JP2664907B2 - 磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気記録再生装置Info
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- JP2664907B2 JP2664907B2 JP62213289A JP21328987A JP2664907B2 JP 2664907 B2 JP2664907 B2 JP 2664907B2 JP 62213289 A JP62213289 A JP 62213289A JP 21328987 A JP21328987 A JP 21328987A JP 2664907 B2 JP2664907 B2 JP 2664907B2
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- magnetic disk
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/488—Disposition of heads
- G11B5/4886—Disposition of heads relative to rotating disc
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明は、硬質の磁気ディスクを高速回転させなが
ら、磁気ディスク面の上に配置した磁気ヘッドにより記
録及び再生を行なう磁気記録再生装置に関する。 ＜従来の技術＞ この種の磁気記録再生装置は、周知のように、アルミ
ニュウムでなる剛性基体上に、磁性微粒子塗布法、メッ
キ法またはスパッタ法等の手段によって磁性薄膜を形成
した硬質の磁気ディスクを、高速回転させることによ
り、磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとの間に動圧を発
生させ、磁気ヘッドを、微小な空気ベアリングによる浮
上量を保って浮上させて、磁気記録．読み出しを行な
う。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ ところで、この種の磁気記録再生装置において、高密
度磁気記録を達成するためには、磁気ヘッドの浮上量を
できるだけ小さくし、スペーシングロスを減少させる必
要がある。ところが、浮上量を低下させて、スペーシン
グロスを減少させようとすると、磁気ディスクの表面性
や高速回転時の振動等の影響を受けて、磁気ディスクの
表面に磁気ヘッドが衝突し、磁気ディスクの損傷及びヘ
ッドクラッシュ等の問題を生じ易くなり、耐久性が低下
する。この問題点を回避するため、従来は、磁気ヘッド
２の浮上量ｇを0.1μｍ〜0.3μｍに設定して耐久性を確
保するようにしてあった。このため、スペーシングロス
の低減化と、それによる高密度磁気記録化に限界を生じ
ていた。 浮上量減少による高密度磁気記録を狙った従来技術と
しては、例えば特開昭61−287002号公報に記載された技
術が公知である。この公知技術では、剛性基体上にコバ
ルト系合金膜からなる垂直磁気記録層を形成した磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとを、実質的に接触させながら相対
的に高速移動させて記録再生を行なうものである。 しかし、この従来技術においては、硬度の低い金属膜
または合金膜として形成した垂直磁気記録層の表面に、
磁気ヘッドを実質的に接触させて記録再生を行なうの
で、磁気ディスクの損傷及びヘッドクラッシュ等を発生
し易いという問題を抱えており、耐久性に不安があっ
た。 ＜問題点を解決するための手段＞ 上述する従来の問題点を解決するため、本発明は、剛
性基体上に磁気記録層を設けたほぼ同一厚みを有する磁
気ディスクを高速回転させ、前記磁気ディスクと、前記
磁気ディスク面の上に配置された磁気ヘッドとの間に、
前記高速回転による動圧を発生させ、前記磁気ディスク
と前記磁気ヘッドとの間で、記録及び再生を行なう磁気
記録再生装置において、前記剛性基体を、ガラス、化学
強化されたソーダアルミノ珪酸ガラスまたはセラミック
の何れかを主成分とするものによって構成し、前記磁気
記録層の少なくとも表面層を酸化物層、窒化物層または
酸化皮膜とし、前記磁気ヘッドは、薄膜素子でなる読み
書き素子を備えており、少なくとも前記磁気ディスクの
最外周シリンダでは前記磁気ヘッドを前記磁気ディスク
面から浮上させ、前記磁気ディスクの少なくとも最内周
シリンダで、前記磁気ヘッドを前記磁気ディスク面に実
質的に接触させながら、記録及び再生を行なうことを特
徴とする。 ＜作用＞ 本発明においては、少なくとも最内周シリンダで、磁
気ヘッドを磁気ディスク面に実質的に接触させながら少
記録再生を行なうので、スペーシングロスが減少し、優
れた記録再生特性及び記録密度特性が得られる。 しかも、少なくとも磁気ディスクの最外周シリンダで
は磁気ヘッドを磁気ディスク面から浮上させるので、磁
気ヘッドが接触した場合のダメージが大きくなる外周側
において、磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触がおきに
くくなる。このため、耐久性が向上する。 また、磁気記録層の少なくとも表面層を、硬度の高い
酸化物層、窒化物層または酸化皮膜で構成するため、磁
気ディスクと磁気ヘッドとの接触によるダメージが小さ
くなり、耐久性が向上する。 剛性基体は、ガラス、化学強化されたソーダアルミノ
珪酸ガラスまたはセラミックの何れかを主成分とするも
のによって構成する。このような剛性基体を用いること
により、表面粗さＲMAXが100Å以下の磁気ディスクを得
ることができる。表面粗さＲMAXが100Å以下、特に50Å
以下の範囲では、磁気ディスクと磁気ヘッドとを実質的
に接触させて記録再生しても、ヘッド．クラッシュ等の
事故を回避し、耐久性を向上させると共に、スペーシン
グロスを減少させ、高密度記録を達成できる。 磁気ヘッドは、薄膜素子でなる読み書き素子を備えて
おり、従って、薄膜磁気ヘッドを備える磁気記録再生装
置を実現できる。これにより、高密度記録及び高速デー
タ転送にてきした磁気記録再生装置が実現される。 ＜実施例＞ 第１図は本発明に係る磁気記録再生装置の正面図、第
２図は同じくその平面図である。図において、１は磁気
ディスク、２は磁気ヘッド、３はジンバル系支持装置、
４はヘッド位置決め装置である。磁気ディスク１は図示
しない回転駆動機構により、矢印ａの方向に回転駆動さ
れる。磁気ヘッド２はジンバル系支持装置３によって支
持され、位置決め装置４により、回転直径O1上で、矢印
b1またはb2の方向に駆動されて位置決めされ、それによ
って所定のシリンダT1〜Tnにおいて、磁気記録．再生が
行なわれる。 ここで、少なくとも最内周シリンダT1で、磁気ヘッド
２を磁気ディスク１の面に実質的に接触させながら、記
録再生を行なう。かかる構成によると、スペーシングロ
スが減少し、優れた記録再生特性及び記録密度特性が得
られる。 また、磁気ディスク１は、後で詳説するように、磁気
記録層の少なくとも表面層を、硬度の高い酸化物層、窒
化物層または酸化皮膜で構成する。こうすることによ
り、磁気ディスク１と磁気ヘッド２との接触によるダメ
ージが小さくなり、耐久性が向上する。磁気ディスク１
の外周側シリンダでは、磁気ヘッド２は磁気ディスク１
の面から浮上させる。 磁気ディスク１は表面粗さＲMAXが100Å以下、望まし
くは50Å以下の表面性の良好な媒体とする。磁気ディス
ク１は、第３図に示すように、剛性基体101の表面に真
空成膜法によって磁気記録層102を形成してある。真空
成膜法によって形成される磁気記録層102の膜厚は0.5μ
ｍ程度以下であるので、剛性基体101の表面性がそのま
ま記録層102の表面性として反映される。従って、剛性
基体101としては、表面粗さＲMAXが100Å以下のものを
使用する。そのような剛性基体の具体例としては、ガラ
ス、化学強化されたソーダアルミノ珪酸ガラスまたはセ
ラミックを主成分とする剛性基体が適している。表面粗
さＲMAXが100Å以下、特に50Å以下の範囲では、磁気デ
ィスク１と磁気ヘッド２とを実質的に接触させて記録再
生しても、ヘッド．クラッシュ等の事故を回避し、耐久
性を向上させると共に、スペーシングロスを減少させ、
高密度記録を達成できる。 磁気記録層102は、硬度の高いγ−Fe2O3等の磁性酸化
物や磁性窒化物で構成することができる。また、磁気記
録層102の磁性層を金属や合金で構成した場合には、第
３図に示すように、表面に酸化物層、窒化物層102aを設
けるか、または第４図に示すように、表面を酸化皮膜10
2bとする。こうすることにより、磁気記録層102の表面
の硬度が増し、耐久性が向上し、磁気ヘッド２を実質的
に接触させて記録再生する場合にも、磁気ディスク１の
損傷を防止できる。酸化物層及び窒化物層102aは、反応
性スパッタ、反応性蒸着等によって形成できる。また、
酸化皮膜102bは、Co−CrまたはCo−Ni等のように、鉄、
コバルト、ニッケルのうち、少なくとも一種を含む金属
または合金でなる磁気記録層102の表面を、反応性プラ
ズマ処理等により、意図的に酸化して形成できる。磁気
ディスク１は、磁気記録層102の記録残留磁化が膜面に
対して垂直方向の成分を主成分とする垂直記録、膜面内
成分を主成分とする面内記録のいずれであってもよい。
図示は省略したが、磁気記録層102の表面に潤滑剤を塗
布してもよい。 第５図及び第６図は磁気ヘッド２とジンバル系支持装
置３の組立構造を示す図である。磁気ヘッド２は、セラ
ミック構造体でなるスライダ21の空気流出端部側に読み
書き素子22を付着させ、位置決め装置４によって駆動さ
れるジンバル系支持装置３により、浮上面23とは反対側
の面24に荷重を加えてピッチ運動及びロール運動を許容
するように支持する。読み書き素子22はIC製造テクノロ
ジと同様のプロセスにしたがって形成された薄膜素子で
ある。 支持装置３は位置決め装置４に取付けられる剛性アー
ム部31に、弾性金属薄板でなる支持体32の一端を、結合
具311、312によって取付け固定すると共に、支持体32の
長手方向の一端にある自由端に、同じく金属薄板でなる
可撓体33を取付け、この可撓体33の下面に、磁気ヘッド
２を取付けた構造となっている（第１図及び第２図参
照）。支持体32は剛性アーム部31に取付けられる部分が
弾性バネ部321となっていて、この弾性バネ部321に連続
して剛性ビーム部322を形成してある。剛性ビーム部322
は両側に折曲げ形成したフランジ322a、322bを有してい
る。可撓体33は支持体32の長手方向軸線と略平行して伸
びる２つの外側可撓性枠部331、332と、支持体32から離
れた端において外側可撓性枠部331、332を連結する横枠
333と、横枠333の略中央部から外側可撓性枠部331、332
に略平行するように伸びていて先端を自由端とした中央
舌状部334とを有して構成され、横枠333のある方向とは
反対側の一端を、支持体32の自由端付近に溶接等の手段
によって取付けてある。 可撓体33の中央舌状部334の上面には、例えば半球状
等の荷重用突起335が設けられていて、この荷重用突起3
35により、支持体32の自由端から中央舌状部334へ荷重
を伝えるようにしてある。中央舌状部334の下面には磁
気ヘッド２の面24を接着等の手段によって固着してあ
る。 上述の磁気ヘッド２の形状、支持装置３の剛性やバネ
圧等は、磁気ディスク１の回転数を勘案して、少なくと
も最内周シリンダT1で磁気ヘッド２を磁気ディスク１の
面に実質的に接触させるように定められる。 ＜発明の効果＞ 以上述べたように、本発明によれば、磁気ディスク及
び磁気ヘッドの耐久性を向上させると共に、スペーシン
グロスを減少させ、高密度記録及び高速データ転送に適
した磁気記録再生装置を提供できる。
ら、磁気ディスク面の上に配置した磁気ヘッドにより記
録及び再生を行なう磁気記録再生装置に関する。 ＜従来の技術＞ この種の磁気記録再生装置は、周知のように、アルミ
ニュウムでなる剛性基体上に、磁性微粒子塗布法、メッ
キ法またはスパッタ法等の手段によって磁性薄膜を形成
した硬質の磁気ディスクを、高速回転させることによ
り、磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとの間に動圧を発
生させ、磁気ヘッドを、微小な空気ベアリングによる浮
上量を保って浮上させて、磁気記録．読み出しを行な
う。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ ところで、この種の磁気記録再生装置において、高密
度磁気記録を達成するためには、磁気ヘッドの浮上量を
できるだけ小さくし、スペーシングロスを減少させる必
要がある。ところが、浮上量を低下させて、スペーシン
グロスを減少させようとすると、磁気ディスクの表面性
や高速回転時の振動等の影響を受けて、磁気ディスクの
表面に磁気ヘッドが衝突し、磁気ディスクの損傷及びヘ
ッドクラッシュ等の問題を生じ易くなり、耐久性が低下
する。この問題点を回避するため、従来は、磁気ヘッド
２の浮上量ｇを0.1μｍ〜0.3μｍに設定して耐久性を確
保するようにしてあった。このため、スペーシングロス
の低減化と、それによる高密度磁気記録化に限界を生じ
ていた。 浮上量減少による高密度磁気記録を狙った従来技術と
しては、例えば特開昭61−287002号公報に記載された技
術が公知である。この公知技術では、剛性基体上にコバ
ルト系合金膜からなる垂直磁気記録層を形成した磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとを、実質的に接触させながら相対
的に高速移動させて記録再生を行なうものである。 しかし、この従来技術においては、硬度の低い金属膜
または合金膜として形成した垂直磁気記録層の表面に、
磁気ヘッドを実質的に接触させて記録再生を行なうの
で、磁気ディスクの損傷及びヘッドクラッシュ等を発生
し易いという問題を抱えており、耐久性に不安があっ
た。 ＜問題点を解決するための手段＞ 上述する従来の問題点を解決するため、本発明は、剛
性基体上に磁気記録層を設けたほぼ同一厚みを有する磁
気ディスクを高速回転させ、前記磁気ディスクと、前記
磁気ディスク面の上に配置された磁気ヘッドとの間に、
前記高速回転による動圧を発生させ、前記磁気ディスク
と前記磁気ヘッドとの間で、記録及び再生を行なう磁気
記録再生装置において、前記剛性基体を、ガラス、化学
強化されたソーダアルミノ珪酸ガラスまたはセラミック
の何れかを主成分とするものによって構成し、前記磁気
記録層の少なくとも表面層を酸化物層、窒化物層または
酸化皮膜とし、前記磁気ヘッドは、薄膜素子でなる読み
書き素子を備えており、少なくとも前記磁気ディスクの
最外周シリンダでは前記磁気ヘッドを前記磁気ディスク
面から浮上させ、前記磁気ディスクの少なくとも最内周
シリンダで、前記磁気ヘッドを前記磁気ディスク面に実
質的に接触させながら、記録及び再生を行なうことを特
徴とする。 ＜作用＞ 本発明においては、少なくとも最内周シリンダで、磁
気ヘッドを磁気ディスク面に実質的に接触させながら少
記録再生を行なうので、スペーシングロスが減少し、優
れた記録再生特性及び記録密度特性が得られる。 しかも、少なくとも磁気ディスクの最外周シリンダで
は磁気ヘッドを磁気ディスク面から浮上させるので、磁
気ヘッドが接触した場合のダメージが大きくなる外周側
において、磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触がおきに
くくなる。このため、耐久性が向上する。 また、磁気記録層の少なくとも表面層を、硬度の高い
酸化物層、窒化物層または酸化皮膜で構成するため、磁
気ディスクと磁気ヘッドとの接触によるダメージが小さ
くなり、耐久性が向上する。 剛性基体は、ガラス、化学強化されたソーダアルミノ
珪酸ガラスまたはセラミックの何れかを主成分とするも
のによって構成する。このような剛性基体を用いること
により、表面粗さＲMAXが100Å以下の磁気ディスクを得
ることができる。表面粗さＲMAXが100Å以下、特に50Å
以下の範囲では、磁気ディスクと磁気ヘッドとを実質的
に接触させて記録再生しても、ヘッド．クラッシュ等の
事故を回避し、耐久性を向上させると共に、スペーシン
グロスを減少させ、高密度記録を達成できる。 磁気ヘッドは、薄膜素子でなる読み書き素子を備えて
おり、従って、薄膜磁気ヘッドを備える磁気記録再生装
置を実現できる。これにより、高密度記録及び高速デー
タ転送にてきした磁気記録再生装置が実現される。 ＜実施例＞ 第１図は本発明に係る磁気記録再生装置の正面図、第
２図は同じくその平面図である。図において、１は磁気
ディスク、２は磁気ヘッド、３はジンバル系支持装置、
４はヘッド位置決め装置である。磁気ディスク１は図示
しない回転駆動機構により、矢印ａの方向に回転駆動さ
れる。磁気ヘッド２はジンバル系支持装置３によって支
持され、位置決め装置４により、回転直径O1上で、矢印
b1またはb2の方向に駆動されて位置決めされ、それによ
って所定のシリンダT1〜Tnにおいて、磁気記録．再生が
行なわれる。 ここで、少なくとも最内周シリンダT1で、磁気ヘッド
２を磁気ディスク１の面に実質的に接触させながら、記
録再生を行なう。かかる構成によると、スペーシングロ
スが減少し、優れた記録再生特性及び記録密度特性が得
られる。 また、磁気ディスク１は、後で詳説するように、磁気
記録層の少なくとも表面層を、硬度の高い酸化物層、窒
化物層または酸化皮膜で構成する。こうすることによ
り、磁気ディスク１と磁気ヘッド２との接触によるダメ
ージが小さくなり、耐久性が向上する。磁気ディスク１
の外周側シリンダでは、磁気ヘッド２は磁気ディスク１
の面から浮上させる。 磁気ディスク１は表面粗さＲMAXが100Å以下、望まし
くは50Å以下の表面性の良好な媒体とする。磁気ディス
ク１は、第３図に示すように、剛性基体101の表面に真
空成膜法によって磁気記録層102を形成してある。真空
成膜法によって形成される磁気記録層102の膜厚は0.5μ
ｍ程度以下であるので、剛性基体101の表面性がそのま
ま記録層102の表面性として反映される。従って、剛性
基体101としては、表面粗さＲMAXが100Å以下のものを
使用する。そのような剛性基体の具体例としては、ガラ
ス、化学強化されたソーダアルミノ珪酸ガラスまたはセ
ラミックを主成分とする剛性基体が適している。表面粗
さＲMAXが100Å以下、特に50Å以下の範囲では、磁気デ
ィスク１と磁気ヘッド２とを実質的に接触させて記録再
生しても、ヘッド．クラッシュ等の事故を回避し、耐久
性を向上させると共に、スペーシングロスを減少させ、
高密度記録を達成できる。 磁気記録層102は、硬度の高いγ−Fe2O3等の磁性酸化
物や磁性窒化物で構成することができる。また、磁気記
録層102の磁性層を金属や合金で構成した場合には、第
３図に示すように、表面に酸化物層、窒化物層102aを設
けるか、または第４図に示すように、表面を酸化皮膜10
2bとする。こうすることにより、磁気記録層102の表面
の硬度が増し、耐久性が向上し、磁気ヘッド２を実質的
に接触させて記録再生する場合にも、磁気ディスク１の
損傷を防止できる。酸化物層及び窒化物層102aは、反応
性スパッタ、反応性蒸着等によって形成できる。また、
酸化皮膜102bは、Co−CrまたはCo−Ni等のように、鉄、
コバルト、ニッケルのうち、少なくとも一種を含む金属
または合金でなる磁気記録層102の表面を、反応性プラ
ズマ処理等により、意図的に酸化して形成できる。磁気
ディスク１は、磁気記録層102の記録残留磁化が膜面に
対して垂直方向の成分を主成分とする垂直記録、膜面内
成分を主成分とする面内記録のいずれであってもよい。
図示は省略したが、磁気記録層102の表面に潤滑剤を塗
布してもよい。 第５図及び第６図は磁気ヘッド２とジンバル系支持装
置３の組立構造を示す図である。磁気ヘッド２は、セラ
ミック構造体でなるスライダ21の空気流出端部側に読み
書き素子22を付着させ、位置決め装置４によって駆動さ
れるジンバル系支持装置３により、浮上面23とは反対側
の面24に荷重を加えてピッチ運動及びロール運動を許容
するように支持する。読み書き素子22はIC製造テクノロ
ジと同様のプロセスにしたがって形成された薄膜素子で
ある。 支持装置３は位置決め装置４に取付けられる剛性アー
ム部31に、弾性金属薄板でなる支持体32の一端を、結合
具311、312によって取付け固定すると共に、支持体32の
長手方向の一端にある自由端に、同じく金属薄板でなる
可撓体33を取付け、この可撓体33の下面に、磁気ヘッド
２を取付けた構造となっている（第１図及び第２図参
照）。支持体32は剛性アーム部31に取付けられる部分が
弾性バネ部321となっていて、この弾性バネ部321に連続
して剛性ビーム部322を形成してある。剛性ビーム部322
は両側に折曲げ形成したフランジ322a、322bを有してい
る。可撓体33は支持体32の長手方向軸線と略平行して伸
びる２つの外側可撓性枠部331、332と、支持体32から離
れた端において外側可撓性枠部331、332を連結する横枠
333と、横枠333の略中央部から外側可撓性枠部331、332
に略平行するように伸びていて先端を自由端とした中央
舌状部334とを有して構成され、横枠333のある方向とは
反対側の一端を、支持体32の自由端付近に溶接等の手段
によって取付けてある。 可撓体33の中央舌状部334の上面には、例えば半球状
等の荷重用突起335が設けられていて、この荷重用突起3
35により、支持体32の自由端から中央舌状部334へ荷重
を伝えるようにしてある。中央舌状部334の下面には磁
気ヘッド２の面24を接着等の手段によって固着してあ
る。 上述の磁気ヘッド２の形状、支持装置３の剛性やバネ
圧等は、磁気ディスク１の回転数を勘案して、少なくと
も最内周シリンダT1で磁気ヘッド２を磁気ディスク１の
面に実質的に接触させるように定められる。 ＜発明の効果＞ 以上述べたように、本発明によれば、磁気ディスク及
び磁気ヘッドの耐久性を向上させると共に、スペーシン
グロスを減少させ、高密度記録及び高速データ転送に適
した磁気記録再生装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る磁気記録再生装置の正面図、第２
図は同じくその平面図、第３図は本発明に係る磁気記録
再生装置を構成する磁気ディスクの一部拡大断面図、第
４図は同じく別の実施例における一部拡大断面図、第５
図及び第６図は磁気ヘッドと支持装置の組立構造を示す
図である。 １……磁気ディスク、２……磁気ヘッド ３……支持装置、４……位置決め装置
図は同じくその平面図、第３図は本発明に係る磁気記録
再生装置を構成する磁気ディスクの一部拡大断面図、第
４図は同じく別の実施例における一部拡大断面図、第５
図及び第６図は磁気ヘッドと支持装置の組立構造を示す
図である。 １……磁気ディスク、２……磁気ヘッド ３……支持装置、４……位置決め装置
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フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭62−20125（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−162825（ＪＰ，Ａ)
特開 昭52−65898（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−210511（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．剛性基体上に磁気記録層を設けたほぼ同一厚みを有
する磁気ディスクを高速回転させ、前記磁気ディスク
と、前記磁気ディスク面の上に配置された磁気ヘッドと
の間に、前記高速回転による動圧を発生させ、前記磁気
ディスクと前記磁気ヘッドとの間で、記録及び再生を行
なう磁気記録再生装置において、 前記剛性基体を、ガラス、化学強化されたソーダアルミ
ノ珪酸ガラスまたはセラミックの何れかを主成分とする
ものによって構成し、 前記磁気記録層の少なくとも表面層を酸化物層、窒化物
層または酸化皮膜とし、 前記磁気ヘッドは、薄膜素子でなる読み書き素子を備え
ており、 少なくとも前記磁気ディスクの最外周シリンダでは前記
磁気ヘッドを前記磁気ディスク面から浮上させ、前記磁
気ディスクの少なくとも最内周シリンダで、前記磁気ヘ
ッドを前記磁気ディスク面に実質的に接触させながら、
記録及び再生を行なうこと を特徴とする磁気記録再生装置。 ２．前記磁気ディスクの表面粗さＲMAXを100Å以下とし
たことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の磁気
記録再生装置。 ３．前記基体は、表面粗さＲMAXが100Å以下であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項に記載
の磁気記録再生装置。 ４．前記磁気記録層は、真空成膜法で形成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項または第
３項に記載の磁気記録再生装置。 ５．前記酸化物層及び前記窒化物層は、反応性スパッタ
または反応性蒸着等によって形成されていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項、第２項、第３項または第
４項に記載の磁気記録再生装置。 ６．前記酸化皮膜は、鉄、コバルト、ニッケルのうち、
少なくとも一種を含む金属または合金でなる磁気記録層
の表面を、反応性プラズマ処理等により酸化してもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項、
第３項または第４項に記載の磁気記録再生装置。 ７．前記磁気ディスクの記録残留磁化は膜面に対して垂
直方向の成分を主成分とすることを特徴とする特許請求
の範囲第１項、第２項、第３項、第４項、第５項または
第６項に記載の磁気記録再生装置。 ８．前記磁気ディスクの記録残留磁化は、膜面内成分を
主成分とすることを特徴とする特許請求の範囲第１項、
第２項、第３項、第４項、第５項または第６項に記載の
磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62213289A JP2664907B2 (ja) | 1987-08-27 | 1987-08-27 | 磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62213289A JP2664907B2 (ja) | 1987-08-27 | 1987-08-27 | 磁気記録再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6455704A JPS6455704A (en) | 1989-03-02 |
| JP2664907B2 true JP2664907B2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=16636650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62213289A Expired - Lifetime JP2664907B2 (ja) | 1987-08-27 | 1987-08-27 | 磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2664907B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2783181B2 (ja) * | 1995-03-08 | 1998-08-06 | 日本電気株式会社 | 固定磁気ディスク装置の製造方法 |
Family Cites Families (4)
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| JPS61210511A (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-18 | Tdk Corp | 可撓性媒体用薄膜磁気ヘツド及びそれを用いた磁気記憶装置 |
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-
1987
- 1987-08-27 JP JP62213289A patent/JP2664907B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6455704A (en) | 1989-03-02 |
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