JP2696762B2 - Photosensitive material processing equipment - Google Patents
Photosensitive material processing equipmentInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀感光材料
（以下、単に感光材料または感材という）を処理する感
光材料処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-sensitive material processing apparatus for processing a silver halide light-sensitive material (hereinafter simply referred to as a light-sensitive material or a light-sensitive material).
【０００２】[0002]
【従来の技術】黒白感光材料は、露光後、黒白現像、定
着、水洗等の工程で処理され、カラー感光材料は、露光
後、発色現像、脱銀、水洗、安定化等の工程により処理
される。黒白現像には黒白現像液、定着には定着液、発
色現像には発色（カラー）現像液、脱銀処理には漂白
液、漂白定着液、定着液、水洗には水道水またはイオン
交換水、安定化処理には安定液がそれぞれ使用される。
各処理液は通常３０〜４０℃に温度調節され、感光材料
はこれらの処理液中に浸漬され処理される。このような
処理は、通常、自動現像機等の処理装置によって行なわ
れている。2. Description of the Related Art A black-and-white photosensitive material is processed by processes such as black-and-white development, fixing and washing after exposure, and a color photosensitive material is processed by a process such as color development, desilvering, washing and stabilization after exposure. You. Black-and-white developer for black-and-white development, fixer for fixation, color (color) developer for color development, bleaching solution, bleach-fixer, fixer for desilvering, tap water or ion-exchanged water for washing, A stabilizing solution is used for the stabilizing treatment.
The temperature of each processing solution is usually adjusted to 30 to 40 ° C., and the photosensitive material is immersed in these processing solutions for processing. Such processing is usually performed by a processing device such as an automatic developing machine.
【０００３】このような場合、近年、環境保全、資源節
減が要望されてきており、各処理液にて処理液の使用量
を減少させることが望まれている。一方、ミニラボとよ
ばれる小規模用処理システムの開発により、感光材料は
写真店等の店頭でも処理されるようになってきているた
め、装置の小型化が望まれている。In such a case, in recent years, environmental conservation and resource saving have been demanded, and it has been desired to reduce the amount of processing solution used in each processing solution. On the other hand, with the development of a small-scale processing system called a mini-lab, photosensitive materials have been processed at stores such as photo shops, and thus miniaturization of the apparatus is desired.
【０００４】上記実状に鑑みて、本出願人は、先に、狭
幅の通路で連結された複数の処理室を有し、感光材料を
各処理室内に順次通過させ、各処理室内の処理液と接触
させて処理する感光材料処理装置を提案している（特願
平１−２５１３２号、同１−２７０３４号、同１−９０
４２２号、同１−２４８９５０号、同２−５４６４１
号、同２−１５５６６７号、特願平２−２２３７６６号
等）。これらのものでは、装置を小型にすることがで
き、処理効率が向上することから処理液の使用量を少な
くすることができるという効果を得ている。In view of the above situation, the present applicant has firstly a plurality of processing chambers connected by narrow passages, and the photosensitive material is sequentially passed through the processing chambers, and the processing liquid in each processing chamber is sequentially processed. (Japanese Patent Application Nos. 1-25132, 1-27034, and 1-90).
No. 422, No. 1-248950, No. 2-54641
No. 2-155667, Japanese Patent Application No. 2-223766, etc.). These devices have the effect of reducing the size of the apparatus and improving the processing efficiency, thereby reducing the amount of processing liquid used.
【０００５】このように、処理効率が向上するのは、各
処理室が狭幅の通路で連結されているので、各処理室間
で処理液同士の混合が少なく、処理液の供給方向に従
い、各処理室内の処理液の液組成または濃度に勾配が形
成され、これが維持されるからである。さらに、本発明
者らは、前記各処理室間の液組成や、濃度の勾配を確実
にして、処理効率をより一層向上するために、処理室間
の液流を遮断するブレードを通路内に設けたものを提案
している（特願平２−１５５６６７号）。ブレードの材
質としては、軟質樹脂等の弾性材料が用いられる。As described above, the processing efficiency is improved because the processing chambers are connected by narrow passages, so that the mixing of the processing liquids between the processing chambers is small, and the processing liquid is supplied in accordance with the processing liquid supply direction. This is because a gradient is formed in the liquid composition or concentration of the processing liquid in each processing chamber, and this is maintained. In addition, the present inventors ensured that the gradient of the liquid composition and concentration between the processing chambers, and to further improve the processing efficiency, a blade for blocking the liquid flow between the processing chambers in the passage. The proposed one is proposed (Japanese Patent Application No. 2-155667). As a material of the blade, an elastic material such as a soft resin is used.
【０００６】一方、上記処理装置には、前記複数の処理
室を、ラックを処理槽内へ収納することにより形成する
方式のものがある。この形式のものでは、各処理室を区
画するラックの構成部材と、処理槽内壁との間にシール
部材等が介挿され、ラックの収納によって各処理室間の
処理液の流通ができる限り阻止できるように構成され
る。このような構成は、ブレードの装着と相まって、処
理室の液密性を向上させ、各処理室間の液組成や、濃度
の勾配をより確実にして、処理効率をさらに一層向上す
るためには好ましい。On the other hand, there is a processing apparatus in which the plurality of processing chambers are formed by housing a rack in a processing tank. In this type, a seal member or the like is interposed between the constituent members of the rack that divides each processing chamber and the inner wall of the processing tank, and the rack accommodates to prevent the flow of the processing liquid between the processing chambers as much as possible. It is configured to be able to. Such a configuration, in combination with the mounting of the blade, improves the liquid tightness of the processing chambers, makes the liquid composition and the concentration gradient between the processing chambers more reliable, and further improves the processing efficiency. preferable.
【０００７】ところで、上記ブレードが設けられたの狭
幅の通路は、通路内の間隔が狭いため、液密性を向上さ
せる為にラックと処理槽の密着圧を高くすると、前記狭
幅通路が押し潰されてブレードの接触圧が高くなり、感
光材料の搬送抵抗が高くなるといった欠点があった。こ
のため、搬送されてくる感光材料のジャミング事故が発
生しやすく、搬送系の故障が起き、さらには、搬送時間
が狂って処理ムラが発生するなどの問題が生じていた。The narrow passage provided with the blades has a narrow interval in the passage. Therefore, when the pressure of the rack and the processing tank is increased in order to improve the liquid tightness, the narrow passage is formed. There is a disadvantage that the contact pressure of the blade is increased due to being crushed, and the conveyance resistance of the photosensitive material is increased. As a result, jamming of the conveyed photosensitive material is liable to occur, causing a trouble in the conveyance system, and furthermore, the conveyance time is disturbed, and processing unevenness occurs.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
課題を解決し、処理室間の液流通のシール性を維持しつ
つ、ブレードの接触圧を安定させ、感光材料の良好な搬
送性を確保した感光材料処理装置を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, stabilize the contact pressure of the blade while maintaining the sealing property of the liquid flow between the processing chambers, and improve the good transportability of the photosensitive material. The object of the present invention is to provide a photosensitive material processing apparatus which ensures the above.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（３）の本発明によって達成される。This and other objects are attained by the present invention which is defined below as (1) to (3).
【００１０】（１） 処理槽と、該処理槽内に着脱自在
に収納されて、上下方向に連設された複数の処理室を形
成する区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理室
間を連結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前記
狭幅通路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、前
記通路内における処理液の流通を実質的に遮断するブレ
ードを設けた感光材料処理装置であって、前記処理槽の
内壁には、前記区画部材の連設する処理室の間で上下方
向に液密に密着する段部を形成し、該段部の密着部分に
おいて上下に隣接する処理室間の液流通が遮断されるこ
とを特徴とする感光材料処理装置。(1) A processing tank, a partition member removably housed in the processing tank to form a plurality of processing chambers connected vertically, and the processing chamber provided in the partition member. A narrow passage connecting between the processing chamber and the processing chamber and the narrow passage, the processing liquid being filled in the processing chamber, and a blade substantially blocking the flow of the processing liquid in the passage in the narrow passage. A photosensitive material processing apparatus, wherein a step portion is formed on the inner wall of the processing tank in a vertically liquid-tight manner between the processing chambers connected to the partition member, and the step portion is in close contact with the processing chamber. A photosensitive material processing apparatus, wherein liquid flow between processing chambers vertically adjacent to each other is shut off.
【００１１】（２） 処理槽と、該処理槽内に着脱自在
に収納されて、上下方向に連設された複数の処理室を形
成する区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理室
間を連結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前記
狭幅通路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、前
記通路内における処理液の流通を実質的に遮断するブレ
ードを設けた感光材料処理装置であって、連設する処理
室間において、区画部材と処理槽の間には低接触圧で液
遮断性の良いシール手段が介設されていることを特徴と
する感光材料処理装置。(2) A processing tank, a partition member removably housed in the processing tank, and forming a plurality of processing chambers connected in the vertical direction, and the processing chamber provided in the partition member. A narrow passage connecting between the processing chamber and the processing chamber and the narrow passage, the processing liquid being filled in the processing chamber, and a blade substantially blocking the flow of the processing liquid in the passage in the narrow passage. Wherein a sealing means having a low contact pressure and a good liquid blocking property is interposed between the partition member and the processing tank between the processing chambers connected in series. Photosensitive material processing equipment.
【００１２】（３） 内部に狭幅通路を有する区画部材
と、外部材とを有し、該外部材は、外側から前記区画部
材に液密に取り付けられて前記狭幅通路に連結する複数
の処理室を画成し、前記複数の処理室と、該処理室を連
結する前記狭幅通路内に処理液を満たし、前記狭幅通路
内に、前記通路内における処理液の流通を実質的に遮断
するブレードを設けたことを特徴とする感光材料処理装
置。(3) A partition member having a narrow passage therein and an outer member, the outer member being liquid-tightly attached to the partition member from the outside and connected to the narrow passage. A processing chamber is defined, the plurality of processing chambers, and the processing liquid is filled in the narrow passage connecting the processing chambers, and the flow of the processing liquid in the passage is substantially set in the narrow passage. A photosensitive material processing apparatus comprising a blade for blocking.
【００１３】[0013]
【作用】本発明の感光材料処理装置は、処理槽内に複数
の処理室が形成され、該処理室は狭幅の通路で順次連結
されているので、各処理室間において、処理液の供給方
向に従い、処理液の液組成勾配（濃度勾配）が維持さ
れ、よって感材の処理効率が向上する。この際、通路に
ブレード、好ましくは対向する少なくとも一対のブレー
ドを設置しているので、各処理室での処理液の液組成勾
配は飛躍的にかつ長期間に亘って維持されることにな
る。すなわち、感材の通過時には、ブレードが感材両面
に接触し、感材に付着した液を拭い取る効果（以下、ス
クイズ効果という）を生じ、感材による前の処理室から
後の処理室への液の持ち込み量が少なくなる。また、感
材の通過時には、液流通は感材側端に生じるブレード間
の微小間隙（感材厚さ程度）を介して行われる。そし
て、感材の非通過時には、対向するブレード同士が密着
するので、通路の液流通はほとんどない。In the photosensitive material processing apparatus of the present invention, a plurality of processing chambers are formed in a processing tank, and the processing chambers are sequentially connected by narrow passages, so that a processing solution is supplied between the processing chambers. In accordance with the direction, the liquid composition gradient (concentration gradient) of the processing liquid is maintained, and the processing efficiency of the photosensitive material is improved. At this time, since the blades, preferably at least a pair of blades facing each other, are provided in the passage, the gradient of the composition of the processing solution in each processing chamber is dramatically and long-term maintained. That is, when the photosensitive material passes, the blade comes into contact with both surfaces of the photosensitive material, and an effect of wiping off the liquid adhering to the photosensitive material (hereinafter referred to as a squeeze effect) is generated. The amount of liquid brought in is reduced. During the passage of the photosensitive material, the liquid flows through a minute gap (about the thickness of the photosensitive material) between the blades generated at the photosensitive material side end. When the photosensitive material does not pass through, the opposing blades are in close contact with each other, so that there is almost no liquid flow in the passage.
【００１４】一方、区画部材は処理室の間において、処
理槽の内壁に形成されている段部において液密に密着し
ている。このように、区画部材と処理槽との間の上下処
理室間の液流遮断は、上下方向に密着することによって
なされるため、区画部材と処理槽との接触圧によって狭
幅の通路が歪むことがなく、狭幅通路内のブレードの接
触圧が高まることもない。On the other hand, the partition member is in liquid-tight contact with a step formed on the inner wall of the processing tank between the processing chambers. As described above, since the liquid flow between the upper and lower processing chambers between the partition member and the processing tank is shut off in the vertical direction, the narrow passage is distorted by the contact pressure between the partition member and the processing tank. The contact pressure of the blade in the narrow passage does not increase.
【００１５】さらに、前記狭幅通路が歪む程の接触圧を
必要としないシール手段を、区画部材と処理槽の間に設
けることによっても同様の目的が達成される。Further, the same object can be achieved by providing a sealing means between the partition member and the processing tank, which does not require a contact pressure enough to distort the narrow passage.
【００１６】また、区画部材内に形成される処理室を、
それぞれの処理室毎に液密に取り付けられる外部材によ
り画成しても同様の効果が得られ、かつ、各処理室毎の
メンテナンスを別個に行なうことが可能となるといった
利点があり、メンテナンス効率が上昇する。Further, the processing chamber formed in the partition member is
The same effect can be obtained even if it is defined by an outer member that is attached in a liquid-tight manner for each processing chamber, and there is an advantage that the maintenance for each processing chamber can be performed separately. Rises.
【００１７】[0017]
【実施例】以下本発明の感光材料処理装置を、添付図面
に示す好適実施例に基づいて詳細に説明する。図１は、
本発明の感光材料処理装置を水洗処理装置に適用した場
合の第１の構成例を示す断面側面図、図２は、図１中の
II−II線での断面図、図３は、図１中のIII −III 線で
の断面図である。これらの図に示すように、本発明の感
光材料処理装置１は、所定の容積を有する縦長の処理槽
２を有する。この処理槽２内には、区画部材３が着脱自
在に装填される。この区画部材３は、側板３１、３２を
有し、これらの側板間には数個のブロック状の部材（以
下、ブロック体という）４が設置されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a photosensitive material processing apparatus according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings. FIG.
FIG. 2 is a sectional side view showing a first configuration example when the photosensitive material processing apparatus of the present invention is applied to a water washing processing apparatus.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. 1. As shown in these figures, the photosensitive material processing apparatus 1 of the present invention has a vertically long processing tank 2 having a predetermined volume. A partition member 3 is removably loaded into the processing tank 2. The partition member 3 has side plates 31 and 32, and several block-shaped members (hereinafter, referred to as block bodies) 4 are installed between the side plates.
【００１８】これらのブロック体４は、例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキサイド
（ＰＰＯ）、ＡＢＳ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂等のプラスチック、アルミナ
等のセラミックスまたはステンレス、チタン、ハステロ
イ等の各種金属等の硬質材料で構成されている。特に、
成形性に優れ、軽量で、十分な強度を有するという点か
ら、ポリプロピレン、ＰＰＯ、ＡＢＳ樹脂等のプラスチ
ックスで構成されているのが好ましい。These blocks 4 are made of, for example, plastics such as polyethylene, polypropylene, polyphenylene oxide (PPO), ABS resin, phenolic resin, polyester resin, polyurethane resin, ceramics such as alumina, and various kinds of materials such as stainless steel, titanium, hastelloy and the like. It is made of a hard material such as metal. Especially,
It is preferable to be made of plastics such as polypropylene, PPO, ABS resin, etc. from the viewpoint of excellent moldability, light weight and sufficient strength.
【００１９】また、図示の例ではブロック体４は中実部
材となっているが、中空部材（例えばブロー成形により
製造される）として構成してもよい。Although the block 4 is a solid member in the illustrated example, it may be formed as a hollow member (for example, manufactured by blow molding).
【００２０】このようなブロック体４により、感光材料
Ｓを水洗処理するための空間である５つの処理室６Ａ、
６Ｂ、６Ｃ、６Ｄおよび６Ｅが形成される。With such a block body 4, five processing chambers 6A, which are spaces for washing the photosensitive material S with water, are provided.
6B, 6C, 6D and 6E are formed.
【００２１】これら各処理室６Ａ〜６Ｅには、水洗水Ｗ
が満たされている。In each of the processing chambers 6A to 6E, washing water W is provided.
Is satisfied.
【００２２】図示の構成において、処理室一室当たりの
容積は１００〜２０００ml程度とすればよい。In the illustrated configuration, the volume per processing chamber may be about 100 to 2000 ml.
【００２３】また、上下に隣接する処理室６Ａと６Ｂ、
６Ｂと６Ｃ、６Ｃと６Ｄおよび６Ｄと６Ｅとの間には、
両処理室を連結する狭幅の通路７１、７２、７３および
７４が形成されている。The upper and lower processing chambers 6A and 6B,
Between 6B and 6C, 6C and 6D and 6D and 6E,
Narrow passages 71, 72, 73 and 74 connecting both processing chambers are formed.
【００２４】また、処理室６Ａおよび６Ｅの上部には、
それぞれ感光材料Ｓを搬入および搬出するための同様の
通路７５および７６が形成されている。これらの通路７
１〜７６の幅（有効スリット幅）は、感光材料Ｓの厚さ
の５〜４０倍程度の０．５〜５mm程度とするのが好まし
い。Further, at the upper part of the processing chambers 6A and 6E,
Similar passages 75 and 76 for carrying in and out the photosensitive material S are formed, respectively. These passages 7
The width (effective slit width) of 1 to 76 is preferably about 0.5 to 5 mm, which is about 5 to 40 times the thickness of the photosensitive material S.
【００２５】このような幅とすることによって、感光材
料Ｓは支障なく搬送される。With such a width, the photosensitive material S is conveyed without any trouble.
【００２６】また、図示の構成において、処理室間の通
路の長さは１０〜２００mm、好ましくは２０〜６０mm程
度とするのがよい。In the configuration shown in the figure, the length of the passage between the processing chambers is set to 10 to 200 mm, preferably about 20 to 60 mm.
【００２７】通路７１〜７４の各々には、図示のよう
に、一対のブレード１５が設置されている。Each of the passages 71 to 74 is provided with a pair of blades 15 as shown.
【００２８】この１対のブレード１５は、感光材料Ｓの
非通過時にその先端部同士が密着するように支持部材９
に固着されており、図４に示されるように、支持部材９
はブロック体４に着脱自在に取り付けられる。The pair of blades 15 are supported by the supporting member 9 so that the tips thereof are in close contact with each other when the photosensitive material S does not pass therethrough.
, And as shown in FIG.
Is detachably attached to the block body 4.
【００２９】支持部材９は、直方体形状となっており、
その内部には、長手方向に向けて貫通するスリット部９
０が形成されている。ブレード１５は、図５に示される
ように、該スリット部９０の対向面９０ａ、９０ｂに各
々取り付けられている。The support member 9 has a rectangular parallelepiped shape.
Inside thereof, a slit portion 9 penetrating in the longitudinal direction is provided.
0 is formed. As shown in FIG. 5, the blades 15 are attached to the opposing surfaces 90a and 90b of the slit portion 90, respectively.
【００３０】支持部材９は、取付部材９１ａ、９１ｂ
と、側部材９４ａ、９４ｂとから構成されている。ブレ
ード１５を各取り付けた取付部材９１ａ、９１ｂを、ブ
レード１５を対向せしめて配置し、取付部材９１ａ、９
１ｂの端部に前記側部材９４ａ、９４ｂを固定して、支
持部材９が組み立てられる。そして、取付部材９１ａ、
９１ｂの間に前記スリット部９０が形成され、該スリッ
ト部９０には感光材料Ｓが通過する。The supporting member 9 includes mounting members 91a and 91b.
And side members 94a and 94b. The mounting members 91a and 91b to which the blades 15 are attached are arranged with the blades 15 facing each other.
The supporting members 9 are assembled by fixing the side members 94a and 94b to the end of the supporting member 9b. Then, the mounting member 91a,
The slit portion 90 is formed between the slits 91b, and the photosensitive material S passes through the slit portion 90.
【００３１】取付部材９１ａ、９１ｂや側部材９４ａ、
９４ｂは、例えばダブルインジェクション射出成形やイ
ンサート成形により、ブレード１５やシール部材９６と
一体的に成形してよく、別個に形成したのち組合せても
よい。なお、支持部材９の材質はブロック体４の材質と
同様であってよい。また、ブレード１５とシール部材９
６の材質は、水洗水に悪影響を及ぼさないものであれば
よく、例えば天然ゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴ
ム、ブチルゴム、フッ素ゴム、イソプレンゴム、ブタジ
エンゴム、スチレンブタジエンゴム、エチレンプロピレ
ンゴム、シリコンゴム等の各種ゴム、軟質ポリ塩化ビニ
ル、ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー樹
脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等の軟質樹脂等の弾性
材料が挙げられ、また、ラバロン、サーモラン、エラス
トラン、ハイトレル、サンプレーンなどのエラストマー
を用いることもできる。The mounting members 91a, 91b and the side members 94a,
94b may be integrally formed with the blade 15 and the seal member 96 by, for example, double injection injection molding or insert molding, or may be formed separately and then combined. Note that the material of the support member 9 may be the same as the material of the block body 4. The blade 15 and the sealing member 9
The material of No. 6 only needs to have no adverse effect on the washing water, such as natural rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, fluoro rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene butadiene rubber, ethylene propylene rubber, silicon rubber, etc. Various rubbers, elastic materials such as soft polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, ionomer resin, fluororesin, soft resin such as silicone resin, and elastomers such as Lavalon, Thermolan, Elastoran, Hytrel, Sunplane, etc. It can also be used.
【００３２】支持部材９の組み立て方には、上記の他、
種々の構造が可能である。このように、支持部材９内の
スリット部９０にブレードを取り付けて一体化すると、
ブレード交換はきわめて容易となり、ブレード対の位置
あわせ等も必要としなくなるなどの利点が生じる。The method of assembling the support member 9 is the same as described above.
Various configurations are possible. As described above, when the blade is attached to the slit portion 90 in the support member 9 and integrated,
The blade replacement becomes extremely easy, and there are advantages such that the alignment of the blade pair is not required.
【００３３】スリット部９０内のブレード１５は感光材
料Ｓの通過時には、感光材料Ｓの進入によって先端部が
押し広げられるような構成となっている。When the photosensitive material S passes through the blade 15 in the slit portion 90, the leading end of the blade 15 is expanded by the entry of the photosensitive material S.
【００３４】図５には、支持部材９のスリット部９０の
拡大図が示されている。FIG. 5 is an enlarged view of the slit portion 90 of the support member 9.
【００３５】図５に示すように、ブレード１５は、上記
の支持部材９に取り付けられる基部と先端に向かって厚
さが漸減する先端部を有するものから構成され、２枚の
組み合わせで用いられる。また、ブレード１５は、基部
から先端部へ向けてその厚さがほぼ同一のものであって
もよい。As shown in FIG. 5, the blade 15 has a base attached to the support member 9 and a tip whose thickness gradually decreases toward the tip, and is used in combination of two blades. Further, the blade 15 may have substantially the same thickness from the base to the tip.
【００３６】感光材料Ｓの表面に対するブレード１５の
平均傾斜角度は一般に１０〜７０°程度とするのがよ
く、特に２０〜４５°程度とするのが好ましい。The average inclination angle of the blade 15 with respect to the surface of the photosensitive material S is generally preferably about 10 to 70 °, more preferably about 20 to 45 °.
【００３７】また、ブレード１５の基部から先端へ至る
長さは、通路の有効スリット幅（ｗ）以上の長さとすれ
ばよいが、一般にはこの２〜２０倍の１０〜５０mmとす
るのが好ましく、特に好ましくは３〜１０倍の１５〜２
５mmとするのがよい。The length from the base to the tip of the blade 15 may be equal to or greater than the effective slit width (w) of the passage, but is generally preferably 2 to 20 times as large as 10 to 50 mm. And particularly preferably 15 to 2 times 3 to 10 times.
It is good to be 5mm.
【００３８】そして、対向して設置した１対のブレード
１５における感材の非通過時でのブレード１５の先端部
同士の重なり部分の長さは、１〜１０mm程度、特に２〜
５mm程度とするのがよい。The length of the overlapping portion between the tips of the blades 15 when the photosensitive material does not pass through the pair of blades 15 installed opposite to each other is about 1 to 10 mm, especially 2 to 2 mm.
It is good to be about 5 mm.
【００３９】また、ブレード１５の先端部の厚さは、ブ
レード１５の長さの１／１００以上あるいは０．５mm以
上とすればよく、特に、１〜１．５mmとすればよい。The thickness of the tip of the blade 15 may be 1/100 or more of the length of the blade 15 or 0.5 mm or more, and particularly preferably 1 to 1.5 mm.
【００４０】ブレード１５同士の接触面圧は、０．００
１〜０．１kg/cm2程度、特に０．００５〜０．０２kg/c
m2程度とするのが好ましい。The contact surface pressure between the blades 15 is 0.00
About 1 to 0.1 kg / cm 2 , especially 0.005 to 0.02 kg / c
preferably with m 2 approximately.
【００４１】以上のような条件とすることにより、感光
材料Ｓの非通過時におけるブレード１５の先端部同士の
密着性が確保され、水洗水Ｗの流通を有効に遮断するこ
とができる。また、感光材料Ｓの通過時の水洗水Ｗの流
通もごくわずかなものとなる。Under the above conditions, the adhesion between the tips of the blades 15 when the photosensitive material S does not pass is ensured, and the flow of the washing water W can be effectively blocked. Further, the flow of the washing water W when passing the photosensitive material S is very small.
【００４２】なお、通常、ブレード１５同士の密着力
は、ブレードの弾性力により与えられているが、ブレー
ド１５の先端部内に磁性材料を配合し（例えば、ゴム磁
石のようなもの）、先端部同士が磁力により吸引される
ようにして密着力を与え、または高めることも可能であ
る。Normally, the adhesive force between the blades 15 is given by the elastic force of the blades. However, a magnetic material is mixed into the tip of the blade 15 (for example, a rubber magnet), and It is also possible to give or increase adhesion by attracting each other by magnetic force.
【００４３】また、感光材料Ｓがブレード１５と摺動し
ても、乳剤面のキズ付き等の悪影響はほとんど生じない
が、これが無視できない場合、または、摺動抵抗の減少
を図る場合には、ブレード１５の内側面に平滑化処理を
施し、または内側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤
をコーティングする等の表面処理を施すことで対応すれ
ばよい。Even if the photosensitive material S slides on the blade 15, there is almost no adverse effect such as scratches on the emulsion surface, but if this cannot be ignored or if the sliding resistance is to be reduced, The inner surface of the blade 15 may be smoothed or a surface treatment such as coating a lubricant such as silicone or Teflon on the inner surface may be employed.
【００４４】なお、図示の例では、ブレード１５は、各
支持部材９内に１対づつ設置されているが、１つの支持
部材９に対し、２対以上のブレード１５を設置してもよ
い。この場合には、ブレード１５による遮蔽効果やスク
イズ効果がより大きくなる。In the illustrated example, one pair of blades 15 is installed in each support member 9, but two or more pairs of blades 15 may be installed for one support member 9. In this case, the shielding effect and the squeeze effect by the blade 15 are further increased.
【００４５】また、ブレード１５は、対をなすものに限
らず、１片のブレード１５として設けてもよい。この場
合には、感材の乳剤層がブレード１５と接触するように
感光材料Ｓを搬送するのが好ましい。The blades 15 are not limited to a pair, and may be provided as a single blade 15. In this case, it is preferable to transport the photosensitive material S such that the emulsion layer of the photosensitive material comes into contact with the blade 15.
【００４６】本発明の感光材料処理装置は、ブレード１
５に代わる他の構成の通路遮蔽手段を設けてもよい。ブ
レードに代わる遮蔽手段としては、図６に示されるもの
が挙げられる。支持部材９のスリット部９０内には、剛
体からなる一対の揺動部材１５０が対向面９０ａ、９０
ｂに位置する支点１５１で、それぞれ軸支されている。
そして、揺動部材１５０の間にはスプリング等の付勢部
材１５３が介設され、前記揺動部材１５０の先端を突き
合わせて閉じ方向へ付勢している。該揺動部材１５０の
突き合わされる先端には軟質部材１５２が被覆され、該
被覆部材１５２の接触により液遮断性が発揮される。な
お、揺動部材１５０および軟質部材１５２はスリット部
９０内の全幅に渡って設けられている。また、揺動部材
１５０の支持端部には、対向面９０ａ、９０ｂの間にシ
ール材１５４が充填され液流通を実質的に遮断してい
る。このような構成とすると、通路を構成するスリット
が潰れても、接触圧が高くなるといった欠点は解消され
る。The photosensitive material processing apparatus according to the present invention comprises a blade 1
A passage shielding means having another configuration instead of 5 may be provided. As a shielding means instead of the blade, the one shown in FIG. 6 can be mentioned. In the slit portion 90 of the supporting member 9, a pair of swing members 150 made of a rigid body are provided.
Each of them is pivotally supported at a fulcrum 151 located at b.
A biasing member 153 such as a spring is interposed between the swinging members 150 to urge the leading ends of the swinging members 150 in the closing direction. The abutting tip of the swinging member 150 is covered with a soft member 152, and the liquid blocking property is exhibited by the contact of the covering member 152. Note that the swing member 150 and the soft member 152 are provided over the entire width in the slit portion 90. The supporting end of the swinging member 150 is filled with a sealing material 154 between the facing surfaces 90a and 90b to substantially block the liquid flow. With such a configuration, the disadvantage that the contact pressure increases even if the slit forming the passage is crushed is eliminated.
【００４７】ここで、支持部材９に対する区画部材３側
の取付構造について説明する。図１および図４に示され
るように、各処理室６Ａ〜６Ｅ間に配置されているブロ
ック体４内に、前記支持部材９を嵌入する収容部４１が
形成されている。収容部４１は、図に示されるように、
区画部材３の外側に向けて形成され、上下面には通路７
１が臨んでいる。ここに支持部材９が嵌入されると、支
持部材９のスリット部９０が通路７１に対応する位置で
固定される。また、この際、支持部材９の側面に設けら
れているシール部材９６は、前記収容部４１の内壁およ
び処理槽２の側壁と接触して、処理室６Ａと処理室６Ｂ
間の水洗水Ｗの流れを遮断する。Here, the mounting structure on the partition member 3 side with respect to the support member 9 will be described. As shown in FIGS. 1 and 4, an accommodating portion 41 into which the support member 9 is fitted is formed in the block body 4 arranged between the processing chambers 6A to 6E. As shown in FIG.
It is formed toward the outside of the partitioning member 3, and has a passage 7 on the upper and lower surfaces.
One is at work. When the support member 9 is fitted here, the slit portion 90 of the support member 9 is fixed at a position corresponding to the passage 71. At this time, the seal member 96 provided on the side surface of the support member 9 comes into contact with the inner wall of the storage section 41 and the side wall of the processing bath 2, and the processing chambers 6 </ b> A and 6 </ b> B
The flow of the washing water W is cut off.
【００４８】支持部材９は、収容部４１に嵌入した後区
画部材３を処理槽２内へ挿入することにより、処理槽２
の側壁と区画部材３との間で位置決めされて固定され
る。After the support member 9 is inserted into the accommodation section 41, the partition member 3 is inserted into the processing tank 2, whereby the processing tank 2 is inserted.
Is positioned and fixed between the side wall and the partition member 3.
【００４９】従って、支持部材９の取付構造は、区画部
材３を処理槽２より取り出すだけで、容易に支持部材９
の（ブレード１５の）交換ができる構造となっている。Therefore, the mounting structure of the support member 9 can be easily achieved only by removing the partition member 3 from the processing tank 2.
(Blade 15) can be replaced.
【００５０】なお、以上の例では、ブロック体４内に支
持部材９が嵌入係止される結果、ブロック体４にも設け
られた通路７１と、支持部材９のスリット部９０が連通
するような構造となっているが、この他、ブロック体４
に支持部材９が取り付けられたとき、支持部材９の長手
方向の一方あるいは両方の面が処理室６Ａ〜６Ｅの内壁
として機能するように構成してもよい。In the above example, the support member 9 is fitted and locked in the block body 4 so that the passage 71 provided in the block body 4 and the slit portion 90 of the support member 9 communicate with each other. Although it has a structure, in addition to this,
When the support member 9 is attached to the support member 9, one or both surfaces in the longitudinal direction of the support member 9 may function as inner walls of the processing chambers 6A to 6E.
【００５１】さらに、以上のブレード１５を有する支持
部材９は、ブレード１５が劣化したのち、支持部材９ご
と新しいものと交換すればよいので、オペレータ等の操
作はきわめて容易となるが、場合によっては、既に述べ
たように、ブレード１５を取りかえて再使用してもよ
い。Further, since the support member 9 having the above-described blade 15 can be replaced with a new one after the blade 15 has deteriorated, the operation of the operator or the like becomes extremely easy. As described above, the blade 15 may be replaced and reused.
【００５２】図１および図２に示すように、処理室６
Ａ、６Ｂ、６Ｄおよび６Ｅの中央部付近には、それぞれ
１対の搬送ローラ８が設置され、処理室６Ｃには、３対
の搬送ローラ８が設置されている。また、通路７５の感
光材料入口付近および通路７６の感光材料出口付近に
も、それぞれ１対の搬送ローラ８が設置されている。As shown in FIGS. 1 and 2, the processing chamber 6
A pair of transport rollers 8 are installed near the center of each of A, 6B, 6D, and 6E, and three pairs of transport rollers 8 are installed in the processing chamber 6C. Further, a pair of conveying rollers 8 are provided near the photosensitive material entrance of the passage 75 and near the photosensitive material exit of the passage 76, respectively.
【００５３】これらの各搬送ローラ８は、その回転軸８
１にて側板３１、３２に軸支されており、ローラ対の双
方が駆動回転し、ローラ間に感光材料Ｓを挟持して感光
材料Ｓを搬送するようになっている。Each of these transport rollers 8 has a rotating shaft 8
At 1, both of the roller pairs are driven and rotated by the side plates 31 and 32, and the photosensitive material S is conveyed while sandwiching the photosensitive material S between the rollers.
【００５４】搬送ローラ８の駆動機構は、図２に示すよ
うに、図中垂直方向に延在する主軸８２の所定箇所に固
定されたベベルギア８３と、各搬送ローラ８の回転軸８
１の一端部に固定されたベベルギア８４とが噛合し、モ
ータ等の駆動源（図示せず）の作動で主軸８２を所定方
向に回転することにより、ローラ対のうちの一方の搬送
ローラ８が回転するようになっている。そして、各搬送
ローラ８の回転軸８１の他端部には、ギア８５が固定さ
れ、このギア８５の噛合により、ローラ対の一方のロー
ラ８の回転が他方のローラ８に伝達されるようになって
いる。As shown in FIG. 2, the drive mechanism of the transport roller 8 includes a bevel gear 83 fixed to a predetermined position of a main shaft 82 extending in the vertical direction in FIG.
1 and a bevel gear 84 fixed to one end of the roller pair 1 rotates a main shaft 82 in a predetermined direction by operation of a drive source (not shown) such as a motor, so that one of the transport rollers 8 of the roller pair is rotated. It is designed to rotate. A gear 85 is fixed to the other end of the rotating shaft 81 of each transport roller 8, and the rotation of one roller 8 of the roller pair is transmitted to the other roller 8 by meshing of the gear 85. Has become.
【００５５】各搬送ローラ８の構成材料は、耐久性、水
洗水Ｗに対する耐薬品性を有するものであるのが好まし
く、例えば、ネオプレン、ＥＰＴゴム等の各種ゴム、サ
ンプレーン、サーモラン、ハイトレル等のエラストマ
ー、硬質塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、
ＡＢＳ樹脂、ＰＰＯ、ナイロン、ポリアセタール（ＰＯ
Ｍ)、フェノール樹脂、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰ
Ｓ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ)、ポリエーテルエ
ーテルケトン（ＰＥＥＫ）、テフロン等の各種樹脂、ア
ルミナ等のセラミックス、ステンレス、チタン、ハステ
ロイ等の耐食性を有する金属類、またはこれらを組み合
わせたものを挙げることができる。The material of each transport roller 8 is preferably one having durability and chemical resistance to washing water W. For example, various rubbers such as neoprene, EPT rubber, sunplane, thermolan, Hytrel, etc. Elastomer, rigid vinyl chloride, polypropylene, polyethylene,
ABS resin, PPO, nylon, polyacetal (PO
M), phenolic resin, polyphenylene sulfide (PP
S), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), various resins such as Teflon, ceramics such as alumina, metals having corrosion resistance such as stainless steel, titanium and Hastelloy, or a combination thereof. be able to.
【００５６】処理室６Ａ、６Ｂ、６Ｄおよび６Ｅ内の搬
送ローラ８と通路７１〜７４との間には、感光材料Ｓを
案内するためのガイド１０ａが設置されている。A guide 10a for guiding the photosensitive material S is provided between the transport rollers 8 in the processing chambers 6A, 6B, 6D and 6E and the passages 71 to 74.
【００５７】このガイド１０ａは、対をなす板状の部材
で構成され、感光材料Ｓが通過しうる間隔を隔てて対面
設置されている。The guide 10a is composed of a pair of plate-like members, and is installed facing each other with an interval through which the photosensitive material S can pass.
【００５８】また、処理室６Ｃの搬送ローラ８間には、
円弧状に湾曲し、この湾曲部に沿って感光材料Ｓの方向
を転換する反転ガイド１０ｂが設置されている。Further, between the transport rollers 8 in the processing chamber 6C,
A reversing guide 10b which is curved in an arc shape and changes the direction of the photosensitive material S along the curved portion is provided.
【００５９】これらのガイド１０ａおよび１０ｂは、例
えば成型プラスチックや金属の板で構成されている。ま
た、ガイド１０ａ、１０ｂにはガイドを貫通する開口
（図示せず）がほぼ均一に形成されているのが好まし
い。これにより水洗水Ｗの流通が可能となり、処理室内
での液の循環が促進されるため、水洗効率が向上する。The guides 10a and 10b are made of, for example, a molded plastic or metal plate. Further, it is preferable that openings (not shown) penetrating the guides are formed substantially uniformly in the guides 10a and 10b. Thereby, the circulation of the washing water W becomes possible, and the circulation of the liquid in the processing chamber is promoted, so that the washing efficiency is improved.
【００６０】このようなガイド１０ａ、１０ｂ、前記搬
送ローラ８およびその駆動系により感光材料Ｓの搬送手
段が構成される。The guides 10a and 10b, the transport roller 8 and a drive system thereof constitute transport means for the photosensitive material S.
【００６１】なお、ガイド１０ａ、１０ｂは、感光材料
Ｓの搬送性に支障をきたさない限り、搬送経路に沿って
部分的に設けてもよく、また、設置しなくてもよい。The guides 10a and 10b may be partially provided along the transport path or may not be provided as long as the transportability of the photosensitive material S is not hindered.
【００６２】処理室６Ｅの上方には、一端が開放し、他
端が通路７６へ連通する給液路１１がブロック体４を貫
通して形成されている。また、処理室６Ａの上方には、
一端が開放し、他端が通路７５へ連通する排液路１２が
ブロック体４を貫通して形成されている。Above the processing chamber 6E, a liquid supply passage 11 having one end open and the other end communicating with the passage 76 is formed penetrating the block body 4. In addition, above the processing chamber 6A,
A drain passage 12 having one end open and the other end communicating with the passage 75 is formed through the block body 4.
【００６３】一方、処理槽２には、その側壁を貫通して
処理槽内面に開放する給液管１３および排液管１４が設
置されている。そして、区画部材３を処理槽２に装填し
た状態で給液路１１と給液管１３、排液路１２と排液管
１４がそれぞれ接続される。給液管１３は、水洗水Ｗを
供給（補充）するためのものであり、排液管１４は、オ
ーバーフロー等により処理後の疲労した水洗水Ｗのオー
バーフロー液ＯＦを排出するためのものである。On the other hand, the processing tank 2 is provided with a liquid supply pipe 13 and a drain pipe 14 which penetrate the side wall and open to the inner surface of the processing tank. Then, the liquid supply path 11 and the liquid supply pipe 13, and the liquid discharge path 12 and the liquid discharge pipe 14 are connected with the partition member 3 loaded in the processing tank 2. The liquid supply pipe 13 is for supplying (replenishing) the washing water W, and the drain pipe 14 is for discharging the overflow liquid OF of the fatigued washing water W after treatment due to overflow or the like. .
【００６４】区画部材３には、側板３１、３２と直交す
る板状の仕切部材１７が設置されている。図７に示すよ
うに、この仕切部材１７は、図中左側の斜線で示す第１
領域１８と図中右側の交差斜線で示す第２領域１９とを
仕切り、両領域における水洗水Ｗの流通を遮断するため
のものである。The partition member 3 is provided with a plate-like partition member 17 orthogonal to the side plates 31 and 32. As shown in FIG. 7, this partition member 17 is a first hatched portion on the left side of the drawing.
The area 18 is separated from the second area 19 indicated by the oblique cross line on the right side in the figure, and the flow of the washing water W in both areas is cut off.
【００６５】第１領域１８は、感光材料Ｓが最初に通過
する処理室６Ａを含む領域であり、図示の例では２番目
に通過する処理室６Ｂをも含んでいる。The first area 18 is an area including the processing chamber 6A through which the photosensitive material S first passes, and in the illustrated example, also includes the processing chamber 6B through which the photosensitive material S passes second.
【００６６】第２領域１９は、感光材料Ｓが最後に通過
する処理室６Ｅを含む領域であり、図示の例では最後か
ら２番目に通過する処理６Ｄをも含んでいる。The second area 19 is an area including the processing chamber 6E through which the photosensitive material S passes last, and also includes the processing 6D passing second from the last in the example shown in the drawing.
【００６７】図２に示すように、仕切部材１７の両端部
１７１、１７２は、テーパ（図中下方へ向って幅が漸減
する）が形成され、一方、これに対応する処理槽２の両
側壁の２１、２２も同角度のテーパ状となっている。こ
れにより、区画部材３を処理槽２内へ挿入した際、図３
に示されるように、仕切部材１７の端部１７１、１７２
が処理槽２の側壁２１、２２の内面に係合し、第１領域
１８と第２領域１９とを区画する。このとき、係合部分
は、区画部材３の自重により密着し、水洗水Ｗの流通を
実質的に阻止する。なお、この係合部となる端部１７
１、１７２には、弾性材料からなるシール部材が設置さ
れており、水洗水Ｗの遮断性が高められている。仕切部
材１７の端部１７１、１７２および処理槽２の側壁２
１、２２のテーパ角度は特に限定されないが、好ましく
は、鉛直方向に対し、１〜１０°程度とされる。As shown in FIG. 2, both ends 171 and 172 of the partition member 17 are tapered (the width gradually decreases downward in the figure), while the corresponding side walls of the processing tank 2 are formed. 21 and 22 are also tapered at the same angle. As a result, when the partition member 3 is inserted into the processing tank 2, FIG.
As shown in the figure, the ends 171 and 172 of the partition member 17
Engages with the inner surfaces of the side walls 21 and 22 of the processing tank 2 to partition the first region 18 and the second region 19. At this time, the engaging portion is brought into close contact with the partition member 3 due to its own weight, and substantially prevents the flow of the washing water W. In addition, the end portion 17 serving as the engagement portion
At 1 and 172, a sealing member made of an elastic material is installed, and the blocking property of the washing water W is enhanced. Ends 171 and 172 of partition member 17 and side wall 2 of processing tank 2
The taper angles of 1, 22 are not particularly limited, but are preferably about 1 to 10 degrees with respect to the vertical direction.
【００６８】なお、仕切部材１７の構成材料も、前記ブ
ロック体４と同様のものが使用可能であり、また仕切部
材１７と各ブロック体４や側板３１、３２とは別部材を
接合したものであっても一体的に形成されたものであっ
てもよい。The constituent material of the partition member 17 can be the same as that of the block member 4. The partition member 17 and the block members 4 and the side plates 31, 32 are formed by joining different members. Or it may be integrally formed.
【００６９】また、側板３１および３２の外側であっ
て、区画部材３の高さ方向の所定位置には、側板３１、
３２および仕切部材１７とそれぞれ直交する隔壁２０が
設置されている。前記主軸８２は、この隔壁２０を貫通
し、支持されている。Further, outside the side plates 31 and 32 and at predetermined positions in the height direction of the partition member 3, the side plates 31,
A partition wall 20 orthogonal to the partition member 32 and the partition member 17 is provided. The main shaft 82 penetrates the partition wall 20 and is supported.
【００７０】隔壁２０の設置位置は、通路７１〜７４の
ある高さ位置またはその近傍とするのが好ましい。The partition 20 is preferably installed at a certain height of the passages 71 to 74 or in the vicinity thereof.
【００７１】この隔壁２０は、側板３１と側壁２１との
間および側板３２と側壁２２との間における縦方向の水
洗水Ｗの流通を阻止する。なお、隔壁２０が処理槽２の
側壁２１、２２等と接触する端部には、仕切部材１７と
同様にシール部材が設置され、水洗水Ｗの遮断性が高め
られている。仕切部材１７と隔壁２０の成形方法は支持
部材９と同様であってよく、シール部材と一体成形し、
あるいは別個に形成したのち、シール部材を端面に埋設
してもよい。さらに、隔壁２０の主軸８２貫通部にも、
隔壁２０との間にシール部材が介挿され、該貫通部にお
ける水洗水Ｗの流通が阻止されている。The partition wall 20 prevents the vertical flush water W from flowing between the side plate 31 and the side wall 21 and between the side plate 32 and the side wall 22. A seal member is provided at the end where the partition wall 20 comes into contact with the side walls 21, 22 and the like of the processing tank 2, as in the case of the partition member 17, so that the blocking property of the washing water W is enhanced. The method of forming the partition member 17 and the partition wall 20 may be the same as that of the support member 9, and may be integrally formed with the seal member.
Alternatively, after separately formed, the seal member may be embedded in the end face. Furthermore, also in the main shaft 82 penetration part of the partition wall 20,
A seal member is interposed between the partition wall 20 and the flow of the washing water W in the penetrating portion is blocked.
【００７２】次に処理槽２の構造について説明する。既
に述べたように側壁２１、２２は所定の角度でテーパー
となっており、処理槽２の内において側壁２１、２２の
間には、処理容積の平断面が上方へ向けて広幅となるよ
うに段部２３、２４、２５が形成され、各段部２３、２
４、２５の下側には、区画部材３とともに各処理室を画
成する内壁面２３１、２４１、２５１が形成されてい
る。Next, the structure of the processing tank 2 will be described. As described above, the side walls 21 and 22 are tapered at a predetermined angle, and a flat cross section of the processing volume between the side walls 21 and 22 in the processing tank 2 is widened upward. Steps 23, 24, 25 are formed, and each step 23, 2
On the lower side of 4 and 25, inner wall surfaces 231, 241, and 251 which define each processing chamber together with the partition member 3 are formed.
【００７３】一方、区画部材３には、図１および図４に
示すように、支持部材９を保持しているブロック体４の
下側には段部３３、３４、３５が設けられ、該ブロック
体４の底面外端部が外側に張り出すように構成されてい
る。該段部３３、３４、３５は各側板３１、３２に設け
られた隔壁２０の下側面と連続した平面を形成してい
る。On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 4, the partition member 3 is provided with steps 33, 34 and 35 below the block body 4 holding the support member 9. The outer end of the bottom surface of the body 4 is configured to project outward. The steps 33, 34, 35 form a plane that is continuous with the lower surface of the partition wall 20 provided on each of the side plates 31, 32.
【００７４】処理槽２内に区画部材３を上方から挿入す
ると、前記区画部材３の段部３３、３４、３５が、前記
各段部２３、２４、２５の上にそれぞれ載置される。When the partition member 3 is inserted into the processing tank 2 from above, the steps 33, 34, and 35 of the partition member 3 are placed on the steps 23, 24, and 25, respectively.
【００７５】段部２３、２４、２５と段部３３、３４、
３５の間にはシール部材２６が介挿され、上下方向に密
着した区画部材３と処理槽２は各段部において液密に接
触し固定される。このような、各段部の接触によって、
上下に隣接する処理室の液流通は阻止され、各処理室間
の濃度勾配が確実に保たれることとなる。The steps 23, 24, 25 and the steps 33, 34,
A sealing member 26 is interposed between the members 35, and the partition member 3 and the processing tank 2 closely contacted in the vertical direction are liquid-tightly contacted and fixed at each step. By such contact of each step,
The liquid flow in the vertically adjacent processing chambers is prevented, and the concentration gradient between the processing chambers is reliably maintained.
【００７６】このように、区画部材３と処理槽２との間
のシール圧が、上下方向に向けられているため、狭幅の
通路を歪める方向に圧力が加わることがなく、ブレード
１５の接触圧が高まることもない。As described above, since the sealing pressure between the partition member 3 and the processing tank 2 is directed in the vertical direction, no pressure is applied in a direction to distort the narrow passage, and the contact of the blade 15 is prevented. No pressure builds up.
【００７７】つぎに、図８および図９に示されている第
２の構成例について説明する。この構成例では、区画部
材３と処理槽２との間における、処理室６Ａ〜６Ｅ間の
液流通の遮断は、処理室６Ａ〜６Ｅの間で区画部材３側
に取り付けられたシール手段３６によってなされる。本
構成例のシール手段３６は通路７１〜７４に設けられて
いるブレードと同様の構成であって、構成材料も同様の
ものとしてよい。図９に示されているように、区画部材
３に取り付けられた前記シール手段３６は、支持部材９
の下側のブロック体４から左右の隔壁２０に渡って連続
的に取り付けられている。Next, a second configuration example shown in FIGS. 8 and 9 will be described. In this configuration example, the liquid flow between the processing chambers 6A to 6E between the partition member 3 and the processing tank 2 is blocked by the sealing means 36 attached to the partition member 3 between the processing chambers 6A to 6E. Done. The sealing means 36 of this configuration example has the same configuration as the blades provided in the passages 71 to 74, and the constituent material may be the same. As shown in FIG. 9, the sealing means 36 attached to the partition member 3
From the lower block body 4 to the left and right partitions 20.
【００７８】処理槽２の形状は、前記第１の構成例と同
様に側壁２１、２２は所定の角度でテーパーとなってお
り、図８に示されているように、側面視では垂直な矩形
状となっている。The shape of the processing tank 2 is such that the side walls 21 and 22 are tapered at a predetermined angle as in the first configuration example, and as shown in FIG. It has a shape.
【００７９】このような処理槽２内に区画部材３を挿入
すると、区画部材３は、前記シール手段３６の先端を処
理槽２内の内壁に接触させながら下降し、処理槽２内に
収容される。When the partition member 3 is inserted into the processing tank 2, the partition member 3 descends while the tip of the sealing means 36 contacts the inner wall of the processing tank 2, and is stored in the processing tank 2. You.
【００８０】この場合、ブレードからなるシール手段３
６と処理槽２との接触角度は、３０〜７０°程度でよ
い。また、シール手段３６の処理槽内壁との接触圧は、
その反力によって前記狭幅通路が湾曲し、ブレード１５
の接触圧が増大しない程度の圧力であって、かつ十分な
シール効果が発揮できるものであることが望ましい。具
体的には、０．１〜６kg／cm2 程度でよく、より好まし
くは０．３〜２kg／cm2程度であるとよい。この程度で
あればブレード１５の接触圧の上昇は生じないからであ
る。In this case, the sealing means 3 comprising a blade
6 and the processing tank 2 may have a contact angle of about 30 to 70 °. Also, the contact pressure of the sealing means 36 with the inner wall of the processing tank is:
The reaction force causes the narrow passage to bend, and the blade 15
It is desirable that the pressure is such that the contact pressure does not increase and that a sufficient sealing effect can be exhibited. Specifically, better at about 0.1~6kg / cm 2, may more preferably at about 0.3~2kg / cm 2. This is because the contact pressure of the blade 15 does not increase at this level.
【００８１】特に、本構成例では、シール手段３６は、
ブレード１５を支持する支持部材９の下側に位置するた
め、例え接触圧が大きすぎて通路の湾曲が生じても支持
部材９とは別個に変形するため、ブレード１５の接触圧
が高まることはない。従って、本構成例においては、シ
ール手段３６として、低接触圧で十分なシール効果が発
揮できるブレードを用いているが、本構成例のような前
記位置にシール手段が設けられていれば、高い接触圧を
要するシール手段であってもブレード１５の接触圧の上
昇を防止することはできる。また、上記シール手段３６
は、処理槽２の内壁側に設けてあっても同様の効果を得
ることは可能である。In particular, in this configuration example, the sealing means 36
Since it is located below the support member 9 that supports the blade 15, even if the contact pressure is too large and the passage is curved, it deforms separately from the support member 9, so that the contact pressure of the blade 15 may not increase. Absent. Therefore, in the present configuration example, a blade capable of exhibiting a sufficient sealing effect with a low contact pressure is used as the sealing means 36, but if the sealing means is provided at the position as in the present configuration example, it is high. Even if the sealing means requires a contact pressure, it is possible to prevent the contact pressure of the blade 15 from increasing. Further, the sealing means 36
The same effect can be obtained even if is provided on the inner wall side of the processing tank 2.
【００８２】なお、このような第２の構成例の他の構造
は、上記第１の構成例と同様である。The other structure of the second configuration example is the same as that of the first configuration example.
【００８３】次に、図１０、図１１および図１２に示さ
れている、第３の構成例について説明する。本構成例に
おいては、区画部材３の各処理室６Ａ〜６Ｅを構成する
部分には外部材５を外側からそれぞれ別個に固定し、各
処理室６Ａ〜６Ｅを画成する構造となっている。本構成
例では、区画部材３側に、底板３７と、前記構成例にお
ける処理槽２の側壁２１、２２に相当する側壁材２１
２、２２２が、既に固定されている。外部材５は、ボル
トまたは他の固着手段によって、着脱自在に区画部材３
に固定される。そして、外部材５の区画部材３側の面に
は、外部材５の外端辺に沿ってシール部材５１が埋設さ
れており、区画部材３への装着時には、外部への液漏れ
を防止する。シール部材５１の材質は、既に述べたシー
ル部材９６と同様のものであってよい。このように、各
外部材５を別個に取り付ける構造とすれば、各処理室６
Ａ〜６Ｅ間の液流通は狭幅通路を介して行なわれるもの
に限られ、他の部分の液漏れによる液流通はなくなる。
また、シール性が維持される程度に締め付ければよく、
支持部材９の変形による狭幅通路の湾曲や、その湾曲に
よるブレード接触圧の上昇も少ない。なお、外部材５の
固定手段は、図１３に示されるように、区画部材３側の
側壁材２１２、２２２の端部にフランジ状の係合部２１
３、２２３を設け、外部材５の前記係合部２１３、２２
３に対向する端辺には、外側から着脱自在に前記係合部
２１３、２２３と係合する係合手段５２を回動自在に設
けた構造としてもよい。このような構造とすることによ
って、外部材５の着脱を極めて容易かつ迅速にすること
ができる。例えば、処理室内でジャミングが生じた場合
には、詰った処理室の外部材５のみを取り外して感材を
取り除くことができ、さらにこの際、他の処理室の処理
液を取り除くことなく、かつその処理液濃度を維持した
まま、事故処理ができるといった利点がある。Next, a third configuration example shown in FIGS. 10, 11 and 12 will be described. In the present configuration example, the outer member 5 is separately fixed to the portion constituting the processing chambers 6A to 6E of the partition member 3 from the outside, and the processing chambers 6A to 6E are defined. In the present configuration example, on the partition member 3 side, a bottom plate 37 and a side wall material 21 corresponding to the side walls 21 and 22 of the processing tank 2 in the above configuration example.
2, 222 are already fixed. The outer member 5 is detachably attached to the partition member 3 by bolts or other fixing means.
Fixed to A sealing member 51 is buried along the outer end side of the outer member 5 on the surface of the outer member 5 on the side of the partition member 3, and prevents liquid leakage to the outside when mounted on the partition member 3. . The material of the seal member 51 may be the same as that of the seal member 96 described above. As described above, if each outer member 5 is configured to be separately attached, each processing chamber 6
The liquid circulation between A to 6E is limited to that performed through the narrow passage, and the liquid circulation due to leakage of liquid in other portions is eliminated.
Also, it may be tightened to the extent that the sealing property is maintained,
The curvature of the narrow passage due to the deformation of the support member 9 and the rise of the blade contact pressure due to the curvature are small. As shown in FIG. 13, the fixing means of the outer member 5 includes a flange-shaped engaging portion 21 at the end of the side wall members 212 and 222 on the partitioning member 3 side.
3 and 223, and the engaging portions 213 and 22 of the outer member 5 are provided.
A structure in which an engaging means 52 for detachably engaging with the engaging portions 213 and 223 from the outside is rotatably provided on an end side opposed to 3. With such a structure, attachment and detachment of the outer member 5 can be made extremely easy and quick. For example, when jamming occurs in the processing chamber, the photosensitive material can be removed by removing only the outer member 5 of the clogged processing chamber, and at this time, without removing the processing liquid in the other processing chambers, and There is an advantage that accident processing can be performed while maintaining the processing solution concentration.
【００８４】次に、感光材料処理装置１の使用法および
動作について説明する。Next, the usage and operation of the photosensitive material processing apparatus 1 will be described.
【００８５】感光材料Ｓの処理を開始するに際して、給
液口１３から水洗水Ｗが供給され、処理室６Ａ〜６Ｅお
よび狭幅の通路７１〜７４には水洗水Ｗが満たされる。When the processing of the photosensitive material S is started, washing water W is supplied from the liquid supply port 13, and the processing chambers 6A to 6E and the narrow passages 71 to 74 are filled with the washing water W.
【００８６】感光材料Ｓが搬入され、ブレード１５に感
光材料Ｓが通ると、ブレード１５の間に隙間ができ、水
洗水Ｗを補充すれば少量の液流通が生ずる。When the photosensitive material S is carried in and the photosensitive material S passes through the blade 15, a gap is formed between the blades 15, and a small amount of liquid flows when the washing water W is replenished.
【００８７】この場合の流量は、感光材料Ｓの通過によ
って生じたブレード１５の隙間によって規定される。そ
して、この補充時には、排液管１４から補充量とほぼ同
量のオーバーフロー液ＯＦが排出される。The flow rate in this case is defined by the gap between the blades 15 generated by the passage of the photosensitive material S. At the time of this replenishment, the overflow liquid OF having substantially the same amount as the replenishment amount is discharged from the drain pipe 14.
【００８８】一方、感光材料Ｓは、図中矢印で示すよう
に、処理室６Ａ、６Ｂ、６Ｃ、６Ｄ、６Ｅの順に搬送さ
れる。従って、水洗水Ｗの流れ方向は、感光材料Ｓの搬
送方向と逆方向（カウンターフロー）である。これによ
っても水洗効率は向上する。そして、処理が終了し、感
光材料Ｓが処理室６Ｅの上方の通路７６外へ搬出される
と、これと同時に水洗水Ｗの補充は停止される。On the other hand, the photosensitive material S is transported in the order of the processing chambers 6A, 6B, 6C, 6D and 6E, as indicated by arrows in the figure. Therefore, the flow direction of the rinsing water W is opposite to the direction in which the photosensitive material S is conveyed (counter flow). This also improves the washing efficiency. When the processing is completed and the photosensitive material S is carried out of the passage 76 above the processing chamber 6E, the replenishment of the washing water W is stopped at the same time.
【００８９】このような場合、感光材料Ｓに付着した薬
剤の前浴からの持ち込み等に起因する各処理室６Ａ〜６
Ｅにおける水洗水Ｗの汚れの度合は、ブレード１５のス
クイズ効果により、前の処理室から後の処理室への持ち
込みが極めて少なくなることから、またブレード１５の
液の遮断性が極めて大きいことから、さらには上記のよ
うにカウンターフローで水洗水Ｗが供給されることか
ら、処理室６Ａで大きく、処理室６Ｂ、６Ｃ、６Ｄ、６
Ｅと次第に小さくなり、そして、このような各処理室６
Ａ〜６Ｅにおける液組成勾配は極めて良好に維持され
る。In such a case, each of the processing chambers 6A to 6A is caused by bringing in the chemicals attached to the photosensitive material S from the previous bath.
The degree of contamination of the rinsing water W in E is because the squeeze effect of the blade 15 reduces the carry-in from the preceding processing chamber to the subsequent processing chamber, and also the blade 15 has a very high liquid blocking property. Further, since the washing water W is supplied by the counter flow as described above, the washing water W is large in the processing chamber 6A and is large in the processing chambers 6B, 6C, 6D, 6D.
E, and each such processing chamber 6
The liquid composition gradient in A to 6E is very well maintained.
【００９０】従って、水洗効率が格段と向上し、補充量
を大幅に減少することができる。ブレード１５の作用に
よる処理室の濃度勾配やスクイズ効果によって、補充量
は、従来に比べて３０〜８０％程度の補充量に低減でき
る。このような、少ない補充量としても水洗不良などに
よるステインの発生は全くない。Therefore, the washing efficiency is remarkably improved, and the replenishing amount can be greatly reduced. The replenishing amount can be reduced to about 30 to 80% of the replenishing amount as compared with the related art due to the concentration gradient and the squeeze effect of the processing chamber due to the action of the blade 15. Even with such a small amount of replenishment, there is no generation of stain due to poor washing.
【００９１】さらに、感光材料Ｓの非通過時（非処理
時）には、ブレード１５によって隣接処理室間での水洗
水Ｗの流通が遮断され、水洗水Ｗの混合はほとんど生じ
ることはない。この結果、処理を長期にわたり休止し、
その後再開するような場合においても、直ちに効率のよ
い水洗処理を行なうことができる。Further, when the photosensitive material S does not pass through (is not processed), the blade 15 blocks the flow of the washing water W between the adjacent processing chambers, and the mixing of the washing water W hardly occurs. As a result, processing is paused for a long time,
Even in the case of restarting thereafter, efficient water washing can be performed immediately.
【００９２】上記における補充のタイミングや補充量の
制御は、公知の制御方式および手段を用いて行なえばよ
い。The replenishment timing and replenishment amount control described above may be performed by using a known control method and means.
【００９３】以上では、本発明の感光材料処理装置を水
洗処理装置に適用した例を挙げて説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、種々の処理に適用する
ことができる。In the above, an example in which the photosensitive material processing apparatus of the present invention is applied to a rinsing processing apparatus has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to various processing.
【００９４】なお、感材中の不要物質を洗い出す機能を
有する処理（例えば、安定、定着、調整、反転等）につ
いては前記水洗処理装置と同様の構成とすればよい。The processing (for example, stabilization, fixing, adjustment, reversal, etc.) having a function of washing out unnecessary substances in the photosensitive material may have the same structure as that of the above-mentioned water washing processing apparatus.
【００９５】本発明の感光材料処理装置では、機能の異
なる２種以上の処理液をそれぞれ異なる処理室から供給
して処理することも可能である。本発明の感光材料処理
装置は、上記の他、現像処理や、漂白、定着、漂白定着
の単独処理等、種々の処理に適用することができ、この
とき、液の給排液管等を適宜選択することにより処理液
の流れを変えて使用することができる。In the photosensitive material processing apparatus of the present invention, two or more processing solutions having different functions can be supplied from different processing chambers for processing. In addition to the above, the photosensitive material processing apparatus of the present invention can be applied to various processing such as development processing, bleaching, fixing, and bleach-fixing alone processing. By selecting, the flow of the processing solution can be changed and used.
【００９６】一般に、現像液、漂白液、漂白定着液、定
着液のような感材中のハロゲン化銀等と反応する化合物
を含む処理液では、前記水洗水と異なり、処理液の流れ
は、感光材料Ｓの搬送方向と同方向（パラレルフロー）
となるようにするのが処理効率の向上にとって好まし
い。なお、定着機能を有する処理液については、前述し
たように、感材中の不要物質の洗い出し効果もあるた
め、処理液の流れを感光材料Ｓの搬送方向と逆方向（カ
ウンターフロー）としてもよい。Generally, in a processing solution containing a compound which reacts with silver halide or the like in a light-sensitive material such as a developer, a bleaching solution, a bleach-fixing solution, and a fixing solution, unlike the washing water, the flow of the processing solution is as follows. The same direction as the conveying direction of the photosensitive material S (parallel flow)
It is preferable to improve the processing efficiency. As described above, the processing liquid having the fixing function also has an effect of washing out unnecessary substances in the photosensitive material, and therefore, the flow of the processing liquid may be set to a direction opposite to the conveying direction of the photosensitive material S (counter flow). .
【００９７】本発明において用いる水洗水、安定液、黒
白現像液、発色現像液、漂白液、定着液、漂白定着液、
停止液、調整液、反転液等の種々の処理液は、公知のい
ずれのものであってもよく、これら処理液の詳細につい
ては、日本写真学会編「写真工学の基礎」コロナ社刊
（昭和５４年）Ｐ２９９「第４章現像処理」等の記載を
参照することができる。Washing water, stabilizing solution, black-and-white developer, color developing solution, bleaching solution, fixing solution, bleach-fixing solution,
Various processing solutions such as a stop solution, an adjusting solution, and a reversing solution may be any of known solutions. For details of these processing solutions, refer to “Basics of Photographic Engineering” edited by The Photographic Society of Japan, published by Corona Co., Ltd. (Showa 1954), p. 299, "Chapter 4 Development Processing", etc. can be referred to.
【００９８】本発明の感光材料処理装置において、処理
対象とされる感光材料の種類は特に限定されず、カラー
および黒白感光材料のいずれであってもよい。例えば、
カラーネガフィルム、カラー反転フィルム、カラーポジ
フィルム、カラー印画紙、カラー反転印画紙、製版用写
真感光材料、Ｘ線写真感光材料、黒白ネガフィルム、黒
白印画紙、マイクロ用感光材料等が挙げられる。In the light-sensitive material processing apparatus of the present invention, the type of light-sensitive material to be processed is not particularly limited, and may be either color or black-and-white light-sensitive material. For example,
Examples thereof include a color negative film, a color reversal film, a color positive film, a color photographic paper, a color reversal photographic paper, a photographic light-sensitive material for plate making, an X-ray photographic light-sensitive material, a black-and-white negative film, a black-and-white photographic paper, and a photosensitive material for micro.
【００９９】本発明の感光材料処理装置は、例えば、自
動現像機、携帯型ネガ現像機、湿式の複写機、プリンタ
ープロセッサー、ビデオプリンタープロセッサー、写真
プリント作成コインマシーン、検版用カラーペーパー処
理機等の各種感光材料処理装置に適用することができ
る。The photosensitive material processing apparatus of the present invention includes, for example, an automatic developing machine, a portable negative developing machine, a wet type copier, a printer processor, a video printer processor, a photo print making coin machine, and a color paper processing machine for plate inspection. Can be applied to the various photosensitive material processing apparatuses.
【０１００】以上、本発明の構成例を例示して説明した
が、本発明は、これらに限定されるものではない。As described above, the configuration examples of the present invention have been exemplified and described, but the present invention is not limited to these.
【０１０１】[0101]
【発明の効果】本発明の感光材料処理装置によれば、各
処理室間に処理液の液組成勾配が形成され、しかも、こ
の液組成勾配が維持され、かつ、常時補充液の必要な液
流通を確保できるといった利点があり、各処理室間の液
流通を遮断しつつ、ブレードの接触圧を適正なものに保
つことができる。その結果、ブレードの接触圧等の上昇
によるジャミング事故や、処理ムラなどの発生を防止す
ることができる。According to the light-sensitive material processing apparatus of the present invention, a liquid composition gradient of the processing liquid is formed between the processing chambers, and the liquid composition gradient is maintained, and a liquid requiring a replenishment liquid at all times is maintained. There is an advantage that the circulation can be ensured, and the contact pressure of the blade can be maintained at an appropriate level while blocking the liquid circulation between the processing chambers. As a result, it is possible to prevent a jamming accident due to an increase in the contact pressure of the blade or the like, and the occurrence of processing unevenness or the like.
【図１】本発明の感光材料処理装置の第１の構成例を示
す断面側面図である。FIG. 1 is a sectional side view showing a first configuration example of a photosensitive material processing apparatus of the present invention.
【図２】図１中のII−II線での断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.
【図３】図１中のIII −III 線での断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.
【図４】支持部材の取付構造を示す区画部材の部分斜視
図である。FIG. 4 is a partial perspective view of a partition member showing a mounting structure of a support member.
【図５】ブレードの構成例を拡大して示す側面断面図で
ある。FIG. 5 is an enlarged side sectional view showing a configuration example of a blade.
【図６】ブレードと異なる液流通の遮断手段を示す側面
断面図である。FIG. 6 is a side sectional view showing a liquid flow blocking unit different from a blade.
【図７】本発明の感光材料処理装置における第１領域お
よび第２領域を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a first region and a second region in the photosensitive material processing apparatus of the present invention.
【図８】本発明の感光材料処理装置の第２の構成例を示
す断面側面図である。FIG. 8 is a sectional side view showing a second configuration example of the photosensitive material processing apparatus of the present invention.
【図９】第２の構成例における支持部材およびシール手
段の取付構造を示す区画部材の部分斜視図である。FIG. 9 is a partial perspective view of a partition member showing a mounting structure of a support member and a sealing means in a second configuration example.
【図１０】本発明の感光材料処理装置の第３の構成例を
示す断面側面図である。FIG. 10 is a sectional side view showing a third configuration example of the photosensitive material processing apparatus of the present invention.
【図１１】図１０中のXI−XI線での断面図である。11 is a sectional view taken along line XI-XI in FIG.
【図１２】第３の構成例における外部材の状態を示す区
画部材の部分斜視図である。FIG. 12 is a partial perspective view of a partition member showing a state of an outer member in a third configuration example.
【図１３】外部材の取り付け手段の他の構成例を示す区
画部材の部分斜視図である。FIG. 13 is a partial perspective view of a partition member showing another configuration example of the attaching means of the outer member.
１ 感光材料処理装置 ２ 処理槽 ２１、２２ 側壁 ２１２、２２２ 側壁材 ２１３、２２３ 係合部 ２３、２４、２５段部 ２６ シール部材 ３ 区画部材 ３１、３２ 側板 ３３、３４、３５段部 ３６ シール手段 ３７ 底板 ４ ブロック体 ４１ 収容部 ５ 外部材 ５１ シール部材 ５２ 係合手段 ６Ａ〜６Ｅ 処理室 ７１〜７６ 通路 ８ 搬送ローラ ８１ 回転軸 ８２ 主軸 ８３、８４ ベベルギア ８５ ギア ９ 支持部材 ９０ スリット部 ９１ａ、９１ｂ 取付部材 ９４ａ、９４ｂ 側部材 ９５ 突出部 ９６ シール部材 １０ａ ガイド １０ｂ 反転ガイド １１ 給液路 １２ 排液路 １３ 給液管 １４ 排液管 １５ ブレード １７ 仕切部材 １７１、１７２ 端部 １８ 第１領域 １９ 第２領域 ２０ 隔壁 Ｓ 感光材料 Ｗ 水洗水 ＯＦ オーバーフロー液 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photosensitive material processing apparatus 2 Processing tank 21, 22 Side wall 212, 222 Side wall material 213, 223 Engaging part 23, 24, 25 step part 26 Seal member 3 Partition member 31, 32 Side plate 33, 34, 35 step part 36 Sealing means 37 Bottom plate 4 Block body 41 Housing part 5 Outer member 51 Seal member 52 Engagement means 6A to 6E Processing chamber 71 to 76 Passage 8 Transport roller 81 Rotary shaft 82 Main shaft 83, 84 Bevel gear 85 Gear 9 Support member 90 Slit portions 91a, 91b Mounting member 94a, 94b Side member 95 Projection 96 Sealing member 10a Guide 10b Reverse guide 11 Liquid supply path 12 Drainage path 13 Liquid supply pipe 14 Drainage pipe 15 Blade 17 Partition member 171, 172 End 18 First area 19th 2 area 20 Partition wall S Photosensitive material W Rinse water OF Overflow liquid
Claims (3)
されて、上下方向に連設された複数の処理室を形成する
区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理室間を連
結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前記狭幅通
路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、前記通路
内における処理液の流通を実質的に遮断するブレードを
設けた感光材料処理装置であって、前記処理槽の内壁に
は、前記区画部材の連設する処理室の間で上下方向に液
密に密着する段部を形成し、該段部の密着部分において
上下に隣接する処理室間の液流通が遮断されることを特
徴とする感光材料処理装置。1. A processing tank, a partition member removably housed in the processing tank to form a plurality of processing chambers connected in a vertical direction, and a partition member provided in the partition member. A narrow passage connecting the processing chamber and the narrow passage, the processing liquid is filled in the processing chamber and the narrow passage, and a blade substantially blocking the flow of the processing liquid in the passage is provided in the narrow passage. A photosensitive material processing apparatus provided, wherein an inner wall of the processing tank is formed with a vertically tight liquid-tight step between processing chambers connected to the partitioning member, and a contact portion of the step is formed. Wherein the liquid flow between vertically adjacent processing chambers is shut off.
されて、上下方向に連設された複数の処理室を形成する
区画部材と、該区画部材内に設けられ前記処理室間を連
結する狭幅通路とを有し、前記処理室および前記狭幅通
路内には処理液を満たし、前記狭幅通路内に、前記通路
内における処理液の流通を実質的に遮断するブレードを
設けた感光材料処理装置であって、連設する処理室間に
おいて、区画部材と処理槽の間には低接触圧で液遮断性
の良いシール手段が介設されていることを特徴とする感
光材料処理装置。2. A processing tank, a partition member removably housed in the processing tank to form a plurality of processing chambers connected in a vertical direction, and a plurality of processing chambers provided in the partition member. A narrow passage connecting the processing chamber and the narrow passage, the processing liquid is filled in the processing chamber and the narrow passage, and a blade substantially blocking the flow of the processing liquid in the passage is provided in the narrow passage. A photosensitive material processing apparatus provided, wherein a sealing means having a low contact pressure and a good liquid blocking property is interposed between the partition member and the processing tank between the processing chambers connected in series. Material processing equipment.
部材とを有し、 該外部材は、外側から前記区画部材に液密に取り付けら
れて前記狭幅通路に連結する複数の処理室を画成し、 前記複数の処理室と、該処理室を連結する前記狭幅通路
内に処理液を満たし、 前記狭幅通路内に、前記通路内における処理液の流通を
実質的に遮断するブレードを設けたことを特徴とする感
光材料処理装置。3. A plurality of treatments comprising a partition member having a narrow passage therein and an outer member, wherein the outer member is liquid-tightly attached to the partition member from outside and connected to the narrow passage. Defining a chamber, filling the plurality of processing chambers and the processing liquid in the narrow passage connecting the processing chambers, and substantially blocking the flow of the processing liquid in the passage in the narrow passage. A photosensitive material processing apparatus, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6906291A JP2696762B2 (en) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | Photosensitive material processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6906291A JP2696762B2 (en) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | Photosensitive material processing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04281452A JPH04281452A (en) | 1992-10-07 |
| JP2696762B2 true JP2696762B2 (en) | 1998-01-14 |
Family
ID=13391710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6906291A Expired - Fee Related JP2696762B2 (en) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | Photosensitive material processing equipment |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2696762B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6702485B2 (en) | 2001-05-16 | 2004-03-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus and pleated cartridge filter |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP6906291A patent/JP2696762B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04281452A (en) | 1992-10-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070919 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919 Year of fee payment: 13 |
|
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