JP2646251B2 - 多層同時塗布方法及び装置 - Google Patents
多層同時塗布方法及び装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は写真用フィルム、印画紙等の写真感光材料、
写真製版材料、感圧記録紙、感熱記録紙等記録材料の製
造において、連続走行する長尺可撓性支持体（以下ウエ
ブの言う）に液状塗布組成物を塗布する方法及び装置に
関し、更に詳しくは最下層を水膜を形成し二層以上の塗
布液を重畳した状態にして、連続走行しているウエブに
施す多層同時塗布方法及び装置に関するものである。
写真製版材料、感圧記録紙、感熱記録紙等記録材料の製
造において、連続走行する長尺可撓性支持体（以下ウエ
ブの言う）に液状塗布組成物を塗布する方法及び装置に
関し、更に詳しくは最下層を水膜を形成し二層以上の塗
布液を重畳した状態にして、連続走行しているウエブに
施す多層同時塗布方法及び装置に関するものである。
従来、多層同時塗布方法のスライドホッパー塗布装置
における高速塗布方法として、特公昭56−20534号公報
に開示された次のような塗布方法がある。
における高速塗布方法として、特公昭56−20534号公報
に開示された次のような塗布方法がある。
即ち、この塗布方法は高速塗布性向上という目的を達
成するために、最下層に１〜8cpsの低粘度液を用い湿潤
塗布量がウエブ画1m2当り２〜12cm2を塗布し、且つメニ
スカスで生ずる渦動が、最下層と直ぐ上の層との混合で
けで、更にその上の層には影響したい様にして、塗布速
度を増加させる方法である。
成するために、最下層に１〜8cpsの低粘度液を用い湿潤
塗布量がウエブ画1m2当り２〜12cm2を塗布し、且つメニ
スカスで生ずる渦動が、最下層と直ぐ上の層との混合で
けで、更にその上の層には影響したい様にして、塗布速
度を増加させる方法である。
又特開昭54−1350号公報にはウエブに対する次の層と
して100sec-1のずり速度で20ないし200cpsの粘度及び10
0,000sec-1のずり速度で10cps以下の粘度を有する擬似
塑性液体の希薄性キャリア層を適用する方法が提案され
ている。即ち、この塗布方法は前述した（特公昭56−20
534号公報）如きビード部の不安定性を改良するために
最下層に低剪段速下では高粘度を有し、且つ高剪断速度
下では低粘度を有する擬似塑性液体を使用するようにし
たものであった。
して100sec-1のずり速度で20ないし200cpsの粘度及び10
0,000sec-1のずり速度で10cps以下の粘度を有する擬似
塑性液体の希薄性キャリア層を適用する方法が提案され
ている。即ち、この塗布方法は前述した（特公昭56−20
534号公報）如きビード部の不安定性を改良するために
最下層に低剪段速下では高粘度を有し、且つ高剪断速度
下では低粘度を有する擬似塑性液体を使用するようにし
たものであった。
上記のような塗布方法によるときは、最下層を形成す
る塗布液は非ニュートン性流動を示す性質をもってい
る。又この場合塗布液としては特殊な組成物を選び調液
選び調液することを必要としていた。
る塗布液は非ニュートン性流動を示す性質をもってい
る。又この場合塗布液としては特殊な組成物を選び調液
選び調液することを必要としていた。
本発明者らは先に多層同時塗布方法のスライドホッパ
ー型塗布装置等における高速塗布方法として、次のよう
な塗布方法に提案した。
ー型塗布装置等における高速塗布方法として、次のよう
な塗布方法に提案した。
即ち、ウエブに隣接する最下層塗布液が水で形成さ
れ、その湿潤塗布量がウエブ面1m2当り2cm3当り以下で
あり、前記最下層の上に隣接する層の塗布量が最下層よ
りも厚く、かつ高い粘度の水溶性塗布液組成物から形成
されることを特徴とする塗布方法である。（特開昭63−
54975号）。
れ、その湿潤塗布量がウエブ面1m2当り2cm3当り以下で
あり、前記最下層の上に隣接する層の塗布量が最下層よ
りも厚く、かつ高い粘度の水溶性塗布液組成物から形成
されることを特徴とする塗布方法である。（特開昭63−
54975号）。
又これらの塗布装置としては第３図（ａ）に示すよう
なスライドホッパー型塗布装置（平面図）を用いて実施
していた。即ち水膜を塗布する最下層スロット5a、水溶
性塗布液組成物の第１層目スロット８及び第２層目スロ
ット11のスロット幅が同じ長さの幅であり、第３図
（ｂ）（側面図）に示すような水膜を塗布する最下層ス
ロット5aのクリアランスC1は、水溶性塗布液組成物の第
１層目スロット８のクリアランスC2及び第２層目スロッ
ト11のクリアランスC3と同じ寸法であった。
なスライドホッパー型塗布装置（平面図）を用いて実施
していた。即ち水膜を塗布する最下層スロット5a、水溶
性塗布液組成物の第１層目スロット８及び第２層目スロ
ット11のスロット幅が同じ長さの幅であり、第３図
（ｂ）（側面図）に示すような水膜を塗布する最下層ス
ロット5aのクリアランスC1は、水溶性塗布液組成物の第
１層目スロット８のクリアランスC2及び第２層目スロッ
ト11のクリアランスC3と同じ寸法であった。
しかしながら、上記塗布方法及び装置で、高速塗布を
実現しようとすると、塗布操作条件によっては塗布幅全
体及びその一部に横軸方向によっては塗布幅全体及びそ
の一部に横軸方向に不均一な塗布ムラが発生したり、塗
布ビードエッヂ（耳と称す）が不安定になり耳切れ故障
（耳部が塗布できなくなる故障）が発生したり、又塗布
方向に沿って非常に弱い筋故障が塗布幅に対してランダ
ムに発生したりして、安定した品質の高速塗布の実現が
難しいことがあった。
実現しようとすると、塗布操作条件によっては塗布幅全
体及びその一部に横軸方向によっては塗布幅全体及びそ
の一部に横軸方向に不均一な塗布ムラが発生したり、塗
布ビードエッヂ（耳と称す）が不安定になり耳切れ故障
（耳部が塗布できなくなる故障）が発生したり、又塗布
方向に沿って非常に弱い筋故障が塗布幅に対してランダ
ムに発生したりして、安定した品質の高速塗布の実現が
難しいことがあった。
本発明の目的は従来の塗布方法及び装置の有する上記
欠点を除去し、横方向に不均一な塗布ムラや、又耳切れ
故障や、更には塗布方向に沿った非常に弱い筋故障等を
発生せしめることなく、安定した高速塗布を可能ならし
める多層同時塗布方法及び装置を提供することにある。
欠点を除去し、横方向に不均一な塗布ムラや、又耳切れ
故障や、更には塗布方向に沿った非常に弱い筋故障等を
発生せしめることなく、安定した高速塗布を可能ならし
める多層同時塗布方法及び装置を提供することにある。
本発明者達は、上記塗布方法について塗布面状におけ
る詳細な検討を更に加えた結果、先ず塗布速度の比較的
低い領域において塗布装置条件によって塗布幅全体、及
びその一部に横方向に不均一な塗布ムラが発生すること
について鋭意検討した結果、最下層を形成している水の
層の塗布量が増加したり、塗布ビードを安定するための
背圧を増加したり、又塗布ビードが形成されるバックア
ップローラ上のウエブと塗布装置との間の間隔を広くし
ていくこと等によって、横方向に不均一な塗布むらはよ
り低速まで発生することがありことがわかった。また、
この横軸方向に不均一な塗布ムラの発生メカニズムにつ
いて解析した結果、バックアップローラ上のウエブと塗
布装置の間の間隔に形成される塗布ビードが塗布装置先
端のリップ面に塗布液が落ち込んで振動することにより
発生することがわかった。
る詳細な検討を更に加えた結果、先ず塗布速度の比較的
低い領域において塗布装置条件によって塗布幅全体、及
びその一部に横方向に不均一な塗布ムラが発生すること
について鋭意検討した結果、最下層を形成している水の
層の塗布量が増加したり、塗布ビードを安定するための
背圧を増加したり、又塗布ビードが形成されるバックア
ップローラ上のウエブと塗布装置との間の間隔を広くし
ていくこと等によって、横方向に不均一な塗布むらはよ
り低速まで発生することがありことがわかった。また、
この横軸方向に不均一な塗布ムラの発生メカニズムにつ
いて解析した結果、バックアップローラ上のウエブと塗
布装置の間の間隔に形成される塗布ビードが塗布装置先
端のリップ面に塗布液が落ち込んで振動することにより
発生することがわかった。
又、耳切れ故障の発生原因を鋭意検討した結果、最下
層を形成している水膜がその上に隣接する第１層目の水
溶性塗布液組成物と粘度差及び表面張力差が大きいため
に、十分に塗布ビード部3aのエッジに濡れ広がらないた
めに、発生することがわかった。
層を形成している水膜がその上に隣接する第１層目の水
溶性塗布液組成物と粘度差及び表面張力差が大きいため
に、十分に塗布ビード部3aのエッジに濡れ広がらないた
めに、発生することがわかった。
更に又塗布方向に沿って非常に弱い筋の発生原因につ
いて鋭意検討した結果、第４図に示すように最下層を形
成する水膜14をスライド面に供給するためのスロスット
5aの出口にその上の層の水溶性塗布液組成物15が落ち込
むことによって発生することがわかった。そこで色々と
対策を検討した結果本発明に到った。
いて鋭意検討した結果、第４図に示すように最下層を形
成する水膜14をスライド面に供給するためのスロスット
5aの出口にその上の層の水溶性塗布液組成物15が落ち込
むことによって発生することがわかった。そこで色々と
対策を検討した結果本発明に到った。
即ち、本発明の上記目的は、 （１） 二層以上の塗布液膜を重畳した状態にして、連
続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する塗布液
膜が水で形成され、前記水膜の上に隣接する層の塗布量
が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布液組成
物から形成される多層同時塗布方法において、前記水膜
の上に隣接する層の塗布液の粘度をずり速度が100sec-1
で40cps以上であることを特徴とする塗布方法。
続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する塗布液
膜が水で形成され、前記水膜の上に隣接する層の塗布量
が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布液組成
物から形成される多層同時塗布方法において、前記水膜
の上に隣接する層の塗布液の粘度をずり速度が100sec-1
で40cps以上であることを特徴とする塗布方法。
（２） 二層以上の塗布液膜ぽ重畳した状態にして、連
続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する塗布液
膜が水で形成され、前記水膜の殖い隣接する層の塗布量
が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布液組成
物から形成される多層同時塗布装置において、前記水膜
の供給スロット幅を前記水溶性塗布液組成物層の供給ス
ロット幅よりも広くしたことを特徴とする多層同時塗布
装置。
続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する塗布液
膜が水で形成され、前記水膜の殖い隣接する層の塗布量
が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布液組成
物から形成される多層同時塗布装置において、前記水膜
の供給スロット幅を前記水溶性塗布液組成物層の供給ス
ロット幅よりも広くしたことを特徴とする多層同時塗布
装置。
（３） 二層以上の塗布液膜を重畳した状態にして、連
続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する塗布液
膜が水で形成され、前記水膜の上に隣接する層の塗布量
が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布液組成
物から形成される多層同時塗布装置において、前記水膜
の供給スロットのクリアランスを前記水溶性塗布液組成
物の供給スロットのクリアランスよりも狭くしたことを
特徴とする多層同時塗布装置。
続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する塗布液
膜が水で形成され、前記水膜の上に隣接する層の塗布量
が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布液組成
物から形成される多層同時塗布装置において、前記水膜
の供給スロットのクリアランスを前記水溶性塗布液組成
物の供給スロットのクリアランスよりも狭くしたことを
特徴とする多層同時塗布装置。
によって達成される。
本発明における最下層の水膜の供給スロット幅を前記
水溶性塗布液組成物層の供給スロット幅よりも広くした
いということは、具体的には最下層の水膜を供給するス
ロット幅が水溶性塗布液組成物の第１層目及び第２層目
のスロット幅よりも好ましくは40mm以内で広くしたこと
であり、より好ましくは25mm以内の範囲が良い。
水溶性塗布液組成物層の供給スロット幅よりも広くした
いということは、具体的には最下層の水膜を供給するス
ロット幅が水溶性塗布液組成物の第１層目及び第２層目
のスロット幅よりも好ましくは40mm以内で広くしたこと
であり、より好ましくは25mm以内の範囲が良い。
又、本発明における最下層の水膜の供給スロットのク
リアランスを前記水溶性塗布液組成物層の供給スロット
のクリアランスよりも狭くしたということは、具体的に
は水膜の供給スロットのクリアランスは0.05〜0.7mmの
範囲であり、より好ましくは0.1〜0.5mm範囲，水溶性塗
布液組成物層のスロットのクリアランスは好ましくは0.
1〜1.5mmの範囲であり、より好ましくは0.2〜1.0mmの範
囲で行うことである。
リアランスを前記水溶性塗布液組成物層の供給スロット
のクリアランスよりも狭くしたということは、具体的に
は水膜の供給スロットのクリアランスは0.05〜0.7mmの
範囲であり、より好ましくは0.1〜0.5mm範囲，水溶性塗
布液組成物層のスロットのクリアランスは好ましくは0.
1〜1.5mmの範囲であり、より好ましくは0.2〜1.0mmの範
囲で行うことである。
先ず本発明の請求項（１）の実施態様を図によって説
明する。
明する。
第１図（ａ）は、本発明の塗布方法を実現するために
最も好ましい、請求項（２），（３）を兼備した塗布装
置の１実施態様である三層同時塗布用のスライドホッパ
ー型塗布装置の概略平面図であり、第１図（ｂ）はその
側面断面図である。但し本発明は本実施態様のみに限ら
れるものではない。
最も好ましい、請求項（２），（３）を兼備した塗布装
置の１実施態様である三層同時塗布用のスライドホッパ
ー型塗布装置の概略平面図であり、第１図（ｂ）はその
側面断面図である。但し本発明は本実施態様のみに限ら
れるものではない。
第１図において１はバックアップロール、２はウエ
ブ、3bはビード部、４、７、10、13はスライド面、5b、
８、11、はスロット、６、９、12はマニホールド、14は
最下層を形成する水の膜、15は第１層を形成する水溶性
塗布液組成物膜、16は第２層を形成する水溶性塗布液組
成物膜である。ウエブ２は図示しない搬送手段により、
バックアップロール１の周上を矢印法方向に連続して移
送される。
ブ、3bはビード部、４、７、10、13はスライド面、5b、
８、11、はスロット、６、９、12はマニホールド、14は
最下層を形成する水の膜、15は第１層を形成する水溶性
塗布液組成物膜、16は第２層を形成する水溶性塗布液組
成物膜である。ウエブ２は図示しない搬送手段により、
バックアップロール１の周上を矢印法方向に連続して移
送される。
一方、最下層を形成する水膜14は送液ポンプP1によっ
て送液されマニホールド６によってホッパーの幅一杯に
ひろがり、ついでスロット5bを通過してスライド面４の
上に出て、ここからスライド面４上を重力により自然流
下しビード3bの一部を形成し支持体２の上に塗布され
る。
て送液されマニホールド６によってホッパーの幅一杯に
ひろがり、ついでスロット5bを通過してスライド面４の
上に出て、ここからスライド面４上を重力により自然流
下しビード3bの一部を形成し支持体２の上に塗布され
る。
同様に最下層上に製品としての第１および第２の層を
形成する他の水溶性塗布液組成物15および16も、夫々マ
ニホールド９、12およびスロット８、11を通過してスラ
イド面７及び10の上に流出し、ここからスライド面７お
よび10上を重力により自然流下し、夫々塗布液膜15、16
を形成し、且つ最下層を形成する水の膜14と共に重畳し
たビード3bを形成し支持体２の上に塗布される。この
際、スライド面上で重畳された多層の塗布液は塗布幅規
制到17a,17bによってビード部3bを形成する。又この際
塗布液物性としての最下層の水膜の上に隣接する層の塗
布液の粘度をずり速度が100sec-1で40cps以上にするこ
とにより、横方向の不均一な塗布ムラは発生しなくな
る。
形成する他の水溶性塗布液組成物15および16も、夫々マ
ニホールド９、12およびスロット８、11を通過してスラ
イド面７及び10の上に流出し、ここからスライド面７お
よび10上を重力により自然流下し、夫々塗布液膜15、16
を形成し、且つ最下層を形成する水の膜14と共に重畳し
たビード3bを形成し支持体２の上に塗布される。この
際、スライド面上で重畳された多層の塗布液は塗布幅規
制到17a,17bによってビード部3bを形成する。又この際
塗布液物性としての最下層の水膜の上に隣接する層の塗
布液の粘度をずり速度が100sec-1で40cps以上にするこ
とにより、横方向の不均一な塗布ムラは発生しなくな
る。
又第２図は、第１図同様本発明の塗布方法の最も好ま
しい他の１実施例である３層同時塗布用エクストルージ
ョン型塗布装置の側面断面図である。
しい他の１実施例である３層同時塗布用エクストルージ
ョン型塗布装置の側面断面図である。
図において21はバックアップローラ、22はウエブ、2
4、25、26はスロット、27、28、29はマニホールド、30
は最下層を形成する水の膜、31は製品の第一層を形成す
る水溶性塗布液組成物、32は第２層を形成する水溶性塗
布液組成物である。ウエブ22は図示しない搬送手段によ
りバックアップローラ21の周上を矢印の方向に連続して
移行される。
4、25、26はスロット、27、28、29はマニホールド、30
は最下層を形成する水の膜、31は製品の第一層を形成す
る水溶性塗布液組成物、32は第２層を形成する水溶性塗
布液組成物である。ウエブ22は図示しない搬送手段によ
りバックアップローラ21の周上を矢印の方向に連続して
移行される。
一方最下層を形成する水の膜30は送液ポンプP1によっ
て送液されマニホールド27によってホッパーの幅方向に
拡がりスロット24を通過して押しだされ、支持体22の上
に塗布される。同様に第１層および第２層を形成する他
の塗布液膜31,32も夫々マニホールド28,29およびスロッ
ト25,26を通過して押し出しされ、最下層を形成する水
の膜30と共に支持体22の上に塗布される。
て送液されマニホールド27によってホッパーの幅方向に
拡がりスロット24を通過して押しだされ、支持体22の上
に塗布される。同様に第１層および第２層を形成する他
の塗布液膜31,32も夫々マニホールド28,29およびスロッ
ト25,26を通過して押し出しされ、最下層を形成する水
の膜30と共に支持体22の上に塗布される。
この際、塗布液の物性として最下層の水膜の上に隣接
する層の水溶性塗布液組成物の粘度をずり速度が10sec
-1で40cps以上にしてあり、そのことにより横方向の不
均一な塗布ムラは発生しなくなる。
する層の水溶性塗布液組成物の粘度をずり速度が10sec
-1で40cps以上にしてあり、そのことにより横方向の不
均一な塗布ムラは発生しなくなる。
次に本発明の請求項（２）の実施様態を図によって説
明する。
明する。
第１図（ａ）は、前述のごとく本発明の請求項（２）
の塗布装置の１実施様態である三層同時塗布用のスライ
ドホッパー型塗布装置の概略平面図（ａ）でもある。
の塗布装置の１実施様態である三層同時塗布用のスライ
ドホッパー型塗布装置の概略平面図（ａ）でもある。
第１図（ａ）において構造上最下層の水膜のスロット
5bの幅l1bは水膜の上に隣接する水溶性塗布液組成物層
の供給スロット幅l2によりも広くしてある。
5bの幅l1bは水膜の上に隣接する水溶性塗布液組成物層
の供給スロット幅l2によりも広くしてある。
最下層を形成する水膜14は送液ポンプP1によって送液
されマニホールド６によってホッパーの幅一杯にひろが
り、ついでスロット5bを通過してスライド面４の上に出
て、ここからスライド面４上を重力により自然流下しビ
ード3bを形成し支持体２の上に塗布される。同様に最下
層上に製品としての第１および第２の層を形成する他の
水溶性塗布液組成物15および16も、夫々塗布液膜15、16
を形成し、且つ最下層を形成する水の膜14と共に重畳し
た状態でビード3bを形成し、支持体２の上に塗布され
る。この場合水膜14の幅はその上の水溶性塗布液膜15よ
りウエブ２の上に幅広く塗布され、従って従来の耳切れ
故障の発生は見られない。
されマニホールド６によってホッパーの幅一杯にひろが
り、ついでスロット5bを通過してスライド面４の上に出
て、ここからスライド面４上を重力により自然流下しビ
ード3bを形成し支持体２の上に塗布される。同様に最下
層上に製品としての第１および第２の層を形成する他の
水溶性塗布液組成物15および16も、夫々塗布液膜15、16
を形成し、且つ最下層を形成する水の膜14と共に重畳し
た状態でビード3bを形成し、支持体２の上に塗布され
る。この場合水膜14の幅はその上の水溶性塗布液膜15よ
りウエブ２の上に幅広く塗布され、従って従来の耳切れ
故障の発生は見られない。
又第２図は、前述の如く本発明の請求項（２）の塗布
装置の１実施態様である３層同時塗布用エクストルージ
ョン型塗布装置の側面断面図でもある。
装置の１実施態様である３層同時塗布用エクストルージ
ョン型塗布装置の側面断面図でもある。
構造最下層の水膜の供給スロット24の幅は水溶性塗布
液組成物の供給スロット幅25よりも広くしてある。最下
層を形成する水の膜30は送液ポンプP1によって送液され
たマニホールド27によってホッパーの幅方向に拡がりス
ロット24を通過して押しだされるがその幅は他のスロッ
ト25,26よりも広く、支持体22の上に塗布される。同様
に第１層および第２層を形成する他の塗布液膜31,32も
夫々マニホールド28,29およびスロット25,26を通過して
第１層のスロット24の幅よりも狭く押し出され、最下層
を形成する水の膜30と共に支持体22の上に塗布される。
これによって、従来の耳切れ故障の発生は見られない。
液組成物の供給スロット幅25よりも広くしてある。最下
層を形成する水の膜30は送液ポンプP1によって送液され
たマニホールド27によってホッパーの幅方向に拡がりス
ロット24を通過して押しだされるがその幅は他のスロッ
ト25,26よりも広く、支持体22の上に塗布される。同様
に第１層および第２層を形成する他の塗布液膜31,32も
夫々マニホールド28,29およびスロット25,26を通過して
第１層のスロット24の幅よりも狭く押し出され、最下層
を形成する水の膜30と共に支持体22の上に塗布される。
これによって、従来の耳切れ故障の発生は見られない。
更に次に本発明の請求項（３）の実施様態を図によっ
て説明する。
て説明する。
第１図（ｂ）は、前述の如く本発明の請求項（３）の
塗布装置の１実施様態である三層同時塗布用のスライド
ホッパー型塗布装置の側面断面図でもある。
塗布装置の１実施様態である三層同時塗布用のスライド
ホッパー型塗布装置の側面断面図でもある。
この場合第１図（ｂ）において、最下層の水膜のスロ
ット5bのクリアランスC1bは水溶性塗布液膜の第１層塗
布液のスロット８のクリアランスC2よりも狭くしてあ
る。
ット5bのクリアランスC1bは水溶性塗布液膜の第１層塗
布液のスロット８のクリアランスC2よりも狭くしてあ
る。
最下層を形成する水膜14は送液ポンプ P1によって送
液されたマニホールド６によってホッパーの幅一杯にひ
ろがり、ついでスロット5bを通過してスライド面４の上
に出てここからスライド面４上を重力により自然流下し
ビード3bの一部を形成し支持体２の上に塗布される。同
様に最下層上に製品としての第１および第２の層を形成
する水溶性塗布液組成物塗布液膜15および16も、夫々マ
ニホールド9,12およびスロット8,11を通過してスライド
面７および10の上に流出膜15,16を形成し、且つ最下層
を形成する水の膜14と共に重畳した状態でビード3bを形
成し支持体２の上に塗布される。この場合スロット5bへ
の水溶性塗布液組成物膜15の落ち込みが無いので従来の
塗布方向に沿った非常に弱い筋故障の発生は見られな
い。
液されたマニホールド６によってホッパーの幅一杯にひ
ろがり、ついでスロット5bを通過してスライド面４の上
に出てここからスライド面４上を重力により自然流下し
ビード3bの一部を形成し支持体２の上に塗布される。同
様に最下層上に製品としての第１および第２の層を形成
する水溶性塗布液組成物塗布液膜15および16も、夫々マ
ニホールド9,12およびスロット8,11を通過してスライド
面７および10の上に流出膜15,16を形成し、且つ最下層
を形成する水の膜14と共に重畳した状態でビード3bを形
成し支持体２の上に塗布される。この場合スロット5bへ
の水溶性塗布液組成物膜15の落ち込みが無いので従来の
塗布方向に沿った非常に弱い筋故障の発生は見られな
い。
又第２図は前述の如く本発明の請求項（３）の塗布装
置の他の１実施様態である３層同時塗布用エクストルー
ジョン型塗布装置の側面断面図でもある。
置の他の１実施様態である３層同時塗布用エクストルー
ジョン型塗布装置の側面断面図でもある。
第２図において最下層液のスロット24のクリアランス
は第１層の水溶性塗布液組成物膜のスロット25のクリア
ランスよりも狭くしてある。
は第１層の水溶性塗布液組成物膜のスロット25のクリア
ランスよりも狭くしてある。
一方最下層を形成する水の膜30は送液ポンプP1によっ
て送液されマニホールド27によってホッパーの幅方向に
拡がりスロット24を通過して押しだされ、支持体22の上
に塗布される。同様に第１層および第２層を形成する他
の塗布液膜31,32も夫々マニホールド28,29およびスロッ
ト25,26を通過して押し出され、最下層を形成する水の
膜30と共に支持体22の上に塗布される。この場合スロッ
ト25への水溶性塗布 液組成物の侵入が無いので従来の
塗布方向に沿った非常に弱い筋故障の発生は見られな
い。
て送液されマニホールド27によってホッパーの幅方向に
拡がりスロット24を通過して押しだされ、支持体22の上
に塗布される。同様に第１層および第２層を形成する他
の塗布液膜31,32も夫々マニホールド28,29およびスロッ
ト25,26を通過して押し出され、最下層を形成する水の
膜30と共に支持体22の上に塗布される。この場合スロッ
ト25への水溶性塗布 液組成物の侵入が無いので従来の
塗布方向に沿った非常に弱い筋故障の発生は見られな
い。
上記のように、本発明の好ましい実施様態としては、
更に、 （１） 請求項（１）と請求項（２）の組み合わせ （２） 請求項（１）と請求項（３）の組み合わせ （３） 請求項（２）と請求項（３）の組み合わせ （４） 請求項（１），（２）及び（３）の組み合わせ が言える。
更に、 （１） 請求項（１）と請求項（２）の組み合わせ （２） 請求項（１）と請求項（３）の組み合わせ （３） 請求項（２）と請求項（３）の組み合わせ （４） 請求項（１），（２）及び（３）の組み合わせ が言える。
本発明は先ず水の塗布層の上に隣接して形成する層の
水溶性塗布液組成物の粘度をずり速度が100sec-1、で40
cps以上にすることによりバックアップローラ上のウエ
ブと塗布装置との間隔に形成される水膜の塗布ビードの
落ち込みを第１層目の水溶性塗布液組成物の液が減少さ
せることにより、振動による塗布ムラを防止して塗布ビ
ードを安定に形成し横方向に不均一な塗布ムラの発生を
防止することが出来る。
水溶性塗布液組成物の粘度をずり速度が100sec-1、で40
cps以上にすることによりバックアップローラ上のウエ
ブと塗布装置との間隔に形成される水膜の塗布ビードの
落ち込みを第１層目の水溶性塗布液組成物の液が減少さ
せることにより、振動による塗布ムラを防止して塗布ビ
ードを安定に形成し横方向に不均一な塗布ムラの発生を
防止することが出来る。
又本発明は前記最下層の水膜の供給スロット幅を前記
水溶性塗布液組成物層の供給スロット幅よりも広くする
ことにより、塗布幅規制板によって規制されたビード部
3bの耳部へ供給される水がエッヂに濡れ広がることによ
り、ビード耳部に耳切れ故障を発生させることなく安定
して高速塗布を実現させることが出来る。特に請求項
（１）の条件を具備する場合には、耳切れを生じ易くな
るので、請求項（１）を実施する塗布装置には重要な要
件となる場合が多い。
水溶性塗布液組成物層の供給スロット幅よりも広くする
ことにより、塗布幅規制板によって規制されたビード部
3bの耳部へ供給される水がエッヂに濡れ広がることによ
り、ビード耳部に耳切れ故障を発生させることなく安定
して高速塗布を実現させることが出来る。特に請求項
（１）の条件を具備する場合には、耳切れを生じ易くな
るので、請求項（１）を実施する塗布装置には重要な要
件となる場合が多い。
更に又本発明は前記最下層の水膜の供給スロットのク
リアランスを水溶性塗布液組成物層の第１層目の供給ス
ロットのクリアランスよりも狭くすることにより最下層
の水膜用のスロットに第１層目の塗布液が落ち込むこと
によって生ずる塗布筋を抑制し、均質な塗布品質を得る
ことができるのである。特に請求項（１）において水膜
をその上に隣接する水溶性塗布液組成物層より薄くする
塗布条件に対しては、請求項（３）の要件は水膜の薄層
塗布にも重要な役目を果す。
リアランスを水溶性塗布液組成物層の第１層目の供給ス
ロットのクリアランスよりも狭くすることにより最下層
の水膜用のスロットに第１層目の塗布液が落ち込むこと
によって生ずる塗布筋を抑制し、均質な塗布品質を得る
ことができるのである。特に請求項（１）において水膜
をその上に隣接する水溶性塗布液組成物層より薄くする
塗布条件に対しては、請求項（３）の要件は水膜の薄層
塗布にも重要な役目を果す。
上記の様に本発明の３つの請求項はそれぞれ独自での
機能を有して条件によっては独自でも有効性を発揮する
が、２つの請求項の組合ったものは更に広い範囲に有効
性を発揮し、更に広い範囲で全く安定した高速塗布条件
を得るためには請求項（１），（２），及び（３）が全
て揃った塗布方法及び装置が最も好ましいことになる。
機能を有して条件によっては独自でも有効性を発揮する
が、２つの請求項の組合ったものは更に広い範囲に有効
性を発揮し、更に広い範囲で全く安定した高速塗布条件
を得るためには請求項（１），（２），及び（３）が全
て揃った塗布方法及び装置が最も好ましいことになる。
本発明による効果を一層明確にするために、下記の実
施例及び比較例をあげる。
施例及び比較例をあげる。
本発明による塗布装置と従来の塗布装置との比較実験
を、夫々第１図、第３図に示すスライドホッパー型塗布
装置を使用して行った。
を、夫々第１図、第３図に示すスライドホッパー型塗布
装置を使用して行った。
実施例−１ 支持体として18cm幅のトリアセテートセルロース（TA
C）ベースを用いた。
C）ベースを用いた。
塗布条件として 最下層:40℃で粘度0.65cpsを示す水流量2cc/cm.min 第１層:40℃で粘度120cpsを示すアニオン系界面活性剤
を含むアンチハレーション液 流量75cc/cm.min 第２層:40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むゼラチン液 流量75cc/cm.min の条件で多層同時塗布を行った。
を含むアンチハレーション液 流量75cc/cm.min 第２層:40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むゼラチン液 流量75cc/cm.min の条件で多層同時塗布を行った。
上記のように塗布したところ、塗布速度が105m/minで
塗布ビードでの落込みムラが消滅し、それ以降塗布速度
が350m/minまで均質な面状が得られた。
塗布ビードでの落込みムラが消滅し、それ以降塗布速度
が350m/minまで均質な面状が得られた。
比較例−１ 最下層:40℃で粘度0.65cpsを示す水流量2cc/cm.min 第１層:40℃で粘度10cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むアンチハレーション液 流量75cc/cm.min 第２層:40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むゼラチン液 流量75cc/cm.min の条件で多層同時塗布を行った。
含むアンチハレーション液 流量75cc/cm.min 第２層:40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むゼラチン液 流量75cc/cm.min の条件で多層同時塗布を行った。
上記のように塗布したところ、塗布速度が185m/minま
で落ち込みムラが発生し、それ以降塗布速度が341m/min
まで均質な面状が得られた。
で落ち込みムラが発生し、それ以降塗布速度が341m/min
まで均質な面状が得られた。
実施例−1,比較例−１から本発明の請求項（１）の前
記水膜の上に隣接する塗布液の粘度をずり速度が100sec
-1で120cpsのような高粘度であることにより、落ち込み
ムラの発生する塗布速度が下がると共に最高塗布速度が
上がると言うことがわかる。
記水膜の上に隣接する塗布液の粘度をずり速度が100sec
-1で120cpsのような高粘度であることにより、落ち込み
ムラの発生する塗布速度が下がると共に最高塗布速度が
上がると言うことがわかる。
実施例−２ 塗布装置として第１図に示すスライドホッパー型塗布
装置を用い、支持体として下引層を有するポリエチレン
テレフタレート（PET）ベースを用いた。
装置を用い、支持体として下引層を有するポリエチレン
テレフタレート（PET）ベースを用いた。
塗布条件として 最下層:40℃で粘度0.65cpsを示す水流量2cc/cm・min 第１層:40℃で粘度25、40、80cpsをそれぞれ示す印刷感
材用乳剤（粘度調整はポリ（Ｐ−ビニルベンゼンスルホ
ン酸カリウムにて行った） 流量60cc/cm・min 第２層:40℃で粘度15cpsを示す印刷感材用保護層 流量15cc/cm・min なる３層同時塗布を行った。
材用乳剤（粘度調整はポリ（Ｐ−ビニルベンゼンスルホ
ン酸カリウムにて行った） 流量60cc/cm・min 第２層:40℃で粘度15cpsを示す印刷感材用保護層 流量15cc/cm・min なる３層同時塗布を行った。
塗布速度は上記３水準の粘度につきそれぞれ150m/mi
n,200m/min,250m/min,（それぞれ速度（１），速度
（２），速度（３）と称する）とした。又、ビードクリ
アランスはいずれも0.25mm、ビード背圧はいずれも−80
mmAqとした。
n,200m/min,250m/min,（それぞれ速度（１），速度
（２），速度（３）と称する）とした。又、ビードクリ
アランスはいずれも0.25mm、ビード背圧はいずれも−80
mmAqとした。
結果を第１表に示す。
この結果から、200m/minの速度の領域で、第１層であ
る乳剤層の粘度が40cps以上で落込みムラ、縦スジ、段
状ムラのいずれも発生せず、良好な結果が得られた。
る乳剤層の粘度が40cps以上で落込みムラ、縦スジ、段
状ムラのいずれも発生せず、良好な結果が得られた。
実施例−３ 支持体として18cm幅のトリアセテートセルロース（TA
C）ベースを用い、第２表に示す塗布液組成及び物性条
件で、請求項（２）の実験をおこなった。
C）ベースを用い、第２表に示す塗布液組成及び物性条
件で、請求項（２）の実験をおこなった。
第３表に示すスロット幅の条件で多層塗布をった。
上記条件で400m/minまで耳部の不安定なく塗布するこ
とが出来た。
とが出来た。
比較例−２ 尚比較例として前記第２表の塗布液条件と第４表に示
すスロット幅と塗布量で多層を形成させた。
すスロット幅と塗布量で多層を形成させた。
上記条件で塗布したところ、塗布速度が250m/minで耳
部が不安定になり均質な面状が得られなくなった。
部が不安定になり均質な面状が得られなくなった。
上記の実施例−3,比較例−２から前記水膜の供給スロ
ット幅を前記水溶性塗布液組成物層の供給スロット幅よ
りも広くしたことにより、耳切れ故障が発生しなくな
り、それによって極めて高速まで塗布することが可能に
なることが判る。
ット幅を前記水溶性塗布液組成物層の供給スロット幅よ
りも広くしたことにより、耳切れ故障が発生しなくな
り、それによって極めて高速まで塗布することが可能に
なることが判る。
実施例−４ 支持体として18cm幅のトリアセテートセルロース（TA
e）ベースを用い、第５表に示す塗布液組成及び物性条
件で、請求項（３）の実験を行った。
e）ベースを用い、第５表に示す塗布液組成及び物性条
件で、請求項（３）の実験を行った。
第６表に示すスロットクリアランス及び塗布量でおこ
なった。
なった。
上記条件で150m/minの速度で塗布された塗膜を冷風に
より十分ゲル化したのち通常の方法により乾燥した後、
塗布面状を目視によって検査したところ塗布筋の発生は
みられず、均質な塗布面状が得られた。
より十分ゲル化したのち通常の方法により乾燥した後、
塗布面状を目視によって検査したところ塗布筋の発生は
みられず、均質な塗布面状が得られた。
比較例−３ スライドホッパー型塗布装置の塗布液供給のスロット
クリアランスを従来の様に同じくし塗布量を第５表及び
第７表に示す条件で塗布を行った。
クリアランスを従来の様に同じくし塗布量を第５表及び
第７表に示す条件で塗布を行った。
上記条件で150m/minの速度で塗布された塗膜を冷風に
より十分ゲル化したのち通常の方法により乾燥した後、
塗布面状を目視によって検査したところ非常に弱い縦筋
が幅方向全体に渡って発生しているのが確認された。
より十分ゲル化したのち通常の方法により乾燥した後、
塗布面状を目視によって検査したところ非常に弱い縦筋
が幅方向全体に渡って発生しているのが確認された。
実施例−4,比較例−３に示すように、前記水膜の供給
スロットのクリアランスを前記水溶性塗布液組成物層の
供給スロットのクリアランスより狭くしたことにより、
塗布方向に沿った非常に弱い筋故障は発生しなくなっ
た。
スロットのクリアランスを前記水溶性塗布液組成物層の
供給スロットのクリアランスより狭くしたことにより、
塗布方向に沿った非常に弱い筋故障は発生しなくなっ
た。
実施例−５ 塗布装置として請求項（２）及び（３）の組合わせに
基づき、第８表に示すスロット幅及びスロットクリアラ
ンスとしたスライドホッパー型塗布装置を用いた。
基づき、第８表に示すスロット幅及びスロットクリアラ
ンスとしたスライドホッパー型塗布装置を用いた。
支持体として18cm幅のトリアセテートセルロース（TA
C）ベースを用いた。
C）ベースを用いた。
塗布条件として 最下層:40℃で粘度0.65cpsを示す水、流量2cc/cm・min 第１層:40℃で粘度60cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むハレーション防止液、 流量60cc/cm・min 第２層:40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むゼラチン溶液、 流量15cc/cm・min なる３層同時塗布をおこなった。
含むハレーション防止液、 流量60cc/cm・min 第２層:40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面活性剤を
含むゼラチン溶液、 流量15cc/cm・min なる３層同時塗布をおこなった。
ビードクリアランスは0.25mm、ビード背圧は−40mmAq
とした。
とした。
塗布速度を変えながら実験を行った結果、耳部不安定
が発生する限界速度は450m/minであった。
が発生する限界速度は450m/minであった。
又、非常に弱い縦スジの発生有無を調べるために、20
0m/minの速度で塗布された塗膜を冷風で充分ゲル化した
後、通常の方法で乾燥し、塗布面状を目視で検査したと
ころ、水の層の落込みによる縦スジの発生は見られなか
った。
0m/minの速度で塗布された塗膜を冷風で充分ゲル化した
後、通常の方法で乾燥し、塗布面状を目視で検査したと
ころ、水の層の落込みによる縦スジの発生は見られなか
った。
比較例−４ 実施例−５における最下層のスロットクリアランスを
他の層と同じ0.8mmとし、同時にスロスット幅を他の層
と同じ15.0cmとした他は実施例−５の条件で実験を行っ
た。
他の層と同じ0.8mmとし、同時にスロスット幅を他の層
と同じ15.0cmとした他は実施例−５の条件で実験を行っ
た。
その結果、耳部不安定による限界速度は250m/minであ
った。又、非常に弱い縦スジの発生有無を調べるため
に、200m/minで塗布したサンプルを実施例−５と同じ方
法で検査したところ、非常に弱い縦スジが塗布サンプル
の幅方向全体にわたって発生しているのが確認された。
った。又、非常に弱い縦スジの発生有無を調べるため
に、200m/minで塗布したサンプルを実施例−５と同じ方
法で検査したところ、非常に弱い縦スジが塗布サンプル
の幅方向全体にわたって発生しているのが確認された。
本発明は請求項（１）の水膜の上に隣接する層の塗布
液粘度をずり速度が100sec-1で40cps以上にすることに
より、塗布条件によっては発生することがある落込みム
ラの発生塗布速度を低塗布速度側に下げることができる
ようになり、更に高速塗布速度の上限を上げることが出
来、工程の安定化を計ることができるようになった。
液粘度をずり速度が100sec-1で40cps以上にすることに
より、塗布条件によっては発生することがある落込みム
ラの発生塗布速度を低塗布速度側に下げることができる
ようになり、更に高速塗布速度の上限を上げることが出
来、工程の安定化を計ることができるようになった。
又本発明は請求項（２）の最下層の水膜の供給スロッ
ト幅を水溶性塗布液組成物の供給スロット幅よりも広く
することにより、塗布ビード耳部が外乱に対して強化さ
れることにより、耳切れの発生なくなり高速まで安定に
塗布することができるようになり、生産性の向上をはか
ることができた。
ト幅を水溶性塗布液組成物の供給スロット幅よりも広く
することにより、塗布ビード耳部が外乱に対して強化さ
れることにより、耳切れの発生なくなり高速まで安定に
塗布することができるようになり、生産性の向上をはか
ることができた。
更に又本発明は請求項（３）の最下層水膜供給スロッ
トのクリアランスを第１層水溶性塗布液組成物の供給ス
ロットのクリアランスよりも狭くしたことによって、塗
布方向に沿った非常に弱い筋故障を発生せしめることな
く安定して高速塗布を可能ならしめる多層同時塗布が可
能になった。
トのクリアランスを第１層水溶性塗布液組成物の供給ス
ロットのクリアランスよりも狭くしたことによって、塗
布方向に沿った非常に弱い筋故障を発生せしめることな
く安定して高速塗布を可能ならしめる多層同時塗布が可
能になった。
上記の如く、本発明の請求項（１），（２），及び
（３）を実施することによって、最下層を水膜にした多
層同時塗布の高速塗布を安定して行うことが可能となっ
た。
（３）を実施することによって、最下層を水膜にした多
層同時塗布の高速塗布を安定して行うことが可能となっ
た。
第１図は本発明の塗布方法及び塗布装置の最も好ましい
１実施例である三層同時塗布用のスライドホッパー型塗
布装置の概略平面図（ａ），概略側面断面図（ｂ）、第
２図は同じく本発明の塗布方法及び塗布装置による最も
好ましい三層同時塗布用エクストルージョン型塗布装置
の側面断面図、第３図は従来の塗布装置の概略平面図
（ａ），概略側面断面図（ｂ）、第４図は筋故障発生の
説明のための塗布装置の側面断面の一部拡大図である。 １、21……バックアップローラ ２、22……ウエブ 3a、3b、30……ビード部 ４、７、10、13……スライド面 5a、5b、24……最下層の水膜供給のスロット ８、25……第１層水溶性塗布液組成物層のスロット ６、９、12……マニホールド l1a、l1b……最下層水膜供給のスロット幅 l2……第１層水溶性塗布液組成物の供給スロット幅 27、28、29……マニホールド 14、30……最下層を形成する水の膜 15、31……第１層を形成する水溶性塗布液組成物膜 16、32……第２層を形成する水溶性塗布液組成物膜 C1a、C1b……最下層の水膜の供給スロットのクリアラン
ス C2……第１層の水溶性塗布液組成物層の供給スロットの
クリアランス C3……第２層の水溶性塗布液組成物層の供給スロットの
クリアランス 17a、17b……塗布幅規制板
１実施例である三層同時塗布用のスライドホッパー型塗
布装置の概略平面図（ａ），概略側面断面図（ｂ）、第
２図は同じく本発明の塗布方法及び塗布装置による最も
好ましい三層同時塗布用エクストルージョン型塗布装置
の側面断面図、第３図は従来の塗布装置の概略平面図
（ａ），概略側面断面図（ｂ）、第４図は筋故障発生の
説明のための塗布装置の側面断面の一部拡大図である。 １、21……バックアップローラ ２、22……ウエブ 3a、3b、30……ビード部 ４、７、10、13……スライド面 5a、5b、24……最下層の水膜供給のスロット ８、25……第１層水溶性塗布液組成物層のスロット ６、９、12……マニホールド l1a、l1b……最下層水膜供給のスロット幅 l2……第１層水溶性塗布液組成物の供給スロット幅 27、28、29……マニホールド 14、30……最下層を形成する水の膜 15、31……第１層を形成する水溶性塗布液組成物膜 16、32……第２層を形成する水溶性塗布液組成物膜 C1a、C1b……最下層の水膜の供給スロットのクリアラン
ス C2……第１層の水溶性塗布液組成物層の供給スロットの
クリアランス C3……第２層の水溶性塗布液組成物層の供給スロットの
クリアランス 17a、17b……塗布幅規制板
Claims (3)
- 【請求項１】二層以上の塗布液膜を重畳した状態にし
て、連続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する
塗布液膜が水で形成され、前記水膜の上に隣接する層の
塗布量が前記水膜よりも厚く、かつ高い粘度の水溶性塗
布液組成物から形成される多層同時塗布方法において、
前記水膜の上に隣接する層の塗布液の粘度をずり速度が
100sec-1で40cps以上であることを特徴とする塗布方
法。 - 【請求項２】二層以上の塗布液膜を重畳した状態にし
て、連続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する
塗布液膜が水で形成され、前記水膜の上に隣接する層の
塗布量が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布
液組成物から形成される多層同時塗布装置において、前
記水膜の供給スロット幅を前記水溶性塗布液組成物層の
供給スロット幅よりも広くしたことを特徴とする多層同
時塗布装置。 - 【請求項３】二層以上の塗布液膜を重畳した状態にし
て、連続走行しているウエブに施し、ウエブに隣接する
塗布液膜が水で形成され、前記水膜の上に隣接する層の
塗布量が前記水膜よりも厚くかつ高い粘度の水溶性塗布
液組成物から形成される多層同時塗布装置において、前
記水膜の供給スロットのクリアランスを前記水溶性塗布
液組成物層の供給スロットのクリアランスよりも狭くし
たことを特徴とする多層同時塗布装置。
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