JP2608757B2 - 水晶振動子用水晶ウエハ - Google Patents
水晶振動子用水晶ウエハInfo
- Publication number
- JP2608757B2 JP2608757B2 JP11879088A JP11879088A JP2608757B2 JP 2608757 B2 JP2608757 B2 JP 2608757B2 JP 11879088 A JP11879088 A JP 11879088A JP 11879088 A JP11879088 A JP 11879088A JP 2608757 B2 JP2608757 B2 JP 2608757B2
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- JP
- Japan
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- wafer
- crystal
- quartz
- rough
- shape
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、水晶ウエハからフォトリソグラフィー加工
で同時に多数個の水晶振動子を製造する手段を対象とす
るものであり、特に水晶ウエハを結晶原石から効果的に
切り出し、その大型化したウエハを研磨加工するのに好
適な形状を得るものである。
で同時に多数個の水晶振動子を製造する手段を対象とす
るものであり、特に水晶ウエハを結晶原石から効果的に
切り出し、その大型化したウエハを研磨加工するのに好
適な形状を得るものである。
本発明は水晶振動子を水晶ウエハから得るに際し、管
理されるべき結晶方位に沿った基準面を水晶原石のラン
バード面から得るものである。従って、円形に切り出さ
れた水晶ウエハの外周の一部に直線状をなすランバード
面を備えて薄板状に加工される。これにより大型ウエハ
故の多数個同時処理のみならず円形であるため研磨加工
を容易にするものである。
理されるべき結晶方位に沿った基準面を水晶原石のラン
バード面から得るものである。従って、円形に切り出さ
れた水晶ウエハの外周の一部に直線状をなすランバード
面を備えて薄板状に加工される。これにより大型ウエハ
故の多数個同時処理のみならず円形であるため研磨加工
を容易にするものである。
従来から水晶振動子を連装する水晶ウエハは、そこか
らフォトリソグラフィー技術によってエッチングで形成
されるに際し、その振動子の形状に沿って周枠を設けて
いた。そのためウエハ形状は周枠にならって角形をな
し、その一辺は結晶方位の基準面を表現していた。この
ように従来から水晶ウエハは角形とされていたため多く
の問題があった。
らフォトリソグラフィー技術によってエッチングで形成
されるに際し、その振動子の形状に沿って周枠を設けて
いた。そのためウエハ形状は周枠にならって角形をな
し、その一辺は結晶方位の基準面を表現していた。この
ように従来から水晶ウエハは角形とされていたため多く
の問題があった。
この角形ウエハに起因して、フラットな薄板に研磨す
る工程で、ホールキャリヤの中に素板を収容し、自転し
ながら全体的に遊星運動により回転され両面が研磨され
る。このときホールキャリヤ内のウエハは、その角部に
局部的な負荷がかかりカケ易い欠点があり、これを防止
するため角部の面取りなど不要な工数や、周枠の縁が細
くなるなど問題があった。この角形であるために発生す
る不具合のため、ウエハサイズは危険分散のため大型化
できず適正規模で処理され、生産性において不充分であ
った。そこで本発明は、この角形の概念を排除して、水
晶原石から直接ウエハの原料となるブランクを円形にし
て採出し、大型化したウエハを得るもので結果として収
率を向上させるものである。
る工程で、ホールキャリヤの中に素板を収容し、自転し
ながら全体的に遊星運動により回転され両面が研磨され
る。このときホールキャリヤ内のウエハは、その角部に
局部的な負荷がかかりカケ易い欠点があり、これを防止
するため角部の面取りなど不要な工数や、周枠の縁が細
くなるなど問題があった。この角形であるために発生す
る不具合のため、ウエハサイズは危険分散のため大型化
できず適正規模で処理され、生産性において不充分であ
った。そこで本発明は、この角形の概念を排除して、水
晶原石から直接ウエハの原料となるブランクを円形にし
て採出し、大型化したウエハを得るもので結果として収
率を向上させるものである。
本発明は上記問題を解決するため、水晶原石にあらか
じめ示された基準面（ランバード面）を残して円形のブ
ランクを切り出し、そのまま多段階の研磨の工程を経て
薄板状のウエハを得るものである。この研磨の工程で、
円形であるためにホールキャリヤ内では自由な回転が与
えられ、ホールキャリヤの丸穴にウエハの外周が周接し
ながら回転し局部応力は発生せずカケが出ない。そのた
めに大型化したウエハであっても実用に供し得るもので
ある。
じめ示された基準面（ランバード面）を残して円形のブ
ランクを切り出し、そのまま多段階の研磨の工程を経て
薄板状のウエハを得るものである。この研磨の工程で、
円形であるためにホールキャリヤ内では自由な回転が与
えられ、ホールキャリヤの丸穴にウエハの外周が周接し
ながら回転し局部応力は発生せずカケが出ない。そのた
めに大型化したウエハであっても実用に供し得るもので
ある。
以下に本発明の実施例を図面により説明する。第１図
はＺ板の水晶原石１のＺ面２を紙面に表現している断面
図である。Ｘ面は基準面として面指定のために加工され
たランバード面３である。このような水晶原石１からま
ず円板状のブランクを切り出すのに２つの方法がある。
その１つは原石１をＺ軸方向に円筒状に研削し、研削部
５を除いて円周部４を残す。この時、周円部４は全周に
わたるのではなく、図示のようにＸ軸方向のランバード
面３（図示は２面）が周円部４の直線部として形成され
る。従ってこの場合は２面がカットされた円筒状とな
る。この略円筒状のフラットなランバード面３を基台に
載置し、必要な切り出し角でスライスし略円板状のブラ
ンクを得る。もう一つの切り出し方法として上述とは逆
に、先に必要な角度でスライスしたブランクを、ランバ
ード面３を一致させて積み重ねて接着し、この状態で研
削部５を切削し周円部４を残し接着剤を溶解して略円板
状のブランクを得る。この二つの方法な任意に採用すれ
ばよい。
はＺ板の水晶原石１のＺ面２を紙面に表現している断面
図である。Ｘ面は基準面として面指定のために加工され
たランバード面３である。このような水晶原石１からま
ず円板状のブランクを切り出すのに２つの方法がある。
その１つは原石１をＺ軸方向に円筒状に研削し、研削部
５を除いて円周部４を残す。この時、周円部４は全周に
わたるのではなく、図示のようにＸ軸方向のランバード
面３（図示は２面）が周円部４の直線部として形成され
る。従ってこの場合は２面がカットされた円筒状とな
る。この略円筒状のフラットなランバード面３を基台に
載置し、必要な切り出し角でスライスし略円板状のブラ
ンクを得る。もう一つの切り出し方法として上述とは逆
に、先に必要な角度でスライスしたブランクを、ランバ
ード面３を一致させて積み重ねて接着し、この状態で研
削部５を切削し周円部４を残し接着剤を溶解して略円板
状のブランクを得る。この二つの方法な任意に採用すれ
ばよい。
次に本発明に係わる研磨について説明をする。上述し
たブランクではその表面に加工キズが多くあるので複数
段階の研磨工程を経て水晶ウエハに至る。それは第２図
に示すようにホールキャリヤ６の中の円形の穴７の中に
ウエハ８が回転自在にすきまを持って収容される。図示
はしてないがこのホールキャリヤは外周にギヤを持ち矢
示ａの回転が与えられるとともに、ホールキャリヤ６自
体も矢示ｂの方向に移動する。そしてこのホールキャリ
ヤ６を複数枚を平載して上下から挟んで回転する研磨板
があり、これによりウエハ８は両面同時に研磨される。
このとき、ホールキャリヤ６の自転に伴ってウエハ８は
移動し研磨板の内，外の周速の差によりウエハ８も穴７
の中で矢示ｃのように自転する。この運動は従来の角型
ウエハには見られないスムーズなものである。この運動
により多数のウエハ８は均一な厚みに制御され、加工歪
の除去された良質の水晶ウエハが得られる。
たブランクではその表面に加工キズが多くあるので複数
段階の研磨工程を経て水晶ウエハに至る。それは第２図
に示すようにホールキャリヤ６の中の円形の穴７の中に
ウエハ８が回転自在にすきまを持って収容される。図示
はしてないがこのホールキャリヤは外周にギヤを持ち矢
示ａの回転が与えられるとともに、ホールキャリヤ６自
体も矢示ｂの方向に移動する。そしてこのホールキャリ
ヤ６を複数枚を平載して上下から挟んで回転する研磨板
があり、これによりウエハ８は両面同時に研磨される。
このとき、ホールキャリヤ６の自転に伴ってウエハ８は
移動し研磨板の内，外の周速の差によりウエハ８も穴７
の中で矢示ｃのように自転する。この運動は従来の角型
ウエハには見られないスムーズなものである。この運動
により多数のウエハ８は均一な厚みに制御され、加工歪
の除去された良質の水晶ウエハが得られる。
本発明により、水晶原石を無駄なく利用できるととも
に、丸型ウエハのためカケがなくなり、スムーズな回転
運動により加工精度が向上した。このため、水晶ウエハ
を大型化したにもかかわらず不良率は減少し、水晶原石
から最終の水晶振子を得るまでの収率は大幅に向上した
もので、特にウエハの一部に基準面として備えられたラ
ンバード面はその後のウエハごとの工程で有効に機能す
るものである。
に、丸型ウエハのためカケがなくなり、スムーズな回転
運動により加工精度が向上した。このため、水晶ウエハ
を大型化したにもかかわらず不良率は減少し、水晶原石
から最終の水晶振子を得るまでの収率は大幅に向上した
もので、特にウエハの一部に基準面として備えられたラ
ンバード面はその後のウエハごとの工程で有効に機能す
るものである。
第１図は本発明に係わる水晶原石から素材となる板を採
出する部分を示す断面図、第２図は本発明に係わる水晶
ウエハが研磨加工される時の運動を示す平面図である。 １……水晶原石 ２……Ｚ面 ３……ランバード面 ４……周円部 ５……研削部 ６……ホールキャリヤ ７……穴部 ８……ウエハ
出する部分を示す断面図、第２図は本発明に係わる水晶
ウエハが研磨加工される時の運動を示す平面図である。 １……水晶原石 ２……Ｚ面 ３……ランバード面 ４……周円部 ５……研削部 ６……ホールキャリヤ ７……穴部 ８……ウエハ
Claims (1)
- 【請求項１】水晶振動子をフォトリソグラフィー加工で
得る水晶ウエハであって、該ウエハはランバード面を有
する水晶原石から薄切りされるものにおいて、前記水晶
ウエハの外周は円形であり、少なくともその一部に直線
部分を備え、かつ該直線部分は前記ランバード面から得
られた面であることを特徴とする水晶振動子用水晶ウエ
ハ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11879088A JP2608757B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | 水晶振動子用水晶ウエハ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11879088A JP2608757B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | 水晶振動子用水晶ウエハ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01288102A JPH01288102A (ja) | 1989-11-20 |
| JP2608757B2 true JP2608757B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=14745159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11879088A Expired - Lifetime JP2608757B2 (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | 水晶振動子用水晶ウエハ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2608757B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009194631A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | ウエハ、ウエハ研磨装置、ウエハ研磨方法、圧電振動子の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU3195500A (en) * | 1999-03-19 | 2000-10-09 | Yoshiaki Nagaura | Piezoelectric element and production method therefor |
| JP2013115534A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Seiko Epson Corp | 単結晶ウェハーの製造方法、単結晶ウェハー、振動素子、及び圧電デバイス |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5027459A (ja) * | 1973-07-10 | 1975-03-20 | ||
| JPS52127193A (en) * | 1976-04-19 | 1977-10-25 | Seikosha Kk | Complex attcut quartz vibrator |
| JPS5814765A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Nec Corp | インパクトプリンタヘツド |
| JPS59149412A (ja) * | 1983-02-15 | 1984-08-27 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電振動子の周波数調整方法とその調整を施した圧電振動子 |
-
1988
- 1988-05-16 JP JP11879088A patent/JP2608757B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009194631A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | ウエハ、ウエハ研磨装置、ウエハ研磨方法、圧電振動子の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01288102A (ja) | 1989-11-20 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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