chamber 101A is provided. Drip-proof cover
Used when the discharge solenoid valve 104A with 114A is opened
Of the bottom liquid via the stabilizer discharge pipe 108A.
The liquid is discharged from the storage chamber 101A to the waste liquid receiving tray 106A. In addition,
Stabilizers do not require temperature control, so the bottom
No heater is provided in liquid storage chamber 101A. Downstream of stabilization tank 96A along photosensitive material PM transport path
Is the guide plate 11 that forms the entry path of the stabilized photosensitive material PM.
0A is placed inclined from the stabilization tank 96A upward.
The upper end of the guide plate 110A is rotated in the Z direction in the figure.
And stabilize the photosensitive material PM to dry unit 50 (see Fig. 5)
Extra safety from the surface of the photosensitive material while transporting
A squeezing roller pair 109A for squeezing the stabilizing agent is provided.
Stabilizer supply roller 98A and each squeezing roller pair 109,109A
Is a common driving source for each roller of the developing tank 96 described above.
It is driven and rotated synchronously. Rotation in the direction of arrow Z in FIG.
While transporting the photosensitive material PM, excess developer and
Squeezing roller pairs 109 and 109A for squeezing and stabilizing
So that the plane passing through the center of each roller is
Tilt counterclockwise by an angle β from the vertical plane passing through the center of the
Roll the upper roller downstream with respect to the photosensitive material conveyance direction so that
It is provided offset to the side. Therefore, the squeezing roller pair
The transport direction of the photosensitive material PM when passing between 109 and 109A is
It becomes downward by an angle corresponding to the angle β. Sensitive material PM
Roller pair 109 and 109A are transported at a predetermined elevation angle α.
Therefore, before each pair of rollers 109 and 109A,
As shown by the line, it curves upward. Large amount of developer or stabilizer attached to the surface of photosensitive material PM
The part is squeezed forward by the squeezing roller pair 109 and 109A.
Taken. As a result, the squeezed developer or stabilizer
Of the photosensitive material PM that is curved upward (conveyed downward)
Upper and outer circumferences of the surface and squeezing roller pair 109 and 109A
In the space formed by the above, the photosensitive material PM is squeezed roller pair 109,109A
Stay until you pass through. Development while staying at each squeezing roller pair 109,109A during transport of photosensitive material PM
After cutting the photosensitive material PM, the end surface of the liquid or stabilizer
At the same time as passing through
Of each pair of rollers 109 and 109A along the lower roller surface.
Right squeezed liquid collecting plate disposed below the roller pair 109,109A
152 or drop on the left squeeze liquid collecting plate 154,
It flows into the ray 106A. Each scraper roller pair 109, 109A has two scrapers
150 is provided at a position where the tip of the
Have been. The scraper 150 does not scratch the roller surface.
To increase the life of the scraper 150 itself.
For this purpose, use a stainless steel plate or
A stainless steel plate or the like whose end is covered with plastic
It is made of a material having elasticity and elasticity. Scraper 150
Plastics that cover the tip of
Chemical resistance and abrasion resistance to processing liquids such as steal and vinyl chloride
A material having wear resistance can be used. Scraper
Sludge and waste liquid scraped off by 150 are squeezed to the right
Drops on the liquid collecting plate 152 and the left liquid collecting plate 154,
Collected in the liquid receiving tray 106A. In addition, stable with the developing unit 70
A waste liquid tank 156 is provided in each of the waste liquid receiving trays 106 and 106A of the section 72.
Is provided to each tray 106, 106A.
The collected waste liquid is finally discharged through a pipe 158 to a waste liquid collector.
Collected at Nk 156. In the stabilizing section 72 configured as described above, the developing section 70
The developed photosensitive material PM is sent to the squeeze roller pair 109.
The remaining developer is squeezed out, and the free roller 94A
It is carried into the storage part 95A while being guided by the like. Sensitive material P
The stabilization process starts when M enters the stabilizer in the storage section 95A
After passing through the storage section 95A, the guide plate 110A
The stabilization process proceeds during the transfer. Aperture low
Extra stabilization from the top of the photosensitive material PM when passing through the pair 109A
After the agent is squeezed out, the photosensitive material PM is then removed by the roller pair 51.
To the drying unit 50. Next, temperature control in the developer cistern tank 78 etc.
Control device that controls the drive of the developer and developer supply roller 98, etc.
The device 60 will be described with reference to the block diagram shown in FIG.
You. As shown in FIG. 6, the electronic control unit 60 includes a well-known CPU 1
Built-in 62, ROM164, RAM166 and multiple self-running timer counters
As an arithmetic and logic operation circuit with the timer 168 etc.
Connected to each other via a common bus 170.
Exposure output port 172, development input port 174, development output
An input / output interface such as a power port 176 is provided. Ma
The common reservoir 170 of the electronic control unit 60 has a bottom reservoir.
The developer and the developer system in the reservoir 95 communicating with the chamber 101
Temperature adjustment for adjusting the temperature of the developer in the turn tank 78
A circuit 178 and a console for the operator to make various settings
To the control panel 4. The exposure output port 172 has a drive
A motor 13; a cutting device 27 for cutting the photosensitive material PM;
A light source 31 for irradiating the document in the document holder 10 with light;
From the first photosensitive material roll 21 or the second photosensitive material roll 22 to the photosensitive material PM
Motor 28 for sending out the light, and uniformly exposing the photosensitive material PM
LED38 for drying and drying to dry the stabilized photosensitive material
The unit 50 is connected. On the other hand, the developer input port 174
Float sensor 88 and stabilizer cistern in tank 78
Is connected to the float sensor 88A in the
Each roller of the processing unit 44 is connected to the image output port 176.
Drive motor 180, which is driven synchronously, and developer nozzle 82
The inflow solenoid valve 80 and the stabilizer nozzle 82A
The inflow solenoid valve 80A and the developer discharge pipe 108
Installed on the discharge solenoid valve 104 and the stabilized discharge pipe 108A.
The discharged electromagnetic valve 104A and the atmosphere near the guide plate 110.
The sheet heater 112 for heating to a certain temperature
Has been continued. The temperature adjusting circuit 178 includes a developing solution cistern tank.
The heater 86 installed in the tank 78 and the liquid temperature in this tank
Temperature sensor 85 for detecting temperature and installed in the bottom liquid reservoir 101
Two rod-shaped heaters 103 and the liquid storage chamber 101
A temperature sensor 103a for detecting a liquid temperature is connected. This
The temperature adjustment circuit 178 of the developer
Set the temperature of the developer in the liquid system tank 78
The above heaters are controlled so as to maintain the temperature range,
Signal indicating whether the temperature is maintained within a predetermined temperature range
Is output to the CPU 162. Next, the whole of the slit exposure type copying camera 1 of the embodiment will be described.
The operation will be briefly described. Slit exposure type turtle
When the power is turned on to the car 1, first, as shown in FIG.
Perform initialization processing (step S100), and then wait
Execute the process (step S200),
Wait for the start key to be pressed (step S300),
A light / development process is executed (step S400). Here, the initialization process means that the discharge solenoid valves 104 and 104A are
Open the valve and develop and stabilize the processing tank 96A (hereinafter
If necessary, both are collectively referred to as processing tank 96).
Developing solution or stabilizing agent (hereinafter, if necessary,
(To be collectively referred to as a processing liquid)
After closing 104,104A, open the inflow solenoid valves 80,80A
As the developer supply roller 98 and the stabilizer supply roller 98A rotate,
To supply the processing liquid to the processing tank 96 and operate the temperature adjusting circuit 178.
The developing solution cistern tank 78 and the developing tank 96.
Raise the temperature of the developer inside to about 28 ° C to 31 ° C.
This is a process of maintaining and maintaining the temperature. Initialized at power-on
By performing the processing of the processing liquid in the processing tank 96,
Replace with a new processing solution for exposure and development processing.
And controlled to an appropriate temperature. In the standby process (step S200),
While performing various settings, the apparatus stands by in a state where development is possible. When the start key is pressed and turned on (step
In the exposure and development processing (step S400) executed in (S300)
Is the projection light as shown in the timing chart of FIG.
Exposure processing by the science system 30 and the tip of the photosensitive material PM
Electromagnetic valve for inflow of developer prior to entering into processing tank 96
Open 80 to start supplying new developer and transport photosensitive material PM
Open the solenoid valve 80A for the inflow of the stabilizer
Start supplying a new stabilizer and follow the passage of the photosensitive material PM
The supply of these processing liquids is stopped. In the development processing unit 40
The operation of each unit is as described in detail above. As described above, the slit exposure type copying camera 1
The developing device 40 of the installed embodiment transports the photosensitive material PM.
While developing and stabilizing the photosensitive material PM
A printing plate for fusing is prepared. The development processing device 40 includes a photosensitive material PM.
In the conveying process, the elevation angle α is up to the squeezing roller pair 109 and 109A.
Squeezing roller pair 109,
This angle corresponds to the amount of deviation (angle β) of the upper roller of 109A
The photosensitive material PM upward before each upper roller
To bend. Therefore, the developer and the stable
When the agent is squeezed by the squeezing roller pair 109 and 109A,
Old developer or stabilizer curved upwards
Surface of photosensitive material PM (conveyed downward) and squeezing roller pair 10
The space formed by the upper roller periphery at 9,109A
Until the photosensitive material PM passes through the squeezing roller pair 109 and 109A.
I will get over. As a result, the old processing solution is stored in the processing tank 96.
Without returning, the processing performance in each processing tank 96 is deteriorated.
I will not let you. Also, the squeezed old developer or stabilizer is used for the photosensitive material PM
Of the photosensitive material PM surface
Eliminates the problem of irregularities (irregular uneven streaks)
Can be Further, the angle β of the upper roller of the squeezing roller pair 109, 109A
Is set smaller as the elevation angle α for transporting the photosensitive material PM increases.
When measured, the tip of the photosensitive material PM bites between the squeeze roller pair 109 and 109A.
Disturbance in transport of photosensitive material PM due to bending of photosensitive material PM when it is inserted
Can be suppressed. Therefore, the transport of the photosensitive material PM is not
Disturbance of the liquid level in the processing tank due to
Unevenness (irregularities on the surface of photosensitive material)
No unevenness occurs. In this embodiment, the scraper roller pair 90, 90A is scraped.
Attached to each roller of the squeezing roller pair 90 and 90A
Scraping sludge. Therefore, the roller
Sludge does not adhere and accumulate, resulting in poor drawing. Further, in this embodiment, a new developer is
When supplying, a new developer is supplied to the photosensitive material PM loading side,
That is, since the developer is supplied to the developing process start side,
Highly efficient and uniform development of photosensitive material PM using
As a result, the development quality is further improved. Stabilizer 72
The same applies to the stabilization processing in the present embodiment. The embodiment of the present invention has been described above.
The present invention is not limited to the above-described embodiments.
Implementation in various modes without departing from the gist
Obviously you can get it. For example, in this embodiment, the photosensitive material PM is supplied to the developing tank 96 and
Processing is completed in each processing tank from stabilization processing tank 96A
Each processing solution (developer, stable
Between the squeezing roller pairs 109 and 109A.
Subsequently, the configuration for processing the photosensitive material was described.
Sensitive material to prevent ripples in the static developer in the image processing tank
Also applicable to immersion-type development processing type that slowly transports
can do.

【発明の効果】【The invention's effect】

以上詳述したように、本発明の感材処理装置によれ
ば、相対向して押圧されたローラ対(絞りローラ対)に
より感材表面から余分な処理液を絞り取る際に、所定の
仰角で処理槽から搬送されてきた感材の搬送方向を、ロ
ーラ対の上側ローラの偏位量に対応した角度だけ下向き
と、感材を上側ローラの手前で上向きに湾曲させつつ搬
送する。従って、感材表面から絞られた古い処理液は、
上向きに湾曲した(下向きに搬送される)感材の表面と
ローラ対における上側のローラ外周とで形成される空間
に、感材がローラ対を通り抜けるまで留めおかれる。こ
の結果、古い処理液が処理槽内に戻って処理液性能の劣
化を招いたり、搬送中の感材表面を伝わって処理ムラを
生じることがなく、感材処理の品質を向上させることが
できる。
As described above in detail, according to the photographic material processing apparatus of the present invention, when the excess processing liquid is squeezed from the surface of the photographic material by the pair of rollers pressed against each other (the pair of squeezing rollers), the predetermined elevation angle is used. The transport direction of the photosensitive material transported from the processing tank is downward by an angle corresponding to the amount of deviation of the upper roller of the roller pair, and the photosensitive material is transported while curving upward in front of the upper roller. Therefore, the old processing solution squeezed from the surface of the photosensitive material
The photosensitive material is retained in a space formed by the surface of the photosensitive material curved upward (conveyed downward) and the outer periphery of the upper roller in the roller pair until the photosensitive material passes through the roller pair. As a result, the quality of the photosensitive material processing can be improved without causing the old processing solution to return to the inside of the processing tank and deteriorating the performance of the processing solution, or transmitting along the surface of the photosensitive material being conveyed to cause processing unevenness. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例である現像処理装置40の構成
図、 第2図は実施例の現像処理装置を組み込んだスリット露
光式複写カメラ1を示す概略構成図、 第3図は現像処理槽96の要部斜視図、 第4図は現像液供給ローラ98および現像液一時貯留部10
0の斜視図、 第5図は現像処理槽96における現像液供給ローラ98や現
像液一時貯留部100等の配置を示す断面図、 第6図は電子制御装置60の構成を示すブロック図、 第7図は電子制御装置60が実行する処理ルーチンを示す
フローチャート、 第8図は感材PMの搬送と各部の動作タイミングを示すタ
イミングチャート、である。 1……スリット露光式複写カメラ 10……原稿ホルダ、20……感材搬送装置 30……投影光学系、40……現像処理装置 50……乾燥ユニツト、60……電子制御装置 96……現像処理槽、96A……安定化処理槽 98……現像液供給ローラ 98A……安定化剤供給ローラ 109,109A……絞りローラ対 110,110A……ガイド板 112……面状ヒータ、150……スクレーパ PM……感材
FIG. 1 is a structural view of a developing apparatus 40 according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic structural view showing a slit exposure type copying camera 1 incorporating the developing apparatus of the embodiment, and FIG. FIG. 4 is a perspective view of a main part of a processing tank 96, and FIG.
0 is a perspective view of FIG. 5, FIG. 5 is a cross-sectional view showing the arrangement of a developer supply roller 98, a developer temporary storage unit 100, and the like in the developing tank 96. FIG. 6 is a block diagram showing the configuration of the electronic control unit 60. FIG. 7 is a flowchart showing a processing routine executed by the electronic control unit 60, and FIG. 8 is a timing chart showing the transport of the photosensitive material PM and the operation timing of each unit. 1 Slit exposure type copying camera 10 Document holder 20, Sensitive material transport device 30 Projection optical system 40 Development processing device 50 Drying unit 60 Electronic control device 96 Development Processing tank, 96A Stabilization processing tank 98 Developer supply roller 98A Stabilizer supply roller 109,109A Squeeze roller pair 110,110A Guide plate 112 Surface heater, Scraper PM ...... Sensitive material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−217344(JP,A) 特開 平2−204742(JP,A) 特開 平2−120886(JP,A) 特開 昭62−272253(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-1-217344 (JP, A) JP-A-2-204742 (JP, A) JP-A-2-120886 (JP, A) JP-A-62-162 272253 (JP, A)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】印画紙やダイレクト製版用の感光紙もしく
はフィルムなどの、銀塩タイプの感材を処理する処理装
置であって、 前記感材用の処理液を貯留する処理槽に感材を搬入する
と共に、該処理槽から感材を所定の仰角をもって搬出す
る感材搬送手段を備え、 相対向して押圧されたローラ対を、該処理槽から搬送さ
れた感材を挟み込み可能な位置に設け、 該ローラ対の上側ローラを前記感材の搬送方向に対して
下流側に偏位して配置させると共に、該ローラ対を該感
材の送り方向に回転して該感材表面に付着した処理液を
絞り取る処理液除去手段を設けたこと を特徴とする感材処理装置。
1. A processing apparatus for processing a silver salt type photosensitive material such as photographic paper or photosensitive paper or film for direct plate making, wherein the photosensitive material is stored in a processing tank for storing a processing solution for the photosensitive material. A photosensitive material transporting means for carrying in and carrying out the photosensitive material from the processing tank at a predetermined elevation angle is provided, and a pair of rollers pressed opposite to each other at a position where the photosensitive material transported from the processing tank can be sandwiched. The upper roller of the roller pair is disposed so as to be deviated downstream with respect to the transport direction of the photosensitive material, and the roller pair is rotated in the feed direction of the photosensitive material and adheres to the surface of the photosensitive material. 2. A light-sensitive material processing apparatus, comprising: a processing liquid removing means for squeezing the processing liquid.
【請求項2】請求項1記載の感材処理装置であって、 ローラ対の少なくとも一方のローラ外周に当接され、該
ローラ表面の処理液,スラッジ等の付着物を掻き取るス
クレーパを設けた感材処理装置。
2. A photosensitive material processing apparatus according to claim 1, further comprising: a scraper which is in contact with an outer periphery of at least one of the pair of rollers to scrape off a processing liquid, sludge, and other deposits on the surface of the roller. Sensitive material processing equipment.
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