JP2704318B2 - Photosensitive composition - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷、多色印刷の
校正刷、オーバーヘッドプロジェクター用図面、更には
半導体素子の集積回路を製造する際に微細なレジストパ
ターンを形成することが可能なポジ型感光性組成物に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to lithographic printing, proof printing for multicolor printing, drawings for overhead projectors, and positive resists capable of forming fine resist patterns when manufacturing integrated circuits of semiconductor devices. A photosensitive composition.

【０００２】[0002]

【従来の技術】平版印刷版等の用途において活性光線に
より可溶化する、いわゆるポジチブに作用する感光性物
質としては、従来オルトキノンジアジド化合物が知られ
ており、実際平版印刷版等に広く利用されてきた。この
ようなオルトキノンジアジド化合物の例は、例えば、米
国特許2766118 号、同2767092 号、同2772972 号、同28
59112 号、同2907665 号、同3046110 号、同3046111
号、同3046115 号、同3046118 号、同3046119 号、同30
46120 号、同3046121 号、同3046122 号、同3046123
号、同3061430 号、同3102809 号、同3106465 号、同36
35709 号、同3647443号の各明細書をはじめ、多数の刊
行物に記載されている。2. Description of the Related Art Orthoquinonediazide compounds are conventionally known as positive-acting photosensitive substances which are solubilized by actinic rays in applications such as lithographic printing plates, and have been widely used in lithographic printing plates. Was. Examples of such orthoquinonediazide compounds are described in, for example, U.S. Pat.Nos. 2,766,118, 2,677092, 2,277,972, and 28.
59112, 2907665, 3046110, 3046111
Nos. 3046115, 3046118, 3046119, 30
No. 46120, No. 3046121, No. 3046122, No. 3046123
Nos. 3061430, 3102809, 3106465, 36
It is described in numerous publications, including the specifications of 35709 and 3647443.

【０００３】これらのオルトキノンジアジド化合物は、
活性光線の照射により分解を起こして５員環のカルボン
酸を生じ、アルカリ可溶性となることを利用したもので
あるが、いずれも感光性が不十分であるという欠点を有
する。[0003] These orthoquinonediazide compounds are:
It utilizes the fact that it is decomposed by irradiation with actinic rays to produce a 5-membered carboxylic acid and becomes alkali-soluble, but all have the disadvantage of insufficient photosensitivity.

【０００４】オルトキオンジアジド化合物を含む感光性
組成物の感光性を高める方法については、今までいろい
ろと試みられてきたが、現像時の現像許容性を保持した
まま感光性を高めることは非常に困難であった。例え
ば、このような試みの例として、特公昭４８−１２２４
２号、特開昭５２−４０１２５号、米国特許第4,307,17
3 号などの明細書に記載された内容を挙げることができ
る。Various attempts have been made to enhance the photosensitivity of a photosensitive composition containing an orthoquinonediazide compound, but it has been extremely difficult to increase the photosensitivity while maintaining the development tolerance during development. Was difficult. For example, as an example of such an attempt, Japanese Patent Publication No. 48-1224
No. 2, JP-A-52-40125, U.S. Pat.
The contents described in the specification such as No. 3 can be cited.

【０００５】またポジ型に作用する新しい感光物として
ジスルホン化合物が特開平２−100,053 号、同２−100,
055 号に記載されている。これらは露光によりジスルホ
ン基が解裂し、２倍量のスルフィン酸又はスルホン酸を
発生するものであるが、より長波の光源、例えばｇ線
（４３６nm）、ｉ線（３６５nm）との適性が不十分であ
り、光源によっては十分な感度を示さないという問題が
あった。As a new photosensitive material acting positively, a disulfone compound is disclosed in JP-A-2-100,053 and JP-A-2-100,053.
No. 055. These dissociate the disulfone group upon exposure to generate twice as much sulfinic acid or sulfonic acid, but are not suitable for longer wavelength light sources such as g-line (436 nm) and i-line (365 nm). However, there is a problem that the sensitivity is not sufficient depending on the light source.

【０００６】一方、ポジ型フォトレジスト組成物として
は、一般にアルカリ可溶性樹脂と感光物としてのナフト
キノンジアジド化合物とを含む組成物が用いられてい
る。例えば、「ノボラック型フェノール樹脂／ナフトキ
ノンジアジド置換化合物」として米国特許第3666473
号、米国特許第4115128号及び米国特許第4173470 号等
に、また最も典型的な組成物として「クレゾール−ホル
ムアルデヒドより成るノボラック樹脂／トリヒドロキシ
ベンゾフエノン−１，２−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステル」の例がトンプソン「イントロダクション
・トウー・マイクロリソグラフィー」（L. F. Thompson
「Introduction to Microlithography」）（ＡＣＳ出
版、No. ２１９号、ｐ１１２〜１２１）に記載されてい
る。On the other hand, as a positive photoresist composition, a composition containing an alkali-soluble resin and a naphthoquinonediazide compound as a photosensitive material is generally used. For example, US Pat. No. 3,666,473 as “Novolak-type phenolic resin / naphthoquinonediazide-substituted compound”
And U.S. Pat. Nos. 4,115,128 and 4,173,470, as well as the most typical compositions of "novolak resin composed of cresol-formaldehyde / trihydroxybenzophenone-1,2-naphthoquinonediazide sulfonate". An example is Thompson's "Introduction Too Microlithography" (LF Thompson
"Introduction to Microlithography") (ACS Publishing, No. 219, pp. 112-121).

【０００７】結合剤としてのノボラック樹脂は、膨潤す
ることなくアルカリ水溶液に溶解可能であり、また生成
した画像をエッチングのマスクとして使用する際に特に
プラズマエッチングに対して高い耐性を与えるが故に本
用途に特に有用である。また、感光物に用いるナフトキ
ノンジアジド化合物は、それ自身ノボラック樹脂のアル
カリ溶解性を低下せしめる溶解阻止剤として作用する
が、光照射を受けて分解するとアルカリ可溶性物質を生
じてむしろノボラック樹脂のアルカリ溶解度を高める働
きをする点で特異であり、この光に対する大きな性質変
化の故にポジ型フォトレジストの感光物として特に有用
である。[0007] The novolak resin as a binder can be dissolved in an aqueous alkali solution without swelling, and when used as a mask for etching, gives a particularly high resistance to plasma etching. Especially useful for: Also, the naphthoquinonediazide compound used in the photosensitive material itself acts as a dissolution inhibitor that reduces the alkali solubility of the novolak resin, but when decomposed by irradiation with light, generates an alkali-soluble substance, and rather increases the alkali solubility of the novolak resin. It is unique in that it acts to enhance it, and is particularly useful as a photosensitive material for a positive photoresist because of its large property change to light.

【０００８】これまで、かかる観点からノボラック樹脂
とナフトキノンジアジド系感光物を含有する数多くのポ
ジ型フォトレジストが開発、実用化され、1.５μｍ〜２
μｍ程度までの線幅加工に於ては充分な成果をおさめて
きた。From this point of view, many positive photoresists containing a novolak resin and a naphthoquinonediazide-based photosensitive material have been developed and put into practical use.
Sufficient results have been achieved in line width processing down to about μm.

【０００９】しかし、集積回路はその集積度を益々高め
ており、超ＬＳＩなどの半導体基板の製造に於ては１μ
ｍ以下の線幅から成る超微細パターンの加工が必要とさ
れる様になってきている。かかる用途に於ては、特に高
い解像力、露光マスクの形状を正確に写しとる高いパタ
ーン形状再現精度及び高生産性の観点からの高感度を有
するフォトレジストが要求され、従来の上記ポジ型フォ
トレジストでは対応できないのが実情である。[0009] However, the degree of integration of integrated circuits is increasing more and more, and in the manufacture of semiconductor substrates such as VLSI, 1 μm is required.
Processing of an ultrafine pattern having a line width of m or less has been required. In such applications, particularly high resolution, a photoresist having high sensitivity from the viewpoint of high pattern shape reproduction accuracy that accurately captures the shape of the exposure mask and high productivity is required, and the conventional positive photoresist described above is required. In fact, it is not possible to respond.

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの問題点が解決された新規な感光性組成物を提供する
ことである。即ち高い感度を有する新規な感光性組成物
を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel photosensitive composition which solves these problems. That is, it is to provide a novel photosensitive composition having high sensitivity.

【００１１】本発明の更に別の目的は、高い解像力を有
し、１μｍ以下の線幅から成る超微細パターンの加工が
可能なポジ型感光性組成物を提供することである。Still another object of the present invention is to provide a positive photosensitive composition having a high resolution and capable of processing an ultrafine pattern having a line width of 1 μm or less.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意検討を加えた結果、新規なポジ型の感光
性組成物を用いることで前記目的が達成されることを見
い出し本発明に到達した。Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, have found that the above object can be achieved by using a novel positive photosensitive composition. The invention has been reached.

【００１３】即ち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で表わ
される１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び
／又は５−ジスルホニル基を有する化合物を含有するポ
ジ型感光性組成物を提供するものである。That is, the present invention provides a positive photosensitive composition containing a compound having a 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4- and / or 5-disulfonyl group represented by the following general formula (I): Is provided.

【００１４】 A−(SO₂−SO₂ −D)n (I) 式中、Ｄは、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４
−イル基又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−イル基を示し、Ａはｎ価の脂肪族又は芳香族炭化水素
基を示し、ｎは１以上の整数を示す。A— (SO ₂ —SO ₂ —D) n (I) wherein D is 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4
-Yl group or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5
A represents an -yl group, A represents an n-valent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and n represents an integer of 1 or more.

【００１５】好ましくはＡは炭素数１〜３０個の脂肪族
基、又は炭素数６〜２０個の単環もしくは多環の、置換
基を有していてもよい芳香族基を示す。好ましい置換基
としては、アルキル、アリール、アルコキシ、ニトロ、
シアノ、アミド、ウレイド、ウレタン基もしくはハロゲ
ン原子が挙げられる。またＡ中にケトン、エーテル、エ
ステル、アミド、ウレタン、ウレイド等の二価の基を含
有していてもよい。A preferably represents an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms or a monocyclic or polycyclic aromatic group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkyl, aryl, alkoxy, nitro,
Examples include a cyano, amide, ureido, urethane group or halogen atom. Further, A may contain a divalent group such as ketone, ether, ester, amide, urethane and ureide.

【００１６】ｎの好ましい値は１〜１０の整数であり、
更に好ましくは１〜５の整数である。Preferred values of n are integers from 1 to 10,
More preferably, it is an integer of 1 to 5.

【００１７】本発明に使用される一般式（Ｉ）の化合物
は、異種の感光基（即ちナフトキノンジアジド基及びジ
スルホン基）を組み合せることにより、広範囲に光源と
の適性を増加せしめ、高感度化を図ったものである。The compound of the general formula (I) used in the present invention can increase the suitability for a light source in a wide range by combining different kinds of photosensitive groups (namely, naphthoquinonediazide group and disulfone group), thereby increasing the sensitivity. It is intended.

【００１８】以下に本発明の成分について、詳細に説明
する。〔式（Ｉ）で表わされる化合物〕 一般式（Ｉ）で表わさ
れる化合物は、G. C. Denser, Jr. ら著、Journal of O
rganic Chemistry, ３１、３４１８〜３４１９（１９６
６）記載の方法、T. P.Hilditch著、Journal of Chemic
al Society,９３、１５２４〜１５２７（１９０８）記
載の方法、あるいは O. Hinsberg著、Berichte der Deu
tschen Chemischen Gesellschaft, ４９、２５９３〜２
５９４（１９１６）記載の方法等にしたがい合成でき
る。即ち、硫酸水溶液中において、硫酸コバルト（III)
を用い、一般式（II) 又は（III)で示されるスルフィン
酸より合成する方法、キサントゲン酸エチルを用い、一
般式（IV) 又は（Ｖ）で示されるスルホン酸クロリドよ
り合成する方法、あるいは塩基性条件下、例えば一般式
（II）で示されるスルフィン酸と一般式（Ｖ）で示され
るスルホン酸クロリドを反応させ合成する方法等があげ
られる。Hereinafter, the components of the present invention will be described in detail. [Compound represented by the formula (I) ] The compound represented by the general formula (I) is described in GC Denser, Jr. et al., Journal of O.D.
rganic Chemistry, 31 , 3418-3419 (196
6) The method described by TP Hilditch, Journal of Chemic
al Society, 93 , 1524-1527 (1908), or by O. Hinsberg, Berichte der Deu
tschen Chemischen Gesellschaft, 49 , 2593-2
594 (1916) can be synthesized. That is, in a sulfuric acid aqueous solution, cobalt (III) sulfate
A method of synthesizing from a sulfinic acid represented by the general formula (II) or (III), a method of synthesizing from a sulfonic acid chloride represented by the general formula (IV) or (V) using ethyl xanthate, or a base Under lipophilic conditions, for example, a method of reacting a sulfinic acid represented by the general formula (II) with a sulfonic acid chloride represented by the general formula (V) to synthesize the compound is exemplified.

【００１９】 A−(SO₂H )_n (II) Ｄ−SO₂H (III)A- (SO ₂ H) _n (II) D-SO ₂ H (III)

【００２０】 A−(SO₂Cl)_n (IV) Ｄ−SO₂Cl (Ｖ） （ここで、Ａ、Ｄは一般式（Ｉ）で定義されたＡ、Ｄと
同一の意味である。）A- (SO ₂ Cl) _n (IV) D-SO ₂ Cl (V) (where A and D have the same meanings as A and D defined in the general formula (I).)

【００２１】以下に本発明に使用される一般式（Ｉ）で
示される具体的な化合物を例示する。Hereinafter, specific compounds represented by formula (I) used in the present invention will be exemplified.

【００２２】[0022]

【化１】 Embedded image

【００２３】[0023]

【化２】 Embedded image

【００２４】[0024]

【化３】 Embedded image

【００２５】[0025]

【化４】 Embedded image

【００２６】[0026]

【化５】 Embedded image

【００２７】[0027]

【化６】 Embedded image

【００２８】[0028]

【化７】 Embedded image

【００２９】[0029]

【化８】 Embedded image

【００３０】[0030]

【化９】 Embedded image

【００３１】〔１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
４−及び／又は５−スルホン酸エステル化合物〕本発明
のポジ型感光性組成物は、必要に応じ、一般式（Ｉ）で
表わされる本発明の化合物に他の１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−４−及び／又は５−スルホン酸エステ
ル化合物を添加し、併用してもよい。このような１，２
−ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は５−ス
ルホン酸エステル化合物は、一般にスルホニルクロライ
ド等のハロゲノスルホニル基を４位又は５位に有する
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド化合物を、モノ又
はポリヒドロキシフェニル化合物と縮合させて得られる
スルホニル酸エステル化合物として表わすことができ
る。このようなモノ又はポリヒドロキシフェニル化合物
として代表的なものはヒドロキシ基を有するベンゾフエ
ノン化合物であり、一例を挙げると、４−ヒドロキシベ
ンゾフエノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン、
２，２′−ジヒドロキシベンゾフエノン、４，４′−ジ
ヒドロキシベンゾフエノン、２，３，４−トリヒドロキ
シベンゾフエノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾ
フエノン、２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフエノ
ン、２，３，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフエノ
ン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，３，４，２′−テトラヒドロベンゾフエノ
ン、３，３′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフエ
ノン他、特開昭６２−１５０２４５号公報に示されたよ
うなヒドロキシ基を５個以上有するベンゾフエノン、並
びにその誘導体が含まれる。更にｐ−クレゾール、ｐ−
ｔ−ブチルフェノール、レゾルシン、ピロガロール、
２，２′−ジヒドロキシビフェニル、２，２′，４，
４′−テトラヒドロキシビフェニルなどのヒドロキシ基
置換ビフェニル化合物も挙げることができる。[1,2-Naphthoquinone-2-diazide-
4- and / or 5-sulfonic acid ester compound] The positive photosensitive composition of the present invention may contain, if necessary, a compound of the present invention represented by the formula (I) and another 1,2-naphthoquinone-2- compound. A diazide-4- and / or 5-sulfonic acid ester compound may be added and used in combination. Such 1,2
The -naphthoquinone-2-diazide-4- and / or 5-sulfonic acid ester compound is generally a mono- or a 1,2-naphthoquinone-2-diazide compound having a halogenosulfonyl group such as sulfonyl chloride at the 4- or 5-position. It can be represented as a sulfonylate compound obtained by condensation with a polyhydroxyphenyl compound. Typical examples of such a mono- or polyhydroxyphenyl compound are benzophenone compounds having a hydroxy group. For example, 4-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone,
2,2'-dihydroxybenzophenone, 4,4'-dihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 2,4,6-trihydroxybenzophenone, 2,4,4 ' Trihydroxybenzophenone, 2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,3,4,2'-tetrahydrobenzophenone, In addition to 3,3 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, benzophenone having 5 or more hydroxy groups as shown in JP-A-62-150245, and derivatives thereof are included. Furthermore, p-cresol, p-
t-butylphenol, resorcinol, pyrogallol,
2,2'-dihydroxybiphenyl, 2,2 ', 4
Hydroxy group-substituted biphenyl compounds such as 4'-tetrahydroxybiphenyl can also be mentioned.

【００３２】また更に米国特許第3046120 号明細書に記
載されているフェノール−ホルムアルデヒド樹脂また
は、ｏ−，ｍ−、又はｐ−クレゾール−ホルムアルデヒ
ド樹脂などの比較的高分子量の化合物も本発明に使用で
きる。Still further, relatively high molecular weight compounds such as phenol-formaldehyde resins or o-, m-, or p-cresol-formaldehyde resins described in US Pat. No. 3,046,120 can be used in the present invention. .

【００３３】また同じく特開昭５６−１０４５号公報、
特開昭５６−１０４４号公報、特公昭４３−２８４０３
号公報および特公昭４９−２４３６１号公報等に開示さ
れた多価フェノール類とアルデヒド・ケトン類との縮合
物、特開昭５９−８４２３８号公報、特開昭５９−８４
２３９号公報に開示されたカテコール、レゾルシン、又
はハイドロキノンと置換フェノール類とのアルデヒド・
ケトン類による共縮合物、特開昭６０−３１１３８号公
報記載の置換フェノールとベンズアルデヒドとの縮合物
のほか、フェノールとｏ−，ｍ−、又はｐ−クレゾール
等の置換フェノールとのアルデヒド・ケトン類による共
縮合物、ｐ−ヒドロキシスチレンポリマー等も本発明に
対し有効に使用される。Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 56-1045,
JP-A-56-1044, JP-B-43-28403
Condensates of polyhydric phenols with aldehydes and ketones disclosed in JP-A-59-84361 and JP-B-49-24361.
No. 239, aldehydes of catechol, resorcin, or hydroquinone with substituted phenols.
Co-condensates with ketones, condensates of substituted phenols and benzaldehydes described in JP-A-60-31138, and aldehydes and ketones of phenols with substituted phenols such as o-, m- or p-cresol The co-condensate, p-hydroxystyrene polymer and the like are also effectively used in the present invention.

【００３４】一般式（Ｉ）で表わされる本発明の化合物
と併用する場合、一般式（Ｉ）の化合物と、該１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は５−スル
ホン酸エステル化合物の比率は重量比で１０：１〜１：
２０であり、好ましくは５：１〜１：１０、更に好まし
くは２：１〜１：５である。When used in combination with the compound of the present invention represented by the general formula (I), the compound of the general formula (I) and the 1,2-
The ratio of the naphthoquinone-2-diazide-4- and / or 5-sulfonate compound is 10: 1 to 1: 1 by weight.
20, preferably 5: 1 to 1:10, more preferably 2: 1 to 1: 5.

【００３５】〔アルカリ可溶性樹脂〕本発明のポジ型感
光性組成物は、露光部のアルカリ溶解性をより効率的に
するため、また皮膜性・耐熱性を付与するため、好まし
くはアルカリ可溶性樹脂を添加して使用する。 [Alkali-Soluble Resin] The positive photosensitive composition of the present invention preferably contains an alkali-soluble resin in order to make the alkali solubility of the exposed portion more efficient and to impart film properties and heat resistance. Add and use.

【００３６】このようなアルカリ可溶性ポリマーは、好
ましくはフェノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン
酸基、イミド基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルア
ミド基、Ｎ−スルホニルウレタン基、活性メチレン基等
の、pKa １１以下の酸性水素原子を有するポリマーであ
る。好適なアルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラッ
ク型フェノール樹脂、具体的にはフェノールホルムアル
デヒド樹脂、ｏ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、
ｍ−クレゾーム−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾー
ム−ホルムアルデヒド樹脂、キシレノール−ホルムアル
デヒド樹脂、またこれらの共縮合物等がある。更に、特
開昭５０−１２５８０６号に記載されている様に、上記
のようなフェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノール
ホルムアルデヒド樹脂のような炭素数３〜８のアルキル
基で置換されたフェノールもしくはクレゾームとホルム
アルデヒドとの縮合物とを併用してもよい。またＮ−
（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドのような
フェノール性ヒドロキシ基含有モノマーを共重合成分と
するポリマー、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキ
シスチレン、ｍ−イソプロペニルフェノール、ｐ−イソ
プロペニルフェノール等の単独もしくは共重合のポリマ
ー、更にまたこれらのポリマーを部分エーテル化、部分
エステル化したポリマーも使用できる。Such an alkali-soluble polymer is preferably a phenolic hydroxyl group, a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, an imide group, a sulfonamide group, an N-sulfonylamido group, an N-sulfonylurethane group, an active methylene group, or the like. It is a polymer having an acidic hydrogen atom having a pKa of 11 or less. Suitable alkali-soluble polymers include novolak-type phenol resins, specifically phenol-formaldehyde resins, o-cresol-formaldehyde resins,
There are m-cresome-formaldehyde resin, p-cresome-formaldehyde resin, xylenol-formaldehyde resin, and co-condensates thereof. Further, as described in JP-A-50-125806, together with the above-mentioned phenol resin, phenol or cresome substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, such as t-butylphenol formaldehyde resin, and formaldehyde. And a condensate thereof. Also N-
Polymers containing a phenolic hydroxy group-containing monomer such as (4-hydroxyphenyl) methacrylamide as a copolymer component, p-hydroxystyrene, o-hydroxystyrene, m-isopropenylphenol, p-isopropenylphenol or the like alone or Copolymerized polymers and also partially etherified and partially esterified polymers of these polymers can be used.

【００３７】更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカル
ボキシル基含有モノマーを共重合成分とするポリマー、
無水マレイン酸とスチレン等の共重合物を加水分解もし
くはアルコールでハーフエステル化させたポリマー、特
開昭６１−２６７０４２号記載のカルボキシル基含有ポ
リビニルアセタール樹脂、特開昭６３−１２４０４７号
記載のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使
用できる。Further, a polymer containing a carboxyl group-containing monomer such as acrylic acid or methacrylic acid as a copolymer component,
Polymers obtained by hydrolyzing or half-esterifying a copolymer of maleic anhydride and styrene with an alcohol, a carboxyl group-containing polyvinyl acetal resin described in JP-A-61-267042, and a carboxyl group described in JP-A-63-124047 Contained polyurethane resins can also be suitably used.

【００３８】更にまた、Ｎ−（４−スルファモイルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−フェニルスルホニルメタ
クリルアミド、マレイミドを共重合成分とするポリマ
ー、特開昭６３−１２７２３７号記載の活性メチレン基
含有ポリマーも使用できる。Further, a polymer containing N- (4-sulfamoylphenyl) methacrylamide, N-phenylsulfonylmethacrylamide, maleimide as a copolymer component and an active methylene group-containing polymer described in JP-A-63-127237 are also included. Can be used.

【００３９】これらのアルカリ可溶性ポリマーは、単一
で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
感光性組成物中の好ましい添加量は、感光性組成物全固
形分に対し、３０〜９９重量％、好ましくは５０〜９７
重量％、更に好ましくは６０〜９５重量％の範囲であ
る。These alkali-soluble polymers can be used alone or as a mixture of several kinds.
A preferable addition amount in the photosensitive composition is 30 to 99% by weight, preferably 50 to 97% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition.
%, More preferably in the range of 60 to 95% by weight.

【００４０】〔その他の好ましい成分〕本発明のポジ型
感光性組成物には、必要に応じて、更に染料、顔料、可
塑剤及び光分解効率を増大させる化合物（いわゆる増感
剤）等を含有させることができる。 [Other Preferred Components] The positive photosensitive composition of the present invention further contains, if necessary, a dye, a pigment, a plasticizer, a compound for increasing photolysis efficiency (a so-called sensitizer), and the like. Can be done.

【００４１】染料は着色剤として用いることができる
が、好適な材料としては、油溶性染料及び塩基性染料が
ある。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイ
エロー＃１３０、オイルピンク＃３１２、オイルグリー
ンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、
オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラ
ックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業（株）
製）、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メ
チルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、ローダミンＢ
（ＣＩ４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２
０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等を挙げ
ることができる。Dyes can be used as colorants, but suitable materials include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 130, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603,
Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (or more, Orient Chemical Industries, Ltd.)
Manufactured), Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Rhodamine B
(CI45170B), malachite green (CI42
000), methylene blue (CI52015) and the like.

【００４２】また露光後直ちに可視像を得るための焼き
だし剤を加えることができる。このような焼きだし剤と
しては、露光によって酸を放出する感光性化合物と塩を
形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることが
できる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５
３−８１２８号に記載されているｏ−ナフトキノンジア
ジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の
組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７
２８号に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成
性の有機染料の組合せを挙げることができる。A printing agent for obtaining a visible image immediately after exposure can be added. As such a baking agent, a combination of a photosensitive compound that releases an acid upon exposure and an organic dye capable of forming a salt can be exemplified. Specifically, JP-A-50-36209, 5
Combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-3-8128 and JP-A-53-36223 and JP-A-54-747.
Combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in No. 28 can be mentioned.

【００４３】本発明の組成物中には、更に感度を高める
ために環状酸無水物、その他のフイラー等を加えること
ができる。環状酸無水物としては、米国特許第4115128
号に記載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エ
ンドオキシ−Δ⁴ −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレ
イン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水琥珀酸、ピ
ロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成
物中の固形分に対して１〜１５重量％含有させることに
よって、感度を最大３倍程度に高めることができる。In the composition of the present invention, a cyclic acid anhydride, another filler or the like can be added to further enhance the sensitivity. As the cyclic acid anhydride, U.S. Pat.
Phthalic anhydride, as described in JP, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-oxy - [delta ⁴ - tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic acid anhydride, chlorosulfonic maleic anhydride , Α-phenyl maleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic acid and the like. By containing these cyclic acid anhydrides in an amount of 1 to 15% by weight based on the solid content of the whole composition, the sensitivity can be increased up to about three times.

【００４４】〔溶媒〕本発明のポジ型感光性組成物を、
平版印刷用の材料として使用する場合は、上記各成分を
溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。また半導
体等のレジスト材料用としては、溶媒に溶解したままで
使用する。ここで使用する溶媒としては、エチレンジク
ロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノ
ール、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メ
トキシエチルアセテート、２−エトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
乳酸エチル等があり、これらの溶媒を単独もしくは混合
して使用する。そして上記成分中の濃度（添加物を含む
全固形分）は、２〜５０重量％である。また、塗布して
使用する場合、塗布量は用途により異なるが、例えば感
光性平版印刷版についていえば、一般的に固形分として
0.５〜3.０ｇ／m²が好ましい。塗布量が少なくなるにつ
れて感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。 [Solvent] The positive photosensitive composition of the present invention is
When used as a material for lithographic printing, the above components are dissolved in a solvent capable of dissolving and applied onto a support. For resist materials such as semiconductors, they are used as dissolved in a solvent. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl Acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ- Butyrolactone, toluene,
There are ethyl lactate and the like, and these solvents are used alone or as a mixture. The concentration (total solid content including additives) in the above components is 2 to 50% by weight. In addition, when used by coating, the amount of coating varies depending on the application, for example, regarding photosensitive lithographic printing plates, generally, as a solid content
0.5-3.0 g / m ² is preferred. The photosensitivity increases as the coating amount decreases, but the physical properties of the photosensitive film deteriorate.

【００４５】〔平版印刷版等の製造〕本発明のポジ型感
光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場合、その支
持体としては、例えば紙、プラスチックス（ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートさ
れた紙、アルミニウム（アルミニウム合金を含む）、亜
鉛、銅等のような金属の板、２酢酸セルロース、３酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等のようなプラスチックのフィルム、上記のごとき金属
ラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチック
フィルム等が含まれる。これらの支持体の内、アルミニ
ウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価である
ので特に好ましい。更に、特公昭４８−１８３２７号に
記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シート
も好ましい。アルミニウム板の表面はワイヤブラシグレ
イニング、研磨粒子のスラリーを注ぎながらナイロンブ
ラシで粗面化するブラシグレイニング、ボールグレイニ
ング、溶体ホーニングによるグレイニング、バフグレイ
ニング等の機械的方法、ＨＦ、AlCl₃ やHCl をエッチャ
ントとするケミカルグレイニング、硝酸もしくは塩酸を
電解液とする電解グレイニング、もしくはこれらの粗面
化法を複合させて行った複合グレイニングによって表面
を砂目立てした後、必要に応じて酸もしくはアルカリに
よりエッチング処理され、引続き硫酸、燐酸、蓚酸、ほ
う酸、クロム酸、スルファミン酸もしくはこれらの混酸
中で直流もしくは交流電源にて陽極酸化を行いアルミニ
ウム表面に強固な不働態皮膜を設けた物が好ましい。こ
のような不働態皮膜自体でアルミニウム表面は親水化さ
れてしまうが、更に必要に応じて米国特許第2714066
号、同第3181461 号に記載されている珪酸塩処理（珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム）、米国特許第2946638 号に
記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米
国特許第3201247 号に記載されているホスホモリブデー
ト処理、英国特許第1108559 号に記載されているアルキ
ルチタネート処理、独国特許第1091433 号に記載されて
いるポリアクリル酸処理、独国特許第1134093 号や英国
特許第1230447 号に記載されているポリビニルホスホン
酸処理、特公昭４４−６４０９号に記載されているホス
ホン酸処理、米国特許第3307951 号に記載されているフ
イチン酸処理、特開昭５８−１６８９３号、同５８−１
８２９１号に記載されている親水性有機高分子化合物と
２価の金属イオンとの錯体による下塗処理、特開昭５９
−１０１６５１号に記載されているスルホン酸基を有す
る水溶性重合体の下塗によって親水化処理を行ったもの
は特に好ましい。その他の親水化処理方法としては、米
国特許第3658662 号に記載されているシリケート電着を
挙げることができる。[ Production of a lithographic printing plate] In the case of producing a lithographic printing plate using the positive photosensitive composition of the present invention, examples of the support include paper and plastics (polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.). , Laminated paper, metal plates such as aluminum (including aluminum alloy), zinc, copper, etc., cellulose acetate, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, Examples include plastic films such as polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, and the like, and metal or laminated paper or plastic films as described above. Among these supports, the aluminum plate is particularly preferable because it is extremely dimensionally stable and inexpensive. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable. Mechanical method such as wire brush graining, brush graining, ball graining, solution honing, buff graining, etc., HF, AlCl ₃ Graining the surface by chemical graining using HCl or HCl as an etchant, electrolytic graining using nitric acid or hydrochloric acid as an electrolytic solution, or composite graining performed by combining these surface roughening methods. Anodizing with acid or alkali, followed by anodic oxidation with a DC or AC power supply in sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, boric acid, chromic acid, sulfamic acid or a mixed acid thereof to provide a strong passive film on the aluminum surface Are preferred. Although the aluminum surface is hydrophilized by such a passivation film itself, if necessary, US Pat.
No. 3,118,461 (sodium silicate, potassium silicate); U.S. Pat. Molybdate treatment, alkyl titanate treatment described in British Patent No. 1108559, polyacrylic acid treatment described in German Patent No. 1,091,433, described in German Patent No. 1,130,393 and British Patent No.1230447. Polyvinylphosphonic acid treatment, phosphonic acid treatment described in JP-B-44-6409, phytic acid treatment described in U.S. Pat. No. 3,307,951, JP-A-58-16893, 58-1
No. 8291, an undercoating treatment with a complex of a hydrophilic organic polymer compound and a divalent metal ion;
Particularly preferred are those subjected to a hydrophilization treatment with an undercoat of a water-soluble polymer having a sulfonic acid group described in -101651. Other hydrophilic treatment methods include silicate electrodeposition described in US Pat. No. 3,866,662.

【００４６】また、砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処
理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水及び
無機塩もしくは有機塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水
蒸気浴等によって行われる。Further, those subjected to graining treatment, anodic oxidation and sealing treatment are also preferable. Such a sealing treatment is performed by immersion in hot water and a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath or the like.

【００４７】〔活性光線もしくは放射線〕本発明の感光
性組成物の露光に用いられる活性光線の光源としては、
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミ
カルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線として
は、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠紫外線等がある。
好ましくは、フォトレジスト用の光源として、ｇ線、ｉ
線、Deep−ＵＶ光が使用される。また高密度エネルギー
ビーム（レーザービームもしくは電子線）による走査も
しくはパルス露光も本発明に使用することができる。こ
のようなレーザービームとしては、ヘリウム・ネオンレ
ーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ
ー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrF エキシマーレ
ーザー等が挙げられる。 [Active Light or Radiation] As the light source of the active light used for exposure of the photosensitive composition of the present invention,
There are mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps, carbon arc lamps and the like. Examples of the radiation include an electron beam, an X-ray, an ion beam, and far ultraviolet rays.
Preferably, the light source for the photoresist is g-line, i-line.
Line, Deep-UV light is used. Scanning or pulse exposure using a high-density energy beam (laser beam or electron beam) can also be used in the present invention. Examples of such a laser beam include a helium / neon laser, an argon laser, a krypton ion laser, a helium / cadmium laser, and a KrF excimer laser.

【００４８】〔現像液〕本発明のポジ型感光性組成物に
対する現像液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐
酸アンモニウム、第二燐酸アンモニウム、メタ珪酸ナト
リウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水等のような無
機アルカリ剤及びテトラアルキルアンモニウムＯＨ塩等
のような有機アルカリ剤の水溶液が適当であり、それら
の濃度が0.１〜１０重量％、好ましくは0.５重量％にな
るように添加される。 [Developer] As a developer for the positive photosensitive composition of the present invention, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium tertiary phosphate, sodium dibasic phosphate, Aqueous solutions of inorganic alkali agents such as ammonium tertiary phosphate, ammonium diphosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia and organic alkali agents such as tetraalkylammonium OH salts are suitable. Is added so as to be 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5% by weight.

【００４９】また、該アルカリ性水溶液には、必要に応
じて界面活性剤やアルコール等のような有機溶媒を加え
ることもできる。Further, an organic solvent such as a surfactant or alcohol can be added to the alkaline aqueous solution, if necessary.

【００５０】[0050]

【実施例】以下、本発明を、合成例、実施例により更に
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。The present invention will be described below in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto.

【００５１】合成例 ｐ−クロロフェニル−１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−５−ジスルホン（化合物例Ｉ−２）の合成：亜硫
酸ナトリウム１８９ｇを水６００mlに溶解させ６０〜７
０℃に加温し、ｐ−クロロベンゼンスルホニルクロリド
６３ｇを添加した後、５０〜６０℃にて５時間反応させ
た。不溶解物を濾別した後反応液を室温に戻し濃塩酸を
加え反応系を酸性にした。析出した沈澱物を濾集しｐ−
クロロベンゼンスルフィン酸５２ｇを得た。Synthesis Example Synthesis of p-chlorophenyl-1,2-naphthoquinone-2-diazido-5-disulfone (Compound Example I-2): 189 g of sodium sulfite was dissolved in 600 ml of water and 60 to 7
After heating to 0 ° C and adding 63 g of p-chlorobenzenesulfonyl chloride, the mixture was reacted at 50 to 60 ° C for 5 hours. After filtering off insolubles, the reaction solution was returned to room temperature and concentrated hydrochloric acid was added to make the reaction system acidic. The deposited precipitate was collected by filtration and p-
52 g of chlorobenzenesulfinic acid were obtained.

【００５２】ｐ−クロロベンゼンスルフィン酸8.８ｇに
水１５mlを加えこれに水酸化ナトリウム２ｇを水５mlに
溶解させた溶液を加えた。この溶液を室温にて撹拌しな
がらＴＨＦ４０mlに１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−５−スルホニルクロリド１3.５ｇを溶解させた溶液
を加え室温にてさらに２４時間撹拌反応させた。反応液
を水３００mlに注入し沈澱物を濾集し、カラムクロマト
グラフィー（充填剤：シリカゲル、展開液：ヘキサン／
酢酸エチル＝２／１）で精製したところ、黄色粉末7.２
ｇを得た。ＮＭＲによりこの粉末が化合物例（Ｉ−２）
の構造であることを確認した。15 ml of water was added to 8.8 g of p-chlorobenzenesulfinic acid, and a solution prepared by dissolving 2 g of sodium hydroxide in 5 ml of water was added. While stirring this solution at room temperature, a solution in which 13.5 g of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride was dissolved in 40 ml of THF was added, and the mixture was further stirred and reacted at room temperature for 24 hours. The reaction solution was poured into 300 ml of water, and the precipitate was collected by filtration and subjected to column chromatography (filler: silica gel, developing solution: hexane /
Purification with ethyl acetate = 2/1) gave a yellow powder of 7.2.
g was obtained. According to NMR, the powder was identified as Compound Example (I-2)
It confirmed that it was a structure of.

【００５３】実施例１〜５ 厚さ0.２４mmの２Ｓアルミニウム板を８０℃に保った第
三燐酸ナトリウムの１０％水溶液に３分間浸漬して脱脂
し、ナイロンブラシで砂目立てした後、アルミン酸ナト
リウムで約１０分間エッチングして、硫酸水素ナトリウ
ム３％水溶液でデスマット処理を行った。このアルミニ
ウム板を２０％硫酸中で電流密度２Ａ／dm² において２
分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作成した。Examples 1 to 5 A 2S aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 10% aqueous solution of sodium tertiary phosphate maintained at 80 ° C. for 3 minutes, degreased, grained with a nylon brush, and then treated with aluminate. Etching was performed with sodium for about 10 minutes, and desmutting was performed with a 3% aqueous solution of sodium hydrogen sulfate. This aluminum plate was placed in a 20% sulfuric acid solution at a current density of 2 A / dm ² .
Anodizing was performed for a minute to prepare an aluminum plate.

【００５４】次の下記感光液〔Ａ〕で使用される本発明
の一般式で表わされる化合物の種類を変えて、５種類の
感光液〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−５を調製し、この感光液を
陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、１００℃
で２分間乾燥して、それぞれの感光性平版印刷版〔Ａ〕
−１〜〔Ａ〕−５を作成した。このときの塗布量は全て
乾燥重量で2.０ｇ／m²であった。The following photosensitive solutions [A] -1 to [A] -5 were prepared by changing the type of the compound represented by the general formula of the present invention used in the following photosensitive solution [A]. This photosensitive solution is applied on an anodized aluminum plate,
And dried for 2 minutes in each photosensitive lithographic printing plate [A]
-1 to [A] -5 were prepared. The coating amount at this time was 2.0 g / m ² in terms of dry weight.

【００５５】 感光液〔Ａ〕 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ 一般式（Ｉ）で表わされる本発明の化合物 0.４０ｇ オイルブルー＃６０３（オリンエント化学工業（株）製） 0.０１ｇ メチルエチルケトン ５ｇ メチルセロソルブ １５ｇPhotosensitive solution [A] Cresol-formaldehyde novolak resin 1.0 g Compound of the present invention represented by the general formula (I) 0.40 g Oil blue # 603 (manufactured by Orinent Chemical Industries, Ltd.) 0.01 g Methyl ethyl ketone 5 g methyl Cellosolve 15g

【００５６】感光液〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−５に用いた本
発明の化合物を表−１に示す。The compounds of the present invention used in the photosensitive solutions [A] -1 to [A] -5 are shown in Table 1.

【００５７】次に比較例として下記の感光液〔Ｂ〕を感
光液〔Ａ〕と同様に塗布し、感光性平版印刷版〔Ｂ〕を
作製した。Next, as a comparative example, the following photosensitive solution [B] was applied in the same manner as the photosensitive solution [A] to prepare a photosensitive lithographic printing plate [B].

【００５８】 感光液〔Ｂ〕 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル 0.４０ｇ クロリドと２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン とのエステル化物 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業（株）製） 0.０１ｇ メチルエチルケトン ５ｇ メチルセロソルブ １５ｇPhotosensitive solution [B] 1,2-naphthoquinone-2-diazido-5-sulfonyl 0.40 g Esterified product of chloride and 2,3,4-trihydroxybenzophenone Cresol-formaldehyde novolak resin 1.0 g Oil blue # 603 (manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.) 0.01 g Methyl ethyl ketone 5 g Methyl cellosolve 15 g

【００５９】乾燥後の塗布重量は2.０ｇ／m²であった。
感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−５、及び〔Ｂ〕
の感光層上に濃度差0.１５のグレースケール行を密着さ
せ、２KWの高圧水銀灯で５０cmの距離から露光を行っ
た。露光した感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−５
及び〔Ｂ〕をＤＰ−４（商品名：富士写真フィルム
（株）製）の８希釈水溶液で２５℃において６０秒間浸
漬現像し、グレースケールの５段目が完全に溶解除去さ
れる露光時間を測定したところ、表−１に示すとおりと
なった。The coating weight after drying was 2.0 g / m ² .
Photosensitive lithographic printing plates [A] -1 to [A] -5 and [B]
A gray scale row having a density difference of 0.15 was adhered to the photosensitive layer of No. 1 and exposed with a 2 kW high-pressure mercury lamp from a distance of 50 cm. Exposed photosensitive lithographic printing plate [A] -1 to [A] -5
And [B] were immersed and developed in DP-8 (trade name: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) in an 8 diluted aqueous solution at 25 ° C. for 60 seconds, and the exposure time at which the fifth stage of the gray scale was completely dissolved and removed was determined. Upon measurement, the results were as shown in Table 1.

【００６０】 表−１ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 感光性 使用した本発明の ク゛レースケール5段目が 番 号 平版印刷版 化合物 溶解除去される 露光時間 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例１ 〔Ａ〕−１ 化合物例(I−２） ３５秒 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例２ 〔Ａ〕−２ 化合物例(I−３） ４０ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例３ 〔Ａ〕−３ 化合物例(I−４） ３５ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例４ 〔Ａ〕−４ 化合物例(I−18) ３０ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例５ 〔Ａ〕−５ 化合物例(I−20) ２５ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 〔Ｂ〕 比較例の化合物 ５５ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━Table 1 II Example Photosensitivity The 5th stage of the gray scale of the present invention used Is the lithographic printing plate compound Exposure time to be dissolved and removed ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Example 1 [A]- 1 Compound Example (I-2) 35 seconds 実 施 Example 2 [A] -2 Compound Example (I-3) 40 Example 3 [A] -3 Compound Example (I-4 35} Example 4 [A] -4 Compound Example (I-18) 30} ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Example 5 [A] -5 Compound Example (I-20) 25 比較 Comparative Example [B] Compound of Comparative Example 55 ━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００６１】なお、実施例１〜５で使用した本発明の化
合物は、全て、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
５−ジスルホン体を用いた。The compounds of the present invention used in Examples 1 to 5 were all 1,2-naphthoquinone-2-diazide-
A 5-disulfone compound was used.

【００６２】表−１からわかるように、本発明の化合物
を使用した感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−５は
比較例〔Ｂ〕に比べ露光時間が短く感度が高い。As can be seen from Table 1, the photosensitive lithographic printing plates [A] -1 to [A] -5 using the compounds of the present invention have shorter exposure time and higher sensitivity than Comparative Example [B].

【００６３】実施例６〜９ 下記感光液〔Ｃ〕の本発明の化合物の種類を変えて、４
種類の感光液〔Ｃ〕−１〜〔Ｃ〕−４を調製し、0.２μ
ｍのミクロフイルターで濾過してレジスト組成物を調製
した。Examples 6 to 9 The following photosensitive solution [C] was prepared by changing the type of the compound of the present invention.
Each type of photosensitive solution [C] -1 to [C] -4 was prepared, and 0.2 µ
Then, the mixture was filtered through a microfilter of m to prepare a resist composition.

【００６４】 感光液〔Ｃ〕 一般式（Ｉ）で表わされる本発明の化合物 0.３５ｇ ｍ／ｐ＝４／６クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ エチルセロソルブアセテート 8.５ｇPhotosensitive solution [C] Compound of the present invention represented by the general formula (I) 0.35 g m / p = 4/6 Cresol-formaldehyde novolak resin 1.0 g Ethyl cellosolve acetate 8.5 g

【００６５】なお、感光液〔Ｃ〕−１〜〔Ｃ〕−４に用
いた本発明の化合物を表−２に示す。The compounds of the present invention used in the photosensitive solutions [C] -1 to [C] -4 are shown in Table 2.

【００６６】このレジスト組成物をスピンナーを用いて
２５００Ａの酸化皮膜を有するシリコンウエハー上に塗
布し、窒素雰囲気下の対流オーブンで９０℃、２分間乾
燥して膜厚1.０μのレジスト膜を得た。次にニコン社製
縮小投影露光装置を用いてテストチャートマスクを介し
て露光し、2.３８重量パーセントのテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキサイド水溶液で１分間現像後、イオン交
換水でリンスしてレジストパターンを得た。このように
して得られたレジストパターンを走査型電子顕微鏡で観
察し、レジストパターンを評価した。感度は2.０μｍの
マスクパターンを再現する露光量の逆数をもって定義
し、下記比較例の感光液〔Ｄ〕の感度との相対値で示し
た。解像力は、2.０μｍのマスクパターンを再現する露
光量に於ける解像した最小のマスクパターンの線幅で示
した。結果を表−２に示す。This resist composition was applied on a silicon wafer having an oxide film of 2500 A using a spinner and dried at 90 ° C. for 2 minutes in a convection oven under a nitrogen atmosphere to obtain a resist film having a thickness of 1.0 μm. Was. Next, exposure was performed through a test chart mask using a reduction projection exposure apparatus manufactured by Nikon Corporation, developed with a 2.38% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide for 1 minute, and rinsed with ion-exchanged water to obtain a resist pattern. Was. The resist pattern thus obtained was observed with a scanning electron microscope to evaluate the resist pattern. The sensitivity was defined as the reciprocal of the exposure amount for reproducing a 2.0 μm mask pattern, and was shown as a relative value to the sensitivity of the photosensitive solution [D] of the following comparative example. The resolving power was represented by the line width of the smallest resolved mask pattern at the exposure dose for reproducing a 2.0 μm mask pattern. Table 2 shows the results.

【００６７】 感光液〔Ｄ〕 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロ 0.３５ｇ リドと２，３，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン とのエステル化物 ｍ／ｐ＝４／６クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ エチルセロソルブアセテート 8.５ｇPhotosensitive Solution [D] 0.35 g of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride Esterified product of lid and 2,3,4,4′-tetrahydroxybenzophenone Cresol-formaldehyde novolak resin 1.0 g Ethyl cellosolve acetate 8.5 g

【００６８】 表−２ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 感光液 使用した本発明の 相対 解像力 番 号 化合物 感度 （μm) ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例６ 〔Ｃ〕−１ 化合物例(I−２） 1.3 0.7 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例７ 〔Ｃ〕−２ 化合物例(I−４） 1.3 0.7 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例８ 〔Ｃ〕−３ 化合物例(I−17） 1.2 0.7 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例９ 〔Ｃ〕−４ 化合物例(I−22) 1.4 0.7 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 〔Ｄ〕 比較例の化合物 1.0 0.8 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━Table 2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Example Relative resolution of the present invention using a photosensitive solution No. Compound Sensitivity (Μm) {Example 6 [C] -1 Compound Example (I-2) 1.3 0.7} Example 7 [C] -2 Compound Example (I-4) 1.3 0.7 Example 8 [C] -3 Compound Example (I-17) 1.2 0.7 Example 9 [C] -4 Compound Example (I-22) 1.4 0.7比較 Comparative Example [D] Compound of Comparative Example 1.0 0.8 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━

【００６９】なお実施例６〜９で使用した本発明の化合
物は全て、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
ジスルホン体を用いた。The compounds of the present invention used in Examples 6 to 9 were all 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5.
The disulfone compound was used.

【００７０】表−２からわかるように、本発明の化合物
を使用した感光液〔Ｃ〕−１〜〔Ｃ〕−４は比較例
〔Ｄ〕に比べ、相対感度が高く、解像力も優れる。As can be seen from Table 2, the photosensitive solutions [C] -1 to [C] -4 using the compounds of the present invention have higher relative sensitivity and better resolution than Comparative Example [D].

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表わされる１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は５−ジス
ルホニル基を有する化合物を含有するポジ型感光性組成
物。 A−(SO₂−SO₂ −Ｄ)_n (I) 式中、Ｄは、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４
−イル基又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−イル基を示し、Ａはｎ価の脂肪族又は芳香族炭化水素
基を示し、ｎは１以上の整数を示す。1. A 1,2-formula represented by the following general formula (I)
A positive photosensitive composition containing a compound having a naphthoquinone-2-diazide-4- and / or 5-disulfonyl group. A- (SO ₂ -SO ₂ -D) _n (I) wherein D is 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4
-Yl group or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5
A represents an -yl group, A represents an n-valent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and n represents an integer of 1 or more.