JP2696276B2 - Apparatus and method for polishing circular member, columnar or cylindrical member, and material to be rolled - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、圧延用ロール等の円形
部材の研磨装置及び方法さらに円形部材及び被圧延材に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and method for polishing a circular member such as a roll for rolling, and more particularly to a circular member and a material to be rolled.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来の円形部材の研磨装置は、大きく分
けて以下の３つのものがあった。１つは研削を主目的と
するバイトを用いた旋盤加工である。２つめは回転砥石
を用いた円筒研削及び円筒研磨である（特開昭６１−７
１９５３号公報、特開平１−１９９７０５号公報）。３
つめは特に小物品で真円度の優れたセンタレス加工であ
る。2. Description of the Prior Art Conventional circular member polishing apparatuses are roughly classified into the following three types. One is lathe processing using a cutting tool mainly for grinding. The second is cylindrical grinding and cylindrical polishing using a rotary grinding wheel (Japanese Patent Laid-Open No. 61-7 / 1986).
1953, JP-A-1-199705). 3
The nail is a centerless processing with excellent roundness especially for small articles.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、いず
れも研磨装置のガタや振動などが加工精度を低下させ、
特に真円度の低下や送りマーク等の加工傷を発生させて
いた。ここで、真円度とは円形部材の円形外表面の最外
径と最小径との差を言い、小さいほど真円度は優れてい
ることになる。すなわち真円度が優れていると前記外表
面の周方向うねりが小さいことになる。最も一般的に用
いられる回転砥石による円形部材の研磨においては、被
研磨物と回転砥石の軸が、いずれも固定されているの
で、回転砥石の動バランスの不完全による砥石振れ、ま
た主軸及び砥石軸のベアリングのガタ、更にスライドテ
ーブルのガタ等が真円度を低下させ、また送りマーク等
の加工傷を生じさせる原因となっていた。In each of the above prior arts, the play accuracy and the vibration of the polishing apparatus reduce the processing accuracy,
In particular, the roundness has been reduced and processing marks such as feed marks have been generated. Here, the circularity refers to the difference between the outermost diameter and the minimum diameter of the circular outer surface of the circular member, and the smaller the smaller, the better the circularity. That is, when the roundness is excellent, the circumferential undulation of the outer surface is small. In the most commonly used grinding of a circular member by a rotating grindstone, since the object to be polished and the axis of the rotating grindstone are both fixed, the grinding wheel swings due to imperfect dynamic balance of the rotating grindstone, and the main spindle and the grindstone. The backlash of the shaft bearing, the backlash of the slide table, etc., have reduced roundness and have caused processing flaws such as feed marks.

【０００４】特に被研磨物が硬質になつた場合には、研
磨面圧が高くなり、前記のような不良現象は増加する傾
向にあった。また回転砥石による円形部材の研磨では、
研磨時間が長くなると砥石の切れが悪くなったり、砥石
の偏摩耗が起こるため、かじり等による加工傷が発生し
ていた。そのため、所定時間毎に砥石の目立て等を行な
ったり、また熟練した作業者のみが加工するといった作
業性低下の原因となっていた。例えば従来の回転砥石を
用いた研磨では真円度は１〜２μｍ程度であり、送りマ
ークを完全に除去することは困難であった。[0004] In particular, when the object to be polished becomes hard, the polishing surface pressure increases, and the above-mentioned defective phenomenon tends to increase. In addition, when polishing a circular member with a rotating grindstone,
If the polishing time is long, the cutting of the grindstone becomes worse or uneven wear of the grindstone occurs, so that a processing scratch due to galling or the like has been generated. For this reason, the workability is reduced, such as dressing of the grindstone at predetermined time intervals, and processing by only skilled workers. For example, in the case of polishing using a conventional rotary grindstone, the roundness is about 1 to 2 μm, and it has been difficult to completely remove the feed mark.

【０００５】本発明の目的は、研磨装置のガタや振動、
また砥石の切れ味の低下等による加工精度の低下を本質
的に改善し、真円度に優れ即ち円形部材の外表面の周方
向うねりが小さく、送りマーク等の加工傷の少ない円形
部材の研磨装置及び方法、更に円形部材及び被圧延材を
提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a polishing apparatus with a play and vibration,
In addition, a polishing device for a circular member, which essentially improves a reduction in processing accuracy due to a decrease in sharpness of a grindstone, has excellent roundness, that is, has a small circumferential undulation on the outer surface of the circular member, and has few processing scratches such as feed marks. And a method, and further provide a circular member and a material to be rolled.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、円柱又は円筒状被研磨物を円周方向に回
転させる駆動装置と、該被研磨物の円周面に押し当てら
れる当て物と、この当て物を前記被研磨物に押し当てる
押圧手段と、研磨剤を含むスラリーを前記被研磨物と当
て物との間に供給するスラリー供給手段とを備え、該当
て物は、被研磨物の研磨面より軟質材で形成されている
ことを特徴とする円形部材の研磨装置である。In order to achieve the above object, the present invention provides a driving device for rotating a cylindrical or cylindrical object to be polished in a circumferential direction, and a driving device for pressing the object to be polished to a circumferential surface thereof. A pad, a pressing unit for pressing the pad against the object to be polished, and a slurry supply unit for supplying a slurry containing an abrasive between the object to be polished and the pad ;
The object to be polished is formed of a softer material than the polished surface of the object to be polished .

【０００７】また、本発明は、円柱又は円筒状の被研磨
物を円周方向に回転させると共に軸方向に平行に往復移
動させる駆動装置と、該被研磨物円周面に押し当てられ
円周面の少なくとも２個所で接触する当て物と、該当て
物を前記被研磨物に押し当てる押圧手段と、研磨砥粒を
含むスラリーを前記被研磨物と当て物との間に供給する
スラリー供給手段とを備え、該当て物は、被研磨物の研
磨面より軟質材で形成されていることを特徴とする円形
部材の研磨装置である。Further, the present invention provides a driving device for rotating a cylindrical or cylindrical object to be polished in the circumferential direction and reciprocating in parallel with the axial direction, and a driving device which is pressed against the circumferential surface of the object to be polished. A patch that contacts at least two points on the surface, a pressing unit that presses the corresponding object against the object to be polished, and a slurry supply unit that supplies a slurry containing abrasive grains between the object to be polished and the object to be polished. Prepare and apply the object to be polished.
A circular member polishing apparatus characterized by being formed of a softer material than a polished surface .

【０００８】前記研磨装置において、当て物は、被研磨
物の半径方向の動きに追従して揺動可能で且つ非回転で
接触しているものがよい。また、当て物は、被研磨物と
の接触面が凹曲面に形成されているものがよい。また前
記当て物は被研磨物の同一円周面上で少なくとも２個所
で接触する構造を有するものがよい。[0008] In the above-mentioned polishing apparatus, it is preferable that the backing object is capable of swinging and following non-rotational contact following the movement of the object to be polished in the radial direction. Further, it is preferable that the contact object has a concave surface in contact with the object to be polished. It is preferable that the abutment has a structure in which the abutment comes into contact with at least two points on the same circumferential surface of the object.

【０００９】前記研磨装置において、押圧手段は、当て
物を保持する保持部と、該保持部を一端に回動自在に支
持する支持棒と、この支持棒の他端に設けられた荷重受
け部と、前記支持棒を中間で支持する支点とを備えたも
のがよい。また、押圧手段は、当て物を保持する保持部
と、該保持部をばね力又は磁気力により付勢する付勢手
段とを備えたものがよい。In the above-mentioned polishing apparatus, the pressing means comprises a holding portion for holding the pad, a support bar for rotatably supporting the holding portion at one end, and a load receiving portion provided at the other end of the support bar. And a fulcrum for supporting the support rod in the middle. Preferably, the pressing means includes a holding portion for holding the pad, and an urging means for urging the holding portion with a spring force or a magnetic force.

【００１０】前記研磨装置において、スラリー供給手段
は、前記被研磨物と当て物との間を連続的にスラリーを
通過させるものがよい。In the above polishing apparatus, it is preferable that the slurry supply means continuously passes the slurry between the object to be polished and the pad.

【００１１】また本発明は、周方向に回転する円柱又は
円筒状被研磨物の円周面に非回転の当て物を押し当てな
がら研磨砥粒を含むスラリーを前記被研磨物と当て物と
の間に供給して研磨すると共に該当て物は、被研磨物の
研磨面より軟質材で形成されていることを特徴とする円
形部材の研磨方法である。Further, according to the present invention, a slurry containing abrasive grains is pressed between the object to be polished and the non-rotating abutment against the circumferential surface of a cylindrical or cylindrical object to be polished rotating in the circumferential direction. While supplying and polishing, the corresponding object is
A method for polishing a circular member, wherein the circular member is formed of a softer material than a polished surface .

【００１２】また本発明は、回転しながら軸方向に平行
に往復移動する円柱又は円筒状の被研磨物の円周面の少
なくとも２個所に当て物を接触させて押圧すると共に、
前記当て物を被研磨物の半径方向の動きに応じて押圧方
向に自在に移動可能にし且つ研磨砥粒を含むスラリーを
前記被研磨物と当て物との間に供給して研磨すると共に
該当て物は、被研磨物の研磨面より軟質材で形成されて
いることを特徴とする円形部材の研磨方法である。ここ
で、前記研磨砥粒を研磨初期に粗く、順次細かい砥粒に
よって研磨するのがよい。また、研磨剤を含むスラリー
を前記被研磨物と当て物との間に連続的に通過させるの
がよい。また、被研磨物の表面を１〜５μｍ削るのがよ
い。Further, according to the present invention, a contact object is brought into contact with and pressed against at least two places on the circumferential surface of a cylindrical or cylindrical object to be polished which reciprocates in an axial direction while rotating.
Said padding with polished supplied between the radial direction of the workpiece slurry containing and abrasive grains to freely movable in the pressing direction depending on the movement and padding of workpiece
Applicable objects are made of softer material than the polished surface of the object
It is a polishing method of a circular member, characterized in that there. Here, it is preferred that the abrasive grains are polished with finer abrasive grains in the initial stage of the polishing process. Further, it is preferable that a slurry containing an abrasive is continuously passed between the object to be polished and the pad. The surface of the object to be polished is preferably shaved by 1 to 5 μm.

【００１３】また本発明はセラミックス焼結体より成
り、外表面の周方向うねりが、０．３μｍ以下に形成さ
れていることを特徴とする円柱状又は円筒状部材であ
る。また本発明は、金属部材より成り、外表面の周方向
うねりが、１μｍ以下に形成されていることを特徴とす
る円柱状又は円筒状部材である。ここで、全長にわたっ
てほぼ同じ研磨面を有するものがよい。また、前記セラ
ミックス又は金属部材は圧延用ロールであるものがよ
い。また、ロール表面は研削条痕の方向性がなくランダ
ムであるものがよい。[0013] The present invention is also a columnar or cylindrical member characterized by being formed of a ceramic sintered body and having a circumferential undulation on the outer surface of 0.3 μm or less. Further, the present invention is a columnar or cylindrical member, which is made of a metal member, and has a circumferential waviness of 1 μm or less on the outer surface. Here, it is preferable that the polishing surface has substantially the same polishing surface over the entire length. The ceramic or metal member is preferably a roll for rolling. Further, it is preferable that the roll surface is random without the directionality of the grinding streak.

【００１４】また本発明は、芯材の外周を外層材で覆っ
た金属圧延用複合ロールにおいて、前記芯材はシヨア硬
さが３５以上で前記外層材より低い硬さを有する低合金
鋼よりなり、前記外層材はショア硬さが８０以上及び残
留オーステナイト量が１５体積％以下のマルテンサイト
組織で、外表面周方向うねりが１μｍ以下、最外表面に
圧縮残留応力を有し、ロール軸方向に凝固した高合金鋼
からなることを特徴とする金属圧延用複合ロールであ
る。The present invention also provides a composite roll for metal rolling in which the outer periphery of a core material is covered with an outer layer material, wherein the core material is made of low alloy steel having a Shore hardness of 35 or more and a lower hardness than the outer layer material. The outer layer material has a martensite structure having a Shore hardness of 80 or more and a retained austenite amount of 15% by volume or less, an outer surface circumferential undulation of 1 μm or less, a compressive residual stress on the outermost surface, and a roll axial direction. A composite roll for metal rolling, comprising a solidified high alloy steel.

【００１５】また本発明は、芯材の外周を外層材で覆っ
た金属圧延用複合ロールにおいて、前記芯材は重量でＣ
０.５〜１.０％、Ｓｉ１％以下、Ｍｎ１％以下、Ｃｒ１
〜５％、Ｍｏ０.５％以下を含み前記外層材より低い硬
さを有する低合金鋼よりなり、前記外層材は重量でＣ
０.５〜１.５％、Ｓｉ０.５〜３.０％、Ｍｎ１.５％以
下、Ｃｒ２〜１０％、Ｍｏ１〜１２％、Ｖ０．５〜２．
０％、Ｗ０.１〜２０％以下を含む高合金鋼からなリロ
ール軸方向に凝固した溶着層で、外表面周方向うねりが
１μｍ以下であることを特徴とする金属圧延用複合ロー
ルである。The present invention also provides a composite roll for metal rolling in which the outer periphery of a core material is covered with an outer layer material, wherein the core material has a weight of C
0.5-1.0%, Si 1% or less, Mn 1% or less, Cr1
-5%, Mo0.5% or less, and is made of a low alloy steel having a lower hardness than the outer layer material, and the outer layer material is C by weight.
0.5 to 1.5%, Si 0.5 to 3.0%, Mn 1.5% or less, Cr 2 to 10%, Mo 1 to 12%, V 0.5 to 2.
A composite roll for metal rolling, characterized in that it is a deposited layer solidified in the reroll axial direction from a high alloy steel containing 0% and W of 0.1 to 20% or less, and has an outer surface circumferential undulation of 1 μm or less.

【００１６】また本発明は、ロール圧延された金属の被
圧延材表面のうねりが０．３μｍ以下に形成されている
ことを特徴とする被圧延材である。According to the present invention, there is provided a material to be rolled, wherein the surface of the material to be rolled of roll-rolled metal has a waviness of 0.3 μm or less.

【００１７】また本発明は、中間ロールあるいは補強ロ
ールの回転駆動により作業ロールが従回転して圧延を行
う圧延機において、前記作業ロールは長尺丸棒状のセラ
ミックス製ロールからなり、該ロール外表面の周方向う
ねりが０.３μｍ以下であり、前記作業ロールの各端面
に接して軸受を配設して前記作業ロールの軸方向の動き
を拘束すると共に、前記作業ロールの圧延方向の前後に
前記作業ロールに接して支持ロールを配設して前記作業
ロールの圧延方向の動きを拘束したことを特徴とする圧
延機である。ここで、中間ロール、補強ロール、作業ロ
ール、支持ロールのうち少なくとも１種のロールにクラ
ウンを設けたものがよい。The present invention is also directed to a rolling mill in which a work roll is driven by a rotation of an intermediate roll or a reinforcing roll to perform rolling, wherein the work roll comprises a long round rod-shaped ceramic roll, and the outer surface of the roll is provided. The circumferential waviness is 0.3 μm or less, and a bearing is arranged in contact with each end face of the work roll to restrain the movement of the work roll in the axial direction. A rolling mill, wherein a support roll is disposed in contact with the work roll to restrain movement of the work roll in the rolling direction. Here, at least one of the intermediate roll, the reinforcing roll, the work roll, and the support roll is preferably provided with a crown.

【００１８】また本発明は、金属溶湯中で軸受に支持さ
れて回転するロールを備えた連続溶融金属メッキ装置に
おいて、前記ロールの軸摺動部及び軸受の摺動部がセラ
ミックス焼結体からなり、前記ロールは金属からなり、
前記ロールの軸摺動部が円筒状セラミックス焼結体が嵌
合しており、該焼結体の外表面うねりが０.３μｍ以下
であることを特徴とする連続溶融金属メッキ装置であ
る。Further, according to the present invention, there is provided a continuous molten metal plating apparatus provided with a roll supported by a bearing in a molten metal and rotating, wherein a shaft sliding portion of the roll and a sliding portion of the bearing are made of a ceramic sintered body. The roll is made of metal,
The continuous molten metal plating apparatus is characterized in that a cylindrical ceramic sintered body is fitted in a shaft sliding portion of the roll, and an outer surface undulation of the sintered body is 0.3 μm or less.

【００１９】また本発明は、金属溶湯中で軸受に支持さ
れて回転するシンクロール及びサポートロールを備えた
連続溶融金属メッキ装置において、前記シンクロール及
びサポートロールの少なくとも一方の前記ロールは金属
からなり、前記ロールの軸摺動部が固体潤滑剤を含む円
筒状セラミックス焼結体が嵌合しており、該焼結体の外
表面うねりが０.３μｍ以下であることを特徴とする連
続溶融金属メッキ装置である。The present invention further comprises a sink roll and a support roll which rotate while being supported by the bearing in the molten metal.
In a continuous molten metal plating apparatus, at least one of the rolls of the sink roll and the support roll is made of metal, and the shaft sliding portion of the roll is fitted a cylindrical ceramic sintered body comprising a solid lubricant A continuous hot-dip metal plating apparatus characterized in that the outer surface of the sintered body has an undulation of 0.3 μm or less.

【００２０】[0020]

【作用】回転する被研磨物と当て物との間に、研磨材を
含むスラリーを通過させて研磨するので、すなわち研磨
材が流動状態にあって固定されていないため、該研磨材
が多方向に自由度をもって動くことができ研削条痕が発
生しにくい。従って従来の回転砥石で見られたような円
周方向の研磨傷の発生を防止することができる。また研
磨時間の経過による切れ味の低下はなく常に一定の切れ
味を保つことができ、場所による研磨むらや研磨傷の発
生を防止することができる。スラリーに含まれる前記研
磨材の種類としては、ＳｉＣ、Ａｌ₂Ｏ₃、炭化珪素等の
セラミックス粉体やダイヤ等が挙げられるが、被研磨物
を研磨できる硬さのものであればよい。粒径は１００μ
m以下、望ましくは２０μm以下がよい。スラリーにする
ため溶媒としては水がよい。防錆剤分散材を添加しても
よい。Since the slurry containing the abrasive is passed between the rotating object to be polished and the abrading object to be polished, that is, since the abrasive is in a flowing state and is not fixed, the abrasive is diverted in multiple directions. It can move with a high degree of freedom and grinding streaks are less likely to occur. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of polishing scratches in the circumferential direction as seen with the conventional rotary grindstone. Further, the sharpness does not decrease due to the elapse of the polishing time, and a constant sharpness can be maintained at all times, and uneven polishing and scratches due to polishing can be prevented depending on the location. Examples of the type of the abrasive contained in the slurry include ceramic powders such as SiC, Al ₂ O ₃ , and silicon carbide, diamonds, and the like. Particle size is 100μ
m or less, preferably 20 μm or less. Water is preferable as a solvent for forming a slurry. A rust preventive dispersant may be added.

【００２１】また、用いる研磨材の粒度や硬度を変える
ことにより、研磨面の面粗度を適宜変えることができ
る。また、前記当て物は、被研磨物より軟質材であるた
め、研磨初期において自然に凹部が形成され、均一に被
研磨物に押し当てられ、片当たり等による研磨傷を防止
することができる。Further, the surface roughness of the polished surface can be appropriately changed by changing the particle size and hardness of the abrasive used. In addition, since the contact object is a softer material than the object to be polished, a concave portion is naturally formed in the initial stage of polishing, and the contact object is uniformly pressed against the object to be polished.

【００２２】更に、前記当て物は、前記被研磨物の回転
及び軸方向トラバース時に発生する振動などによる軸変
位に対して、押し当て圧力一定で追従できる構造である
ため、真円度を向上させ、送りマーク等の研磨傷の発生
を防止することができる。Further, since the abutment has a structure capable of following an axial displacement due to vibration or the like generated during rotation and axial traverse of the object to be polished at a constant pressing pressure, the roundness is improved, The occurrence of polishing scratches such as feed marks can be prevented.

【００２３】更に、本発明に係る円形部材を圧延用ロー
ルとして用いれば、外表面の周方向うねりが小さいた
め、それで圧延された被圧延材の表面に前記うねりがほ
とんど転写されず、いわゆるチャタマークのない被圧延
材に仕上げることができる。Furthermore, when the circular member according to the present invention is used as a rolling roll, the circumferential undulation on the outer surface is small, so that the undulation is hardly transferred to the surface of the material to be rolled. It is possible to finish the rolled material without any.

【００２４】圧延用ロールとしてはサイアロン、ジルコ
ニア、炭化珪素（ＳｉＣ）及び窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）等
からなるセラミックロールや、超硬ロール及びハイスロ
ール等の難研削性メタルからなる金属ロールがある。Examples of the rolling roll include a ceramic roll made of sialon, zirconia, silicon carbide (SiC) and silicon nitride (Si ₃ N ₄ ), and a metal roll made of a hard-to-grind metal such as a super hard roll and a high speed roll. is there.

【００２５】芯材として、Ｃ０.５〜１.０％、Ｓｉ≦１
％、Ｍｎ≦１％、Ｃｒ１〜５％、Ｍｏ≦０.５％を含有
する鍛鋼に以下の成分の外層材をエレクトロスラグ溶
接、遠心鋳造、溶射等によって形成させる。Ｃは耐摩耗
性向上のための炭化物の形成及び基地硬さ確保に必要で
ある。その量が０.５％未満の場合、炭化物量が少な
く、耐摩耗性の点で十分でない。一方Ｃが１.５％を超
えると、粒界に析出する網目状炭化物が増加し耐肌荒性
及び強靭性の点で劣るようになる。特に、０.８〜１.２
％が好ましい。Ｓｉは脱酸剤として必要な元素であり、
０.５％以上有し、また焼戻し抵抗性を高める。しか
し、その量が３.０％を超えると脆化が生じやすくな
る。特に、１〜３％が好ましく、１.５〜２.５％がより
好ましい。Ｍｎは脱酸作用とともに不純物であるＳをＭ
ｎＳとして固定する作用があるが、その量が１.５％を
超えると残留オーステナイトが増え安定して十分な硬さ
を維持できないとともに、靭性が低下する。特に、０.
２〜１.０％が好ましく、０.２〜０.５％がより好まし
い。Ｃｒは２％未満では焼き入れ性に劣り、１０％を超
えるとＣｒ系炭化物が過多となるため不都合である。特
に、３〜７％が好ましく、３.５〜５％がより好まし
い。ＭｏおよびＷはそれぞれＣと結合してＭ₂Ｃあるい
はＭ₅Ｃ系炭化物を生成させ、かつ基地中にも固溶して
基地を強化し耐摩耗性や焼戻し抵抗性を向上させる。し
かし、過剰になるとＭ₆Ｃ系炭化物が増加し靭性及び耐
肌荒性が低下する。Ｍｏ及びＷの上限はそれぞれ１２％
及び２０％であり、Ｗの下限は０．１％以上、Ｍｏの下
限は１％以上とすべきである。Ｍｏはセミハイス鋼が
１.５〜４.５％又はハイスが７〜１０％が好ましく、ま
た、Ｗはセミハイス鋼が０.１〜１％又はハイス鋼が０.
５〜５％が好ましい。ＶはＭＣ系炭化物を形成し耐摩耗
性向上に寄与するが、０.５％未満では十分な効果がな
く、５％を超えると、研削性を著しく阻害する。特に、
０.７〜２.０％が好ましい。Ｃｏは基地に固溶し高温焼
戻して高硬度を得るための元素であるが、５％未満でそ
の効果は不十分である。１５％を超えると靭性が低下す
る。特に６〜１０％が好ましい。特に、外層としてセミ
ハイスは前述のＣ，Ｓｉ，Ｍｎ及びＣｒを含み、Ｗ０.
１〜１％，Ｖ０.５〜２.０％及びＭｏ１〜５％、一方ハ
イスはＷ０.５〜３％，５〜１１％又は１２〜２０％，
Ｍｏ４〜１２％，Ｖ：０.５〜１.５％又は１.５〜５％
と、又はこれらの組合せにＣｏ４〜２０％含むことがで
きる。Ｈｏｔ（熱間圧延）を基準に考えた組成では炭化
物量が耐摩耗性と耐焼付性を考えるので、炭化物量が多
くなっている。そして、この炭化物量が多いほど研削で
仕上げしづらくなり、靭性も低く、冷間作業ロールのよ
うに高い局部圧力に耐えられなくなる。そのため、冷間
作業ロールの合金組成としては耐摩耗性を損わない程度
まで炭化物量（炭素量）を少なくし、マトリックスの強
化（マルテンサイト特に焼戻しマルテンサイト）で局部
圧（圧延圧力）に耐えるようにしている。このマトリッ
クス強化としてＣｏは有効であり、高い硬度が得られ
る。なお、本発明の外層に用いる高合金鋼はＮｉ５％以
下含むことができる。As the core material, C 0.5-1.0%, Si ≦ 1
%, Mn ≦ 1%, Cr 1-5%, Mo ≦ 0.5%, and an outer layer material having the following components is formed by electroslag welding, centrifugal casting, thermal spraying, or the like. C is necessary for forming carbides for improving wear resistance and for securing the base hardness. If the amount is less than 0.5%, the amount of carbide is small, and the wear resistance is not sufficient. On the other hand, if C exceeds 1.5%, the amount of reticulated carbides precipitated at the grain boundaries increases, resulting in inferior skin resistance and toughness. In particular, 0.8 to 1.2
% Is preferred. Si is an element necessary as a deoxidizing agent,
0.5% or more, and enhances tempering resistance. However, if the amount exceeds 3.0%, embrittlement is likely to occur. In particular, 1 to 3% is preferable, and 1.5 to 2.5% is more preferable. Mn converts the impurity S into M
There is an action of fixing as nS, but if the amount exceeds 1.5%, retained austenite increases and stable and sufficient hardness cannot be maintained, and toughness decreases. In particular, 0.
The content is preferably from 2 to 1.0%, more preferably from 0.2 to 0.5%. If the content of Cr is less than 2%, the hardenability is inferior, and if it exceeds 10%, the amount of Cr-based carbide becomes excessive, which is inconvenient. In particular, 3 to 7% is preferable, and 3.5 to 5% is more preferable. Mo and W combine with C to form M ₂ C or M ₅ C-based carbides, respectively, and also form a solid solution in the matrix to strengthen the matrix and improve wear resistance and tempering resistance. However, when it is excessive, the amount of M ₆ C-based carbide increases, and the toughness and the skin resistance decrease. Mo and W have an upper limit of 12% each
The lower limit of W should be 0.1% or more, and the lower limit of Mo should be 1% or more. Mo is preferably 1.5 to 4.5% of semi-high-speed steel or 7 to 10% of high-speed steel, and W is 0.1 to 1% of semi-high-speed steel or 0.1% of high-speed steel.
5-5% is preferred. V forms an MC-based carbide and contributes to the improvement of wear resistance. However, if it is less than 0.5%, there is no sufficient effect, and if it exceeds 5%, grindability is significantly impaired. Especially,
0.7-2.0% is preferable. Co is an element for forming a solid solution in the matrix and tempering at a high temperature to obtain high hardness, but its effect is insufficient if less than 5%. If it exceeds 15%, the toughness decreases. In particular, 6 to 10% is preferable. In particular, semi-high speed as the outer layer contains the above-mentioned C, Si, Mn and Cr, and W.O.
1-1%, V 0.5-2.0% and Mo 1-5% , while high is W 0.5-3%, 5-11% or 12-20%,
Mo 4 to 12%, V: 0.5 to 1.5% or 1.5 to 5%
Or a combination thereof may contain 4-20% Co. In a composition based on Hot (hot rolling) , the amount of carbide is large because the amount of carbide considers wear resistance and seizure resistance. And, the larger the amount of the carbide, the harder it is to finish by grinding, the lower the toughness, and it cannot withstand a high local pressure like a cold work roll. Therefore, as the alloy composition of the cold work roll, the carbide amount (carbon amount) is reduced to the extent that the wear resistance is not impaired, and the matrix is strengthened (martensite, especially tempered martensite) to withstand the local pressure (rolling pressure). Like that. Co is effective for strengthening the matrix, and high hardness can be obtained. The high alloy steel used for the outer layer of the present invention can contain 5% or less of Ni.

【００２６】[0026]

【実施例】実施例１ 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。図１
は本発明に係る研磨装置の拡大部分側面図、図２は同研
磨装置の概略側面図、図３は同平面図を示す。円形の被
研磨物１が図示しない駆動装置により回転及び軸方向に
往復移動可能に保持されている。駆動装置は、前記往復
移動を繰り返すことにより研磨時間が被研磨物１の全長
にわたってどの部分もほぼ一定となるように形成されて
いる。回転時の周速は１〜１０ｍ／min程度である。こ
の被研磨物１は加工されて圧延用ロール等になるもので
ある。本実施例はセラミックスロールであり、両端に金
属軸２が嵌合されている。Embodiment 1 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG.
Is an enlarged partial side view of the polishing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a schematic side view of the polishing apparatus, and FIG. 3 is a plan view thereof. A circular polishing object 1 is held by a driving device (not shown) so as to be able to rotate and reciprocate in the axial direction. The drive device is formed such that the polishing time becomes substantially constant over the entire length of the workpiece 1 by repeating the reciprocating movement. The peripheral speed during rotation is about 1 to 10 m / min. The polished object 1 is processed into a roll for rolling. This embodiment is a ceramics roll, and a metal shaft 2 is fitted at both ends.

【００２７】その被研磨物１の下面側にＶ字状の当て物
３の２面がが接触している。このＶ字状当て物３は、被
研磨物１より軟質な材料で形成されている。これにより
自然に凹曲面形状の凹部５が形成され、均一に被研磨物
１に押し当てられ、片当たり等による研磨傷を防止する
ことができる。尚、前記凹部は予め形成しておいてもよ
い。前記当て物３は押圧手段の保持部すなわち支持ブロ
ック６内に保持されている。Two surfaces of a V-shaped pad 3 are in contact with the lower surface of the object 1 to be polished. The V-shaped patch 3 is formed of a material softer than the workpiece 1 to be polished. As a result, the concave portion 5 having a concave curved surface shape is formed spontaneously, is uniformly pressed against the workpiece 1, and polishing scratches due to one-side contact or the like can be prevented. Note that the recess may be formed in advance. The pad 3 is held in a holding portion of the pressing means, that is, in a support block 6.

【００２８】前記押圧手段は、当て物３を保持する保持
部すなわち支持ブロック６と、この支持ブロック６を一
端に回動自在に支持する支持棒８と、この支持棒８の他
端に設けられた荷重１０の受け部と、前記支持棒８を中
間で支持する支点９とからなる。従って、支点９を支持
点として支持棒８が揺動できるため、研磨中、被研磨物
１が微小振動しても、当て物３と被研磨物１の接触圧力
はほぼ一定となる。尚、この接触圧力を一定にする手段
としては、前記荷重１０及び支持棒８等に替えてばね力
または磁気力により前記支持ブロック６を直接付勢する
ものであってもよい。支持ブロック６は回転軸７により
支持棒８と結合されており、これにより、前記当て物３
は被研磨物１に対して研磨中のその動きに追従して揺動
するようになっている。従って、前記当て物３は、被研
磨物１の凸凹に応じて押圧方向に自在に移動し、且つ非
回転で接触する。The pressing means is provided at a holding portion for holding the pad 3, that is, a support block 6, a support bar 8 for rotatably supporting the support block 6 at one end, and at the other end of the support bar 8. It comprises a receiving portion for a load 10 and a fulcrum 9 for supporting the support rod 8 in the middle. Therefore, since the support rod 8 can swing about the fulcrum 9 as a support point, the contact pressure between the pad 3 and the object 1 to be polished is substantially constant even if the object 1 to be polished is slightly vibrated during polishing. As a means for making the contact pressure constant, a means for directly biasing the support block 6 by a spring force or a magnetic force instead of the load 10 and the support rod 8 may be used. The support block 6 is connected to a support rod 8 by a rotation shaft 7, whereby the support 3
Swings following the movement of the workpiece 1 during polishing. Therefore, the abutment 3 moves freely in the pressing direction according to the unevenness of the object 1 to be polished, and comes into contact with the object 1 without rotating.

【００２９】前記被研磨物１と当て物３との間に研磨材
を含むスラリー４を供給するスラリー供給手段１１が設
けられている。本実施例では、タンクよりスラリー４を
滴下して連続的に供給できるようになっている。従来の
装置でも真円度を３μｍ程度に仕上げることができるた
め、本発明に係る装置では１〜５μｍ程度削るのがよ
い。この程度の研削により、外表面の周方向平均うねり
が、０．３μｍ以下のセラミックロールを製造すること
ができる。この周方向うねりが０．３μｍ以下であれ
ば、そのロールで圧延された被圧延材表面には０．３μ
ｍ以下の研削条痕しか転写されないため、いわゆるチャ
タマークが生じない。好ましくはうねりは０．１μｍ以
下がよい。表面のうねりが０．３μｍ以下の被圧延材
は、研削条痕がほとんどないため、表面性状が優れてい
る。A slurry supply means 11 for supplying a slurry 4 containing an abrasive is provided between the workpiece 1 and the pad 3. In this embodiment, the slurry 4 can be supplied continuously by dropping the slurry 4 from the tank. Since the roundness can be finished to about 3 μm even with a conventional apparatus, it is preferable to cut about 1 to 5 μm in the apparatus according to the present invention. By such grinding, a ceramic roll having an average circumferential waviness of the outer surface of 0.3 μm or less can be manufactured. If the circumferential waviness is 0.3 μm or less, 0.3 μm is applied to the surface of the material rolled by the roll.
Since only grinding scratches of m or less are transferred, so-called chatter marks do not occur. Preferably, the undulation is 0.1 μm or less. A rolled material having a surface waviness of 0.3 μm or less has excellent surface properties because there are almost no grinding streaks.

【００３０】図３に基づいて、サイアロンセラミックス
製ロ−ル（以下サイアロンロ−ルという）の円筒研磨方
法を説明する。このロールは以下の方法により製造され
たものである。出発原料は、８５wt％ Ｓｉ₃Ｎ₄，７wt
％ Ｙ₂Ｏ₃，５wt％ Ａｌ₂Ｏ₃及び３wt％ ＡｌＮであ
る。これに原料粉に対して１.４wt％のＰＶＢ（ポリビ
ニルブチラール）と４０wt％の工業用メタノールを加え
て、ポットミルで４ｈの湿式混合をしたのち、遠心噴霧
式スプレードライヤーを用いて、平均粒径６５μｍの造
粒粉を得た。成形は冷間静水圧プレスを用いて１００Ｍ
Ｐａの圧力で行った。次に５００℃脱脂炉を用いて成形
体中の樹脂分を除去し仮焼成た後、一次切削加工を施
し、表面粗さを３μｍ程度とし、次いで黒鉛誘導加熱式
の焼成炉内に軸方向に懸垂させて、０.９ＭＰａの加圧
窒素ガス中１７５０℃で焼成を行った。焼成後のサイア
ロンはＳｉ₅.₅Ａｌ₀.₅Ｏ₀.₅Ｎ₇.₅の化学式で示される組
成を持つものである。最後に焼結体を研削、研磨加工し
て所定のロール寸法に仕上げた。このように研削、研磨
加工により真円度がほぼ３μｍに仕上げられた外径４０
mm、長さ５００mmのサイアロンロ−ル１を通常の円筒研
磨装置に両センタ固定でセットする。次いで、このロー
ルより軟らかい巾５０mm、長さ４０mm、厚さ１０mmの窒
化アルミニウム製の当て物３を金属製支持ブロック６に
９０℃の角度で２枚固定する。支持ブロック６は支持棒
８と回転軸７により連結されている。また、支持棒８は
支点９で固定されている。サイアロンロールの硬さは１
６ＧＰａ、当て物の硬さは１３〜１４ＧＰａ、砥粒の炭
化珪素粉の硬さは２４ＧＰａである。研磨は、先づ、サ
イアロンロ−ル１を周速２ｍ／minで回転させた後、ウ
エイト１０を載せて、当て物３をサイアロンロ−ル１に
押し当てる。さらに粒径１５〜２０μｍの炭化ケイ素粉
末と水とのスラリ−４を、サイアロンロ−ル１と当て物
３との接触部に連続的に滴下供給する。さらに、サイア
ロンロ−ルは左右にトラバ−ス移動させる。トラバ−ス
速度は１００mm／min程度がよい。用いる炭化ケイ素ス
ラリ−は、目的の表面粗度に応じて、順に微細にする。
本実施例では、炭化ケイ素粉末の粒度を１５〜２０μ
ｍ、１０〜１５μｍ、５〜８μｍ、１〜２μｍの４種類
を順に用い、それぞれ約１０分間の研磨をした。また周
速も粒度が細かくなるに従い上げ、例えば１〜２μｍの
粒度の場合７ｍ／minの周速とした。その結果、真円度
０．１μｍ以下で、送りマ−ク等の加工キズの全く無い
サイアロンロ−ルを得ることができた。尚、以上の説明
においては円形部材の外表面を研磨するほ実施例を示し
たが円筒物の内表面も、当て物を内表面に押し当てるこ
とにより、同様に研磨することができる。Referring to FIG. 3, a cylindrical polishing method for a roll made of sialon ceramics (hereinafter referred to as sialon roll) will be described. This roll is manufactured by the following method. Starting material is 85wt% Si ₃ N ₄ , 7wt
% Y ₂ O ₃ , 5 wt% Al ₂ O ₃ and 3 wt% AlN. To this, 1.4 wt% of PVB (polyvinyl butyral) and 40 wt% of industrial methanol were added to the raw material powder, and the mixture was wet-mixed for 4 hours using a pot mill, and then the average particle size was measured using a centrifugal spray spray dryer. A granulated powder of 65 μm was obtained. Molding 100M using a cold isostatic press
The test was performed at a pressure of Pa. Next, after removing the resin component in the molded body using a 500 ° C. degreasing furnace and preliminarily calcining, a primary cutting process is performed to reduce the surface roughness to about 3 μm. It was suspended and baked at 1750 ° C. in a 0.9 MPa pressurized nitrogen gas. Sialon after firing are those having a composition represented by _{Si 5. 5 Al 0. 5} O 0. 5 N 7. 5 of formula. Finally, the sintered body was ground and polished to obtain a predetermined roll size. The outer diameter 40 of which the roundness has been finished to approximately 3 μm by grinding and polishing as described above.
A sialon roll 1 having a length of 500 mm and a length of 500 mm is set in an ordinary cylindrical polishing machine with both centers fixed. Next, two aluminum nitride pads 3 having a width of 50 mm, a length of 40 mm, and a thickness of 10 mm, which are softer than the rolls, are fixed to the metal support block 6 at an angle of 90 ° C. The support block 6 is connected to a support rod 8 by a rotating shaft 7. The support rod 8 is fixed at a fulcrum 9. Sialon roll hardness is 1
6 GPa, the hardness of the pad is 13 to 14 GPa, and the hardness of silicon carbide powder as abrasive grains is 24 GPa. In the polishing, first, the sialon roll 1 is rotated at a peripheral speed of 2 m / min, and then the weight 10 is placed on the sialon roll 1 and the pad 3 is pressed against the sialon roll 1. Further, a slurry-4 of silicon carbide powder having a particle size of 15 to 20 μm and water is continuously supplied dropwise to a contact portion between the sialon roll 1 and the pad 3. Further, the sialon roll is traversed right and left. The traverse speed is preferably about 100 mm / min. The silicon carbide slurry used is made finer in order according to the desired surface roughness.
In this embodiment, the particle size of the silicon carbide powder is 15 to 20 μm.
m, 10 to 15 μm, 5 to 8 μm, and 1 to 2 μm were sequentially used and polished for about 10 minutes each. The peripheral speed was also increased as the particle size became finer. For example, in the case of a particle size of 1 to 2 μm, the peripheral speed was set to 7 m / min. As a result, it was possible to obtain a sialon roll having a roundness of 0.1 μm or less and no scratches such as a feed mark. In the above description, the embodiment in which the outer surface of the circular member is polished has been described. However, the inner surface of the cylindrical member can be polished in the same manner by pressing the pad against the inner surface.

【００３１】図４は本発明に係る研磨装置で製造された
セラミックロール表面１２のうねりの測定結果を示す。
図５は従来例の表面１２のうねりを示す。本発明に係る
ロール表面は前記うねりが極めて小さいことがわかり、
それは全長にわたってそうであり同じ研磨面であった。
また、研削条痕はあってもその方向性がなくランダムで
あった。FIG. 4 shows the measurement results of the undulation of the ceramic roll surface 12 manufactured by the polishing apparatus according to the present invention.
FIG. 5 shows the undulation of the surface 12 in the conventional example. The roll surface according to the present invention is found to have a very small undulation,
It was so over the entire length and had the same polished surface.
In addition, even if there was a grinding streak, the direction was random and it was random.

【００３２】次に本発明に係る圧延用ロールを備えた圧
延機を図８及び図９に基づいて説明する。図において、
１３は曲げ強度８０kgｆ／mm²の高強度サイアロンから
なる作業ロールであって、直径が２０mm、長さが１００
mmの丸棒状をしている。この作業ロール１３は両端に金
属キャップが嵌合（接着剤にて接合）された丸棒状のも
のを前述の方法によって製作されている。作業ロール１
３の寸法精度及び表面精度は金属製ロールのものと同等
の精度になっている。作業ロール１３には軸部と胴部と
からなる補強ロール１４が押し付けられ、補強ロール１
４の回転駆動により作業ロール１３が従回転するように
なっている。補強ロール１４の軸部はユニバーサルジョ
イント（図示せず）、減速歯車（図示せず）を介して電
動機（図示せず）によって回転駆動させられている。ま
た補強ロール１４の軸部は圧延反力を軸部に設けた軸受
（図示せず）に伝達している。作業ロール１３の各端面
には端面の中心と接するように鋼球１８が配置され、そ
の鋼球１８は鋼球支持体１９によって回動自在に支持さ
れている。そのため、作業ロール１３の軸方向の動きは
拘束されている。また作業ロール１３と鋼球１８とのす
べり速度は小さくなっており、焼付けなどが生じないよ
うになっている。作業ロール１３の圧延方向の前後には
作業ロール１３に接して支持ロール１５ａが配設され、
更に支持ロール１５ａに接して別の支持ロール１５ｂが
配設されている。別の支持ロール１５ｂは支持ロール１
５ａを補強する役割を果している。支持ロール１５ａと
別の支持ロール１５ｂとは軸受１７によって支承されて
いる。軸受１７は軸受箱１６に収納されている。作業ロ
ール１３の圧延方向の前後に作業ロール１３に接して支
持ロール１５ａが配設されているので、作業ロール１３
の圧延方向の動きは拘束されている。２０は作業ロール
１３によって圧延される圧延材であって、板幅５０mm、
板厚０.２mmのステンレス鋼板（ＳＵＳ３０４）が使用
されている。Next, a rolling mill provided with a rolling roll according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the figure,
Reference numeral 13 denotes a work roll made of a high-strength sialon having a bending strength of 80 kgf / mm ² , having a diameter of 20 mm and a length of 100 mm.
It has a round bar shape of mm. The work roll 13 is a round bar having metal caps fitted at both ends (joined with an adhesive) and manufactured by the above-described method. Work roll 1
The dimensional accuracy and surface accuracy of No. 3 are equivalent to those of a metal roll. A reinforcing roll 14 composed of a shaft portion and a body portion is pressed against the work roll 13,
The work roll 13 is driven to rotate by the rotation drive of 4. The shaft of the reinforcing roll 14 is driven to rotate by a motor (not shown) via a universal joint (not shown) and a reduction gear (not shown). The shaft of the reinforcing roll 14 transmits a rolling reaction force to a bearing (not shown) provided on the shaft. A steel ball 18 is arranged on each end face of the work roll 13 so as to be in contact with the center of the end face, and the steel ball 18 is rotatably supported by a steel ball support 19. Therefore, the movement of the work roll 13 in the axial direction is restricted. In addition, the sliding speed between the work roll 13 and the steel ball 18 is reduced so that seizure or the like does not occur. Before and after the rolling direction of the work roll 13, a support roll 15a is disposed in contact with the work roll 13,
Further, another support roll 15b is disposed in contact with the support roll 15a. Another support roll 15b is the support roll 1
It plays the role of reinforcing 5a. The support roll 15a and another support roll 15b are supported by bearings 17. The bearing 17 is housed in a bearing box 16. Since the support roll 15a is disposed in contact with the work roll 13 before and after the rolling direction of the work roll 13, the work roll 13
Is restricted in the rolling direction. Reference numeral 20 denotes a rolled material that is rolled by the work roll 13 and has a plate width of 50 mm,
A stainless steel plate (SUS304) having a thickness of 0.2 mm is used.

【００３３】補強ロール１４を毎分３０回転の速度で回
転駆動させて圧延実験を行った結果、圧延材２０は十分
に圧延された。図６は図４の本発明に係る圧延用ロール
を備えた後述する図８及び図９に示した圧延機で圧延さ
れた、ＳＵＳ３０４厚さ０．２mmの被圧延材表面の５０
倍拡大図であり、図７は図５の従来の圧延用ロールで圧
延された被圧延材表面の５０倍拡大図である。従来例の
場合は研削条痕が転写されているが、本発明の場合はそ
れがほとんどない。なお、この場合セラミックス製の作
業ロール１３を損傷させることなく、光沢度の良好な圧
延材を得ることができた。A rolling test was conducted by rotating the reinforcing roll 14 at a speed of 30 revolutions per minute. As a result, the rolled material 20 was sufficiently rolled. FIG. 6 shows SUS304 having a thickness of 0.2 mm of the material to be rolled which is rolled by a rolling mill shown in FIGS.
FIG. 7 is a 50-times enlarged view of the surface of the material to be rolled by the conventional rolling roll of FIG. In the case of the conventional example, the grinding streak is transferred, but in the case of the present invention, it is scarcely present. In this case, a rolled material having good gloss could be obtained without damaging the work roll 13 made of ceramics.

【００３４】実施例２ 金属ロールの場合は、前記周方向うねりは１μｍ以下で
あればよい。金属ロールの場合は前記うねりが被圧延材
表面に縮小されて転写されるため、この程度でよい。好
ましくは０．５μｍ以下がよい。金属ロールの構造及び
製造方法の一例を以下に具体的に示す。胴径７５０mm、
胴長１４８０mmのロールを直径６６５mmの軸材を用いて
次のようにエレクトロ再溶解法にて複合ロール用インゴ
ットとして外径８５０mmのものを製造した。Embodiment 2 In the case of a metal roll, the circumferential waviness may be 1 μm or less. In the case of a metal roll, the undulation is reduced and transferred to the surface of the material to be rolled. Preferably, it is 0.5 μm or less. An example of the structure and the manufacturing method of the metal roll will be specifically described below. Body diameter 750mm,
An ingot for an outer diameter of 850 mm was manufactured as an ingot for a composite roll by an electro-remelting method using a shaft having a body length of 1480 mm and a shaft having a diameter of 665 mm as follows.

【００３５】エレクトロスラグ肉盛法による複合ロール
を製造する装置は、溶接機、増幅器、通電用配線、カー
ボンブラシ、測温用熱電対、直流モータおよびマニュピ
ュレータを含む。マニュピュレータが、直流モータによ
って動かされ、マニュピュレータの腕によって支えられ
た高速度工具鋼から成る消耗電極である管状消耗電極
が、上方へ動かされるようになっている。低合金鋼材製
芯軸が回転定盤上に設置されている。この芯軸と同心的
に水冷モールドが設置されており、両者の間隔部におい
て、環状点火板（すなわち、モールド底）が芯軸の下端
部に近く設置されている。芯軸および水冷モールドは、
円周方向に５rpm回転させた。マニュピュレータによっ
て支えられた管状電極が、芯軸と水冷モールドとで画成
される前記間隔部、すなわち溶解室内に差し込まれ、配
線を介して芯軸と管状電極との間に供給される交流電流
により、管状電極が溶融消耗する。定盤にはカーボンブ
ラシが周囲に５個均等に配置され、管状電極にも配線を
複数に配置し、各部に均等に電流が流れるようにして通
電によってアークが発生すると、スラグがその抵抗発熱
により溶融するとともに、溶融金属が形成され、水冷モ
ールドとの接触で冷却されて凝固し、芯軸の表面に均一
な肉盛層が形成される。この間、水冷モールドは芯軸に
対して同軸的に上方へ移動せしめられる。スラグは、常
時厚さ５０〜６０mmに調整される。また、溶融金属は環
状底板によって下方への滴下が防止される。電流電圧は
一定に保持されるようにコントロールしながら溶解さ
れ、肉盛層の厚さと芯材への溶け込み深さが一定になる
ようにコントロールされる。An apparatus for manufacturing a composite roll by the electroslag overlaying method includes a welding machine, an amplifier, a current-carrying wire, a carbon brush, a thermocouple for temperature measurement, a DC motor, and a manipulator. The manipulator is moved by a direct current motor, and a tubular consumable electrode, which is a consumable electrode made of high-speed tool steel supported by the manipulator arm, is moved upward. A low alloy steel core shaft is set on a rotating platen. A water-cooled mold is installed concentrically with the core shaft, and an annular ignition plate (that is, a mold bottom) is installed near the lower end of the core shaft at a space between the two. The core shaft and water-cooled mold are
5 rpm was rotated in the circumferential direction. The tubular electrode supported by the manipulator is inserted into the space defined by the core shaft and the water-cooled mold, that is, the melting chamber, and an alternating current is supplied between the core shaft and the tubular electrode via the wiring. As a result, the tubular electrode is melted and consumed. Five carbon brushes are evenly arranged on the surface plate around the circumference, multiple wires are also arranged on the tubular electrode, an electric current flows evenly in each part and an arc is generated by energization, and the slag is generated by the resistance heating While melting, a molten metal is formed, cooled and solidified by contact with a water-cooled mold, and a uniform build-up layer is formed on the surface of the core shaft. During this time, the water-cooled mold is moved upward coaxially with respect to the core axis. The slag is constantly adjusted to a thickness of 50 to 60 mm. Further, the molten metal is prevented from dropping downward by the annular bottom plate. The current and voltage are melted while being controlled so as to be kept constant, and the thickness of the cladding layer and the depth of penetration into the core material are controlled so as to be constant.

【００３６】かくして、得られた複合ロールの肉盛層に
１１００℃で鍛造が施され、外径７８０mm、外層の厚さ
を４２.５mmとした。更に該肉盛層に焼入れ焼戻し熱処
理が施され、もって肉盛層の表面硬さＨｓ９０以上を得
ることができる。前記鍛造後、直径７８０mmの鍛造素材
の使用できない表層部を直径で２７〜２８mm切削して除
去すると共に熱処理形状とし、熱処理後、切削加工及び
研摩によって仕上げて外径７５０mmとなるように直径で
約２〜３mmで切削し、次いで前述した装置を用いて同様
に研摩した。平均表面あらさを約０.５μｍとなるよう
に研磨した。Thus, the overlay layer of the obtained composite roll was forged at 1100 ° C. to have an outer diameter of 780 mm and a thickness of the outer layer of 42.5 mm. Further, the hardfacing layer is subjected to a quenching and tempering heat treatment, so that the surface hardness Hs90 or more of the hardfacing layer can be obtained. After the forging, forged material with a diameter of 780mm
The surface layer that cannot be used is removed by cutting 27 to 28 mm in diameter.
After the heat treatment, the steel sheet was cut into a heat- treated shape. After the heat treatment, it was finished by cutting and polishing to a diameter of about 2 to 3 mm so as to have an outer diameter of 750 mm, and then similarly polished using the above-described apparatus. Polishing was performed so that the average surface roughness was about 0.5 μm.

【００３７】外層材質の化学成分を下記表１（重量％）
に示す。このロールは更に１０００〜１２００℃からの
焼入れ及び１２０〜５２０℃，１０〜２０時間の焼戻し
の熱処理を施した。熱処理はこの材質に適した熱処理を
した。なお、本発明ロールの軸材にはＣ０.９％，３％
Ｃｒ鍛鋼を用い、その硬さはＨＳ４０であった。The chemical composition of the outer layer material is shown in Table 1 below (% by weight).
Shown in The roll was further subjected to heat treatment of quenching from 1000 to 1200 ° C. and tempering at 120 to 520 ° C. for 10 to 20 hours. The heat treatment was a heat treatment suitable for this material. In addition, C0.9%, 3%
Cr forged steel was used and its hardness was HS40.

【００３８】[0038]

【表１】 [Table 1]

【００３９】実施例３ 連続溶融めっき装置は、被めっき処理材である鋼ストリ
ップがペイオフリールに巻き取られており、レベラー、
シャー、ウェルダーを経て、更に電解洗浄槽、スクレイ
パー、リンス槽を経て焼鈍炉に入り、焼鈍された後溶融
めっき槽にてめっきされる。浸漬めっきが施されたスト
リップは、真上に高速走行しながら表面調整装置、ブラ
イドルロール装置、スキンパスミル、テンションレベラ
ー、化成処理装置等を経て、ルーパを通りテンションリ
ールに巻き取られる。ストリップに付加されるテンショ
ンはロール装置及びテンションブライドルによってコン
トロールされる。Example 3 In a continuous hot-dip plating apparatus, a steel strip as a material to be plated was wound around a payoff reel.
After passing through a shear and a welder, it passes through an electrolytic cleaning bath, a scraper, and a rinsing bath, and then enters an annealing furnace. The strip on which the immersion plating has been performed is wound on a tension reel through a looper through a surface adjustment device, a bridle roll device, a skin pass mill, a tension leveler, a chemical conversion treatment device and the like while traveling at a high speed directly above. The tension applied to the strip is controlled by a roll device and a tension bridle.

【００４０】このテンションの大きさはストリップ２１
のワイピングノズル２７を通過した直後に設けられ、振
動検出器によって測定された振幅の大きさによって一定
になるようにコントロールされる。テンションブライド
ルは各処理の段階に設けられる。図１０は、めっき装置
を拡大して示したものである。スナウト３１を経て供給
されるストリップ２１はめっき槽３０の中でシンクロー
ル装置２４により方向を変えられ、サポートロール装置
２５によりストリップの動きが安定にさせられる。スト
リップ２１は５０〜１００ｍ／分のスピードで高速走行
される。更にめっき浴２６から引き出されたストリップ
はストリップの両側に設けられたワイピングノズル２７
より高速ガスが吹き付けられ、そのガス圧力、吹き付け
角度の調整によってめっき厚みが調整される。溶融金属
めっき浴中で使用されるサポートロール装置２５及びシ
ンクロール装置２４のロール及びロール軸受シェル２９
は、溶融金属により潤滑されるのでロール軸受シェル２
９はすべり軸受構造となっている。図１０においてロー
ル軸受の摩耗は矢印で示した方向、すなわち、ストリッ
プ２１がシンクロール装置２４によって曲げられた際に
発生する力のベクトル方向に進行することが従来のシン
クロール軸受の摩耗状況を観察することによりわかっ
た。The magnitude of the tension is determined by the strip 21.
Is provided immediately after passing through the wiping nozzle 27, and is controlled so as to be constant by the magnitude of the amplitude measured by the vibration detector. A tension bridle is provided at each processing stage. FIG. 10 is an enlarged view of the plating apparatus. The direction of the strip 21 supplied through the snout 31 is changed by the sink roll device 24 in the plating tank 30, and the movement of the strip is stabilized by the support roll device 25. The strip 21 runs at a high speed of 50 to 100 m / min. Further, the strip withdrawn from the plating bath 26 is provided with wiping nozzles 27 provided on both sides of the strip.
Higher-speed gas is blown, and the plating thickness is adjusted by adjusting the gas pressure and the spray angle. Roll and roll bearing shell 29 of support roll device 25 and sink roll device 24 used in the hot metal plating bath
Is lubricated by the molten metal, so that the roll bearing shell 2
9 has a sliding bearing structure. In FIG. 10, the wear of the roll bearing progresses in the direction indicated by the arrow, that is, in the vector direction of the force generated when the strip 21 is bent by the sink roll device 24. I understood by doing.

【００４１】図１１は、本発明よりなるシンクロールの
断面図を示したものである。ロール軸３３に装着した４
分割されたセラミックス３２は、溶融金属に対し優れた
耐食性を示し、高強度高硬度特性を有したサイアロンセ
ラミックスを選定した。サイアロンセラミックスの化学
式は下式で表される。FIG. 11 is a sectional view of a sink roll according to the present invention. 4 attached to the roll shaft 33
As the divided ceramics 32, sialon ceramics having excellent corrosion resistance against molten metal and having high strength and high hardness characteristics were selected. The chemical formula of Sialon ceramics is represented by the following formula.

【００４２】[0042]

【化１】 Embedded image

【００４３】ここで、ｚは０〜４.２の間で任意のもの
が可能であり、これはβサイアロンと呼ばれるものであ
る。本実施例ではＺ＝０.５の組成のサイアロン粉を用
い、小量のバインダーを添加した後メタノール中で湿式
混し、スプレードライ法により造粒した。次いで、冷却
静水圧のプレス法で外径２１０mm，内径１４５mm，長さ
５０mmの円筒状成形体を４ヶ成形した。焼成温度は１７
５０℃とし、前述と同様に窒素雰囲気により焼成した。
さらに焼結体は仕上加工して、外径１５０mm，内径１１
８mm，長さ４０mmとした。尚、外径摺動面の面粗度はＲ
max０.８μｍとした。このものの研磨は内部に金属の棒
を嵌合させて前述と同様にして行った。Here, z can be any value between 0 and 4.2, which is called β sialon. In this example, sialon powder having a composition of Z = 0.5 was used, a small amount of a binder was added, and the mixture was wet-mixed in methanol and granulated by spray drying. Next, four cylindrical molded bodies having an outer diameter of 210 mm, an inner diameter of 145 mm, and a length of 50 mm were formed by a cooling and isostatic pressing method. The firing temperature is 17
The temperature was set to 50 ° C., and firing was performed in a nitrogen atmosphere in the same manner as described above.
Further, the sintered body is finished to have an outer diameter of 150 mm and an inner diameter of 11 mm.
The length was 8 mm and the length was 40 mm. The surface roughness of the outer diameter sliding surface is R
The maximum was 0.8 μm. This was polished in the same manner as described above with a metal rod fitted inside.

【００４４】また、ロール軸３３は比較的耐食性のある
ステンレス系のＡＩＳＩ３１６を用い、外径を１１１.
１５mm仕上げた。緩衝材３４は焼きもどし処理をし、降
伏点を５kgｆ／mm²程度にした銅板を用い、板厚は３.２
mmで平面形状に示す様にスリット４０と突起４１を施し
た。さらに銅製緩衝板３４は図１１の様に円筒状のそれ
ぞれのセラミックスに対応するロール軸３３に巻回し
た。次いで、ロール軸に円筒状のサイアロン焼結体を挿
入し、図１１に示す様に押え板３５、キャップ３６、イ
ンコネル製バネ３７、及びボルトネジ３８でセラミック
ス２を軸方向に約６００kgｆの力で押し付け固定するこ
とにより、セラミックス３２とロール軸３３との間への
溶融Ｚｎの浸入を防止した。The roll shaft 33 is made of stainless steel AISI 316 having relatively high corrosion resistance and has an outer diameter of 111.
Finished 15mm. The cushioning material 34 is made of a copper plate having a tempering treatment and a yield point of about 5 kgf / mm ² , and a plate thickness of 3.2.
Slits 40 and projections 41 were formed as shown in the plan view in mm. Further, the copper buffer plate 34 was wound around a roll shaft 33 corresponding to each cylindrical ceramic as shown in FIG. Next, the cylindrical sialon sintered body is inserted into the roll shaft, and the ceramics 2 is pressed in the axial direction with a force of about 600 kgf by the pressing plate 35, the cap 36, the spring 37 made of Inconel, and the bolt screw 38 as shown in FIG. By fixing, penetration of molten Zn between the ceramics 32 and the roll shaft 33 was prevented.

【００４５】ところで、サイアロンセラミックス、銅、
ステンレス製ロール軸の熱膨脹係数はそれぞれ３.２×
１０~⁶／℃、１３×１０~⁶／℃、１８×１０~⁶／℃であ
るので、図１１のロールを溶湯温度４５０℃の溶融Ｚｎ
中に浸漬すると、サイアロンセラミックス３２の内径は
１１８.１７mm、ステンレス製ロール軸３３の外径は１
１２.０５mmとなり、そのギャップは３.０６mmとなる。
一方、銅製緩衝板からなる中間材３４は３.２２mmとな
る為、ギャップとの差０.１６mmは銅製緩衝板３４の塑
性変形代となる。塑性変形量は、約５％となるので、少
なくとも５％以上の体積に相当するスリット等を施して
おいた。その結果、使用温度では緩衝材３４は塑性変形
を受けロール軸３３とセラミックス３２とは密着したも
のとなり、嵌合によるセラミックス３２の割れは全く生
じなかった。これは、緩衝材３４は使用温度状態でもギ
ャップ内に変形できる空間が存在するためと思われる。
円筒体のセラミックス３２とロール軸３３との間の緩衝
板３４が銅製の場合、Ｚｎと濡れ易く、そのギャップ内
に侵入し、空間を埋めてしまうとセラミックス３２の割
れが生じる心配があるので、端部にはＺｎの浸入を防ぐ
材料の緩衝材とするのがよい。ステンレス鋼線を用いる
のがよい。ステンレス製軸受の内周面に固体潤滑性、及
び溶融Ｚｎに対する耐食性に優れたＳｉＣ−Ｃ複合セラ
ミックスを装着した。By the way, sialon ceramics, copper,
The coefficient of thermal expansion of each stainless steel roll shaft is 3.2 ×
10 to ⁶ / ° C., 13 × 10 to ⁶ / ° C., and 18 × 10 to ⁶ / ° C., the roll shown in FIG.
When immersed inside, the inner diameter of Sialon ceramics 32 is 118.17 mm and the outer diameter of stainless steel roll shaft 33 is 1
12.05 mm, and the gap is 3.06 mm.
On the other hand, since the intermediate material 34 made of the copper buffer plate is 3.22 mm, a difference of 0.16 mm from the gap is a plastic deformation allowance of the copper buffer plate 34. Since the amount of plastic deformation is about 5%, a slit or the like corresponding to a volume of at least 5% or more is provided. As a result, at the operating temperature, the buffer material 34 was subjected to plastic deformation, so that the roll shaft 33 and the ceramics 32 were in close contact with each other, and no cracking of the ceramics 32 was caused by the fitting. This is presumably because the cushioning material 34 has a space in the gap that can be deformed even at the operating temperature.
When the buffer plate 34 between the cylindrical ceramic 32 and the roll shaft 33 is made of copper, it is easily wetted with Zn, penetrates into the gap, and if the space is filled, there is a concern that the ceramic 32 may be cracked. The end portion is preferably made of a buffer material made of a material for preventing Zn from entering. It is better to use stainless steel wire. A SiC-C composite ceramic having excellent solid lubricity and corrosion resistance to molten Zn was mounted on the inner peripheral surface of a stainless steel bearing.

【００４６】[0046]

【発明の効果】本発明によれば、研磨剤を含むスラリー
による研磨であるため、切れ味を一定に保つことがで
き、従って送りマーク等の加工傷を防止でき、真円度を
大幅に高めることができる。また研磨材の粒度を変える
ことにより、容易に研磨面の表面祖度を変えることがで
きる。According to the present invention, since the polishing is carried out using a slurry containing an abrasive, the sharpness can be kept constant, so that processing scratches such as feed marks can be prevented and the roundness can be greatly increased. Can be. By changing the particle size of the abrasive, the surface roughness of the polished surface can be easily changed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明に係る研磨装置の一部拡大側面図であ
る。FIG. 1 is a partially enlarged side view of a polishing apparatus according to the present invention.

【図２】同研磨装置の概略側面図である。FIG. 2 is a schematic side view of the polishing apparatus.

【図３】同研磨装置の概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of the polishing apparatus.

【図４】本発明に係る研磨装置で製造されたロール表面
のうねりの測定結果を示す図である。FIG. 4 is a view showing a measurement result of waviness on a roll surface manufactured by the polishing apparatus according to the present invention.

【図５】従来例のロール表面のうねりを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the undulation of the roll surface in a conventional example.

【図６】本発明に係る圧延用ロールで圧延された被圧延
材表面の５０倍拡大図である。FIG. 6 is a 50-fold enlarged view of the surface of a material to be rolled by the rolling roll according to the present invention.

【図７】従来の圧延用ロールで圧延された被圧延材表面
の５０倍拡大図である。FIG. 7 is a 50-fold enlarged view of a surface of a material to be rolled rolled by a conventional rolling roll.

【図８】本発明にかかる圧延機のロールの配置を示す説
明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing an arrangement of rolls of a rolling mill according to the present invention.

【図９】図８のＡ−Ａ線断面図である。FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG. 8;

【図１０】連続溶融めっき装置の拡大断面図である。FIG. 10 is an enlarged sectional view of the continuous hot-dip plating apparatus.

【図１１】本発明よりなるシンクロールの断面図であ
る。FIG. 11 is a sectional view of a sink roll according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 被研磨材 ３ 当て物 ４ スラリー ５ 凹部 ６ 支持ブロック ７ 回転軸 ８ 支持棒 ９ 支点 １０ ウェイト １１ タンク １２ 表面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polished material 3 Patch 4 Slurry 5 Depression 6 Support block 7 Rotating shaft 8 Support rod 9 Support point 10 Weight 11 Tank 12 Surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｄ 3/02 Ｃ２５Ｄ 3/02 (56)参考文献 特開 昭59−113909（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−101304（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−255320（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−23004（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−70310（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−165211（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−220105（ＪＰ，Ａ) 特公 昭57−52190（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭58−2722（ＪＰ，Ｂ２)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. ⁶ Identification number Agency reference number FI Technical indication location C25D 3/02 C25D 3/02 (56) References JP-A-59-113909 (JP, A) JP-A-62-101304 (JP, A) JP-A-63-255320 (JP, A) JP-A-3-23004 (JP, A) JP-A-2-70310 (JP, A) JP-A-61-165211 (JP, A) JP, A) JP-A-4-220105 (JP, A) JP-B-57-52190 (JP, B2) JP-B-58-2722 (JP, B2)

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 円柱又は円筒状被研磨物を円周方向に回
転させる駆動装置と、該被研磨物の円周面に押し当てら
れる当て物と、この当て物を前記被研磨物に押し当てる
押圧手段と、研磨剤を含むスラリーを前記被研磨物と当
て物との間に供給するスラリー供給手段とを備え、該当
て物は、被研磨物の研磨面より軟質材で形成されている
ことを特徴とする円形部材の研磨装置。1. A driving device for rotating a cylindrical or cylindrical object to be polished in a circumferential direction, an object to be pressed against a circumferential surface of the object to be polished, and pressing means for pressing the object to the object to be polished. When a slurry containing an abrasive and a slurry supplying means for supplying between the workpiece and the padding, the corresponding
The polishing device for a circular member, wherein the object is formed of a softer material than a polishing surface of the object to be polished . 【請求項２】 円柱又は円筒状の被研磨物を円周方向に
回転させると共に軸方向に平行に往復移動させる駆動装
置と、該被研磨物円周面に押し当てられ円周面の少なく
とも２個所で接触する当て物と、該当て物を前記被研磨
物に押し当てる押圧手段と、研磨砥粒を含むスラリーを
前記被研磨物と当て物との間に供給するスラリー供給手
段とを備え、該当て物は、被研磨物の研磨面より軟質材
で形成されていることを特徴とする円形部材の研磨装
置。2. A driving device for rotating a cylindrical or cylindrical object to be polished in the circumferential direction and reciprocating in a direction parallel to the axial direction, and at least two of the peripheral surface pressed against the object to be polished. comprising a padding in contact at the point, and a pressing means for pressing the corresponding Te material in the workpiece, and a slurry supplying means for supplying between the slurry workpiece and padding comprising abrasive grains, the corresponding Te The material is softer than the surface to be polished
A polishing apparatus for a circular member, characterized by being formed by: 【請求項３】 請求項１又は２において、当て物は、被
研磨物の半径方向の動きに追従して揺動可能で且つ非回
転で接触している円形部材の研磨装置。3. The method of claim 1 or 2, padding, the polishing apparatus of the circular member in contact with and non-rotating swingable by following the radial movement of the object to be polished. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかにおいて、当て
物は、被研磨物との接触面が凹曲面に形成されている円
形部材の研磨装置。In any one of claims 4] claims 1-3, padding, the polishing apparatus of the circular member that the contact surface between the object to be polished is formed on the concave surface. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかにおいて、前記
当て物は被研磨物の同一円周面上で少なくとも２個所で
接触する構造を有する円形部材の研磨装置。In any of 5. The method of claim 1-4, wherein the padding polishing apparatus of a circular member having a structure in contact with at least two points on the same circumference surface of the object to be polished. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかにおいて、押圧
手段は、当て物を保持する保持部と、該保持部を一端に
回動自在に支持する支持棒と、この支持棒の他端に設け
られた荷重受け部と、前記支持棒を中間で支持する支点
とを備えた円形部材の研磨装置。6. The claim 1-5, pressing means, and a holding portion for holding the padding, and a support rod for supporting rotatably the holder at one end, the other end of the support rod An apparatus for polishing a circular member, comprising a load receiving portion provided and a fulcrum for supporting the support rod in the middle. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかにおいて、押圧
手段は、当て物を保持する保持部と、保持部をばね力又
は磁気力により付勢する付勢手段とを備えた円形部材の
研磨装置。7. The claim 1-6, pressing means, the polishing of the circular member having a biasing means for biasing the holding portion for holding the padding, the holding portion by a spring force or magnetic force apparatus. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかにおいて、スラ
リー供給手段は、前記被研磨物と当て物との間を連続的
にスラリーを通過させるものである円形部材の研磨装
置。In any of 8. claims 1-7, the slurry supply means, the polishing apparatus of the circular member is intended to pass continuously slurry between the polishing object and padding. 【請求項９】 周方向に回転する円柱又は円筒状被研磨
物の円周面に非回転の当て物を押し当てながら研磨砥粒
を含むスラリーを前記被研磨物と当て物との間に供給し
て研磨すると共に該当て物は、被研磨物の研磨面より軟
質材で形成されていることを特徴とする円形部材の研磨
方法。9. A slurry containing abrasive grains is supplied between the object to be polished and the object to be polished while pressing a non-rotating object against the circumferential surface of a cylindrical or cylindrical object to be polished rotating in the circumferential direction. While polishing, the applicable object is softer than the polished surface of the object.
A method for polishing a circular member, characterized by being formed of a material . 【請求項１０】 回転しながら軸方向に平行に往復移動
する円柱又は円筒状の被研磨物の円周面の少なくとも２
個所に当て物を接触させて押圧すると共に、前記当て物
を被研磨物の半径方向の動きに応じて押圧方向に自在に
移動可能にし且つ研磨砥粒を含むスラリーを前記被研磨
物と当て物との間に供給して研磨すると共に該当て物
は、被研磨物の研磨面より軟質材で形成されていること
を特徴とする円形部材の研磨方法。10. A cylindrical or cylindrical object to be polished reciprocatingly reciprocating in an axial direction while rotating, at least two of the circumferential surfaces of which are polished.
At the same time, the contacting object is pressed against the object, and the object is freely movable in the pressing direction in accordance with the radial movement of the object to be polished, and the slurry containing abrasive grains is placed between the object and the object to be polished. To be polished and
Is a method for polishing a circular member, which is formed of a softer material than a polished surface of an object to be polished . 【請求項１１】 請求項９又は１０において、前記研磨
砥粒を研磨初期に粗く、順次細かい砥粒によって研磨す
る円形部材の研磨方法。11. A method for polishing a circular member according to claim 9 , wherein the polishing abrasive grains are polished with finer abrasive grains in the initial stage of polishing. 【請求項１２】 請求項９、１０又は１１において、被
研磨物の表面を１〜５μｍ削る円形部材の研磨方法。12. The method for polishing a circular member according to claim 9, 10 or 11, wherein the surface of the object to be polished is shaved by 1 to 5 μm. 【請求項１３】 金属溶湯中で軸受に支持されて回転す
るロールを備えた連続溶融金属メッキ装置において、前
記ロールの軸摺動部及び軸受の摺動部がセラミックス焼
結体からなり、前記ロールは金属からなり、前記ロール
の軸摺動部が円筒状セラミックス焼結体が嵌合してお
り、該焼結体の外表面うねりが０.３μｍ以下であるこ
とを特徴とする連続溶融金属メッキ装置。13. A continuous molten metal plating apparatus provided with a roll supported by a bearing in a molten metal and rotating, wherein a shaft sliding portion of the roll and a sliding portion of the bearing are made of a ceramic sintered body. Is made of metal and said roll
A continuous molten metal plating apparatus characterized in that a cylindrical ceramic sintered body is fitted in the shaft sliding portion of (1) and the outer surface undulation of the sintered body is 0.3 μm or less. 【請求項１４】 金属溶湯中で軸受に支持されて回転す
るシンクロール及びサポートロールを備えた連続溶融金
属メッキ装置において、前記シンクロール及びサポート
ロールの少なくとも一方の前記ロールは金属からなり、
前記ロールの軸摺動部が固体潤滑剤を含む円筒状セラミ
ックス焼結体が嵌合しており、該焼結体の外表面うねり
が０.３μｍ以下であることを特徴とする連続溶融金属
メッキ装置。14. A continuous molten gold <br/> genus plating apparatus having a sink roll and support roll rotates is supported by a bearing in a molten metal, at least one of the rolls of the sink roll and support roll Made of metal,
A continuous molten metal plating, wherein a cylindrical ceramic sintered body containing a solid lubricant is fitted in a shaft sliding portion of the roll, and an outer surface undulation of the sintered body is 0.3 μm or less. apparatus.