JP2605855B2 - 導電性酸化スズ粉末の製造法 - Google Patents

導電性酸化スズ粉末の製造法

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は酸化スズ(SnO2)粉末をフツ素ガス処理する
ことによるフツ素ドープした導電性酸化スズ粉末の製造
法に関する。酸化スズ粉末は、低抵抗化することで導電
性粉体として用いられている。この導電性粉体としては
通常SbドープしたSnO2が低電気抵抗体として知られてい
るが、Sbの毒性の問題があり、Sbを含まないものが望ま
れている。
(従来技術とその問題点) 導電性酸化スズ粉末の製造法としては、次の方法が知
られている。
(1) 塩化アンチモンと塩化スズの加水分解によりSb
をドープする方法。
(2) SnO2をH2のような還元性雰囲気下にて焼成する
ことにより、SnO2の一部を金属スズに還元し、このShを
ドープする方法。
(1)の方法で得られた導電性SnO2粉末は灰青色を呈
することと、Sbの毒性に問題がある。また、(2)の方
法で得られた導電性SnO2粉末は色が黒くなることと安定
性がなく経時変化を伴うことに問題がある。
酸化スズにフツ素をドープする方法としては、酸化ス
ズ粉末のフツ素ドープは知られていないが、スズ膜の場
合に次の如き例がある。
(1) スプレー法 塩化スズの溶液とフツ化アンモニウム等の溶液(また
はその混合物)を同時に高温に加熱した基板上に吹きつ
けることにより、基板上で酸化堆積する酸化スズにフツ
素を取り込ませる方法である。酸化スズ膜にフツ素が取
り込まれる効果は非常に悪く、大部分のフツ素は飛散し
てしまうという欠点がある。
(2) CVD法(化学蒸着法) 有機スズ(テトラメチルスズ)と有機フツ化物(CF3B
r)を原料とした化学蒸着法である。CVD法は量産性に優
れているが、原料となるテトラメチルスズが高価である
というデメリットがある。フツ素添加のCVD膜では比抵
抗が3×10-4Ωcmの膜が得られている。フツ素の添加量
はスズに対して数%程度である。
以上のように、フツ素をSnO2中に導入することによ
り、導電性が出ることが知られているが、粉末でフツ素
ドープしたSnO2は知られていない。これはSnO2粉末にフ
ツ素をドープすることが難しいためであつた。
(発明の目的) 本発明者等は、SnO2粉末にフツ素をドープして導電性
を付与する方法を提供すべく、研究を重ねた結果、不活
性雰囲気下でSnO2粉末をフツ素処理することにより、目
的を達成しうることを見出し、本発明に到達した。
(発明の構成) すなわち、本発明によれば、酸化スズ粉末を、不活性
ガス雰囲気下にて10〜40vol%のフツ素ガスと接触させ
ることにより、該酸化スズにフツ素をドープして導電性
を付与することを特徴とする導電性酸化スズ粉末の製造
法、が得られる。
本発明方法におけるN2,Ar等の不活性ガス雰囲気下に
おけるフツ素ガス濃度は10〜40vol%の範囲である。フ
ツ素濃度が10vol%未満ではフツ素が入りにくく、導電
性が低い。40vol%を越えると、反応が激しくなり、酸
化スズ粉末は黒色となり、不適である。例えばF210vol
%−N290vol%処理の場合には、ノンドープの酸化スズ
の比抵抗値は107Ω・cmオーダーであるのに対し、104Ω
・cmオーダーの導電性酸化スズ粉末が得られる。また、
酸化スズ粉末とフツ素ガスとの接触時の温度は、室温で
もフツ素ドープは可能であるが、導電性が低いので、好
ましくは300〜600℃の範囲である。600℃を越えると、
反応が激しく、酸化スズ粉末は黒色となる。
本発明方法で得られた導電性酸化スズ粉末で白色に近
いものは、紙,樹脂,繊維等の帯電防止剤として使用で
きる。また可視光の波長(0.4〜0.8μm)以下の粒子に
よることにより、透明性が出てくるため、塗料中に混入
し、帯電防止塗料とすることもできる。この塗料を塗布
した塗膜は透明帯電防止フイルムになるばかりでなく、
帯電圧を制御するための感光機用塗膜ともなる。
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、こ
れら実施例は本発明の範囲を制定するものではない。又
実施例においては、vol%を%にて示す。
実施例1 モネル製の円筒模型(60cm長×6cmφ)の反応容器にS
nO2粉末8.5gを入れたモネル製14cm長のポートを入れ真
空脱気10分後、N2ガスパージし、室温でF210%−N290%
の混合気体を140cc/minの流速で40分導入した後、N2
スで10分間パージし、真空脱気10分後、またN2ガスパー
ジし、サンプルを取り出した。F2ガス処理したSnO2粉末
を100kg/cm2にて加圧した圧粉体の形にし、比抵抗値を
測定したところ、5.0×104Ω・cmとなつた。
実施例2 実施例1と同様の実験装置,手順で、F2ガス処理を行
つた。ただF210%−N290%の混合気体を導入する際、反
応管をマントルヒーターで300℃に加熱した。こうしてF
2ガス処理したSnO2粉末の比抵抗値は6.5×103Ω・cmで
あつた。
実施例3 実験方法は実施例1,2に従い、F210%−N290%の混合
気体を導入し加熱温度を600℃にしてSnO2粉末をF2ガス
処理したところ、SnO2粉末の比抵抗値は2.4×103Ω・cm
となつた。
実施例4 実験方法は上記実施例に従い、F240%−N260%の混合
気体を導入し、それぞれ40分,300℃及び40分,600℃でF2
ガス処理したところ、得られたSnO2粉末の比抵抗値はそ
れぞれ7.5×102Ω・cm及び1.8×102Ω・cmであつた。
比較例1 実施例1と同様の実験装置、手順で、F25%−N295%
の混合気体を導入し、40分,300℃でF2ガス処理したとこ
ろ、得られたSnO2粉末の比抵抗値は1.0×105Ω・cmであ
つた。
比較例2 実施例1と同様の実験装置、手順で、F250%−N250%
の混合気体を導入し、40分,300℃でF2ガス処理したとこ
ろ、得られたSnO2粉末は黒色の粉末となり、安定性がな
かつた。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】酸化スズ粉末を、不活性ガス雰囲気下にて
    10〜40vol%のフツ素ガスと接触させることにより、該
    酸化スズにフツ素をドープして導電性を付与することを
    特徴とする導電性酸化スズ粉末の製造法。
  2. 【請求項2】請求項(1)に記載の導電性酸化スズ粉末
    の製造法であつて、該フツ素ガスとの接触時の温度を30
    0〜600℃の範囲とすることを特徴とする該製造法。
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