JP2683105B2 - Ｎ‐ヒドロキシピラゾールの製法 - Google Patents
Ｎ‐ヒドロキシピラゾールの製法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は,N−ヒドロキシピラゾール及びその誘導体を
相当するピラゾールから製造する方法に関する。
相当するピラゾールから製造する方法に関する。
Ｎ−ヒドロキシピラゾール及びその誘導体は、広い生
物学的作用スペクトルを有する物質を製造するための重
要な中間生成物である。例えばDE3409317には、Ｎ−ヒ
ドロキシピラゾールからのアンモニウム窒素に対する有
用な硝化阻害物の製造が記載されている。さらにDE3532
880には、ヒスタミン−H2−受容体への選択的な作用を
有する化合物としての、Ｎ−ヒドロキシピラゾールの1,
4−ジ置換誘導体の製造が記載されている。従つてＮ−
ヒドロキシピラゾールを製造するための有利な方法を見
出す試みが不足していたわけではない。
物学的作用スペクトルを有する物質を製造するための重
要な中間生成物である。例えばDE3409317には、Ｎ−ヒ
ドロキシピラゾールからのアンモニウム窒素に対する有
用な硝化阻害物の製造が記載されている。さらにDE3532
880には、ヒスタミン−H2−受容体への選択的な作用を
有する化合物としての、Ｎ−ヒドロキシピラゾールの1,
4−ジ置換誘導体の製造が記載されている。従つてＮ−
ヒドロキシピラゾールを製造するための有利な方法を見
出す試みが不足していたわけではない。
DE−OS3031385によれば、Ｎ−ヒドロキシピラゾール
は構成要素であるアゾジカルボン酸エステル、シクロペ
ンタジエン、ニトリルオキシド及び過酸化物からの多段
階合成により製造される。この方法の欠点は、多段階の
反応操作、小さい収率、並びにＮ−ヒドロキシピラゾー
ルがイソオキサゾールとの混合物として得られることで
ある。
は構成要素であるアゾジカルボン酸エステル、シクロペ
ンタジエン、ニトリルオキシド及び過酸化物からの多段
階合成により製造される。この方法の欠点は、多段階の
反応操作、小さい収率、並びにＮ−ヒドロキシピラゾー
ルがイソオキサゾールとの混合物として得られることで
ある。
核置換されたＮ−ヒドロキシピラゾールは、例えばJ.
Org.Chem.34巻1969年187〜194頁によれば、対応して置
換されたα，β−不飽和オキシムのニトロシル化及びこ
れに続く得られた3,4−ジアザシクロペンタジエノンジ
オキシドの還元により製造することができる。この方法
の欠点は、多段階の操作法、並びに核置換されたＮ−ヒ
ドロキシピラゾールしか製造できないことである。
Org.Chem.34巻1969年187〜194頁によれば、対応して置
換されたα，β−不飽和オキシムのニトロシル化及びこ
れに続く得られた3,4−ジアザシクロペンタジエノンジ
オキシドの還元により製造することができる。この方法
の欠点は、多段階の操作法、並びに核置換されたＮ−ヒ
ドロキシピラゾールしか製造できないことである。
従つて本発明の課題は、Ｎ−ヒドロキシピラゾール並
びに核置換されたＮ−ヒドロキシピラゾールの製造を可
能にする簡単かつ経済的な方法を見出すことであつた。
びに核置換されたＮ−ヒドロキシピラゾールの製造を可
能にする簡単かつ経済的な方法を見出すことであつた。
本発明者らは意外にも、相当するピラゾールをそのア
ルカル金属塩に変え、そしてこの塩を定義された反応条
件下でジアシルパーオキシド好ましくはジベンゾイルパ
ーオキシドと反応させるとき、Ｎ−ヒドロキシピラゾー
ル自体並びに核置換されたＮ−ヒドロキシピラゾールが
簡単な手段で得られることを見出した。
ルカル金属塩に変え、そしてこの塩を定義された反応条
件下でジアシルパーオキシド好ましくはジベンゾイルパ
ーオキシドと反応させるとき、Ｎ−ヒドロキシピラゾー
ル自体並びに核置換されたＮ−ヒドロキシピラゾールが
簡単な手段で得られることを見出した。
一級及び二級の脂肪族アミンを過酸化水素又はそのア
シル誘導体例えばジベンゾイルパーオキシドと触媒と結
合して反応させ、続いてその際生成したＯ−ベンゾイル
−Ｎ−ヒドロキシルアミンをけん化すると、ヒドロキシ
ルアミンを製造できることが公知であつたが（ホウベン
−ワイル著メトーデン・デル・オルガニツシエン・ヘミ
ー第10/1巻、チーメ出版社、1971年1135〜1137頁参
照）、この文献においてこの反応は、明らかに脂肪族ア
ミンに限られている。
シル誘導体例えばジベンゾイルパーオキシドと触媒と結
合して反応させ、続いてその際生成したＯ−ベンゾイル
−Ｎ−ヒドロキシルアミンをけん化すると、ヒドロキシ
ルアミンを製造できることが公知であつたが（ホウベン
−ワイル著メトーデン・デル・オルガニツシエン・ヘミ
ー第10/1巻、チーメ出版社、1971年1135〜1137頁参
照）、この文献においてこの反応は、明らかに脂肪族ア
ミンに限られている。
本発明の対象は、（Ａ）一般式 （式中R1、R2及びR3は後記の式Ｉの場合と同じ意味を有
する）で表わされるピラゾールを、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属重炭酸塩に
より一般式 （式中R1、R2及びR3は後記の式Ｉの場合と同じ意味を有
し、Me はアルカリ金属のカチオンを意味する）で表わ
される金属塩に変え、そして（Ｂ）得られた一般式III
の金属塩をジアシルパーオキシドと反応させることを特
徴とする、一般式 （式中R1、R2及びR3は同一でも異なつてもよく、水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子又はアリール基を意味
し、あるいは置換基R1とR2又はR2とR3はこれらの基が結
合している炭素原子と一緒になつて、５個又は６個の炭
素原子を有する芳香族又は非芳香族の環を意味する）で
表わされるＮ−ヒドロキシピラゾールの製法である。
する）で表わされるピラゾールを、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属重炭酸塩に
より一般式 （式中R1、R2及びR3は後記の式Ｉの場合と同じ意味を有
し、Me はアルカリ金属のカチオンを意味する）で表わ
される金属塩に変え、そして（Ｂ）得られた一般式III
の金属塩をジアシルパーオキシドと反応させることを特
徴とする、一般式 （式中R1、R2及びR3は同一でも異なつてもよく、水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子又はアリール基を意味
し、あるいは置換基R1とR2又はR2とR3はこれらの基が結
合している炭素原子と一緒になつて、５個又は６個の炭
素原子を有する芳香族又は非芳香族の環を意味する）で
表わされるＮ−ヒドロキシピラゾールの製法である。
一般式IIのピラゾールとしては、例えばインダゾー
ル、３−フエニル−ピラゾール、４−フエニル−ピラゾ
ール、3,5−ジフエニル−ピラゾール、3,4,5−トリフエ
ニル−ピラゾール、3,5−ジフエニル−４−メチル−ピ
ラゾール、4,5−ジメチル−ピラゾール及び3,4,5−トリ
メチル−ピラゾールが用いられる。
ル、３−フエニル−ピラゾール、４−フエニル−ピラゾ
ール、3,5−ジフエニル−ピラゾール、3,4,5−トリフエ
ニル−ピラゾール、3,5−ジフエニル−４−メチル−ピ
ラゾール、4,5−ジメチル−ピラゾール及び3,4,5−トリ
メチル−ピラゾールが用いられる。
式IIの好ましいピラゾールは、例えばピラゾール自
体、４−クロル−ピラゾール、４−ブロム−ピラゾー
ル、４−ヨード−ピラゾール及び3,5−ジメチル−ピラ
ゾールである。
体、４−クロル−ピラゾール、４−ブロム−ピラゾー
ル、４−ヨード−ピラゾール及び3,5−ジメチル−ピラ
ゾールである。
ピラゾールを一般式IIIのその金属塩に変えること
は、自体公知の手段で、ピラゾールを不活性溶剤中でア
ルカリ金属水酸化物、アルカリ金属水素化物又はアルカ
リ金属炭酸塩と０〜50℃の温度で反応させることにより
行われる。
は、自体公知の手段で、ピラゾールを不活性溶剤中でア
ルカリ金属水酸化物、アルカリ金属水素化物又はアルカ
リ金属炭酸塩と０〜50℃の温度で反応させることにより
行われる。
ジアシルパーオキシドとしては、対称の脂肪族又は芳
香族ジアシルパーオキシドが用いられる。例えばジラウ
リルパーオキシド、ジデカノイルパーオキシド、ビス−
（3,5,5−トリメチル−ヘキサノイル）−パーオキシ
ド、ビス−（３−クロル−ベンゾイル）−パーオキシド
及びビス−（2,4−ジクロル−ベンゾイル）−パーオキ
シドがあげられる。対称ジアシルパーオキシドは、H2O2
をカルボン酸クロリドとアルカリ金属水酸化物又はアル
カリ金属炭酸塩の存在化に反応させることにより、簡単
な手段で製造できる。しかし非対称ジアシルパーオキシ
ド、例えばフエニルアセチルパーオキシドも本発明の反
応に用いることができる。このものは、パーカルボン酸
をカルボン酸クロリドとアルカリ金属の水酸化物又は炭
酸塩の存在下に反応させることにより得られる。ジベン
ゾイルパーオキシドを用いることが特に有利である。
香族ジアシルパーオキシドが用いられる。例えばジラウ
リルパーオキシド、ジデカノイルパーオキシド、ビス−
（3,5,5−トリメチル−ヘキサノイル）−パーオキシ
ド、ビス−（３−クロル−ベンゾイル）−パーオキシド
及びビス−（2,4−ジクロル−ベンゾイル）−パーオキ
シドがあげられる。対称ジアシルパーオキシドは、H2O2
をカルボン酸クロリドとアルカリ金属水酸化物又はアル
カリ金属炭酸塩の存在化に反応させることにより、簡単
な手段で製造できる。しかし非対称ジアシルパーオキシ
ド、例えばフエニルアセチルパーオキシドも本発明の反
応に用いることができる。このものは、パーカルボン酸
をカルボン酸クロリドとアルカリ金属の水酸化物又は炭
酸塩の存在下に反応させることにより得られる。ジベン
ゾイルパーオキシドを用いることが特に有利である。
本発明方法は種々の手段で有利に実施することができ
る。式IIのピラゾールを不活性有機溶剤中で自体公知の
手段で式IIIのその金属塩に変え、続いて得られた式III
の金属塩の溶液又は懸濁液に、不活性溶剤中のできるだ
け乾燥したジベンゾイルパーオキシドの溶液を、反応温
度が０〜60℃好ましくは５〜20℃になるように添加する
ことができる。
る。式IIのピラゾールを不活性有機溶剤中で自体公知の
手段で式IIIのその金属塩に変え、続いて得られた式III
の金属塩の溶液又は懸濁液に、不活性溶剤中のできるだ
け乾燥したジベンゾイルパーオキシドの溶液を、反応温
度が０〜60℃好ましくは５〜20℃になるように添加する
ことができる。
この反応に必要なジベンゾイルパーオキシドは、H2O2
を塩化ベンゾイルとアルカリ金属水酸化物又はアルカリ
金属炭酸塩の存在下に反応させることにより、簡単な手
段で製造できる。このものは乾燥状態で又は湿潤状態で
も使用でき、乾燥ジベンゾイルパーオキシドの溶液を用
いて操作するときに、最良の収率が達成される。
を塩化ベンゾイルとアルカリ金属水酸化物又はアルカリ
金属炭酸塩の存在下に反応させることにより、簡単な手
段で製造できる。このものは乾燥状態で又は湿潤状態で
も使用でき、乾燥ジベンゾイルパーオキシドの溶液を用
いて操作するときに、最良の収率が達成される。
この反応のための溶剤としては、脂肪族エーテル例え
ばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル及びジエ
チレングリコールジメチルエーテル；脂肪族炭化水素例
えばペンタン、ヘキサン及びシクロヘキサン；環状エー
テル例えばテトラヒドロフラン（THF）及びジオキサ
ン、並びに芳香族炭化水素例えばベンゾール及びトルオ
ールが適している。
ばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル及びジエ
チレングリコールジメチルエーテル；脂肪族炭化水素例
えばペンタン、ヘキサン及びシクロヘキサン；環状エー
テル例えばテトラヒドロフラン（THF）及びジオキサ
ン、並びに芳香族炭化水素例えばベンゾール及びトルオ
ールが適している。
ジエチルエーテル、THF及びトルオールを用いること
が特に有利である。
が特に有利である。
この場合III:ジベンゾイルパーオキシドの量比は1:1
と5:1の間で変更できる。好ましくは過剰のピラゾール
塩IIIを用いて、すなわち2:1ないし3:1の比率で操作す
る。
と5:1の間で変更できる。好ましくは過剰のピラゾール
塩IIIを用いて、すなわち2:1ないし3:1の比率で操作す
る。
一般に反応は添加の終了後に完結する。しかし多くの
場合、反応混合物を室温で短時間さらに撹拌することが
好ましい。
場合、反応混合物を室温で短時間さらに撹拌することが
好ましい。
しかし完全に乾燥したジベンゾイルパーオキシドを用
いて操作することは、必ずしも必要でない。きわめて少
量の水分、又はピラゾール１当量につき約１当量の水の
存在（これは式IIIの金属塩の製造の際にピラゾール及
びアルカリ金属水酸化物から形成される）は、ヒドロキ
シピラゾールの収率をきわめてわずかしか低下させな
い。
いて操作することは、必ずしも必要でない。きわめて少
量の水分、又はピラゾール１当量につき約１当量の水の
存在（これは式IIIの金属塩の製造の際にピラゾール及
びアルカリ金属水酸化物から形成される）は、ヒドロキ
シピラゾールの収率をきわめてわずかしか低下させな
い。
しかし水と混和できないか又はわずかしか混和できな
い溶剤中で反応を行い、そして反応混合物に触媒量の相
転移触媒例えば四級アンモニウム塩を添加する場合に
は、大量の水の存在下でもきわめて有利に操作すること
ができる。
い溶剤中で反応を行い、そして反応混合物に触媒量の相
転移触媒例えば四級アンモニウム塩を添加する場合に
は、大量の水の存在下でもきわめて有利に操作すること
ができる。
従つて本発明の対象は、 Ａ）一般式IIのピラゾールを水中で自体公知の手段で、
アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸塩により、
一般式IIIのその金属塩の溶液又は懸濁液に変え、そし
て Ｂ）得られた一般式IIIの金属塩又はその水中の溶液も
しくは塩濁液を、水及び不活性の水と混合できないか又
はわずかしか混合できない有機溶剤からの２相系中で、
好適な相転移触媒の存在下にジベンゾイルパーオキシド
と反応させることを特徴とする、 一般式Ｉのヒドロキシピラゾールの製造でもある。
アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸塩により、
一般式IIIのその金属塩の溶液又は懸濁液に変え、そし
て Ｂ）得られた一般式IIIの金属塩又はその水中の溶液も
しくは塩濁液を、水及び不活性の水と混合できないか又
はわずかしか混合できない有機溶剤からの２相系中で、
好適な相転移触媒の存在下にジベンゾイルパーオキシド
と反応させることを特徴とする、 一般式Ｉのヒドロキシピラゾールの製造でもある。
本発明方法のこの変法は、大量の水（多くの場合25の
水）により減感された固体の形で市販されているジベン
ゾイルパーオキシドを用いることができ、これによりほ
とんど乾燥したジベンゾイルパーオキシドの溶液を用い
て操作する際に無視しえない特別の安全手段を講しなく
てよいという大きな利点を有する。
水）により減感された固体の形で市販されているジベン
ゾイルパーオキシドを用いることができ、これによりほ
とんど乾燥したジベンゾイルパーオキシドの溶液を用い
て操作する際に無視しえない特別の安全手段を講しなく
てよいという大きな利点を有する。
本発明方法のためには、多数の相転移触媒（一般的概
説についてV.Dehmlow著アンゲヴアンテ・ヘミー89巻197
7年521〜533頁参照）を用いることができる。特に好ま
しい相転移触媒（PTK）は下記のものである。
説についてV.Dehmlow著アンゲヴアンテ・ヘミー89巻197
7年521〜533頁参照）を用いることができる。特に好ま
しい相転移触媒（PTK）は下記のものである。
1.一般式 （式中R4、R5、R6及びR7は同一でも異なつてもよく、１
〜22個の炭素原子を有するアルキル基、又は機能性基例
えば水酸基、カルボンアミドもしくはエーテル基を含有
する25個までの炭素原子を有するアルキル基、例えばメ
チル基、エチル基、（イソ）プロピル基、ブチル基、オ
クチル基、ドデシル基、−C16H33、ヒドロキシ（イソ）
プロピル基又は 並びにフエニル基又はフエニル基により置換された20個
までの炭素原子を有するアルキル基例えばベンジル基を
意味してよく、そしてＸ は酸のアニオン例えばJ-、Cl
-、Br-、（HSO4）−、（CN）−、（BF4）−又はOH-を意
味する）で表わされる四級アンモニウム塩、特にきわめ
て安価なトリメチルベンジルアンモニウムクロリド（こ
れは50％水溶液の形で使用できる）、並びにトリカプチ
ルメチルアンモニウムクロリド；そして 2.一般式 （式中R4、R5、R6、R7及びＸ は式IVの場合と同じ意味
を有しうる）で表わされるテトラアルキルホスホニウム
塩、特にトリ−ｎ−オクチル−メチルホスホニウムクロ
リド。
〜22個の炭素原子を有するアルキル基、又は機能性基例
えば水酸基、カルボンアミドもしくはエーテル基を含有
する25個までの炭素原子を有するアルキル基、例えばメ
チル基、エチル基、（イソ）プロピル基、ブチル基、オ
クチル基、ドデシル基、−C16H33、ヒドロキシ（イソ）
プロピル基又は 並びにフエニル基又はフエニル基により置換された20個
までの炭素原子を有するアルキル基例えばベンジル基を
意味してよく、そしてＸ は酸のアニオン例えばJ-、Cl
-、Br-、（HSO4）−、（CN）−、（BF4）−又はOH-を意
味する）で表わされる四級アンモニウム塩、特にきわめ
て安価なトリメチルベンジルアンモニウムクロリド（こ
れは50％水溶液の形で使用できる）、並びにトリカプチ
ルメチルアンモニウムクロリド；そして 2.一般式 （式中R4、R5、R6、R7及びＸ は式IVの場合と同じ意味
を有しうる）で表わされるテトラアルキルホスホニウム
塩、特にトリ−ｎ−オクチル−メチルホスホニウムクロ
リド。
さらに前記のPTKの混合物並びに担体上に固定されたP
TKも好適である。
TKも好適である。
PTKは本発明方法のために、ピラゾール１モルにつき
0.1〜１モル好ましくは0.3〜0.5モルの量で用いられ
る。
0.1〜１モル好ましくは0.3〜0.5モルの量で用いられ
る。
金属塩IIIとジベンゾイルパーオキシドの量比は、こ
の変法においては若干高いと特に有利であることが知ら
れた。この比は1:1と10:1の間好ましくは3:1と6:1の間
で変更することができる。
の変法においては若干高いと特に有利であることが知ら
れた。この比は1:1と10:1の間好ましくは3:1と6:1の間
で変更することができる。
本発明方法にとつて下記の操作法が特に優れているこ
とが認められた。
とが認められた。
１） 市販の大量の水により減感されたジベンゾイルパ
ーオキシドを固体の形で室温において、水、アルカリ金
属水酸化物、式IIのピラゾール、相転移触媒及び水と混
合できないか又はわずかしか混合できない不活性溶剤か
ら製造された２相系に添加する。
ーオキシドを固体の形で室温において、水、アルカリ金
属水酸化物、式IIのピラゾール、相転移触媒及び水と混
合できないか又はわずかしか混合できない不活性溶剤か
ら製造された２相系に添加する。
２） 市販のジベンゾイルパーオキシドを、水、式IIの
ピラゾール、相転移触媒及び水と混合できないか又はわ
ずかしか混合できない不活性有機溶剤から成る２相系中
に装入し、そしてアルカリ金属水酸化物の添加により反
応を起こさせる。
ピラゾール、相転移触媒及び水と混合できないか又はわ
ずかしか混合できない不活性有機溶剤から成る２相系中
に装入し、そしてアルカリ金属水酸化物の添加により反
応を起こさせる。
しかし第１の操作法において用いられるジベンゾイル
パーオキシドを溶剤に溶解し、そして場合により析出し
た水を分離したのち、この溶液を２相系に添加すること
もできる。
パーオキシドを溶剤に溶解し、そして場合により析出し
た水を分離したのち、この溶液を２相系に添加すること
もできる。
アルカリ金属水酸化物としては、一般にNaOH又はKOH
が用いられる。このものは粉末状でも水溶液としても使
用できる。このものは、ピラゾール１モルにつき一般に
１〜10モル好ましくは１〜1.5モルの量で用いられる。
が用いられる。このものは粉末状でも水溶液としても使
用できる。このものは、ピラゾール１モルにつき一般に
１〜10モル好ましくは１〜1.5モルの量で用いられる。
水は、ピラゾール１モルにつき１〜100モル又はそれ
以上の量で反応混合物中に含有されていてよい。水と混
合できないか又はわずかしか混合できない溶剤として
は、例えば芳香族炭化水素例えばベンゾール又はトリオ
ール、ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム又はクロルベンゾール、又は脂肪族炭化水素例え
ばシクロヘキサンがあげられる。
以上の量で反応混合物中に含有されていてよい。水と混
合できないか又はわずかしか混合できない溶剤として
は、例えば芳香族炭化水素例えばベンゾール又はトリオ
ール、ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム又はクロルベンゾール、又は脂肪族炭化水素例え
ばシクロヘキサンがあげられる。
反応混合物を仕上げ処理するために、これに一般に水
を加え、そしてよく混合したのち水相を分別する。次い
で反応の際に生成した安息香酸を、水相を酸例えば硫酸
により酸性化することによつて沈殿させ、抽出し、又は
過により分離することができる。
を加え、そしてよく混合したのち水相を分別する。次い
で反応の際に生成した安息香酸を、水相を酸例えば硫酸
により酸性化することによつて沈殿させ、抽出し、又は
過により分離することができる。
続いて希望のＮ−ヒドロキシピラゾール及び過剰のピ
ラゾールを、弱酸性pH価において好適な溶剤例えば酢酸
エチルエステルを用いて抽出することにより有機相中に
移行させ、溶剤を蒸留除去したのち、蒸留により分離す
ることができる。このために、この混合物を弱アルカリ
性となし、回転蒸発器中で強い減圧（＞７ミリバール）
において蒸発濃縮する。固体の残留物を弱酸性となし、
そして例えば酢酸エチルエステルにより抽出する。酢酸
エステル相を乾燥して蒸発濃縮する。残つた残留物はシ
クロヘキサンから再結晶することができる。こうして過
剰に用いられ消費されなかつたピラゾールは回収され、
きわめて純粋なＮ−ヒドロキシピラゾールが得られる。
ラゾールを、弱酸性pH価において好適な溶剤例えば酢酸
エチルエステルを用いて抽出することにより有機相中に
移行させ、溶剤を蒸留除去したのち、蒸留により分離す
ることができる。このために、この混合物を弱アルカリ
性となし、回転蒸発器中で強い減圧（＞７ミリバール）
において蒸発濃縮する。固体の残留物を弱酸性となし、
そして例えば酢酸エチルエステルにより抽出する。酢酸
エステル相を乾燥して蒸発濃縮する。残つた残留物はシ
クロヘキサンから再結晶することができる。こうして過
剰に用いられ消費されなかつたピラゾールは回収され、
きわめて純粋なＮ−ヒドロキシピラゾールが得られる。
本発明方法によれば、多くの有効物質のための中間生
成物として要望されるＮ−ヒドロキシピラゾールが、き
わめて簡単かつ経済的な手段により、良好な収率及び純
粋な形で得られる。
成物として要望されるＮ−ヒドロキシピラゾールが、き
わめて簡単かつ経済的な手段により、良好な収率及び純
粋な形で得られる。
下記実施例により本発明方法を説明する。
実施例１ ａ） ピラゾール20.4g（0.3モル）をテトラヒドロフラ
ン（THF）500mlに溶解し、室温（RT）でパラフイン油中
のNaHの80重量％懸濁液9g（0.3モル）を少量ずつ加え
る。水素の発生が終了したのち、混合物を50℃に冷却
し、THF500mlに溶解したジベンゾイルパーオキシド（乾
燥）24.2g（0.1モル）を、反応混合物の温度が25℃を越
えないように加える。
ン（THF）500mlに溶解し、室温（RT）でパラフイン油中
のNaHの80重量％懸濁液9g（0.3モル）を少量ずつ加え
る。水素の発生が終了したのち、混合物を50℃に冷却
し、THF500mlに溶解したジベンゾイルパーオキシド（乾
燥）24.2g（0.1モル）を、反応混合物の温度が25℃を越
えないように加える。
添加終了後さらに10分間撹拌し、反応混合物に氷水及
び石油エーテル（沸点30〜60℃）を加えて振出する。水
相を分離し、硫酸を加えて酸性にする。シクロヘキサン
で数回抽出したのち、水相をKOH溶液の添加によりpH8と
なり、次いで強い減圧下に（＜７ミリバール／水溶液＞
30℃）蒸発濃縮する。沈殿した塩を少量の水に溶解し、
硫酸で弱酸性となし、酢酸エチルエステルで振出する。
有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を回転蒸発器中
で除去する。
び石油エーテル（沸点30〜60℃）を加えて振出する。水
相を分離し、硫酸を加えて酸性にする。シクロヘキサン
で数回抽出したのち、水相をKOH溶液の添加によりpH8と
なり、次いで強い減圧下に（＜７ミリバール／水溶液＞
30℃）蒸発濃縮する。沈殿した塩を少量の水に溶解し、
硫酸で弱酸性となし、酢酸エチルエステルで振出する。
有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を回転蒸発器中
で除去する。
収量:3.95g（反応したピラゾールに対し理論値の47％に
相当）、融点:74℃（文献の融点:74℃）。
相当）、融点:74℃（文献の融点:74℃）。
同様にして、相当する置換ピラゾールから次表に示す
Ｎ−ヒドロキシピラゾールが製造される。
Ｎ−ヒドロキシピラゾールが製造される。
実施例２ ａ） ピラゾール27.2g（0.4モル）をトルオール300ml
に溶解する。撹拌下にKOH粉末（88％）25.4g（0.43モ
ル）を加え、混合物を20℃に冷却する。ベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド0.3g（0.013モル）を加えた
のち、ジベンゾイルパーオキシド（水25％により安定
化）24.5g（0.075モル）を少量ずつ加え、その際反応フ
ラスコ中の温度を20℃に保持した。添加終了後、さらに
２時間撹拌し、次いで水100mlを加え、相分離する。水
相を硫酸で酸性となし、その際沈殿した安息香酸を別
する。液を弱酸性pH価でそれぞれ100mlの酢酸エチル
エステルで３回抽出し、一緒にした有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。次いで溶剤を回転蒸発器中で除去す
る。
に溶解する。撹拌下にKOH粉末（88％）25.4g（0.43モ
ル）を加え、混合物を20℃に冷却する。ベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド0.3g（0.013モル）を加えた
のち、ジベンゾイルパーオキシド（水25％により安定
化）24.5g（0.075モル）を少量ずつ加え、その際反応フ
ラスコ中の温度を20℃に保持した。添加終了後、さらに
２時間撹拌し、次いで水100mlを加え、相分離する。水
相を硫酸で酸性となし、その際沈殿した安息香酸を別
する。液を弱酸性pH価でそれぞれ100mlの酢酸エチル
エステルで３回抽出し、一緒にした有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。次いで溶剤を回転蒸発器中で除去す
る。
残つた油状の粗生成物を実施例１と同様に仕上げ処理
する。
する。
収量:4.2g（反応したピラゾールに対し理論値の75
％）。
％）。
同様にして、相当する置換ピラゾールから次表に示す
Ｎ−ヒドロキシピラゾールが製造される。
Ｎ−ヒドロキシピラゾールが製造される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロルフ・フイーケンチヤー ドイツ連邦共和国6700ルードウイツヒス ハーフエン・フオン‐シユテフアン‐シ ユトラーセ27
Claims (1)
- 【請求項１】（Ａ）一般式 （式中R1、R2及びR3は後記の式Ｉの場合と同じ意味を有
する）で表わされるピラゾールを、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属重炭酸塩に
より一般式 （式中R1、R2及びR3は後記の式Ｉの場合と同じ意味を有
し、Me はアルカリ金属のカチオンを意味する）で表わ
される金属塩に変え、そして（Ｂ）得られた一般式III
の金属塩をジアシルパーオキシドと反応させることを特
徴とする、一般式 （式中R1、R2及びR3は同一でも異なつてもよく、水素原
子、アルキル基、ハロゲン原子又はアリール基を意味
し、あるいは置換基R1とR2又はR2とR3はこれらの基が結
合している炭素原子と一緒になつて、５個又は６個の炭
素原子を有する芳香族又は非芳香族の環を意味する）で
表わされるＮ−ヒドロキシピラゾールの製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3820738A DE3820738A1 (de) | 1988-06-18 | 1988-06-18 | Verfahren zur herstellung von n-hydroxypyrazolen |
| DE3820738.9 | 1988-06-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0240365A JPH0240365A (ja) | 1990-02-09 |
| JP2683105B2 true JP2683105B2 (ja) | 1997-11-26 |
Family
ID=6356814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1150672A Expired - Fee Related JP2683105B2 (ja) | 1988-06-18 | 1989-06-15 | Ｎ‐ヒドロキシピラゾールの製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4945166A (ja) |
| EP (1) | EP0347676B1 (ja) |
| JP (1) | JP2683105B2 (ja) |
| DE (2) | DE3820738A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| DE3932552A1 (de) * | 1989-09-29 | 1991-04-11 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von 1-hydroxyimidazol |
| DE4214174A1 (de) * | 1992-04-30 | 1993-11-04 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von n-hydroxyazolen |
| US5849929A (en) * | 1997-09-26 | 1998-12-15 | Uniroyal Chemical Company, Inc. | Process for the preparation of imidazoline nitroxyl |
| CN102485632A (zh) * | 2011-11-11 | 2012-06-06 | 林汉丁 | 吊车吊钩偏角激光动态显示设置 |
| CN111841647B (zh) * | 2019-04-29 | 2023-03-21 | 沈阳中化农药化工研发有限公司 | 一种二茂铁衍生镍催化剂及其生成n1-取代吡唑类衍生物的应用 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3031385A1 (de) * | 1980-08-20 | 1982-04-08 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | 1-hydroxypyrazol und verfahren zu seiner herstellung |
| DE3205456A1 (de) * | 1982-02-16 | 1983-08-25 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Halogenierte 1-hydroxipyrazole und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3409317A1 (de) * | 1984-03-14 | 1985-09-19 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Nitrifikationsinhibierende 1-hydroxipyrazol-derivate |
| DE3532880A1 (de) * | 1985-09-14 | 1987-03-26 | Basf Ag | 1,4-disubstituierte pyrazolderivate |
| DE3620579A1 (de) * | 1986-06-19 | 1987-12-23 | Basf Ag | Hydroxypyrazol-derivate - verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung gegen mikoorganismen |
| DE3820739A1 (de) * | 1988-06-18 | 1989-12-21 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von n-hydroxypyrazolen |
-
1988
- 1988-06-18 DE DE3820738A patent/DE3820738A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-06-10 EP EP89110523A patent/EP0347676B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-10 DE DE89110523T patent/DE58905592D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-15 JP JP1150672A patent/JP2683105B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-16 US US07/367,053 patent/US4945166A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0347676B1 (de) | 1993-09-15 |
| JPH0240365A (ja) | 1990-02-09 |
| DE3820738A1 (de) | 1989-12-21 |
| US4945166A (en) | 1990-07-31 |
| EP0347676A1 (de) | 1989-12-27 |
| DE58905592D1 (de) | 1993-10-21 |
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