JP2606227B2 - Light transmission device - Google Patents
Light transmission deviceInfo
- Publication number
- JP2606227B2 JP2606227B2 JP62220401A JP22040187A JP2606227B2 JP 2606227 B2 JP2606227 B2 JP 2606227B2 JP 62220401 A JP62220401 A JP 62220401A JP 22040187 A JP22040187 A JP 22040187A JP 2606227 B2 JP2606227 B2 JP 2606227B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- mirror
- light beam
- adjustment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、例えば露光装置などに露光用照明光を供
給する送光装置にかかるものであり、特にレーザ光を複
数の反射ミラーを用いて送光する送光装置に関するもの
である。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-transmitting device that supplies illumination light for exposure to, for example, an exposure device, and more particularly, to laser light using a plurality of reflection mirrors. The present invention relates to a light transmitting device for transmitting light.
［従来の技術］ 従来の送光装置としては、レーザ光の直進性を利用
し、複数設置された反射ミラーによってレーザ光を反射
させることにより、その送光を行うものがある。2. Description of the Related Art As a conventional light transmitting device, there is a light transmitting device that utilizes the straightness of a laser beam and reflects the laser beam by a plurality of reflecting mirrors to transmit the laser beam.
例えば、エキシマレーザ装置を光源とする露光装置で
は、各装置の性質上、レーザ装置と露光装置とが別々の
異なる部屋に配置されることが多い。For example, in an exposure apparatus using an excimer laser apparatus as a light source, the laser apparatus and the exposure apparatus are often arranged in different rooms due to the nature of each apparatus.
このような場合には、レーザ装置から露光装置に対し
てレーザ光の送光を行う必要がある。In such a case, it is necessary to transmit laser light from the laser device to the exposure device.
このような場合に使用される従来の送光装置として
は、レーザ光の直進性を利用し、複数設置された反射ミ
ラーによってレーザ光を反射させることにより、その送
光を行うものがある。As a conventional light transmitting device used in such a case, there is a light transmitting device that utilizes the straightness of a laser beam and reflects the laser beam by using a plurality of reflecting mirrors to transmit the laser beam.
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、以上のような従来技術においては、フ
ライアイレンズ，コンデンサレンズなど照明光学系の一
部を含む露光装置本体と、レーザ装置との間の距離が大
きくなると、反射ミラーの角度が何らかの原因で少しで
も変化した場合には、レーザ光が露光装置本体の入射開
口部分で大きな位置ずれを起すこととなり、照明光量の
損失などの不都合が生じることとなる。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the above-described conventional techniques, the distance between the exposure apparatus main body including a part of the illumination optical system such as the fly-eye lens and the condenser lens and the laser apparatus is large. In this case, if the angle of the reflection mirror slightly changes for some reason, the laser light causes a large displacement at the entrance opening of the exposure apparatus main body, which causes inconvenience such as loss of illumination light amount.
この発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてな
されたもので、反射ミラーの角度に多少の変動があって
も、常に良好なレーザ光の送光を行うことができる送光
装置を提供することをその目的とするものである。The present invention has been made in view of such problems of the related art, and provides a light transmitting device that can always transmit a good laser beam even when the angle of the reflecting mirror slightly varies. Its purpose is to provide.
［問題点を解決するための手段］ この発明は、送光側装置であるエキシマレーザから出
力された主レーザ光を、複数の反射ミラーによる反射に
よって受光側装置である露光装置に送光する送光装置に
おいて、 前記複数の反射ミラーのうち、少なくとも２つのもの
の反射面角度が第１の軸を中心として変化でき、少なく
とも２つのものの反射面角度が第２の軸を中心として変
化できるように構成し、 前記反射面角度が可変な反射ミラーにより反射された
主レーザ光が入射する位置に設けられた反射ミラーが、
前記主レーザ光と異なる波長の調整用光ビームに対して
透過性を有するように構成するとともに、 調整用の光ビームを前記主レーザ光の光路に重ねて導
入させる導入手段と、 前記調整用光ビームに対して透過性を有する反射ミラ
ーを透過した調整用光ビームの光軸変化を前記エキシマ
レーザと前記露光装置との間で検出する検出手段と、 該検出手段により検出された情報に基づいて、前記反
射ミラーの反射面角度を制御する制御手段と、 前記露光装置への前記調整用光ビームの入射を遮断す
る遮断手段と、を備えていることを特徴とするものであ
る。[Means for Solving the Problems] According to the present invention, a main laser beam output from an excimer laser as a light transmitting side device is transmitted to an exposure device as a light receiving side device by reflection by a plurality of reflecting mirrors. In the optical device, a configuration is such that the reflection surface angles of at least two of the plurality of reflection mirrors can be changed around a first axis, and the reflection surface angles of at least two of the plurality of reflection mirrors can be changed around a second axis. And a reflection mirror provided at a position where the main laser light reflected by the reflection mirror having the variable reflection surface angle is incident.
An introduction unit configured to transmit light to an adjustment light beam having a wavelength different from that of the main laser light, and to introduce the adjustment light beam in an optical path of the main laser light, Detecting means for detecting a change in the optical axis of the adjusting light beam transmitted through the reflecting mirror having transparency to the beam between the excimer laser and the exposure apparatus, based on information detected by the detecting means A control unit for controlling a reflection surface angle of the reflection mirror; and a blocking unit for blocking incidence of the adjustment light beam to the exposure apparatus.
また、好ましくは、上記送光装置において、前記調整
用光ビームは、ヘリウムネオンレーザもしくは可視光の
半導体レーザとするとよい。Preferably, in the light transmitting device, the adjusting light beam is a helium neon laser or a visible light semiconductor laser.
［作用］ 本願発明は、導入手段により主レーザ光の光軸と共通
して調整用光ビームが導入され、検出手段によりエキシ
マレーザと露光装置との間で調整用光ビームの光軸変化
が検出され、制御手段により反射ミラーの反射角度が制
御されると共に、遮断手段により露光装置への調整用光
ビームの入射が遮断される。[Operation] According to the present invention, the adjusting light beam is introduced in common with the optical axis of the main laser beam by the introducing means, and the optical axis change of the adjusting light beam is detected between the excimer laser and the exposure apparatus by the detecting means. Then, the reflection angle of the reflection mirror is controlled by the control means, and the incidence of the adjustment light beam to the exposure apparatus is blocked by the blocking means.
このため、本願発明は、エキシマレーザからの主レー
ザ光を常に良好な状態で露光装置に送光することができ
る。Therefore, according to the present invention, the main laser beam from the excimer laser can always be transmitted to the exposure apparatus in a good state.
また、本願発明は、調整用光ビームの露光装置への入
射を遮断しているので、調整用光ビームに起因する露光
装置の誤動作を防止することができる。Further, according to the present invention, since the adjustment light beam is blocked from entering the exposure apparatus, it is possible to prevent malfunction of the exposure apparatus caused by the adjustment light beam.
［実施例］ 以下、この発明の実施例を、添付図面を参照しながら
詳細に説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
実施例の構成 第１図には、この発明の一実施例の構成が一部破断し
て示されている。また、第２図には、第１図の装置の側
面が示されている。FIG. 1 shows a partially cutaway configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a side view of the apparatus shown in FIG.
これらの図において、露光用の照明光を出力するレー
ザ光源10は、レーザ媒質10A,光共振器を構成するミラー
10B,10Cを各々有していおり、第１の部屋Ａに配置され
ている。In these figures, a laser light source 10 for outputting illumination light for exposure includes a laser medium 10A and a mirror constituting an optical resonator.
10B and 10C, respectively, and are arranged in the first room A.
このレーザ光源10から出力された主レーザ光は、第１
ミラー12,第２ミラー14,第３ミラー16,および第４ミラ
ー18によって各々反射されて、第２の部屋Ｂに配置され
ている露光装置20に送光されるようになっている。The main laser light output from the laser light source 10 is the first laser light.
The light is reflected by the mirror 12, the second mirror 14, the third mirror 16, and the fourth mirror 18, respectively, and is transmitted to the exposure device 20 disposed in the second room B.
この露光装置20は、例えば、フライアイレンズ、コン
デンサレンズ等の照明光学系の一部を含む。The exposure device 20 includes a part of an illumination optical system such as a fly-eye lens and a condenser lens.
すなわち、レーザ光は、部屋A,Bを仕切る壁22に設け
らた遮光部24を通過して第１の部屋Ａから第２の部屋Ｂ
に送光されるようになっている。That is, the laser light passes through the light shielding portion 24 provided on the wall 22 that partitions the rooms A and B, and passes from the first room A to the second room B.
The light is transmitted.
次に、上述したレーザ光源10において光共振器を構成
するミラー10B,10Cのうち、射出側と反対側のミラー10B
側には、送光装置における調整用光ビームＬを出力する
レーザ装置26が配置されている。Next, of the mirrors 10B and 10C constituting the optical resonator in the laser light source 10 described above, the mirror 10B on the side opposite to the emission side
On the side, a laser device 26 that outputs the adjusting light beam L in the light transmitting device is disposed.
そして、レーザ光源10から出力される露光用レーザ光
の光軸と調整用光ビームＬの光軸とが一致するように、
すなわち両者が共軸となるようにレーザ装置26の出力軸
調整が行われている。Then, the optical axis of the exposure laser beam output from the laser light source 10 and the optical axis of the adjustment light beam L coincide with each other.
That is, the output shaft of the laser device 26 is adjusted so that both axes are coaxial.
かかる調整用光ビームＬの波長は、露光装置20におけ
るウエハ上のレジストを感光させることがないよう、そ
のレジストの感光波長と異る波長に設定すると、好都合
である。It is convenient to set the wavelength of the adjustment light beam L to a wavelength different from the photosensitive wavelength of the resist in the exposure apparatus 20 so that the resist on the wafer is not exposed.
また、レーザ光源10のミラー10B,10Cは、調整用光ビ
ームＬに対して透過性を有するように構成されており、
例えば誘電体多層膜ミラーが使用される。Further, the mirrors 10B and 10C of the laser light source 10 are configured to have transparency to the adjustment light beam L,
For example, a dielectric multilayer mirror is used.
以上のような調整用光ビームＬは、露光用のレーザ光
と同様に、第１ミラー12,第２ミラー14,第３ミラー16,
および第４ミラー18によって各々反射されるが、第２の
部屋Ｂの露光装置20に入射する前に、ダイクロイックミ
ラーあるいは色フィルタにより取り除かれるようになっ
ている。The light beam L for adjustment as described above is supplied to the first mirror 12, the second mirror 14, the third mirror 16,
And is reflected by the fourth mirror 18, respectively, but is removed by a dichroic mirror or a color filter before entering the exposure apparatus 20 in the second room B.
これらのうち、ミラー14,16,18は、調整用光ビームＬ
に対して適当な透過率を有するように、ダイクロイック
ミラーなどで構成されている。そして、ミラー14,16,18
を各々透過した調整用光ビームＬは、各々４分割フオト
ディテクタ28,30,32に各々入射するようになっている。Of these, the mirrors 14, 16, and 18 adjust the adjustment light beam L
It is configured with a dichroic mirror or the like so as to have an appropriate transmittance with respect to. And mirrors 14, 16, 18
Are transmitted to the four-division photodetectors 28, 30, and 32, respectively.
すなわち、ミラー12,14,16によって各々反射された調
整用光ビームＬの光軸の変動が、４分割フオトディテク
タ28,30,32によって各々検出されるようになっている。That is, the fluctuation of the optical axis of the adjusting light beam L reflected by the mirrors 12, 14, 16 is detected by the four-division photodetectors 28, 30, 32, respectively.
これら４分割フオトディテクタ28,30,32は、露光用レ
ーザ光ないし調整用光ビームＬが露光装置20に良好に入
射する基準となる状態にミラー12,14,16の反射面がある
場合に、分割ディテクタの各ディテクタからの出力の大
きさが一致するようになっている。These four-division photodetectors 28, 30, and 32 can be used when the reflecting surfaces of the mirrors 12, 14, and 16 are in a state where the exposure laser beam or the adjustment light beam L is a reference for satisfactorily entering the exposure apparatus 20. The size of the output from each of the divided detectors is designed to match.
更に、上述したミラー12,14,16には、第３図に示すよ
うに、異る二軸X,Yを中心に矢印FA,FBの如く回動させ
て、反射面の二次元的な傾斜角を調整制御する制御駆動
装置34,36,38が各々設けられている。Further, as shown in FIG. 3, the mirrors 12, 14, and 16 described above are rotated around the two different axes X and Y as shown by arrows FA and FB, and the two-dimensional inclination of the reflection surface is adjusted. Control driving devices 34, 36, 38 for adjusting and controlling the angles are provided respectively.
そして、上述した４分割フオトディテクタ28,30,32の
検出出力は、制御駆動装置34,36,38に制御信号として各
々入力されるようになっており、これによって、ミラー
12,14,16の反射面の角度調整が各々行われるようになっ
ている。The detection outputs of the above-described four-division photodetectors 28, 30, and 32 are input to the control driving devices 34, 36, and 38 as control signals.
The angles of the 12, 14, and 16 reflecting surfaces are adjusted.
実施例の作用 次に、上記実施例の全体的作用について説明する。Next, the overall operation of the above embodiment will be described.
まず、露光用レーザ光源10からのレーザ光出力前に、
レーザ装置26から調整用光ビームＬが出力される。First, before laser light output from the exposure laser light source 10,
The adjustment light beam L is output from the laser device 26.
この調整用光ビームＬは、上述したように、ミラー1
2,14,16,18によって各々反射される。The adjusting light beam L is transmitted to the mirror 1 as described above.
2,14,16,18 respectively.
この場合において、例えば第１ミラー12の反射面が基
準となる傾斜位置から傾いたとすると、４分割フオトデ
ィテクタ28の検出面上におけるビームスポット位置が変
化することとなり、四つ分割ディテクタの検知出力が一
致しなくなる。これらの出力検知信号は、制御駆動装置
34に入力される。In this case, for example, if the reflection surface of the first mirror 12 is inclined from the reference inclination position, the beam spot position on the detection surface of the 4-split photodetector 28 changes, and the detection output of the 4-split detector becomes Will not match. These output detection signals are sent to the control drive
Entered in 34.
次に、制御駆動装置34では、４分割フオトディテクタ
28からの四つの検知信号に基いて、調整用光ビームＬの
光軸の傾き方向ないし第１ミラー12の反射面の傾斜方向
が求められ、反射面の傾斜が基準位置となるように第１
ミラー12の駆動が行われる。Next, in the control drive unit 34, a four-division photo detector
Based on the four detection signals from 28, the inclination direction of the optical axis of the adjustment light beam L or the inclination direction of the reflection surface of the first mirror 12 is obtained, and the first direction is set so that the inclination of the reflection surface becomes the reference position.
The mirror 12 is driven.
以上の制御により、第１ミラー12によって反射された
調整用光ビームＬの光軸は、常に一定に維持されている
こととなる。By the above control, the optical axis of the adjustment light beam L reflected by the first mirror 12 is always kept constant.
第２ミラー14、第３ミラー16の傾き制御についても同
様である。The same applies to the tilt control of the second mirror 14 and the third mirror 16.
以上のようなミラー12,14,16,18による送光系の調整
の後、レーザ装置26からの調整用光ビームＬの出力が停
止されるとともに、レーザ光源10から露光用レーザ光の
出力が行われ、露光装置20に対する露光用レーザ光の送
光が行われる。After the adjustment of the light transmission system by the mirrors 12, 14, 16, and 18 as described above, the output of the adjustment light beam L from the laser device 26 is stopped, and the output of the exposure laser light from the laser light source 10 is stopped. Then, the exposure laser beam is transmitted to the exposure device 20.
実施例の効果 以上のように、この実施例によれば、反射ミラーによ
って反射された調整用光ビームの光軸ないしビームスポ
ット位置は４分割フオトディテクタによって常時検出さ
れ、その検出結果によって各反射ミラーの角度が制御調
整されるので、常に送光系として最適な状態を保つこと
が可能となる。As described above, according to this embodiment, the optical axis or the beam spot position of the adjusting light beam reflected by the reflection mirror is always detected by the four-division photodetector, and each reflection mirror is determined based on the detection result. Is controlled and adjusted, it is possible to always maintain an optimal state as a light transmission system.
従って、露光用の照明光源と、照明光学系の一部を含
む露光装置本体とが別室に設置されて装置間の距離が大
きい場合に、温度変化等によって反射ミラーの反射角度
が変化しても、常に同一の照明条件で送光を行うことが
できる。Therefore, when the illumination light source for exposure and the exposure apparatus main body including a part of the illumination optical system are installed in separate rooms and the distance between the apparatuses is large, even if the reflection angle of the reflection mirror changes due to a temperature change or the like. The light can always be transmitted under the same illumination conditions.
更に、露光用レーザ光が、エキシマレーザのようにビ
ームスポット径が比較的大きく、その光軸位置ずれ検出
を精度良く行うことができない場合でも、調整用光ビー
ムＬとしてHe（ヘリウム）−Ne（ネオン）レーザのよう
にスポット径の小さなものでスポット位置を精度良く検
出できるものを使用すれば、反射ミラーの傾斜角度変化
を精度良く検出でき、送光系を精度良く最適な状態に維
持することができるという利点がある。Furthermore, even when the laser beam for exposure has a relatively large beam spot diameter such as an excimer laser and the optical axis position deviation cannot be accurately detected, the adjustment light beam L is He (helium) -Ne (Ne). If a spot with a small spot diameter, such as a neon laser, that can accurately detect the spot position is used, the change in the tilt angle of the reflecting mirror can be detected with high accuracy, and the light transmission system can be maintained in an optimum state with high accuracy. There is an advantage that can be.
他の実施例 なお、この発明は何ら上記実施例に限定されるもので
はなく、例えば、上記実施例では反射ミラーの個数が４
つであったが、言うまでもなくその個数は任意である。Other Embodiments Note that the present invention is not limited to the above embodiment at all. For example, in the above embodiment, the number of reflection mirrors is four.
However, it goes without saying that the number is arbitrary.
ただ、ある第１の反射ミラーの角度変化を、その次の
第２の反射ミラーの後に配置された４分割フオトディテ
クタによって、調整用光ビームのビームスポット位置ず
れとして検出し、この検出出力を制御信号としてその第
１のミラーの角度を制御する構成であればよい。However, a change in the angle of a certain first reflection mirror is detected as a beam spot position shift of the adjustment light beam by a four-segment photodetector disposed after the next second reflection mirror, and the detection output is controlled. Any configuration may be used as long as the signal controls the angle of the first mirror.
そして、複数の反射ミラーのうち、第１の軸（上記実
施例ではＸ）を中心として反射面の傾斜角度が変化する
ものが少なくとも二つあり、第２の軸（上記実施例では
Ｙ）を中心として反射面の傾斜角度が変化するものが少
なくとも二つあればよい。At least two of the plurality of reflection mirrors change the inclination angle of the reflection surface about the first axis (X in the above embodiment), and the second axis (Y in the above embodiment) is changed. It suffices that at least two of the centers change the inclination angle of the reflection surface.
例えば、Ｘ軸を中心として傾斜可能なミラーを二つ用
意し、Ｙ軸を中心として傾斜可能なミラーを二つ用意す
るようにしてもよいし、各々一つずつ用意し、X,Y両方
に対して傾斜可能なミラーを更に一つ用意するようにし
てもよい。For example, two mirrors that can be tilted about the X axis may be prepared, and two mirrors that can be tilted about the Y axis may be prepared, or one mirror may be prepared for each of the X and Y axes. Alternatively, one more tiltable mirror may be provided.
上記実施例では、各反射ミラーを、露光用レーザ光を
反射し調整用光ビームの一部を透過するように構成し
た。しかし、各反射ミラーをいずれのレーザ光も透過す
る半透過ミラー（ビームスプリッタ）によって構成し、
調整用光ビームは透過し露光用レーザ光は透過しないフ
ィルタをスポット位置検出手段の手前に配置するように
しても、同様の効果を得ることができる。In the above embodiment, each reflection mirror is configured to reflect the exposure laser beam and transmit a part of the adjustment light beam. However, each reflecting mirror is constituted by a semi-transmissive mirror (beam splitter) that transmits any laser light,
The same effect can be obtained by disposing a filter that transmits the adjustment light beam but does not transmit the exposure laser light before the spot position detection unit.
また、上記の実施例では、ビームスポットの位置検出
器として４分割フオトディテクタを使用したが、フオト
ダイオードアレーやCCD,ITVカメラ等の１次元又は２次
元撮像手段を用いてもよい。Further, in the above embodiment, a four-division photodetector is used as a beam spot position detector, but a one-dimensional or two-dimensional imaging means such as a photodiode array, a CCD, or an ITV camera may be used.
ただし、１次元の撮像手段を用いる場合には、例えば
直交する二軸の方向に２個の手段を配置し、入射ビーム
をビームスプリッタ等で分割する必要がある。However, when one-dimensional imaging means is used, it is necessary to arrange two means in, for example, two orthogonal directions and to split an incident beam by a beam splitter or the like.
また、調整用のレーザ装置26としては、可視光を調整
用光ビームＬとして出力するCW発振レーザが最適であ
り、特にHe（ヘリウム）−Ne（ネオン）レーザが安価で
よいが、最近開発されている可視光の半導体レーザ、Ar
（アルゴン）イオンレーザ、He−Cd（カドミウム）レー
ザ等も用いることができる。As the adjustment laser device 26, a CW oscillation laser that outputs visible light as the adjustment light beam L is most suitable, and in particular, a He (helium) -Ne (neon) laser may be inexpensive, but recently developed. Visible light semiconductor laser, Ar
An (argon) ion laser, a He-Cd (cadmium) laser, or the like can also be used.
更に、以上のような可視光であるという制限は必ずし
も必要ではない。例えば、レーザ光源10におけるミラー
10B,10Cの誘電体膜の性質によって紫外光又は赤外光を
用いた方が都合のよい場合は、それらのスペクトルの光
を用いればよい。Further, the restriction that the light is visible light is not always necessary. For example, a mirror in the laser light source 10
When it is more convenient to use ultraviolet light or infrared light depending on the properties of the dielectric films of 10B and 10C, light having such a spectrum may be used.
また、上述したCW発振も必要条件ではなく、高繰返のパ
ルス発振レーザでもよい。Further, the above-described CW oscillation is not a necessary condition, and a pulse oscillation laser with a high repetition rate may be used.
なお、調整用光ビームは、必ずしもレーザ光である必
要はなく、ハーフミラーなどで主レーザ光（上記実施例
では露光用レーザ光）の光路に（ミラー10Cの後のとこ
ろで同軸に）導入するようにしてもよい。Note that the adjusting light beam is not necessarily a laser light, but may be introduced into the optical path of the main laser light (exposure laser light in the above embodiment) by a half mirror or the like (coaxially after the mirror 10C). It may be.
更に、反射ミラーの傾斜角制御は、オープンループな
いしクローズドループのいずれで行ってもよい。Further, the tilt angle control of the reflection mirror may be performed in any of an open loop or a closed loop.
なお、長距離の送光を行う場合は、調整用光ビームの
角度広がりによりスポットサイズが大きくなるので、ス
ポットサイズの変化を補償するようなビームスポット位
置計測を行なうとよい。また、複数個のビームの反射の
場合には、反射ミラーによる反射毎にビームの強度が小
さくなるので、強度変化の補償も行なった方がよい。When light is transmitted over a long distance, the spot size increases due to the angular spread of the adjustment light beam. Therefore, it is preferable to measure the beam spot position to compensate for the change in spot size. Further, in the case of reflection of a plurality of beams, the intensity of the beam decreases each time the light is reflected by the reflection mirror.
更に、調整用光ビームが露光装置本体内部に導かれる
と、露光装置本体内部の別の光電検出系に入射してその
誤動差を招く恐れがあるので、露光装置本体内部のその
ような部分に入る前に、ダイクロイックミラーあるいは
色フィルターにより、調整用光ビームを取り除く構成と
している。Furthermore, if the adjustment light beam is guided into the exposure apparatus main body, it may enter another photoelectric detection system inside the exposure apparatus main body and cause a malfunction error. Before entering, the adjusting light beam is removed by a dichroic mirror or a color filter.
このような調整用光ビームの除去が完全にできない場
合は、露光装置本体内部の光電検出系に迷光等として検
出されて不都合が生ずるので、調整用光ビームの遮断を
シャッタ手段などによって行うようにすればよい。If the adjustment light beam cannot be completely removed, it is detected as stray light or the like by the photoelectric detection system inside the exposure apparatus main body, causing inconvenience. Therefore, the adjustment light beam is blocked by shutter means or the like. do it.
また、露光装置内部の特定の部分に達するまでに調整
用光ビームを選択的に減衰させるような減衰手段を設け
るようにしてもよい。Further, an attenuating means for selectively attenuating the adjustment light beam before reaching a specific portion inside the exposure apparatus may be provided.
上記実施例では、レーザ光源10から出力された露光用
レーザ光を、別室に配置された露光装置に送光する場合
について説明したが、この発明は何等これに限定される
ものではなく、その他の装置、特に光源と装置とが同室
内に配置されたものなどに対しても適用されるものであ
る。In the above-described embodiment, the case where the exposure laser light output from the laser light source 10 is transmitted to the exposure apparatus arranged in a separate room has been described.However, the present invention is not limited to this. The present invention is also applied to a device, particularly a device in which a light source and a device are arranged in the same room.
［発明の効果］ 以上説明したように、この発明による送光装置よれ
ば、送光路中のミラーの角度に多少の変動があっても、
常に良好なレーザ光の送光を行うことができるという効
果がある。また、調整用光ビームの露光装置への入射を
遮断しているので、調整用光ビームに起因する露光装置
の誤動作を防止することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the light transmitting device of the present invention, even if there is some variation in the angle of the mirror in the light transmitting path,
There is an effect that good laser light transmission can always be performed. In addition, since the adjustment light beam is blocked from entering the exposure device, malfunction of the exposure device due to the adjustment light beam can be prevented.
第１図はこの発明にかかる送光装置の一実施例を示す一
部破断した斜視図、第２図は第１図の装置の正面図、第
３図は反射ミラーの反射面の傾斜軸を示す斜視図であ
る。 ［主要部分の符号の説明］ 10……レーザ光源、12,14,16,18……反射ミラー、20…
…露光装置、26……レーザ装置、28,30,32……４分割フ
オトディテクタ、34,36,38……駆動制御装置、Ｌ……調
整用光ビーム。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of a light transmitting device according to the present invention, FIG. 2 is a front view of the device shown in FIG. 1, and FIG. 3 shows an inclination axis of a reflecting surface of a reflecting mirror. FIG. [Description of Signs of Main Parts] 10 Laser light source, 12, 14, 16, 18 Reflective mirror, 20
Exposure device, 26 Laser device, 28, 30, 32 Four-division photodetector, 34, 36, 38 Drive control device, L Light beam for adjustment
Claims (2)
された主レーザ光を、複数の反射ミラーによる反射によ
って受光側装置である露光装置に送光する送光装置にお
いて、 前記複数の反射ミラーのうち、少なくとも２つのものの
反斜面角度が第１の軸を中心として変化でき、少なくと
も２つのものの反斜面角度が第２の軸を中心として変化
できるように構成し、 前記反斜面角度が可変な反射ミラーにより反射された主
レーザ光が入射する位置に設けられた反射ミラーが、前
記主レーザ光と異なる波長の調整用光ビームに対して透
過性を有するように構成するとともに、 調整用の光ビームを前記主レーザ光の光路に重ねて導入
させる導入手段と、 前記調整用光ビームに対して透過性を有する反射ミラー
を透過した調整用光ビームの光軸変化を、前記エキシマ
レーザと前記露光装置との間で検出する検出手段と、 該検出手段により検出された情報に基づいて、前記反射
ミラーの反斜面角度を制御する制御手段と、 前記露光装置への前記調整用光ビームの入射を遮断する
遮断手段と、を備えていることを特徴とする送光装置。1. A light transmitting device for transmitting a main laser beam output from an excimer laser as a light transmitting side device to an exposure device as a light receiving side device by reflection by a plurality of reflecting mirrors. Wherein the anti-slope angle of at least two things can be changed about the first axis, and the anti-slope angle of at least two things can be changed about the second axis, and the anti-slope angle is variable A reflection mirror provided at a position where the main laser light reflected by the reflection mirror is incident has a property of transmitting a light beam for adjustment having a wavelength different from that of the main laser light, and the light for adjustment is provided. Introducing means for introducing a beam in an overlapping manner with the optical path of the main laser beam; and changing the optical axis of the adjusting light beam transmitted through a reflecting mirror having transparency with respect to the adjusting light beam. Detecting means for detecting between the excimer laser and the exposure apparatus; control means for controlling an anti-slope angle of the reflecting mirror based on information detected by the detecting means; A light-transmitting device, comprising: blocking means for blocking the incidence of the adjustment light beam.
ーザもしくは可視光の半導体レーザであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の送光装置。2. The light transmitting device according to claim 1, wherein the adjusting light beam is a helium neon laser or a visible light semiconductor laser.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62220401A JP2606227B2 (en) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | Light transmission device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62220401A JP2606227B2 (en) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | Light transmission device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6463919A JPS6463919A (en) | 1989-03-09 |
| JP2606227B2 true JP2606227B2 (en) | 1997-04-30 |
Family
ID=16750537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62220401A Expired - Fee Related JP2606227B2 (en) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | Light transmission device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2606227B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2579085B1 (en) * | 2011-10-08 | 2019-02-13 | JenLab GmbH | Flexible non-linear laser scanning microscope for non-invasive three-dimensional detection |
| US11079564B2 (en) | 2017-07-20 | 2021-08-03 | Cymer, Llc | Methods and apparatuses for aligning and diagnosing a laser beam |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5206497A (en) * | 1992-04-06 | 1993-04-27 | At&T Bell Laboratories | Free-space optical switching apparatus |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3406676A1 (en) * | 1984-02-24 | 1985-09-05 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | DEVICE FOR CORRECTING THE POSITION OF A LASER BEAM GUIDED BY A JOINT OPTICS |
| DE3406677A1 (en) * | 1984-02-24 | 1985-09-05 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | DEVICE FOR COMPENSATING THE EMISSION OF A LASER BEAM |
-
1987
- 1987-09-04 JP JP62220401A patent/JP2606227B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2579085B1 (en) * | 2011-10-08 | 2019-02-13 | JenLab GmbH | Flexible non-linear laser scanning microscope for non-invasive three-dimensional detection |
| US11079564B2 (en) | 2017-07-20 | 2021-08-03 | Cymer, Llc | Methods and apparatuses for aligning and diagnosing a laser beam |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6463919A (en) | 1989-03-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5373515A (en) | Laser wavelength controlling apparatus | |
| US6028660A (en) | Illumination unit for an optical apparatus | |
| US4760407A (en) | Laser printing apparatus with device for combining a plurality of optical beams provided with an integral-order wave plate | |
| US6384944B1 (en) | Integral transmitter-receiver optical communication apparatus | |
| JPS63304222A (en) | Laser light source device | |
| US4907017A (en) | Laser optical apparatus | |
| JP2606227B2 (en) | Light transmission device | |
| US20030086072A1 (en) | Focusing type distance measurement apparatus | |
| JP2787133B2 (en) | Illumination optics | |
| JP3192359B2 (en) | Space optical communication equipment | |
| JP2617320B2 (en) | Laser wavelength controller | |
| JPH07104203B2 (en) | Lighting optics | |
| JP3093237B2 (en) | Optical communication terminal | |
| JP2000275043A (en) | Tracking device for automatic survey machine | |
| EP1151275B1 (en) | Remote emissions sensing system and method with a composite beam of ir and uv radiation that is not split for detection | |
| KR930003372Y1 (en) | Mirror controlling apparatus for duel camera | |
| JP2983316B2 (en) | Lighting equipment | |
| JPH0886976A (en) | High output laser beam branching device and converging device | |
| JP2663804B2 (en) | X-ray spectrometer | |
| SU1268948A1 (en) | Device for checking angular parameters of plane-parallel plates | |
| JP3222212B2 (en) | Camera with built-in light receiver for remote control | |
| JPH06120904A (en) | Optical space transmitter | |
| JPS6123986A (en) | Body detecting device | |
| JPS63196810A (en) | Apparatus for tracking moving body using laser beam | |
| JPH04256107A (en) | Inter-satellite laser communication catching/tracking device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |