JP2685823B2 - Color picture tube equipment - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明はカラー受像管装置に係り、特にインライン配
列された３本の電子ビームを、これらの電子ビームに共
通な大口径電子レンズにより集束ならびに集中させる電
子銃を有するカラー受像管装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention relates to a color picture tube device. The present invention relates to a color picture tube device having an electron gun focused and focused by an electron lens.

（従来の技術） 一般的なカラー受像管装置の水平断面を第９図に示
す。(Prior Art) A horizontal section of a general color picture tube device is shown in FIG.

同図において、カラー受像管装置１は、スクリーン面
２をもつフェースプレート３と、このフェースプレート
３の側壁部3aにファンネル４を介し連結されたネック５
と、このネック５に内装された電子銃６と、ファンネル
４からネック５にかけてこの外壁に装着される偏向装置
７と、前記スクリーン面２と所定間隔をもって対設され
た多数のアパーチャ８を有するシャドウマスク９と、前
記ファンネル４の内壁から前記ネック５の一部にかけて
一様に塗布された内部導電膜10とファンネル４の外部に
塗布された外部導電膜11と、ファンネル４の一部に設け
られた陽極端子（図示せず）とを具備している。In FIG. 1, a color picture tube device 1 includes a face plate 3 having a screen surface 2, and a neck 5 connected to a side wall 3 a of the face plate 3 via a funnel 4.
A shadow having an electron gun 6 mounted inside the neck 5, a deflecting device 7 mounted on the outer wall from the funnel 4 to the neck 5, and a large number of apertures 8 opposed to the screen surface 2 at a predetermined interval. A mask 9, an inner conductive film 10 uniformly applied from the inner wall of the funnel 4 to a part of the neck 5, an outer conductive film 11 applied to the outside of the funnel 4, and a part of the funnel 4. And an anode terminal (not shown).

そして、スクリーン面２には赤色発光蛍光体、緑色発
光蛍光体および青色発光蛍光体がストライプ状又は点状
に多数塗布されており、電子銃６から出た３本の電子ビ
ームB_R,B_GおよびB_Bはシャドウマスク９により選択され
てそれぞれの蛍光体を衝撃し、これを発光させる。The red light-emitting phosphor on the screen surface 2, the green-emitting phosphor and a blue phosphor are numerous applied in stripes or point-like, three electron beams B _R emitted from the electron gun 6, B _G and B _B is the impact of each of the phosphors are selected by the shadow mask 9 to emit this.

また、電子銃６はインライン配列の並行な３本の電子
ビームB_R,B_GおよびB_Bを発生、加速ならびに制御するた
めの電子ビーム形成部GEと、これらの電子ビームを集
束、集中させるための主電子レンズ部MLを有している。
そして、３本の電子ビームB_R,B_GおよびB_Bを前記偏向装
置７によりスクリーン全面に偏向走査することにより、
ラスタを形成する。Further, the electron gun 6 has an electron beam forming unit GE for generating, accelerating and controlling three parallel in-line electron beams B _R , B _G and B _B , and for focusing and concentrating these electron beams. It has a main electron lens part ML.
Then, three electron beams B _R, by deflecting and scanning the entire screen by the deflection device 7 B _G and B _B,
Form a raster.

３電子ビームを集中させる方法は、例えば米国特許第
2957106号明細書に示されているように、陰極から射出
される電子ビームをはじめから傾斜して集中する技術が
あり、又、米国特許第3772554号明細書に示されるよう
に、電子銃電極に設けられた３電子ビーム通過用開口の
うち一部電極の両側の開口を電子銃の中心軸から僅かに
外側へ偏芯させることにより、電子ビームの集中を行な
っている技術があり、いずれも広く採用されている。偏
向装置は基本的には電子ビームを水平方向に偏向する水
平偏向磁界を発生するための水平偏向コイルおよび電子
ビームを垂直方向に偏向する垂直偏向磁界を発生するた
めの垂直偏向コイルとを有している。実際のカラー受像
管装置においては電子ビームを偏向したときに、３電子
ビームスポットのフェースプレートでの集中がくずれて
くるので、この集中のくずれを防止するため工夫が施さ
れている。これはコンバーゼンスフリーシステムと称さ
れ、水平偏向磁界をピンクッション形に、垂直偏向磁界
をバレル形にすることにより自己集中型磁界として、蛍
光面全域に於いて３電子ビームが集中するようにしたも
のである。A method for focusing three electron beams is described in, for example, US Pat.
As shown in US Pat. No. 2,957,106, there is a technique for concentrating an electron beam emitted from a cathode in an inclined manner from the beginning, and as shown in U.S. Pat. Among the three electron beam passing openings provided, there is a technique of concentrating an electron beam by decentering openings on both sides of some electrodes slightly outside of the center axis of the electron gun. Has been adopted. The deflection device basically has a horizontal deflection coil for generating a horizontal deflection magnetic field for deflecting the electron beam in the horizontal direction and a vertical deflection coil for generating a vertical deflection magnetic field for deflecting the electron beam in the vertical direction. ing. In an actual color picture tube device, when the electron beam is deflected, the concentration of the three electron beam spots on the face plate is lost. Therefore, measures are taken to prevent this concentration loss. This is called a convergence-free system, in which the horizontal deflection magnetic field is made into a pincushion type and the vertical deflection magnetic field is made into a barrel type to form a self-concentrated magnetic field so that three electron beams are concentrated over the entire phosphor screen. Is.

以上述べた如く、カラー受像管は多くの開発技術の採
用により品位は向上しているが管の大型化、高品位化が
普及するにつれて新たな問題がクローズアップされつつ
ある。As described above, the quality of a color picture tube has been improved by the adoption of many development techniques, but new problems are being highlighted as the tube becomes larger and higher in quality.

即ち電子ビームのスクリーン上でのスポット径の問
題、偏向されたときのスクリーン周辺部での電子ビー
ムスポットの歪の問題、スクリーン全面でのコンバー
ゼンスの問題がある。That is, there is a problem of the spot diameter of the electron beam on the screen, a problem of distortion of the electron beam spot at the periphery of the screen when the electron beam is deflected, and a problem of convergence on the entire screen.

管が大形になると電子銃からスクリーン面までの距離
が長くなり電子レンズの電子光学的倍率が大きくなって
スクリーン上でのスポット径を大きくしてしまい解像度
を劣化させてしまう。スポット径を小さくするには電子
銃の電子レンズの性能を向上させねばならない。When the tube becomes large, the distance from the electron gun to the screen surface becomes longer, the electron optical magnification of the electron lens increases, the spot diameter on the screen becomes larger, and the resolution deteriorates. To reduce the spot diameter, the performance of the electron lens of the electron gun must be improved.

一般に主電子レンズ部は開口を有する複数の電極が同
軸上に配置されそれぞれ所定の電位が印加されることに
よって形成される。このような静電レンズは電極構成の
違いによりいくつかの種類があるが、基本的は電極開口
径を大きくした大口径レンズを形成させるか又は、電極
間の距離を長くして緩やかな電位変化にして長焦点レン
ズを形成することによりレンズ性能を向上させることが
できる。In general, the main electron lens portion is formed by a plurality of electrodes having openings arranged coaxially and applying a predetermined potential. There are several types of such electrostatic lenses depending on the difference in the electrode configuration, but basically, a large-diameter lens with a large electrode aperture diameter is formed, or the distance between the electrodes is lengthened and the potential changes gently. By forming the long-focus lens as described above, the lens performance can be improved.

しかし、カラー受像管の電子銃は一般に細いガラス円
筒であるネック内に封入されるため、まず電極の開口、
即ちレンズ口径が物理的に制約される。また、電極間に
形成される集束電界がネック内の他の不所望な電界の影
響を受けないようにするために電極間の距離が制限され
る。However, the electron gun of a color picture tube is generally enclosed in a neck, which is a thin glass cylinder.
That is, the lens aperture is physically restricted. Also, the distance between the electrodes is limited so that the focused electric field formed between the electrodes is not affected by other unwanted electric fields in the neck.

特に、シャドウマスク型カラー受像管のように３本の
電子銃がデルタ配列やインライン配列として一体化した
場合には前述した如く電子ビーム間隔（Sg）が小さなも
の程、３本の電子ビームをスクリーン全面の近傍で一点
に集中させ易いし、また偏向電力が小さいという利点が
あるので、電子銃間隔を小さくするために電極の開口は
さらに小さくせざるを得ない。In particular, when three electron guns are integrated in a delta arrangement or an inline arrangement as in a shadow mask type color picture tube, as described above, the smaller the electron beam interval (Sg), the more the three electron beams are screened. Since there is an advantage that it is easy to concentrate on one point near the entire surface and the deflection power is small, the opening of the electrode must be further reduced in order to reduce the interval between the electron guns.

そこで、同一平面上に並んだ３個の電子レンズを完全
に重ね合わせ１個の大きな電子レンズとし、この大口径
電子レンズにより電子レンズ性能を最大限に発揮させよ
うとする方法が考えられる。第10図はこれを光学的に図
示したものである。図に示す通り、映出される電子ビー
ムのコアは小さくなるが電子ビーム全体でみるとまだ不
十分な結果である。すなわち、ビーム間隔がSgである３
本の平行電子ビーム（B_R），（B_G），（B_B）が１個の共
通大口径電子レンズLELを通過すると、第10図の様に中
央の電子ビーム（G_G）が適正集束した状態では両側の電
子ビーム（B_R），（B_B）は過集束状態、且つ過集中状態
となると共に大きなコマ収差を伴ないスクリーン（10
1）上では、３本のビームスポット（SPR），（SPG），
（SPB）は大きく離れ両側のビームは歪む。Therefore, a method is considered in which three electronic lenses arranged on the same plane are completely overlapped to form one large electronic lens, and the large-diameter electronic lens maximizes the performance of the electronic lens. FIG. 10 is an optical illustration of this. As shown in the figure, the core of the projected electron beam is small, but the result is still insufficient when viewed as a whole. That is, the beam interval is Sg3
Parallel electron beam of the _{(B R), (B G} ), (B B) When passing through the one common large-aperture electron lens LEL, the central electron beam as in FIG. 10 (G _G) is properly focused In this state, the electron beams (B _R ) and (B _B ) on both sides are overfocused and overfocused, and the screen (10
1) Above, three beam spots (SPR), (SPG),
(SPB) is largely separated and the beams on both sides are distorted.

これら３本の電子ビームの集束状態を合せ、コマ収差
分を減少させるには、電子レンズLELのレンズ口径Ｄに
対する３本のビームの間隔Sgをある程度小さくしてゆけ
ば実用上問題はなくなるが、３本のビームのスクリーン
上での集中状態に関してはSgを極めて小さくしなければ
ならず、電子ビーム発生部の機械的配置の面で限界があ
る。In order to reduce the coma aberration by adjusting the focusing state of these three electron beams, there is no practical problem if the distance Sg between the three beams with respect to the lens diameter D of the electron lens LEL is reduced to some extent. Sg must be extremely small for the concentrated state of the three beams on the screen, and there is a limit in terms of the mechanical arrangement of the electron beam generator.

そこで、特公昭49−5591号公報（米国特許第3,448,31
6号明細書）及び米国特許第4,528,476号明細書では第11
図に示す如く電子レンズLELに入射する３本の電子ビー
ムに予め傾斜θをもたせておいて３本の電子ビームが同
時に電子レンズLELの中央部を通過するようにして３本
のビームの集束状態を合せ、その後、発散していく両側
のビームを第２のレンズLEL2により反対方向に強く（φ
゜）偏向させスクリーン上で３本のビームが集中する様
にしている。その結果３電子ビームの集束および集中が
改善される。しかしながら両側のビームには大きな偏向
収差又はコマ収差が発生するという問題を残している。Therefore, Japanese Patent Publication No. Sho 49-5951 (U.S. Pat.
No. 6) and U.S. Pat.
As shown in the figure, the three electron beams incident on the electron lens LEL have an inclination θ in advance, and the three electron beams simultaneously pass through the central part of the electron lens LEL so that the three beams are focused. Then, the beams on both sides that diverge are strongly reflected in the opposite direction by the second lens LEL2 (φ
Ii) The beam is deflected so that three beams are concentrated on the screen. As a result, the focusing and concentration of the three electron beams is improved. However, there remains a problem that large deflection aberration or coma aberration occurs in the beams on both sides.

以上の如く３本の電子ビームに共通に働く大口径電子
レンズを利用することは難しく大口径電子レンズの性能
を最大限に発揮させることができない。As described above, it is difficult to use a large-diameter electron lens that works commonly for three electron beams, and it is not possible to maximize the performance of the large-diameter electron lens.

（発明が解決しようとする課題） このように、カラー受像管装置の画像性能を更に向上
させるためには、３本の電子ビームに共通な大口径電子
レンズを用いることにより電子銃の性能を向上させ、ス
クリーン面上のビームスポット径を小さくすることが有
効であるが、従来技術では大口径電子レンズの性能を充
分に発揮させることができず、カラー受像管装置の画像
性能を更に向上させることは困難であるという問題があ
った。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in order to further improve the image performance of the color picture tube device, the performance of the electron gun is improved by using the large-diameter electron lens common to the three electron beams. However, it is effective to reduce the beam spot diameter on the screen surface, but the conventional technology cannot fully exert the performance of the large-aperture electron lens, and further improves the image performance of the color picture tube device. Had the problem of being difficult.

したがって、カラー受像管装置の画像性能を更に向上
させるためには、大口径電子レンズの性能を充分に発揮
させうる電子銃を備えたカラー受像管装置を得ることが
望ましい。Therefore, in order to further improve the image performance of the color picture tube device, it is desirable to obtain a color picture tube device provided with an electron gun capable of sufficiently exhibiting the performance of a large-diameter electron lens.

本発明はかかる従来技術の課題を解決すべくなされた
もので、３本の電子ビームに共通な大口径電子レンズに
より各電子ビームの集束と集中を同時に、また容易に行
うことができる電子銃であって、この大口径電子レンズ
の性能を充分に発揮させうる電子銃を備えたカラー受像
管装置を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the problems of the prior art, and is an electron gun capable of focusing and concentrating each electron beam simultaneously and easily by a large-diameter electron lens common to three electron beams. Then, it aims at providing the color picture tube device provided with the electron gun which can fully exhibit the performance of this large aperture electron lens.

〔発明の構成〕[Configuration of the invention]

（課題を解決するための手段） すなわち本発明のカラー受像管装置は、インライン形
電子銃部、偏向部、およびスクリーン部を備え、前記電
子銃から発射される電子ビームを偏向部により垂直方向
および水平方向に偏向走査するカラー受像管装置におい
て、 前記電子銃部は３本の電子ビームを発生、加速、制御
する電子ビーム形成部と、この電子ビームを集束、集中
させる主電子レンズ部とを備え、 この主電子レンズ部には、３本の電子ビームに共通に
作用す大口径非対称電子レンズを有し、 この大口径非対称電子レンズは、３本の電子ビームに
対して共通な円筒電子レンズと、この円筒電子レンズの
レンズ領域内にあって、３電子ビームを共通に通過させ
る非円形ビーム通過口を有し、 前記大口径非対称電子レンズの前段には中央の電子ビ
ームに対して水平方向よりも垂直方向に強く発散する作
用を有する対称４極子レンズ部と、両側の電子ビームに
対して、水平方向よりも垂直方向に強く発散し、かつ、
両側の電子ビームが中央の電子ビームから離れるような
作用を有する非対称４極子レンズ部を備えたことを特徴
とするカラー受像管装置である。(Means for Solving the Problem) That is, a color picture tube device of the present invention includes an in-line type electron gun section, a deflection section, and a screen section, and an electron beam emitted from the electron gun is deflected in a vertical direction by the deflection section. In a color picture tube device that deflects and scans in a horizontal direction, the electron gun unit includes an electron beam forming unit that generates, accelerates, and controls three electron beams, and a main electron lens unit that focuses and concentrates the electron beams. The main electron lens portion has a large-diameter asymmetric electron lens that acts in common on the three electron beams. This large-diameter asymmetric electron lens is a cylindrical electron lens common to the three electron beams. In the lens area of this cylindrical electron lens, there is a non-circular beam passage opening for passing three electron beams in common, and in the front stage of the large-diameter asymmetric electron lens, there is a central electron beam. Symmetric quadrupole lens section having an action to diverge strongly in the vertical direction than the horizontal direction with respect to the beam, with respect to both sides of the electron beam diverges strongly in the vertical direction than the horizontal direction, and,
A color picture tube device comprising an asymmetric quadrupole lens section having a function of separating the electron beams on both sides from the electron beam in the center.

前記大口径非対称電子レンズに入射する個々の電子ビ
ームは、水平方向に対して発散性のビームであることを
意味するものではない。水平方向に対して集束性のビー
ムの場合も含まれる。The individual electron beams that enter the large-diameter asymmetric electron lens do not mean that the beams are divergent in the horizontal direction. This includes the case of a beam that is convergent in the horizontal direction.

（作用） 本発明において、電子銃の主電子レンズの前段に３本
の電子ビームに対し各々、水平方向よりも垂直方向に強
く発散し、かつ、３電子ビームの各軸は中央ビームの軸
に対し、両側ビームの軸が隔れるように作用する非対称
４極子レンズ部を配置し、一方主電子レンズ部には３本
の電子ビームに共通に作用する大口径非対称電子レンズ
を有し、この非対称電子レンズは電子ビームに使用する
水平方向の集束力が垂直方向の集束力よりも弱くなるよ
うにデザインされている。(Operation) In the present invention, the three electron beams are diverged more strongly in the vertical direction than in the horizontal direction in front of the main electron lens of the electron gun, and each axis of the three electron beams is the axis of the central beam. On the other hand, an asymmetric quadrupole lens section that acts so as to separate the axes of the beams on both sides is arranged, while the main electron lens section has a large-diameter asymmetric electron lens that commonly acts on the three electron beams. The electron lens is designed such that the horizontal focusing force used for the electron beam is weaker than the vertical focusing force.

このような大口径非対称電子レンズ部に前記特定した
ような電子ビームが入射すると入射ビームは大口径非対
称電子レンズのレンズ作用を受けて、スクリーン上に映
出される３電子ビームは良好に集中し、中央の電子ビー
ムは小径で歪のないものとなり、両側の電子ビームも小
径となり、そして、実用上全く問題とならない歪を受け
て集束する。しかも３電子ビームは大口径レンズを通過
するので大口径レンズとしてのメリットを最大限に得る
ことができる。When the electron beam as specified above is incident on such a large-diameter asymmetric electron lens unit, the incident beam is subjected to the lens action of the large-diameter asymmetric electron lens, and the three electron beams projected on the screen are well concentrated, The central electron beam has a small diameter and no distortion, and the electron beams on both sides also have a small diameter, and are subjected to distortion that does not pose any problem in practical use and are focused. Moreover, since the three electron beams pass through the large-diameter lens, the merit of the large-diameter lens can be maximized.

尚、本発明と対比するため、主電子レンズに入射する
個々の電子ビームを水平方向、垂直方向ともほぼ平行と
し、他の諸条件を本発明としたものは集束特性が極めて
悪いし、又、３電子ビームを水平に主レンズに入射し他
の諸条件を本発明としたものはスクリーン上で中央ビー
ムを適正収束した場合、両側ビームは主レンズの端を通
るため収差を受け過集束、過集中してしまう。これを解
決するために主レンズ部の水平方向の集束力を弱めて適
正な集中状態としたとしても中央ビームを適正集束した
場合、両側ビームは過集中してしまう。Incidentally, in order to compare with the present invention, the individual electron beams incident on the main electron lens are made substantially parallel to each other in the horizontal direction and the vertical direction, and the other characteristics of the present invention have extremely poor focusing characteristics, and In the case where three electron beams are horizontally incident on the main lens and other conditions are set in the present invention, when the central beam is properly converged on the screen, both side beams pass through the ends of the main lens and are subject to aberrations, resulting in overfocusing and overfocusing. I will concentrate. In order to solve this, even if the horizontal focusing power of the main lens unit is weakened to bring it into a proper focusing state, when the central beam is properly focused, both side beams are excessively focused.

（実施例） 以下、図面を参照しつつ本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第１図は、本発明を実施したカラー受像管装置のネッ
ク部付近にスクリーン部の一部分のＸ−Ｚ面の断面を示
し、第２図は電子銃部のみのＹ−Ｚ面の断面を示す。FIG. 1 shows a cross section of the XZ plane of a part of the screen near the neck of the color picture tube apparatus embodying the present invention, and FIG. 2 shows a cross section of the YZ plane of only the electron gun. .

第１図，第２図に於いて、ネック（５）内に配置され
ている電子銃部（100）は、カソード（陰極）K,第１グ
リッドG1,第２グリッドG2,第３グリッドG3,第４グリッ
ドG4,第５グリッドG5,第６グリッドG6,第７グリッドG7
とこれらを支持する絶縁支持体及びバイブスペーサ（11
2）から成り、電子銃（100）はネック下部のステムピン
（113）に固定されている。In FIG. 1 and FIG. 2, the electron gun part (100) arranged in the neck (5) includes a cathode (cathode) K, a first grid G1, a second grid G2, a third grid G3, 4th grid G4, 5th grid G5, 6th grid G6, 7th grid G7
And the insulating support and vibe spacer (11
2) and the electron gun (100) is fixed to the stem pin (113) at the bottom of the neck.

前記カソードＫは、内部にそれぞれヒータをもってお
り、３本の電子ビームB_R,B_G,B_Bを発生する。また、第１
グリッドG1,第２グリッドG2は前記３個のカソードＫに
対応して３つの比較的小さなビーム通過孔を有し、この
部分においてカソードＫからの電子ビームを制御，加速
し、いわゆる電子ビーム形成部GEとなる。次いで、第３
グリッドG3,第４グリッドG4,第５グリッドG5は同じく３
つのカソードＫに対応して３つの比較的大きなビーム通
過孔を有する。The cathode K is has a respective internal heaters, three electron beams B _R, B _G, generates the B _B. Also, the first
The grid G1 and the second grid G2 have three relatively small beam passage holes corresponding to the three cathodes K, and control and accelerate the electron beam from the cathode K in this portion, so-called electron beam forming unit. Become GE. Then the third
Same for grid G3, 4th grid G4, 5th grid G5
It has three relatively large beam passage holes corresponding to one cathode K.

第５グリッドG5の第６グリッドG6側には第７図に示す
如くインライン配列方向（Ｘ−Ｚ面）に垂直な方向に４
枚の電極（20），（21），（22），（23）が３つのビー
ム通過孔（52R），（52G），（52B）を挟むように配置
してあり、両側ビーム（B_R），（B_B）をはさむそれぞれ
２枚の電極（20），（21）と（22），（23）の電極のイ
ンライン配列方向（Ｘ−Ｚ面）の中心は両側ビーム通過
孔（52R），（52B）の中心よりも、それぞれ中央ビーム
とはインライン配列方向に外側へ偏心している。On the sixth grid G6 side of the fifth grid G5, as shown in FIG. 7, 4 in the direction perpendicular to the in-line arrangement direction (XZ plane).
The electrodes (20), (21), (22), (23) are arranged so as to sandwich the three beam passage holes (52R), (52G), (52B), and the beams on both sides ( _BR ). each two electrodes sandwiching the (B _B) (20), (21) and (22), the center on both sides beam passage holes of the inline direction of the electrode (23) (X-Z plane) (52R), Each of the central beams is eccentric outward from the center of (52B) in the in-line arrangement direction.

第６グリッドG6は第５グリッドG5側にインライン配列
方向に平行に２枚の電極（24），（25）が３つのビーム
通過孔（61R），（61G），（61B）の上下に配置してあ
り、第５グリッドG5側の４枚の電極（20），（21），
（22），（23）と第６グリッドG6側の２枚の電極（2
4），（25）は互いに重なるように配置されていて、第
５グリッドと第６グリッド間に電圧を印加すると、第５
グリッドの４枚の電極板と第６グリッドの２枚の電極板
との間に中央ビームに対しては対称４極子レンズが形成
され、両側ビームに対しては非対称４極子レンズが形成
されるようになっている。The sixth grid G6 has two electrodes (24) and (25) arranged on the fifth grid G5 side in parallel with the in-line arrangement direction above and below the three beam passage holes (61R), (61G) and (61B). The four electrodes (20), (21) on the 5th grid G5 side,
(22), (23) and the two electrodes (2
4) and (25) are arranged so as to overlap each other, and when a voltage is applied between the fifth grid and the sixth grid, the fifth grid
A symmetrical quadrupole lens is formed for the central beam and an asymmetric quadrupole lens is formed for both beams between the four electrode plates of the grid and the two electrode plates of the sixth grid. It has become.

また、第６グリッドG6の第５グリッドG5側には第５グ
リッドG5のビーム通過孔（52R），（52G），（52B）と
同じ大きさの３個のビーム通過孔（61R），（61G），
（61B）が設けてあり、第７グリッドG7側には１個の大
きな円形のビーム通過孔（62）が設けてある実質的に円
筒状の電極である。そしてこの円筒電極内部であって、
その長さ方向中間部にインライン配列方向（Ｘ方向）に
長径をもつトラツクフィールド形状のビーム通過孔（6
3）をもつ電極（60）が配置してある。Further, on the side of the fifth grid G5 of the sixth grid G6, there are three beam passage holes (61R), (61G) of the same size as the beam passage holes (52R), (52G), (52B) of the fifth grid G5. ),
(61B) is provided, and one large circular beam passage hole (62) is provided on the side of the seventh grid G7, which is a substantially cylindrical electrode. And inside this cylindrical electrode,
A track field-shaped beam passage hole (6 with a long diameter in the in-line arrangement direction (X direction) is provided in the middle of the length direction.
The electrode (60) with 3) is arranged.

このビーム通過孔（63）は、第６グリッドG6の第７グ
リッド側端部から所定距離ａだけ離れたところにあり、
大円形ビーム通過孔（62）の直径D6に対し、ａ＞D6の関
係にある。This beam passage hole (63) is located at a predetermined distance a from the end of the sixth grid G6 on the seventh grid side,
There is a relationship of a> D6 with respect to the diameter D6 of the large circular beam passage hole (62).

第７グリッドG7は、第６グリッドG6と一部重なり、円
筒状電極である第６グリッドG6を包含した実質的に円筒
状の電極であり、第６グリッドG6の円形のビーム通過孔
（62）との間に実質的に大口径円筒レンズを形成する。The seventh grid G7 is a substantially cylindrical electrode that partially overlaps with the sixth grid G6 and includes the sixth grid G6 that is a cylindrical electrode, and the circular beam passage hole (62) of the sixth grid G6. To form a substantially large-diameter cylindrical lens.

第７グリッドG7の円筒状電極の内部であって、第６グ
リッド端部からスクリーン部（２）側へ所定距離ｂだけ
離れたところに、インライン配列方向（Ｘ方向）に短径
をもつトラックフィールド形状のビーム通過孔（73）を
もつ電極（70）が設けてあり、第７グリッドG7の円筒径
D₇に対し、ｂ＜D7の関係にある。A track field having a short diameter in the in-line arrangement direction (X direction) inside the cylindrical electrode of the seventh grid G7 and at a predetermined distance b from the end of the sixth grid toward the screen portion (2). An electrode (70) having a beam passage hole (73) in the shape is provided, and the cylindrical diameter of the seventh grid G7
With respect to D _7, a relationship of b <D7.

また、本実施例においてはａ＞ｂとしている。第６図
に電極（60）と（70）を示す。In this embodiment, a> b. The electrodes (60) and (70) are shown in FIG.

第７グリッドG7の先端外周には、バルブスペーサ（11
2）が付いていて、ファンネル（４）内壁からネック
（５）内壁に塗布してある導電膜（10）と接触してい
て、ファンネルに設けてある陽極端子から陽極高電圧を
供給するようになっている。第７グリッドG7の先端に
は、偏向ヨークによる磁界に対する磁界修正素子をFC置
くこともできる。On the outer periphery of the tip of the seventh grid G7, a valve spacer (11
2) is attached so that the inner wall of the funnel (4) is in contact with the conductive film (10) applied to the inner wall of the neck (5) so that the anode terminal provided on the funnel supplies an anode high voltage. Has become. At the tip of the seventh grid G7, a magnetic field correction element FC for the magnetic field generated by the deflection yoke can be placed FC.

以上カソードK,第１グリッドG1から第７グリッドG7ま
で絶縁支持体BGによって固定支持されている。また、ネ
ツク（５）からファンネル（４）にかけて偏向ヨーク
（７）が取り付けられており、電子銃からの３本の電子
ビームB_R,B_G,B_Bを水平，垂直に偏向するための水平偏向
コイルと垂直偏向コイルから成る。さらにビームの軌道
の調整のために多極磁石（51）が配置してある。The cathode K, the first grid G1 to the seventh grid G7 are fixedly supported by the insulating support BG. Further, a deflection yoke (7) is attached from the neck (5) to the funnel (4), and the three electron beams B _R , B _G , and B _B from the electron gun are horizontally and vertically deflected. It consists of a deflection coil and a vertical deflection coil. Further, a multi-pole magnet (51) is arranged for adjusting the trajectory of the beam.

前記電子銃は、第７グリッドG7を除いて全ての電極は
ステムピン（113）を通じ外部より所定の電圧が印加さ
れるようになっている。In the electron gun, a predetermined voltage is externally applied to all the electrodes except the seventh grid G7 through the stem pins (113).

以上の電極構成において、例えば、カソードＫは約15
0Vのカットオフ電圧とし、これに映像信号を加え、第１
グリッドG1は接地電位とし、第２グリッドG2は500V〜1k
V,第３グリッドG3は５〜10kV,第４グリッドG4は500〜3k
V,第５グリッドG5は５〜10kV,第６グリッドG6は第５グ
リッドG5より僅かに高く５〜10kV,第７グリッドG7は陽
極高電圧の25〜35kVを印加する。In the above electrode configuration, for example, the cathode K is about 15
The cutoff voltage is 0 V, and the video signal is added to the cutoff voltage.
Grid G1 is at ground potential, second grid G2 is 500V-1k
V, 3rd grid G3 is 5-10kV, 4th grid G4 is 500-3k
V, the fifth grid G5 applies 5 to 10 kV, the sixth grid G6 applies slightly higher than the fifth grid G5, 5 to 10 kV, and the seventh grid G7 applies the anode high voltage of 25 to 35 kV.

このような電位構成とすることによって、各カソード
Ｋからその変調信号に応じて発生したビームはカソード
K,第１グリッドG1,第２グリッドG2により第３図，第４
図の如くクロスオーバCOを形成して、第２グリッドG2,
第３グリッドG3によるプリフォーカスレンズPLにより僅
かに集束され、仮想クロスオーバVCOを形成して、第３
グリッドG3の中へ発散しながらはいっていく。第３グリ
ッドG3へはいってきた各ビームB_R,B_G,B_Bは第３グリッド
G3から第７グリッドG7による主電子レンズ部ML1におい
て、集束作用且つ両側のビームは集中作用を受けてスク
リーン（２）上に集束・集中する。第３図，第４図はそ
れぞれ第１図，第２図に対応する等価光学的モデルであ
る。With such a potential configuration, the beam generated from each cathode K according to the modulation signal is
K, 1st grid G1, 2nd grid G2
A crossover CO is formed as shown in FIG.
The focus is slightly focused by the prefocus lens PL by the third grid G3 to form a virtual crossover VCO,
It goes into the grid G3 while diverging. The beams B _R , B _G , and B _B that have entered the third grid G3 are the third grid
In the main electron lens part ML1 from G3 to the seventh grid G7, the beam is focused and the beams on both sides are focused and focused on the screen (2). FIGS. 3 and 4 are equivalent optical models corresponding to FIGS. 1 and 2, respectively.

第３グリッドG3から第７グリッドG7までの主電子レン
ズ部のレンズ作用を第３図，第４図に示す等価光学モデ
ルを用いてさらに詳しく説明していく。The lens operation of the main electron lens section from the third grid G3 to the seventh grid G7 will be described in more detail using equivalent optical models shown in FIGS.

仮想クロスオーバVCOを形成して第３グリッドG3へは
いってきた個々の電子ビームは第３グリッドG3,第４グ
リッドG4,第５グリッドG5によって形成される個々の弱
いユニポテンシャルレンズEL2（第２の電子レンズ）に
よりそれぞれ少し集束される。The individual electron beams that form the virtual crossover VCO and enter the third grid G3 are individually weak uni-potential lenses EL2 (the second ones) formed by the third grid G3, the fourth grid G4, and the fifth grid G5. Each is slightly focused by an electron lens.

さて、第５グリッドG5には前述したようにインライン
配列方向（Ｘ−Ｚ平面）に垂直な方向に４枚の電極（2
0），（21），（22），（23）が配置してあり、第６グ
リッドG6にはインライン配列方向に平行な方向に２片の
電極（24），（25）が配置してあり、また電極（20），
（21）と（22），（23）のインライン配列方向（Ｘ−Ｚ
平面）の中心が第５グリッドG5のビーム通過孔（52
R），（52B）の中心よりも、それぞれ同方向に中央ビー
ムの外側へ偏心しているので第５グリッドG5と第６グリ
ッドG6間に電圧を印加すると、これらの電極間に中央ビ
ームに対しては対称４極子レンズQEL（Ｇ），両側ビー
ムに対しては非対称４極子レンズQEL（Ｒ）,QEL（Ｂ）
が形成される。Now, as described above, the fifth grid G5 has four electrodes (2 electrodes) in a direction perpendicular to the in-line arrangement direction (XZ plane).
0), (21), (22), (23) are arranged, and two pieces of electrodes (24), (25) are arranged on the sixth grid G6 in a direction parallel to the in-line arrangement direction. , Electrode (20),
(21) and (22), (23) in-line array direction (XZ
The center of the plane is the beam passage hole (52
R) and (52B) are eccentric to the outside of the central beam in the same direction from the center, so applying a voltage between the fifth grid G5 and the sixth grid G6 with respect to the central beam Is a symmetric quadrupole lens QEL (G), and is asymmetric quadrupole lens QEL (R), QEL (B) for both side beams
Is formed.

従ってここに入射する３電子ビームはレンズ作用を受
けて、それぞれ水平方向よりも垂直方向に強く発散し、
両側ビームは角度θで曲がり中央ビームから隔れるよう
にして大口径非対称レンズLELに向けて進行していく。
４極子レンズQELによる上記発散力の強さと、両側ビー
ムの入射角：θはスクリーンに映出される電子ビームの
歪や集中度により加減すべきであり、そのために前記６
枚の電極（20），（21），（22），（23），（24），
（25）の個々の寸法や相対間隔等が適切に選ばれる。本
発明においては４極子レンズQELから出る電子ビームは
垂直方向には強く発散し、水平方向には弱く集束したビ
ームとなるように４極子レンズQELを構成するのが最も
好ましい。Therefore, the three electron beams that enter here are affected by the lens action and diverge more strongly in the vertical direction than in the horizontal direction,
The beams on both sides bend at an angle θ and travel toward the large-diameter asymmetric lens LEL so as to be separated from the central beam.
The intensity of the divergent force due to the quadrupole lens QEL and the incident angle: θ of the beams on both sides should be adjusted depending on the distortion and concentration of the electron beam projected on the screen.
Sheet electrodes (20), (21), (22), (23), (24),
The individual dimensions and relative spacing of (25) are selected appropriately. In the present invention, it is most preferable to configure the quadrupole lens QEL so that the electron beam emitted from the quadrupole lens QEL is strongly diverged in the vertical direction and weakly focused in the horizontal direction.

このような４極子レンズQELを通過した電子ビームは
大口径レンズLELに入射すると、大口径レンズのレンズ
作用を受けて、最終的なスクリーンに映出される電子ビ
ームは良好な集中、集束特性を示す。When the electron beam that has passed through such a quadrupole lens QEL is incident on the large-diameter lens LEL, it is subjected to the lens function of the large-diameter lens, and the electron beam projected on the final screen shows good concentration and focusing characteristics. .

この点を第１図と第５図を用いて詳細に説明する。 This point will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 5.

大口径電子レンズ部LELは、前段部のレンズCLと後段
部のレンズDLとを有し、全体的には一つの大口径電子レ
ンズLELとして見ることができる。The large-diameter electron lens unit LEL has a front-stage lens CL and a rear-stage lens DL, and can be viewed as one large-diameter electron lens LEL as a whole.

即ち、第６グリッドG6の円筒電極内部には水平方向に
細長いビーム通過口（63）があるので、第７グリッドか
ら浸透する高圧電位はビーム通過口（63）によって歪
み、水平方向（Ｘ方向）には弱い集束力、垂直方向（Ｙ
方向）には強い集束力が作用する前段の集束レンズCLが
出来ることにになる。That is, since there is a horizontally elongated beam passage opening (63) inside the cylindrical electrode of the sixth grid G6, the high-voltage potential penetrating from the seventh grid is distorted by the beam passage opening (63), and the horizontal direction (X direction). Weak focusing power in the vertical direction (Y
In the direction), a converging lens CL in the front stage where a strong focusing force acts will be formed.

一方、第７グリッドG₇の円筒電極内部には垂直方向に
細長いビーム通過口（73）があるので、第６グリッドか
ら浸透する低圧電界はビーム通過口（73）によって歪
み、水平方向（Ｘ方向）には強い発散力、垂直方向（Ｙ
方向）には弱い発散力が作用する後段の発散レンズDLが
出来ることになる。そして、、大口径電子レンズLEL全
体としては、水平方向（Ｘ方向）に弱い集束が、垂直方
向（Ｙ方向）に強い集束が働くようにしている。即ち、
共通大口径非対称レンズを形造っている。On the other hand, since there is a vertically long and narrow beam passage opening (73) inside the cylindrical electrode of the seventh grid G ₇ , the low-voltage electric field penetrating from the sixth grid is distorted by the beam passage opening (73) and becomes horizontal (X direction). ) Has a strong divergence, vertical direction (Y
In the direction), a diverging lens DL at the latter stage where a weak diverging force acts will be created. As a whole of the large-diameter electron lens LEL, weak focusing works in the horizontal direction (X direction) and strong focusing works in the vertical direction (Y direction). That is,
It forms a common large-diameter asymmetric lens.

ここで実施例における集中および集束特性について説
明する。Here, the concentration and convergence characteristics in the embodiment will be described.

第３図に示すように、４極子レンズQELは、中央ビー
ムに対しては対称の４極子レンズQEL（Ｇ）が形成され
る。両側ビームに対しては、非対称４極子レンズQEL
（Ｒ）,QEL（Ｂ）が形成されるので両側ビームの軸は中
央ビームに対してθの角度で外側へ曲げられて各々共通
非対称大口径レンズに入射していく。共通大口径レンズ
から見た仮想クロスオーバーVCOは、３ビーム共一致し
た条件であるのでスクリーン上に良好な集中状態で映出
されることは容易に理解できる。As shown in FIG. 3, in the quadrupole lens QEL, a quadrupole lens QEL (G) symmetrical to the central beam is formed. Asymmetric quadrupole lens QEL for both beams
Since (R) and QEL (B) are formed, the axes of both side beams are bent outward at an angle of θ with respect to the central beam and enter the common asymmetric large aperture lens. It is easy to understand that the virtual crossover VCO viewed from the common large-diameter lens has the same condition for the three beams, and therefore is projected on the screen in a good concentrated state.

次に電子ビームの集束特性について説明する。 Next, the focusing characteristic of the electron beam will be described.

４極子レンズQLEを通過する電子ビームはここを通過
する間に水平方向には僅かながら集束作用を受け、垂直
方向には発散作用を受ける。そして、大口径レンズLEL
では水平方向には弱いながら集束作用を受け、さらに垂
直方向には強く集束作用を受けるのでスクリーン上では
良好に集束したビームとなる。While passing through the quadrupole lens QLE, the electron beam is slightly focused in the horizontal direction and diverged in the vertical direction while passing therethrough. And large aperture lens LEL
In this case, the beam is weakly focused in the horizontal direction and is strongly focused in the vertical direction, so that the beam is well focused on the screen.

本実施例で示したG3,G4,G5間に形成される個々の弱い
ユニポテンシャルレンズEL2（第２の電子レンズ）は大
口径電子レンズ部LELへ入射するビームのビーム径や主
電子レンズ部ML1全体としての集束状態を調整するもの
であり、本発明では、大口径電子レンズのレンズ領域外
に設ける４極子レンズをこのレンズEL2部に設けること
もできる。The individual weak unipotential lens EL2 (second electron lens) formed between G3, G4, and G5 shown in this embodiment is the beam diameter of the beam incident on the large-aperture electron lens unit LEL and the main electron lens unit ML1. The focus state is adjusted as a whole, and in the present invention, a quadrupole lens provided outside the lens region of the large aperture electron lens can be provided in the lens EL2 portion.

従って、インラインに配列した３本の電子ビームは集
中すると共に各ビームはスクリーン上に実質的に丸く集
束する。Therefore, the three electron beams arranged in-line are focused and each beam is focused substantially round on the screen.

前記実施例の詳細な仕様は例えば以下のようになって
いる。The detailed specifications of the above embodiment are as follows, for example.

カソード間隔 Sg＝4.92mm 各電極の開孔径 G1φ,G2φ＝0.62mm G3φ,G4φ,G5φ,G6Bφ＝4.52mm G6Tφ＝D6＝25.0mm G7φ＝D7＝23.0mm 各電極の長さ G3＝6.2mm G4＝2.0mm G5＝35.4mm G6＝30.0mm 電極（20）〜（23）＝4mm 電極（24），（25）＝4mm 各電極の間隔 G1/G2＝0.35mm G2/G3＝1.2mm G3/G4,G4/G5＝0.6mm ａ＝11.0mm ｂ＝6.0mm ４極子レンズの間隔 電極（20）〜（21）＝4.52mm （21）〜（22）＝4.92mm （22）〜（23）＝4.92mm 電極（24）〜（25）＝7.0mm 前記実施例では、共通大口径非対称レンズとしてバイ
ポテンシャル型の円筒レンズを基本型とし、前段部ａの
距離に横長のビーム通過孔（48）後段部ｂの距離に縦長
のビーム通過孔（50）を配し、ａ＞ｂとすることによっ
て、後段部による水平方向の発散作用を強めているが、
本発明はこれに限らず、ａ＝ｂの場合もａ＜ｂの場合も
共通大口径非対称レンズは形成することができるし、さ
らには例えば前段部の横長ビーム通過孔をなくすことも
できる。もちろん、非円形のビーム通過孔も垂直方向か
水平方向より強い集束力をもつ大口径非対称レンズとな
すものであれば、適当に変化をもたせることができる。Cathode spacing Sg = 4.92mm Opening diameter of each electrode G1φ, G2φ = 0.62mm G3φ, G4φ, G5φ, G6Bφ = 4.52mm G6Tφ = D6 = 25.0mm G7φ = D7 = 23.0mm Length of each electrode G3 = 6.2mm G4 = 2.0mm G5 = 35.4mm G6 = 30.0mm Electrodes (20) to (23) = 4mm Electrodes (24), (25) = 4mm Spacing between electrodes G1 / G2 = 0.35 mm G2 / G3 = 1.2mm G3 / G4, G4 / G5 = 0.6mm a = 11.0mm b = 6.0mm Quadrupole lens spacing Electrode (20)-(21) = 4.52mm (21)-(22) = 4.92 mm (22) to (23) = 4.92 mm Electrodes (24) to (25) = 7.0 mm In the above embodiment, a bipotential type cylindrical lens is used as the basic type as the common large-diameter asymmetric lens, and the distance of the front part a is By arranging the vertically long beam passage hole (50) at the distance of the horizontally long beam passage hole (48) rear stage portion b and setting a> b, the diverging action in the horizontal direction by the rear stage portion is strengthened.
The present invention is not limited to this, and it is possible to form a common large-aperture asymmetric lens both when a = b and when a <b, and it is also possible to eliminate, for example, a horizontally long beam passage hole in the front part. Of course, the non-circular beam passage hole can be appropriately changed as long as it is a large aperture asymmetric lens having a stronger focusing power than the vertical or horizontal direction.

また、バイポテンシャル型円筒レンズ以外にユニポテ
ンシャル型レンズや拡張電界型レンズ等も使用できるこ
とは言うまでもない。Needless to say, a unipotential lens, an extended electric field lens, or the like can be used in addition to the bipotential cylindrical lens.

また、前記実施例では、共通大口径非対称レンズLEL
へ入射する独立した３本の電子ビームの各々を水平方向
断面で弱く集束し、垂直方向断面で発散し、両側ビーム
を中央ビームから離れるように曲がるために第５グリッ
ドG5と第６グリッドG6の間に非対称４極子レンズQELを
設けているが、本発明はこれに限らず前述したように、
第４グリッドG4部に非対称４極子レンズを作ることもで
きる。In the above embodiment, the common large-aperture asymmetric lens LEL is used.
Each of the three independent electron beams incident on is weakly focused in the horizontal cross section, diverges in the vertical cross section, and both side beams are bent to move away from the central beam. An asymmetric quadrupole lens QEL is provided between them, but the present invention is not limited to this, and as described above,
It is also possible to make an asymmetric quadrupole lens in the fourth grid G4 part.

本発明の他の実施例を以下に示す。 Another embodiment of the present invention will be described below.

第８図（ａ），（ｂ）は、各々第５グリッドG5の第６
グリッド側と第６グリッドG6の第５グリッドG5側の正面
図であり、この間に４極子が形成される。FIGS. 8 (a) and 8 (b) respectively show the sixth grid of the fifth grid G5.
It is a front view of the grid side and the 5th grid G5 side of the 6th grid G6, and a quadrupole is formed between these.

第８図（ａ）において第５グリッドG5には略矩形の孔
が３つ開いておりその孔のインライン配列方向（Ｘ方
向）の中心は、中央矩形孔（220）は中央の円形ビーム
通過孔（52G）と一致し、両側の矩形孔（210），（23
0）は両側の円形ビーム通過孔（52B），（52R）の中心
よりも中央ビームとは反対方向に偏心している。In FIG. 8 (a), three substantially rectangular holes are opened in the fifth grid G5, and the center of the holes in the in-line arrangement direction (X direction) is the central rectangular hole (220) which is the circular beam passage hole in the center. (52G), rectangular holes (210), (23
0) is eccentric in the direction opposite to the center beam with respect to the centers of the circular beam passage holes (52B) and (52R) on both sides.

第８図（ｂ）において第６グリッドG6の第５グリッド
G5側には、３つの電子ビームに共通の１つの略矩形の孔
（240）があいている。The fifth grid of the sixth grid G6 in FIG. 8 (b)
On the G5 side, there is one substantially rectangular hole (240) common to the three electron beams.

このような構造の電極を用いても先に述べた実施例の
如く第５グリッドG5と第６グリッドG6の間に電位差を与
えれば中央ビームに対し、水平方向よりも垂直方向に強
く発散する対称４極子と、両側ビームに対し水平方向よ
りも垂直方向に強く発散し、かつ中央ビームから離れる
ように作用する非対称４極子レンズを形成することがで
きる。Even if an electrode having such a structure is used, if a potential difference is applied between the fifth grid G5 and the sixth grid G6 as in the above-described embodiment, the symmetry diverges more strongly in the vertical direction than in the horizontal direction with respect to the central beam. It is possible to form a quadrupole and an asymmetric quadrupole lens that diverges more strongly in the vertical direction than in the horizontal direction for both side beams and acts away from the central beam.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上述べたように、本発明のカラー受像管装置によれ
ば、共通大口径電子レンズの性能を充分に発揮させて、
この共通大口径電子レンズによりカソードから発生した
平行な３本の電子ビームをそれぞれ同時に最適集束状態
ならびに最適集中状態でスクリーン面上に集束させるこ
とができる。As described above, according to the color picture tube apparatus of the present invention, the performance of the common large-aperture electron lens is sufficiently exhibited,
With this common large-diameter electron lens, three parallel electron beams generated from the cathode can be simultaneously focused on the screen surface in the optimal focusing state and the optimal focusing state.

したがって、スクリーン面上で非常に小さいビームス
ポットを実現することができ、画像性能の向上されたカ
ラー受像管装置を得ることができる。Therefore, a very small beam spot can be realized on the screen surface, and a color picture tube device with improved image performance can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第１図は本発明を実施したカラー受像管装置の要部Ｘ−
Ｚ断面図、第２図は本発明を実施したカラー受像管装置
の要部Ｙ−Ｚ断面図、第３図および第４図は第１図およ
び第２図に対応する光学的等価図、第５図は本発明の大
口径電子レンズを説明する図、第６図は本発明の大口径
非対称レンズを形成するための電極を示す正面図、第７
図は非対称４極子レンズを形成するための電極を示す正
面図、第８図（ａ）及び（ｂ）は非対称４極子レンズを
形成するための他の実施例を示す電極の正面図、第９図
は一般的なカラー受像管装置の概略断面図、第10図およ
び第11図は従来技術の説明図である。 １……カラー受像管装置図 100……電子銃部 ７……偏向装置 ２……スクリーン GE……電子ビーム形成部 ML1……主電子レンズ部 QEL……非対称レンズ LEL……共通大口径レンズFIG. 1 shows a main part X- of a color picture tube apparatus embodying the present invention.
Z sectional view, FIG. 2 is a YZ sectional view of a main part of a color picture tube apparatus embodying the present invention, FIGS. 3 and 4 are optical equivalent diagrams corresponding to FIG. 1 and FIG. FIG. 5 is a diagram for explaining the large-diameter electron lens of the present invention, and FIG. 6 is a front view showing electrodes for forming the large-diameter asymmetric lens of the present invention.
The figure is a front view showing an electrode for forming an asymmetric quadrupole lens, and FIGS. 8A and 8B are front views of an electrode showing another embodiment for forming an asymmetric quadrupole lens. FIG. 1 is a schematic sectional view of a general color picture tube device, and FIGS. 10 and 11 are explanatory views of a conventional technique. 1 ... Color picture tube apparatus figure 100 ... Electron gun unit 7 ... Deflecting device 2 ... Screen GE ... Electron beam forming unit ML1 ... Main electron lens unit QEL ... Asymmetric lens LEL ... Common large-diameter lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下河邊 慈郎 埼玉県深谷市幡羅町１―９―２ 株式会 社東芝深谷ブラウン管工場内 (56)参考文献 特開 平１−267939（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−188838（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−250933（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−69（ＪＰ，Ａ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Jiro Shimokawa 1-9-2 Harara-cho, Fukaya-shi, Saitama Stock company Toshiba Fukaya CRT factory (56) Reference JP-A-1-267939 (JP, A) ) JP-A-61-188838 (JP, A) JP-A-61-250933 (JP, A) JP-A-53-69 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】インライン形電子銃部、偏向部、およびス
クリーン部を備え、前記電子銃から発射される電子ビー
ムを偏向部により垂直方向および水平方向に偏向走査す
るカラー受像管装置において、 前記電子銃部は３本の電子ビームを発生、加速、制御す
る電子ビーム形成部と、この電子ビームを集束、集中さ
せる主電子レンズ部とを備え、 この主電子レンズ部には、３本の電子ビームに共通に作
用し且つ電子ビームに作用する水平方向の集束力よりも
垂直方向の集束力の方が強くされた大口径非対称電子レ
ンズを有し、 この大口径非対称電子レンズは、３本の電子ビームに対
して共通な円筒電子レンズと、この円筒電子レンズのレ
ンズ領域内にあって、３電子ビームを共通に通過させる
非円形ビーム通過口を有し、 前記大口径非対称電子レンズの前段には中央の電子ビー
ムに対して水平方向よりも垂直方向に強く発散する作用
を有する対称４極子レンズ部と、両側の電子ビームに対
して、水平方向よりも垂直方向に強く発散し、かつ、両
側の電子ビームが中央の電子ビームから離れるような作
用を有する非対称４極子レンズ部を備えたことを特徴と
するカラー受像管装置。1. A color picture tube apparatus comprising an in-line type electron gun section, a deflection section, and a screen section, wherein an electron beam emitted from the electron gun is deflected and scanned by the deflection section in vertical and horizontal directions. The gun unit includes an electron beam forming unit that generates, accelerates, and controls three electron beams, and a main electron lens unit that focuses and concentrates the electron beams. The main electron lens unit includes three electron beams. Has a large-aperture asymmetric electron lens in which the vertical focusing force is stronger than the horizontal focusing force acting on the electron beam. A cylindrical electron lens common to the beams, and a non-circular beam passage opening for passing three electron beams in common in the lens area of the cylindrical electron lens, In the front stage of the lens, there is a symmetrical quadrupole lens part that has the effect of diverging more strongly in the vertical direction than in the horizontal direction with respect to the central electron beam, and with respect to the electron beams on both sides, it diverges stronger in the vertical direction than in the horizontal direction. A color picture tube device, further comprising an asymmetric quadrupole lens part having a function of separating the electron beams on both sides from the central electron beam.