JP2632197B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は非磁性支持体と磁性層からなる磁気記録媒体
に関するものであり、特に二層の磁性層を有する磁気記
録媒体に関する。

（従来技術とその課題） 近年磁気記録の発展と共に、高画質、高音質の要求が
ますます高まっており、電磁変換特性の改良、特に強磁
性粉末の微粒子化、高密度化が進められ、更に磁気テー
表面を平滑化することでキャリア近傍のノイズを下げ、
C/Nを上げることが要請されている。又それと同時に表
面が平滑化することにより摩擦係数が大になるため、よ
り走行性、耐久性を向上させる必要がある。また、磁気
記録媒体が大量に消費されてきて、メディアとして大量
に消費されるようになってくるとより安価でできること
が要求される。その技術として重層化が上げられる。そ
れは上層で高画質用の特性をもたせ、下層で高音質用の
特性をもたせるため適切な強磁性粉末が使用できるから
である。また重層化は、その層によって適性な材質を使
えるために安価なコストで製造できる特徴も同時に持
つ。現在電磁変換特性を改良するために、磁性層表面の
面性をあげることと、磁性層中の強磁性粉末の充てん率
を高くすることが知られている。

磁性層中の強磁性粉末の充てん率を高くするためには
強磁性粉末以外の結合剤および潤滑剤、帯電防止剤、研
磨材等の固形分比率を下げる方法あるいは、特殊な分散
剤あるいは分散機により、強磁性粉末の分散を高度なレ
ベルで行わせて充てん率を高める方法などが考えられ
る。しかしながら、前者の場合は完成後の磁気テープの
物理的特性、特に塗膜の密着強度、引張強度等が低下
し、摩擦係数や表面電気抵抗が高くなり、走行耐久性が
大巾に悪化する。また後者の場合には分散工程に非常に
長時間を要すると共に、強磁性粉末の本来の特性、特に
針状形状の破壊を起こし雑音レベルを悪化させる等の問
題があり、それぞれ十分な解決手段とはなり得なかっ
た。

そこで特開昭58−200425号では感度等の電磁変換特性
の向上を狙いとし、物理的特性を悪化させることなく強
磁性粉末を高度に充てんし、高感度、高密度な磁気記録
媒体を得るために、第二層（上層）には耐久走行特性を
支配する添加剤である潤滑剤、帯電防止剤及び研磨材を
配合するが耐久走行特性には特に関与しない第一層（下
層）には上記添加剤を配合しないという提案をした。そ
の結果、S/N、ヘッド摩耗、スチルに対しては良好な結
果を示したが、テープがエッジで摺動する際、第一層の
磁性層のエッヂがダメージを受けやすいことがわかり、
走行耐久性が不十分であることがわかった。

一方磁気ヘッドと媒体が接触、摺動する際に、磁気ヘ
ッドの破損や摩耗を減少させ、更に磁気記録媒体の耐久
性を向上させる目的で磁気記録媒体の表面にアルミナ等
の無機酸化物微粒子を含まないか又はその添加量を小さ
くし、下層の磁性層にアルミナ等の無機酸化物微粒子を
含むことが特開昭58−9215号において知られている。こ
れは表面にアルミナを存在させると耐久性は向上するが
表面に露出するために磁気ヘッドにキズがついたり、カ
ケたり摩耗を早める等の問題が解消するとしている。し
かしこの場合は第二層（上層）に研摩材が少ないためヘ
ッド摩耗は少ないがスチル耐久性が顕著に劣った。

そこで本発明は従来技術で不足しているテープエッジ
ダメージによるオーデイオレベルダウンやスチル耐久性
を同時に改良すると共にS/Nも良化した磁気記録媒体を
提供することを目的とする。

又本発明は製造が容易かつ安価で、電磁変換特性と走
行耐久性を同時に改良した磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。

（課題を解決するための手段） 本発明は、非磁性支持体上の表面に強磁性粉末、結合
剤を含む第一磁性層及び第二磁性層をこの順に設けてな
る磁気記録媒体において、該第二磁性層は磁性層中の強
磁性粉末に対してモース硬度８以上の研摩材を１〜15wt
％含み、該第一磁性層は磁性層中の強磁性粉末に対して
モース硬度８未満の研摩材を５〜50wt％含み、かつ該第
一磁性層は該第二磁性層より多くの研摩材を含むことを
特徴とする磁気記録媒体である。すなわち本発明では第
二磁性層（上層）に高硬度の研摩材を強磁性粉末に対し
て１〜15wt％、好ましくは３〜11wt％含有することによ
り走行性、耐久性を維持し、第一磁性層（下層）にモー
ス硬度８未満の研摩材を強磁性粉末に対して５〜50wt
％、好ましくは15〜50wt％含むことで、下層の表面性を
維持しながらテープエッジダメージを防止している。

第二層の研摩材量が強磁性粉末に対して1wt％以下、
又はモース硬度８未満では研摩能力が劣り、耐久性が低
下して好ましくない。又15wt％以上ではヘッド磨耗が多
すぎたり、高域の電磁変換特性が劣り好ましくない。又
第一層の研磨材量が5wt％以下ではテープエッヂのダメ
ージが改善されず好ましくなく、50wt％以上では、第一
層の磁気特性が劣化して低域の電磁変換特性が低下して
好ましくない。又第一層の研磨材のモース硬度が８以上
では表面性が悪化し好ましくない。

本発明で使用される上層の研磨剤としてはα−アルミ
ナ、窒化珪素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、Cr₂0₃、炭化
チタン等が使用される。中でも平均粒子径は0.6μ以下
が磁性層の表面性が平滑になり好ましい。

上記研磨剤のうち、特にα−アルミナが好ましい。α
−アルミナの商品例としては住友化学（株）のAKP20、3
0、50、100、HIT−20、50、100、昭和軽金属のUA−520
0、UA−5300、UA−5205、UA−5305等が上げられる。

モース硬度が８以上の研磨剤は材質、モース硬度の異
なるもの、粒子サイズの異なるものなど２種以上を組み
合わせて使用してもよい。

下層の研磨剤としては酸化チタン、酸化スズ、弁柄等
が使用される。上記研磨剤のうちに特に平均粒子径が0.
6μ以下、さらには0.1μｍ以下のベンガラが磁性層表面
性が向上し好ましい。

更に本発明は最上層の層厚が2.0μｍ以下、特に1.0μ
ｍ以下の薄層になるようにウエット・オン・ウエット方
式で重層塗布して磁性層を設けた方が好ましい。

〔発明の作用、効果〕

重層の磁性層において上層に含まれる研磨材は上層が
磁気ヘッドやガイドポールと摺動するため少量で耐久性
を有することが必要である。研磨材の量が多すぎると強
磁性粉末の充填度が低下し、そのためS/Nが低下する。
又耐久性を上げるために硬い研磨材を用いることが必要
であるが、このような硬い研磨材を多量に用いると、硬
いためにカレンダー成形性が低下する。更に粒状の研磨
材を多く用いるために表面性が低下する。

一方下層の磁性層においては比較的軟らかい研磨材を
中程度の量用いてテープエッジの強度を増すことにより
テープエッジダメージを解決しているが、研磨材量が少
ないとテープエッジでの研磨能力確保ができず、又多す
ぎると粒状物質がたくさん存在することにより下層の表
面性が低下し、それが上層の表面性劣化に影響する。そ
して下層の磁性層に硬い研磨剤をテープエッジダメージ
を防止できる程の量（軟い研磨材より少量ですむ）を用
いてもカレンダー成形性が悪いために平滑な表面が得ら
れない。従って上層、下層に本発明の硬さ、量の研磨材
を組合せて用いることにより、下層の磁性層のテープエ
ッジダメージがないと共に表面性の向上した磁気記録媒
体が得られる。

本発明に使用する強磁性粉末としては、γ−Fe₂O₃、C
o含有（被着、変成、ドープ）のγ−Fe₂O₃、Fe₃O₄、Co
含有（被着、変成、ドープ）のFe₃O₄、FeO_X、Co含有
（被着、変成、ドープ）のFeO_X（Ｘ＝1.33〜1.50）、Cr
O₂やRn、Te、Sb、Sr、Fe、Ti、Ｖ、Mn、Cr₂O₃の少なく
とも一種類を含むCrO₂、Fe、Co、Ni、Fe−Co合金、Fe−
Ni合金、Fe−Co−Ni合金、Co−Ni−Ｐ合金、Co−Ni−Fe
−Ｂ金、Fe−Ni−Zn合金、Ni−Co合金、Co−Ni−Fe合
金、Fe−Ｎ合金、Fe−Co−Cr合金、Mn−Bi合金など、公
知の強磁性粉末が使用できる。

これら強磁性粉末の粒子サイズは約0.005〜１ミクロ
ンの長さで、軸長／軸幅の比は、1/1〜50/1程度であ
る。又、これらの強磁性粉末の比表面積（S_BET）は、1m
²/g〜70m²/g程度である。これらの強磁性粉末の含水率
は、0.2〜2.0wt％である。これらの強磁性粉末を用いた
場合の塗布液の含水率は、0.00〜2.00wt％である。これ
らの強磁性粉末の表面に、後に述べる分散剤、潤滑剤、
帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先だって溶
剤中で含浸させて、吸着させてもよい。これらの強磁性
粉末は、1wt％以内でSr、Pb、Mn、Ni、Cd、Cr、Al、S
i、Ti、Cu、Zn等の重金属を含む事が好ましい。これら
の強磁性粉末にアルミナ等を被着、溶融させてもよい。

また本発明に使用する強磁性粉末としては、板状六方
晶のバリウムフェライトも使用できる。バリウムフェラ
イトの粒子サイズは約0.001〜１ミクロンの直径で厚み
が直径の1/2〜1/20である。バリウムフェライトの比重
は４〜6g/ccで、比表面積は1m²/g〜70m²/gである。これ
らの強磁性粉末の表面には後に述べる分散剤、潤滑剤、
帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って溶
剤中で含浸させて、吸着させてもよい。

本発明の磁性層に使用されるバインダーとしては従来
公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれ
らの混合物が使用される。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量が10000〜300000、重合度が約50〜2000程度のもの
で、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル
酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の
熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態で
は200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱する
ことにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大
のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分
解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。
具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系
反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。

これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使わ
れ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性粉末と
結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉末100重量部に
対して結合剤５〜300重量部の範囲で使用される。所望
によりバック層を設けた場合、バック層の微粉末と結合
剤の混合割合は重量比で微粉末100重量部に対して結合
剤30〜300重量部の範囲で使用される。添加剤は、分散
剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤等
がくわえられる。

これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂
は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸、スル
フィン酸、スルフェン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホ
スホン、ホスフィン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エ
ステル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基（こ
れらの酸性基は、Na塩などの形でもよい）、アミノ酸
類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸また
は燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性類基、
アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エポキシ
基、等また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、ハ
ロゲン基、シリル基、シロキサン基を通常１種以上６種
以内含み、各々の官能基は樹脂1gあたり１×10^-6eq〜１
×10^-2eq含む事が好ましい。本発明にもちいるポリイソ
シアネートとしては、トリレンジイソシアネート、4,
4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
ナフチレン−1,5−ジイソシアネート、ｏ−トルイジン
ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリ
フェニルメタントリイソシアネート、等のイソシアネー
ト類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生
成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した２〜
15量体のポリイソシアネート等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は、100
〜20000のものが好適である。これらポリイソシアネー
トの市販されている商品名としては、コロネートＬ、コ
ロネートHL、コロネート2030、コロネート2031、ミリオ
ネートMR、ミリオネートMTL（日本ポリウレタン（株）
製）、タケネートＤ−102、タケネートＤ−110N、タケ
ネート D−200、タケネート D−202、タケネート300S、
タケネート500（武田薬品（株）製）、スミジュールＴ
−80、スミジュール44S、スミジュールPF、スミジュー
ルＬ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュ
ールIL、デスモジュールＮ、デスモジュールHL、デスモ
ジュールT65、デスモジュール15、デスモジュールＲ、
デスモジュールRF、デスモジュールSL、デスモジュール
Z4273（住友バイエル社製）等があり、これらを単独若
しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上
の組み合わせによって使用することができる。又、硬化
反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジオール、ヘキ
サンジオール、分子量が1000〜10000のポリウレタン、
水等）、アミノ基（モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン等）を有する化合物や金属酸化物
の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ
基を有する化合物は多官能である事が望ましい。これら
のポリイソシアネートはバインダー総量の５〜40wt％で
用いることが好ましい。

本発明の磁性層に使用される潤滑剤、酸化防止剤とし
ては、二硫化モリブテン、チッカ硼素、フッカ黒鉛、炭
酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化ケイソ、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の無機微
粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミ
ン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフィ
ン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミ
ド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフッカ
エチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末、シリコンオイ
ル、脂肪酸変性シリコンオイル、グラファイト、フッ素
アルコール、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス
等）、ポリグリコール（ポリエチレンオキシドワックス
等）、テトラフルオロエチレンオキシドワックス、ポリ
テトラフルオログリコール、パーフルオロ脂肪酸、パー
フルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エ
ステル、パーフルオロアルキル燐酸エステル、アルキル
燐酸エステル、ポリフェニルエーテル、炭素数10〜20の
一塩基性脂肪酸と炭素数３〜12個の一価のアルコールも
しくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価のア
ルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしくは２
つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数10個以上の
一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が
11〜28個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸
エステル類等の有機化合物潤滑剤が使用できる。又、炭
素数８〜22の脂肪酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族アルコ
ールも使用できる。これら有機化合物潤滑剤の具体的な
例としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチル、
ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オク
チル、ミリスチン酸、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン
酸オクチル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチ
ル、パルミチン酸オクチル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸
アミル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アン
ヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタ
ントリステアレート、アンヒドロソルビタンテトラステ
アレート、アンヒドロソルビタンエチレンオキシドモノ
ステアレート、オレイルオレート、オレイルアルコー
ル、ラウリルアルコール等が有り単独若しくはくみあわ
せ使用出来る。また本発明に使用される潤滑剤としては
所謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせで使用出
来、酸化防止剤（アルキルフェノール等）、錆どめ剤
（ナフテン酸、アルケニルコハク酸、ジラウリルフォス
フェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール
等）、極圧剤（ジベンジスルフィド、トリクレジルフォ
スフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤は結合剤100重量部に対して0.05〜2
0重量部の範囲で添加される。

本発明に使用されるカーボンブラックはゴム用ファー
ネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレン
ブラック等を用いる事ができる。これらカーボンブラッ
クの米国における略称の具体例をしめすとSAF、ISAF、I
ISAF、Ｔ、HAF、SPF、FF、FEF、HMF、GPF、APF、SRF、M
PE、ECF、SCF、CF、FT、MT、HCC、HCF、MCF、LFF、RCF
等があり、米国のASTM規格のＤ−1765−82aに分類され
ているものを使用することができる。本発明に使用され
るこれらカーボンブラックの平均粒子サイズは、５〜10
00ミリミクロン（電子顕微鏡）、窒素吸着法比表面積は
１〜1500m²/g、PHは２〜13（JIS規格 K−6221−1982
法）、ジブチルフタレート（DBP）吸油量は、５〜2000m
l/100g（JIS 規格Ｋ−6221−1982法）である。本発明に
使用されるこれらのカーボンブラックの含水率は、0.00
〜20wt％である。本発明に使用されるカーボンブラック
のサイズは、塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で、５
〜100ミリミクロンのカーボンブラックを、また塗布膜
の強度を制御するときに50〜1000ミリミクロンのカーボ
ンブラックをもちいる。また塗布膜の表面粗さを制御す
る目的でスペーシングロス減少のための平滑化のために
より微粒子のカーボンブラック（100ミリミクロン以
下）を粗面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカー
ボンブラック（50ミリミクロン以上）をもちいる。この
ようにカーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体
に要求される目的に応じて使い分けられる。

また、これらのカーボンブラックを、後述の分散剤な
どで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても
よい。また、カーボンブラックを製造するときの炉の温
度を2000℃以上で処理して表面の一部をグラファイト化
したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラック
として中空カーボンブラックを使用することもできる。

これらのカーボンブラックは磁性層の場合強磁性微粉
末100重量部に対して0.1〜20重量部で用いることが望ま
しい。本発明に使用出来るカーボンブラック及びカーボ
ンブラックの物性値は例えば「カーボンブラック便
覧」、カーボンブラック協会編、（昭和46年発行）を参
考にすることが出来る。本発明に使用する分散剤として
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸等の炭素数10〜26個の脂肪酸（R₁COOH、R₁は炭素
数９〜25個のアルキル基）、前記の脂肪酸のアルカリ金
属（Li、Na、Ｋ、NH₄ ⁺等）またはアルカリ土類金属（M
g、Ca、Ba等）、Cu、Pb等から成る金属石鹸、上記脂肪
酸の脂肪酸アミド；レシチン等が使用される。この他に
炭素数４以上の高級アルコール（ブタノール、オクチル
アルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコ
ール）及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステル、アミ
ン化合物等も使用可能である。また、ポリアルキレンオ
キサイド及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステル、ア
ミン化合物等やスルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル等
も使用可能である。これらの化合物にはバインダーとの
相溶性や特性を変えるためにSi、Ｆの置換基を導入する
ことも可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で
用いられ、一種類の分散剤は結合剤100重量部に対して
0.005〜20重量部の範囲で添加される。これら分散剤の
使用方法は、強磁性微粉末や非磁性微粉末の表面に予め
被着させても良く、また分散塗中で添加しても良い。

このほかに分散剤として好ましい化合物としては、カ
ルボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフッ素界面活
性剤フロラードFC95、FC129、FC430、FC431を用いる事
ができる。

本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒と
しては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアル
コール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサ
ノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸
エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステ
ル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコ
ールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテ
ル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレン
などのタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等の
ものが使用できる。

混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順
序などは適宜設定することができる。磁性塗料およびバ
ック層塗料の調製には通常の混練機、例えば、二本ロー
ルミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、ト
ロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Szegvar
i）、アトライター、高速インペラー、分散機、高速ス
トーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、
高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、インテ
ンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディスパー
ザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二
軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機などを用い
ることができる。混練分散に関する技術の詳細は、T.C.
PATTON著（テー・シー・パットン）“Paint Flow and P
igment Dispersion"（ペイント フロー アンド ピグ
メント ディスパージョン）1964年 John Wiley ＆ Son
s社発行（ジョン ウイリー アンド サンズ）や田中
信一著「工業材料」25巻37（1977年）などや当該書籍の
引用文献に記載されており、連載処理の為これらの混練
分散機を適宜組み合わせ送液し塗布する。また、米国特
許第2581414号及び同第2855156号などの明細書にも記載
がある。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用
文献などに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性
塗料およびバック層塗料を調製することができる。

磁性層の形成は上記組成などを任意に組合せて有機溶
媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥す
る。テープとして使用する場合には支持体の厚み2.5〜1
00ミクロン程度、好ましくは３〜70ミクロン程度が良
い。ディスクもしくはカード状の場合は厚みが0.03〜10
mm程度であり、ドラムの場合は円筒状で用いる事も出来
る。素材としてはポリエチレンフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン、
ポリエチレン等のポリオレフィン類、セルローストリア
セテート、セルロースダイアセテート等のセルロース誘
導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル
系樹脂類、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスルホ
ン等のプラスチックのほかにアルミニウム、銅等の金
属、ガラス等のセラミックス等も使用出来る。これらの
支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処
理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、ア
ルカリ処理をおこなってもよい。これら支持体に関して
は例えば***特許3338854A、特開昭59−116926号、米国
特許4388368号；三石幸夫著、「繊維と工業」31巻 p50
〜55、1975年などに記載されている。

支持体上への前記の磁性層ならびにバック層を塗布す
る方法としてはエアードクターコート、ブレードコー
ト、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、
リバースロールコート、トランスファーロールコート、
グラビアコート、キスコート、キャストコート、スプレ
イコート、バーコート、スピンコート等が利用出来、そ
の他の方法も可能であり、これらの具体的説明は浅倉書
店発行の「コーティング工業」253頁〜277頁（昭和46.
3.20.発行）に詳細に記載されている。特に、本発明の
場合、下層用塗布液と上層用塗布液を湿潤状態で重層し
て塗布するいわゆるウエットオンウェット塗布方式が好
ましい。

ウェットオンウェット方式としては特開昭61−139929
号公報に記載の塗布方法を用いることができる。

また、上記の強磁性粉末と結合剤の分散方法および支
持体への塗布方法などの詳細は特開昭54−46011号およ
び同54−21805号等の各公報に記載されている。

このような方法により、支持体上に塗布された磁性層
は必要により層中の強磁性粉末を直ちに乾燥しながら所
望の方向へ配向させる処理を施したのち、形成した磁性
層を乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常10
m/分〜1000m/分でおこなわれ、乾燥温度が20℃〜130℃
で制御される。又必要により表面平滑化加工を施した
り、所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録媒
体を製造する。これらの製造方法はフイラーの表面処
理、混練・分散、塗布、熱処理、カレンダー、放射線照
射（EB）処理、表面研磨処理、裁断の工程を連続して行
う事が好ましい。また必要に応じて幾つかに工程を分け
る事ができる。

これらの工程においては、温度、湿温が制御され、温
度は10℃〜130℃、湿度は空気中の水分量で表すと、5mg
/m³〜20mg/m³である。これらは、例えば、特公昭40−23
625号公報、特公昭39−28368号公報、米国特許第347396
0号明細書、等にしめされている。又、特公昭41−13181
号公報にしめされる方法はこの分野における基本的、且
つ重要な技術と考えられる。

以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。
ここに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から
逸脱しない範囲において変更しうるものであることは本
業界に携わるものにとっては容易に理解されることであ
る。

従って、本発明は下記の実施例に制限されるべきでは
ない。尚、実施例中の部は重量部をしめす。

以下本発明を実施例を用いて説明する。

処方１（下層用） Coz−γ−FeOx（ｘ＝1.45、抗磁力＝650エルステッド、
S_BET 28m²/g） 100部 研磨材 表１に示す 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（カルボキシル基６％含
有、重合度420） 20部 ポリエステルポリウレタン ５部 ポリイソシアネート（コロネートＬ） 6.7部 ステアリン酸（工業用） ２部 ブチルステアレート（工業用） １部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン 200部＝8/2 処方２（上層用） Co−γ−FeOx（ｘ＝1.45、抗磁力＝700エルステッド、S
_BET 35m²/g） 100部 非磁性無機粉体 表１に示す 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（カルボキシル基６％含
有、重合度420） 20部 ポリエステルポリウレタン ５部 ポリイソシアネート（コロネートＬ） 6.7部 ステアリン酸（工業用） ３部 ブチルステアレート（工業用） ２部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン 適量 上記の組成物を充分に混合、分散し、磁性塗布液とし
て、厚み14μのポリエチレンテレフタレート支持体上に
乾燥厚みが上層0.6μ、下層3.2μになるように塗布し、
乾燥後に平面平滑化を行い、1/2インチ巾にスリットし
た。

得られたサンプルNo.1〜27の性能を評価し、その結果
を表１に示した。

尚、サンプルNo.3、８、12、13、14、18及び24〜27の
試料を比較試料とし、その他の試料を本発明の試料とし
た。

測定方法 ヘッド摩耗… VTR（松下NV−G21）で100時間走行させ、走行前後の
シリンダー面からのヘッドの高さを測定し、その摩耗量
を算出した。

スチル特性… 50％whiteの映像信号を記録し、これをスチルモード
で再生し、再生RF出力レベルを記録計で記録し、信号レ
ベルが1/2に低下するまでの時間を測定した。

Ｙ−S/N… シバソク製ノイズメーター（925R）を使用し、基準テ
ープをサンプルNo.26とし、S/N比の差を求めた。ハイパ
スフィルター10KHz、ローパスフィルター4.2MHzでノイ
ズレベルを測定した。使用したVTRは松下NV−8200であ
る。

Ｃ−S/N… シバソク製ノイズメーター（925R）を使用し、ハイパ
スフィルター10KHz、ローパスフィルター500KHzAMでお
こなった。すなわち振巾変調についてS/Nを測定したも
のである。VTRは松下NV−8200を使用した。サンプルNo.
26を基準（0dB）として比較した。

オーデイオレベルダウン… 試料の全長に規定入力レベルより10dB低いレベルで1k
Hzの正弦波信号を規定バイアスで録音した。その再生出
力レベルを記録計で記録し、記録紙上より出力変動の最
大値を読み取り、dBで表した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小川 博 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭58−200425（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−129935（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−143608（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体上の表面に強磁性粉末、結合
   剤を含む第一磁性層及び第二磁性層をこの順に設けてな
   る磁気記録媒体において、前記第二磁性層は磁性層中の
   強磁性粉末に対してモース硬度８以上の研磨材を１〜15
   wt％含み、前記第一磁性層は磁性層中の強磁性粉末に対
   してモース硬度８未満の研磨材を５〜50wt％含み、かつ
   前記第一磁性層は前記第二磁性層より多くの強磁性粉末
   当りの研磨材を含むことを特徴とする磁気記録媒体。