JP2598838B2 - 磁石の遮へい装置 - Google Patents
磁石の遮へい装置Info
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- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
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- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は全体として磁石の遮へいに関するものであ
る。更に詳しくいえば、本発明は、主磁界を発生するた
めに磁気共鳴映像形成、または磁気共鳴分光において用
いられる種類の磁石に使用する受動磁気遮へいに関する
ものである。
る。更に詳しくいえば、本発明は、主磁界を発生するた
めに磁気共鳴映像形成、または磁気共鳴分光において用
いられる種類の磁石に使用する受動磁気遮へいに関する
ものである。
周知のように、磁気共鳴映像形成は、病院またはそれ
に類似の環境において、1.5テスラのオーダーの非常に
強い磁界を発生する磁石を使用する必要がある。主磁石
と呼ばれることがある、それらの磁石は、人の患者を入
れるために十分な寸法の穴の周囲の円筒形フレームに沿
つて支持される、いくつかの磁気コイルを典型的に有す
る。ある構成においては、コイルを形成する導電材料が
超電導モードで動作するように、コイルは超低温に維持
される。それにより、主磁石のために必要な外部電力が
減少する。しきい値として5ガウスが典型的に選択され
ている。「5ガウスライン」という用語は、それ以内で
は端磁界が5ガウスをこえるような境界を指す。
に類似の環境において、1.5テスラのオーダーの非常に
強い磁界を発生する磁石を使用する必要がある。主磁石
と呼ばれることがある、それらの磁石は、人の患者を入
れるために十分な寸法の穴の周囲の円筒形フレームに沿
つて支持される、いくつかの磁気コイルを典型的に有す
る。ある構成においては、コイルを形成する導電材料が
超電導モードで動作するように、コイルは超低温に維持
される。それにより、主磁石のために必要な外部電力が
減少する。しきい値として5ガウスが典型的に選択され
ている。「5ガウスライン」という用語は、それ以内で
は端磁界が5ガウスをこえるような境界を指す。
いくつかの病院においては、MRI装置が設けられてい
る部屋に鋼鉄性の遮へい材を内張りするか、MRI装置を
特別に建築された建物内部に設置することにより、端磁
界の悪影響が避けられる。それらの対策には多額の費用
を要する。
る部屋に鋼鉄性の遮へい材を内張りするか、MRI装置を
特別に建築された建物内部に設置することにより、端磁
界の悪影響が避けられる。それらの対策には多額の費用
を要する。
端磁界を制限するための別の対策においては、遮へい
材は主磁石に近接してその主磁石の周囲に置かれる。そ
のような対策技術の1つが米国特許第4,758,812号に示
されている。この米国特許には、ビーム、棒または板で
それぞれ形成された、そのような磁気遮へいの別の構成
がいくつか開示されている。しかし、それらの構成のい
くつかにおいては、遮へい素子を主磁石の一体部分とし
て組込まねばならない。各素子は大型で、重く、あるい
は変つた構成のものになりがちであるから、磁石の製造
コストが大幅に上昇する。また、そのような構成は既存
の磁石を遮へいするために使用することはできず、磁石
の穴の内部の磁界の一様性に悪影響を及ぼすことがあ
り、それにより映像形成過程に誤りを導入することがあ
る。
材は主磁石に近接してその主磁石の周囲に置かれる。そ
のような対策技術の1つが米国特許第4,758,812号に示
されている。この米国特許には、ビーム、棒または板で
それぞれ形成された、そのような磁気遮へいの別の構成
がいくつか開示されている。しかし、それらの構成のい
くつかにおいては、遮へい素子を主磁石の一体部分とし
て組込まねばならない。各素子は大型で、重く、あるい
は変つた構成のものになりがちであるから、磁石の製造
コストが大幅に上昇する。また、そのような構成は既存
の磁石を遮へいするために使用することはできず、磁石
の穴の内部の磁界の一様性に悪影響を及ぼすことがあ
り、それにより映像形成過程に誤りを導入することがあ
る。
別の欠点として、上記のような種類の従来の磁気遮へ
い装置は、磁石のそれぞれのコイルに一様でない力を加
えることがあることである。したがつて、コイルは互い
に整列状態から動かされるから、コイルのそれぞれの軸
はもはや共直線関係にはない。超電導コイルにおいて
は、整列状態を外れたコイルの磁界が互いに干渉し合つ
てコイルが発熱し、それらのコイルの超電導性を失わせ
る。これを防止するために、前記米国特許に開示されて
いるような従来の装置は、適正に整列させるためにコイ
ルを個々に調節する装置を含む。しかし、その調節には
非常に時間がかかることがあり、しかも効果は限られ
る。
い装置は、磁石のそれぞれのコイルに一様でない力を加
えることがあることである。したがつて、コイルは互い
に整列状態から動かされるから、コイルのそれぞれの軸
はもはや共直線関係にはない。超電導コイルにおいて
は、整列状態を外れたコイルの磁界が互いに干渉し合つ
てコイルが発熱し、それらのコイルの超電導性を失わせ
る。これを防止するために、前記米国特許に開示されて
いるような従来の装置は、適正に整列させるためにコイ
ルを個々に調節する装置を含む。しかし、その調節には
非常に時間がかかることがあり、しかも効果は限られ
る。
本発明の目的は、磁気共鳴映像形成装置の主磁石に近
接する端磁界を大幅に減少させることである。
接する端磁界を大幅に減少させることである。
本発明の別の目的は、磁石により発生された磁界の一
様性を減じない、そのような目的のための磁気遮へいを
行うことである。
様性を減じない、そのような目的のための磁気遮へいを
行うことである。
本発明の別の目的は、複数のコイルを含む磁石に用い
て、個々のコイルの整列状態を調節する必要をなくす、
上記のような種類の磁気遮へいを行うことである。
て、個々のコイルの整列状態を調節する必要をなくす、
上記のような種類の磁気遮へいを行うことである。
本発明の別の目的は、磁石の超電導性減少を避ける、
超電導磁石用の受動遮へいを行うことである。
超電導磁石用の受動遮へいを行うことである。
本発明の別の目的は、既存の磁石に容易に採用できる
磁石用の受動磁気遮へいを行うことである。
磁石用の受動磁気遮へいを行うことである。
本発明の更に別の目的は、比較的簡単で安価であり、
磁石に対して特殊な設計を要求することはない、磁石用
の受動遮へいを行うことである。
磁石に対して特殊な設計を要求することはない、磁石用
の受動遮へいを行うことである。
本発明は、磁気共鳴映像形成または分光を行うために
必要な主磁界を発生するために用いられる磁石のような
関連する磁軸を有する磁石の磁気遮へい装置を提供する
ものである。この磁気遮へい装置は、指定された磁気遮
へい材で製作された複数の細長い部材と、遮へい軸を有
し、かつ磁石を囲むほぼ閉じた遮へい構造体のそれぞれ
の辺を形成するために、細長い部材を支持する手段を含
む。磁石を遮へい構造体の内部に支持する手段が設けら
れ、磁石の軸を遮へい構造体の軸と共直線関係に整列さ
れるために、遮へい構造体に対して磁石を一体として動
かすために他の手段が支持手段へ結合される。遮へい構
造体は受動遮へい装置として作用する、すなわち、相殺
する磁界を発生するために外部電源を必要とすることな
しに磁界を選択的に制限するように動作する。また、基
本磁石の磁界の一様性に与える衝撃を最小にするために
遮へい装置は構成される。とくに、この目的を達成する
ために、遮へい装置の端部キヤツプの穴が最適にされ
る。
必要な主磁界を発生するために用いられる磁石のような
関連する磁軸を有する磁石の磁気遮へい装置を提供する
ものである。この磁気遮へい装置は、指定された磁気遮
へい材で製作された複数の細長い部材と、遮へい軸を有
し、かつ磁石を囲むほぼ閉じた遮へい構造体のそれぞれ
の辺を形成するために、細長い部材を支持する手段を含
む。磁石を遮へい構造体の内部に支持する手段が設けら
れ、磁石の軸を遮へい構造体の軸と共直線関係に整列さ
れるために、遮へい構造体に対して磁石を一体として動
かすために他の手段が支持手段へ結合される。遮へい構
造体は受動遮へい装置として作用する、すなわち、相殺
する磁界を発生するために外部電源を必要とすることな
しに磁界を選択的に制限するように動作する。また、基
本磁石の磁界の一様性に与える衝撃を最小にするために
遮へい装置は構成される。とくに、この目的を達成する
ために、遮へい装置の端部キヤツプの穴が最適にされ
る。
本発明の利点は、磁石の周囲に遮へい装置を組立てる
ことが容易なことである。
ことが容易なことである。
本発明の別の利点は、磁気遮へいを施す多数のコイル
磁石のそれぞれのコイルに加えられる力を一様に分布さ
せることにより、遮へい装置とともに満足に動作させる
ためにコイルの補助支持の必要をなくす磁気遮へい装置
の形成に用いられる八角形板にある。
磁石のそれぞれのコイルに加えられる力を一様に分布さ
せることにより、遮へい装置とともに満足に動作させる
ためにコイルの補助支持の必要をなくす磁気遮へい装置
の形成に用いられる八角形板にある。
第1図は磁石12を囲む本発明の遮へい装置10を示す。
この遮へい装置10は8枚の類似する、または同一の長方
形板14a〜14hと、八角形の端部キヤツプすなわちフラン
ジ16aと、この端部キヤツプと同一の別の八角形端部キ
ヤツプ16bとを一般に有する。板14a〜14hの端部は、端
部キヤツプ16aと16bの対応する辺へボルト18等に密着関
係で連結される。2つの端部キヤツプの間を延長する隣
接する板の辺の縁部が接触関係にあり、それらの間にV
形の間隙が形成される。したがつて、端部キヤツプ16a
と16bは板14a〜14hを確実に支持して、磁石12を囲む遮
へい構造体を形成する。患者その他の物体を磁石の穴の
中に出し入れすることができるように、端部キヤツプ16
a(および16b)に設けられている穴20を除き、遮へい構
造体は閉じられる。第1図は、床または他の支持表面24
の上に直接位置させられている最も下の板14gを示す。
板14a〜14hは1006炭素鋼で有用に形成される。
この遮へい装置10は8枚の類似する、または同一の長方
形板14a〜14hと、八角形の端部キヤツプすなわちフラン
ジ16aと、この端部キヤツプと同一の別の八角形端部キ
ヤツプ16bとを一般に有する。板14a〜14hの端部は、端
部キヤツプ16aと16bの対応する辺へボルト18等に密着関
係で連結される。2つの端部キヤツプの間を延長する隣
接する板の辺の縁部が接触関係にあり、それらの間にV
形の間隙が形成される。したがつて、端部キヤツプ16a
と16bは板14a〜14hを確実に支持して、磁石12を囲む遮
へい構造体を形成する。患者その他の物体を磁石の穴の
中に出し入れすることができるように、端部キヤツプ16
a(および16b)に設けられている穴20を除き、遮へい構
造体は閉じられる。第1図は、床または他の支持表面24
の上に直接位置させられている最も下の板14gを示す。
板14a〜14hは1006炭素鋼で有用に形成される。
板14cは2つの部分15aと15bを有する。それらの部分
は、端部キヤツプ16aと16bの間を長手方向に延長する共
通縁部に沿つて一緒に接触させられる。磁石12が単一体
でなくて2つの部分で構成されているものであれば、磁
石12の上方の位置に板14cを置くことがはるかに便利で
あることが見出されている。
は、端部キヤツプ16aと16bの間を長手方向に延長する共
通縁部に沿つて一緒に接触させられる。磁石12が単一体
でなくて2つの部分で構成されているものであれば、磁
石12の上方の位置に板14cを置くことがはるかに便利で
あることが見出されている。
磁石12は、磁気共鳴映像形成用の超電導磁石、たとえ
ば米国特許第4,800,354号に開示されているような磁石
を用いる。この磁石は複数の個別磁石コイルを有する。
それらのコイルは、穴22の周囲に位置させられているコ
イル枠(第1図には示されていない)の上に同軸関係で
支持される。磁石コイルとコイル枠は、液体ヘリウムが
充されている容器(図示せず)の中に納められる。コイ
ルと、コイル枠と、液体ヘリウム容器とは低温維持装置
内に納められる。液体ヘリウムの超低温によりコイル磁
石は超電導にさせられる。したがつて、コイルが励磁さ
せられると、非常に強力な磁界が発生される。この磁界
の成分が穴22の中に存在し、別の成分が磁石から外方へ
放射される。穴の中の磁界成分は磁気共鳴映像形成用に
用いられ、それの強さは1.5テスラのオーダーである。
ば米国特許第4,800,354号に開示されているような磁石
を用いる。この磁石は複数の個別磁石コイルを有する。
それらのコイルは、穴22の周囲に位置させられているコ
イル枠(第1図には示されていない)の上に同軸関係で
支持される。磁石コイルとコイル枠は、液体ヘリウムが
充されている容器(図示せず)の中に納められる。コイ
ルと、コイル枠と、液体ヘリウム容器とは低温維持装置
内に納められる。液体ヘリウムの超低温によりコイル磁
石は超電導にさせられる。したがつて、コイルが励磁さ
せられると、非常に強力な磁界が発生される。この磁界
の成分が穴22の中に存在し、別の成分が磁石から外方へ
放射される。穴の中の磁界成分は磁気共鳴映像形成用に
用いられ、それの強さは1.5テスラのオーダーである。
第1図は、低温維持装置26の外面にそれぞれ取付けら
れる支持パツド28を更に示す。各バツドの表面28aは対
応する垂直支持部材30の上端部にすべり接触する。その
支持部材30は板14fまたは14hの一方を貫通する。各支持
部材30は、床24の上に位置させられて、磁気遮へい装置
に固着されている対応するスタンド32の上に保持され
る。したがつて、垂直支持部材30とスタンド32は低温維
持装置26と、磁石12を含めて低温維持装置の内部に含ま
れているそれぞれの部品との全重量を支える。その重量
の全ては表面28aを介して支持部材30へ移される。それ
と同時に、各パツド表面28aと、それに対応する垂直支
持部材30との間のすべり可能な関係により、低温維持装
置26と磁石12は、支持部材30と、スタンド32と、遮へい
装置10とに対して水平に動くことができるようにされ
る。
れる支持パツド28を更に示す。各バツドの表面28aは対
応する垂直支持部材30の上端部にすべり接触する。その
支持部材30は板14fまたは14hの一方を貫通する。各支持
部材30は、床24の上に位置させられて、磁気遮へい装置
に固着されている対応するスタンド32の上に保持され
る。したがつて、垂直支持部材30とスタンド32は低温維
持装置26と、磁石12を含めて低温維持装置の内部に含ま
れているそれぞれの部品との全重量を支える。その重量
の全ては表面28aを介して支持部材30へ移される。それ
と同時に、各パツド表面28aと、それに対応する垂直支
持部材30との間のすべり可能な関係により、低温維持装
置26と磁石12は、支持部材30と、スタンド32と、遮へい
装置10とに対して水平に動くことができるようにされ
る。
後で第2図と第3図を参照して説明するように、床24
と遮へい装置10に対して磁石12の位置を垂直方向に調節
するために、各垂直支持部材30をそれの対応するスタン
ド32に対して上下させることができる。
と遮へい装置10に対して磁石12の位置を垂直方向に調節
するために、各垂直支持部材30をそれの対応するスタン
ド32に対して上下させることができる。
第3図を参照して後で詳しく説明するように、第1図
は複数の調節ねじ34を示す。各調節ねじは、板14aまた
は14eの一方に固定されているナツト33にねじこまれ、
パツド28に接触する。調節ねじは、低温維持装置26と磁
石12を遮へい装置10に対して横方向、すなわち、第1図
で見て左または右へ動かすために用いられる。
は複数の調節ねじ34を示す。各調節ねじは、板14aまた
は14eの一方に固定されているナツト33にねじこまれ、
パツド28に接触する。調節ねじは、低温維持装置26と磁
石12を遮へい装置10に対して横方向、すなわち、第1図
で見て左または右へ動かすために用いられる。
第4図を参照して後で説明するように、調節ねじ35は
穴22の両側の端部キヤツプ16aを通じてねじこまれる
(第1図には調節35が1本だけ示されている)。調節ね
じ35は端部キヤツプ16aの端ぐりの中に入れられ、低温
維持装置26の近端部に接触する。他の2本の調節ねじ35
が端部キヤツプ16bの中に対応してねじこまれ、低温維
持装置26の他端部に接触する。低温維持装置26と磁石12
を、遮へい装置10に対して軸線方向へ、移動させるため
に、4本の調節ねじ35が用いられる。
穴22の両側の端部キヤツプ16aを通じてねじこまれる
(第1図には調節35が1本だけ示されている)。調節ね
じ35は端部キヤツプ16aの端ぐりの中に入れられ、低温
維持装置26の近端部に接触する。他の2本の調節ねじ35
が端部キヤツプ16bの中に対応してねじこまれ、低温維
持装置26の他端部に接触する。低温維持装置26と磁石12
を、遮へい装置10に対して軸線方向へ、移動させるため
に、4本の調節ねじ35が用いられる。
第1図と第2図は、低温維持装置26、したがつて磁石
12を選択的に位置させるために、全部で4組のパツド2
8、支持部材30、スタンド32およびねじ34の組合わせが
設けられることを一緒に示す。
12を選択的に位置させるために、全部で4組のパツド2
8、支持部材30、スタンド32およびねじ34の組合わせが
設けられることを一緒に示す。
第2図は、互いに平行関係に離隔されて、床24に接触
しているベース板32cへ固定されている、垂直方向へ向
けられた2枚の板32aと32bをおのおの有するスタンド32
を示す。板32aと32bの上側部分が、水平に向けられたウ
エブ板32dとアングル板32eにより一緒に固く連結され
る。各板には穴が設けられる。
しているベース板32cへ固定されている、垂直方向へ向
けられた2枚の板32aと32bをおのおの有するスタンド32
を示す。板32aと32bの上側部分が、水平に向けられたウ
エブ板32dとアングル板32eにより一緒に固く連結され
る。各板には穴が設けられる。
第2図は、フランジ部材30bに接触するロツド30aを含
む各垂直支持部材も示す。ウエブ板32dの穴は、フラン
ジ部材30bをウエブ32dに接触させて、それの間に硬い境
界面を設けることができるように、フランジ30bの下側
を延長する端部部分30dを受けるような寸法にされ、か
つそれと一体構造のものである。低温維持装置26と、そ
の中に納められている磁石12とにより垂直支持部材30へ
加えられる下向きの荷重は、前記境界面を横切つて対応
するスタンド32により確実に受けられる。
む各垂直支持部材も示す。ウエブ板32dの穴は、フラン
ジ部材30bをウエブ32dに接触させて、それの間に硬い境
界面を設けることができるように、フランジ30bの下側
を延長する端部部分30dを受けるような寸法にされ、か
つそれと一体構造のものである。低温維持装置26と、そ
の中に納められている磁石12とにより垂直支持部材30へ
加えられる下向きの荷重は、前記境界面を横切つて対応
するスタンド32により確実に受けられる。
遮へい装置10に対する磁石12の高さを高くするため
に、ウエブ板32dとフランジ30bの間にシム36を1つまた
は複数個設けることができる。それらのシムは選択され
た厚さの硬い鋼部材で構成され、端部部分30dが通るこ
とができるような寸法の穴がおのおのに設けられる。床
24からの磁石12の高さは、フランジ30bと対応するウエ
ブ板32dの間にはさまれるシムの数と厚さとに従つて約
2.54cm(1.0インチ)のオーダーの範囲にわたつて有用
に可変である。
に、ウエブ板32dとフランジ30bの間にシム36を1つまた
は複数個設けることができる。それらのシムは選択され
た厚さの硬い鋼部材で構成され、端部部分30dが通るこ
とができるような寸法の穴がおのおのに設けられる。床
24からの磁石12の高さは、フランジ30bと対応するウエ
ブ板32dの間にはさまれるシムの数と厚さとに従つて約
2.54cm(1.0インチ)のオーダーの範囲にわたつて有用
に可変である。
第3図はナツト33にねじ合わされている調節ねじ34が
詳しく示されている。ナツト33は、板14eのような1枚
の板に形成されている端ぐり38の中にボルト39によつて
動かないように保持される。調節ねじ34にはレンチ受け
部40が設けられる。このレンチ受け部はレンチに挿入さ
れて調節ねじ34を選択的に回し、調節ねじ34を垂直支持
部材30へ押しつけたり、垂直支持部材から引き離したり
する。全ての調節ねじ34を関連して調節することによ
り、低温維持装置16と磁石12を、約2.54cm(1インチ)
のオーダーの範囲にわたつて横方向に移動させることが
できる。
詳しく示されている。ナツト33は、板14eのような1枚
の板に形成されている端ぐり38の中にボルト39によつて
動かないように保持される。調節ねじ34にはレンチ受け
部40が設けられる。このレンチ受け部はレンチに挿入さ
れて調節ねじ34を選択的に回し、調節ねじ34を垂直支持
部材30へ押しつけたり、垂直支持部材から引き離したり
する。全ての調節ねじ34を関連して調節することによ
り、低温維持装置16と磁石12を、約2.54cm(1インチ)
のオーダーの範囲にわたつて横方向に移動させることが
できる。
第3図は、垂直板32aと32bに対して45度の角度を成し
て位置させられ、かつボルト41により遮へい装置10へ取
付けられているスタンド32のアングル板32eを更に示
す。パツド表面28aがテフロンまたはデルリン(いずれ
も登録商標)製のパツド30cに接触して、それに対して
自由に動くことかできるようにするために、パツド30c
が各ロツド30aの上端部の上に置かれる。
て位置させられ、かつボルト41により遮へい装置10へ取
付けられているスタンド32のアングル板32eを更に示
す。パツド表面28aがテフロンまたはデルリン(いずれ
も登録商標)製のパツド30cに接触して、それに対して
自由に動くことかできるようにするために、パツド30c
が各ロツド30aの上端部の上に置かれる。
第4図は、低温維持装置26の壁により強固に支持され
ている円筒形のコイル枠13にそれぞれ巻かれた複数の円
形コイル12a〜12dを有する磁石12を示す。コイル枠13は
コイル12a〜12dを互いに動くことができない関係に維持
して、コイルのそれぞれの軸線が、磁石12の軸線である
共通軸線Amに沿つて全て整列させられるようにする。説
明のために、磁石12は4個のコイルを有するように示さ
れているが、実際には異なる数のコイルを有することも
できる。
ている円筒形のコイル枠13にそれぞれ巻かれた複数の円
形コイル12a〜12dを有する磁石12を示す。コイル枠13は
コイル12a〜12dを互いに動くことができない関係に維持
して、コイルのそれぞれの軸線が、磁石12の軸線である
共通軸線Amに沿つて全て整列させられるようにする。説
明のために、磁石12は4個のコイルを有するように示さ
れているが、実際には異なる数のコイルを有することも
できる。
遮へい装置10が低温維持装置26の周囲の所定場所に設
けられた時に、磁石12が正しく動作するようにするため
に、磁石の軸線Amを遮へい装置10の軸線Asに整列させね
ばならない。それらの線の整列状態が損われると、磁石
12のコイルの超電導状態が失われ、磁石の穴22の内部の
磁界の一様性が損われて、穴22の中の物体の磁気共鳴映
像形成が悪影響を受けることがある。磁石12のそれぞれ
のコイル12a〜12dはコイル枠13を介して低温維持装置26
へ強固に連結されているから、はるかに重い遮へい装置
の重量にかんがみて、低温維持装置26を垂直方向と水平
方向に選択的に移動させることにより、磁石12の軸線Am
は遮へい装置の軸線Asに最も効果的に整列させられる。
求められる垂直変位は、シム36により行うことができる
変化の範囲内である。同様に、求められる水平変位は、
調節ねじ34により行うことができる変化の範囲内であ
る。したがつて、スタンド32と支持パツド28の間にはさ
まれるシム36を慎重に選択し、調節ねじ34を調節するこ
とにより、磁石の軸線Amを磁気遮へい装置Asに対して、
約1.6mm(1/16インチ)またはそれ以内で整列させるこ
とができる。
けられた時に、磁石12が正しく動作するようにするため
に、磁石の軸線Amを遮へい装置10の軸線Asに整列させね
ばならない。それらの線の整列状態が損われると、磁石
12のコイルの超電導状態が失われ、磁石の穴22の内部の
磁界の一様性が損われて、穴22の中の物体の磁気共鳴映
像形成が悪影響を受けることがある。磁石12のそれぞれ
のコイル12a〜12dはコイル枠13を介して低温維持装置26
へ強固に連結されているから、はるかに重い遮へい装置
の重量にかんがみて、低温維持装置26を垂直方向と水平
方向に選択的に移動させることにより、磁石12の軸線Am
は遮へい装置の軸線Asに最も効果的に整列させられる。
求められる垂直変位は、シム36により行うことができる
変化の範囲内である。同様に、求められる水平変位は、
調節ねじ34により行うことができる変化の範囲内であ
る。したがつて、スタンド32と支持パツド28の間にはさ
まれるシム36を慎重に選択し、調節ねじ34を調節するこ
とにより、磁石の軸線Amを磁気遮へい装置Asに対して、
約1.6mm(1/16インチ)またはそれ以内で整列させるこ
とができる。
第4図は、端部キヤツプ16aと16bを貫通する対応する
穴を貫通して、調節ねじ34がねじ合わされる第3図に示
すナツト33のような、その穴に設けられているナツトに
ねじ合わされる。調節ねじ35を調節することにより、磁
石12を遮へい装置10に対して軸線Asに沿つて、約2.54cm
(1.0インチ)のオーダーの範囲にわたつて軸線方向に
移動させることができる。
穴を貫通して、調節ねじ34がねじ合わされる第3図に示
すナツト33のような、その穴に設けられているナツトに
ねじ合わされる。調節ねじ35を調節することにより、磁
石12を遮へい装置10に対して軸線Asに沿つて、約2.54cm
(1.0インチ)のオーダーの範囲にわたつて軸線方向に
移動させることができる。
簡単にするために、第4図に示す低温維持装置26の内
部の図示からは液体ヘリウム容器は省いた。
部の図示からは液体ヘリウム容器は省いた。
第5図は、遮へい装置10の内部に納められて、1.5テ
スラの磁界を発生し、かつ5ガウスライン42を有する磁
石12を示す。5ガウスライン42はデータ点42a〜42fを当
てはめるために発生されたカーブである。各データ点
は、遮へい装置10により囲まれた時に磁石12により発生
された端磁界を実際に測定して得たものである。5ガウ
スライン42は、磁石の中心から約5.94m(19.5フイー
ト)の距離の点において、磁石の軸線Amと一致する軸線
Zと交差するとともに、磁石の中心44から約3.66m(12
フイート)の距離の点において、Z軸に直行するR軸と
交差する。したがつて、約12.2m×7.32m(40フイート×
24フイート)の大きさの部屋の中心に磁石12が置かれた
とすると、磁気共鳴映像形成を行うために1.5テスラの
オーダーの磁界を磁石が生じた時に、5ガウスラインは
その部屋の外部へ出ない。
スラの磁界を発生し、かつ5ガウスライン42を有する磁
石12を示す。5ガウスライン42はデータ点42a〜42fを当
てはめるために発生されたカーブである。各データ点
は、遮へい装置10により囲まれた時に磁石12により発生
された端磁界を実際に測定して得たものである。5ガウ
スライン42は、磁石の中心から約5.94m(19.5フイー
ト)の距離の点において、磁石の軸線Amと一致する軸線
Zと交差するとともに、磁石の中心44から約3.66m(12
フイート)の距離の点において、Z軸に直行するR軸と
交差する。したがつて、約12.2m×7.32m(40フイート×
24フイート)の大きさの部屋の中心に磁石12が置かれた
とすると、磁気共鳴映像形成を行うために1.5テスラの
オーダーの磁界を磁石が生じた時に、5ガウスラインは
その部屋の外部へ出ない。
以上、本発明を好適な実施例について説明したが、そ
の実施例は単なる例示であることがわかるであろう。本
発明の要旨を逸脱することなしにその実施例を当業者は
種々変更できる。たとえば、ある構成においては、構造
体を受けるために遮へい装置に穴をあける必要があるよ
うに、構造体は低温維持装置から外方へ突出す。
の実施例は単なる例示であることがわかるであろう。本
発明の要旨を逸脱することなしにその実施例を当業者は
種々変更できる。たとえば、ある構成においては、構造
体を受けるために遮へい装置に穴をあける必要があるよ
うに、構造体は低温維持装置から外方へ突出す。
第1図は、磁気遮へい装置の端部キヤツプの一部を切欠
いて示す、磁気共鳴映像形成に用いられる種類の超電導
磁石を囲む本発明に従つて製作された磁気遮へい装置の
端部図、第2図は第1図に示す実施例の側面図、第3図
は第1図に示す実施例で用いられる磁石位置ぎめ機構お
よび調節機構の一部を示す略図、第4図は第1図の4−
4線に沿う断面図、第5図は磁石の中心で交差する直交
座標を基準とした、5ガウス線の位置を示す平面図であ
る。 10……磁気遮へい装置、12……磁石、14……長方形板、
16……端部キヤツプ、26……低温維持装置、28……支持
パツト、30……支持部材、32……スタンド、34,35……
調節ねじ。
いて示す、磁気共鳴映像形成に用いられる種類の超電導
磁石を囲む本発明に従つて製作された磁気遮へい装置の
端部図、第2図は第1図に示す実施例の側面図、第3図
は第1図に示す実施例で用いられる磁石位置ぎめ機構お
よび調節機構の一部を示す略図、第4図は第1図の4−
4線に沿う断面図、第5図は磁石の中心で交差する直交
座標を基準とした、5ガウス線の位置を示す平面図であ
る。 10……磁気遮へい装置、12……磁石、14……長方形板、
16……端部キヤツプ、26……低温維持装置、28……支持
パツト、30……支持部材、32……スタンド、34,35……
調節ねじ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジヨン・ジエロム・ウーラン アメリカ合衆国 29501、サウス カロ ライナ州、フローレンス、レークシヨア ドライブ、3225番 (72)発明者 ロバート・リツチモンド・ケアリイ アメリカ合衆国 29501、サウスカロラ イナ州、フローレンス、アランデル ド ライブ、913番 (56)参考文献 特開 昭48−38457(JP,A) 特開 昭63−307711(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】磁石の軸線に共通に沿うよう保持された軸
を持つ複数のコイルを有する磁石のための遮へい装置に
おいて、 指定された磁気遮へい材料で形成された複数の細長い部
材と、 それらの細長い部材を、前記磁石を囲む遮へい構造体の
各辺を形成するよう、支持する手段と、 前記磁石を前記遮へい構造体内に支持する磁石支持手段
と、 この磁石支持手段に結合されていて、前記磁石の軸線が
前記遮へい構造体の軸線に整列するよう、前記遮へい構
造体に対して前記磁石の位置を調節する調節手段であっ
て、相互に直交し且つ遮へい軸に直交する第1方向およ
び第2方向のそれぞれに沿って前記磁石を動かす、第1
および第2の機構を含んでいる調節手段と を備えた、磁石の遮へい装置。 - 【請求項2】磁石のための遮へい装置において、 指定された磁気遮へい材料の複数の長方形板と、 対向する端部を有する、多辺の殻を形成するよう、前記
長方形板を連結する手段と、 前記磁石を前記殻内に支持する磁石支持手段と、 前記磁石支持手段に結合されていて、前記磁石の軸線が
前記殻の軸線に整列するよう、前記殻に対して前記磁石
の位置を一体のユニットとして調節する調節手段であっ
て、相互に直交し且つ殻の軸線に直交する第1方向およ
び第2方向のそれぞれに沿って前記磁石を動かす、第1
および第2の機構を含んでいる調節手段と を備えた、磁石の遮へい装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/452,087 US5001448A (en) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | Shield for a magnet |
US452,087 | 1989-12-18 |
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---|---|
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Family Applications (1)
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CA (1) | CA2021599A1 (ja) |
IL (1) | IL96543A0 (ja) |
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SE463416B (sv) * | 1988-09-02 | 1990-11-19 | Sandvik Ab | Oxidbaserat keramiskt material foer spaanavskiljande bearbetning av staal |
US5220302A (en) * | 1990-01-22 | 1993-06-15 | The University Of Texas System Board Of Regents | Nmr clinical chemistry analyzer and method of forming a shield |
JPH0420326A (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-23 | Toshiba Corp | Mri装置用静磁界磁石装置 |
JPH04328477A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-17 | Mitsubishi Electric Corp | 電磁石装置 |
US5359310A (en) * | 1992-04-15 | 1994-10-25 | Houston Advanced Research Center | Ultrashort cylindrical shielded electromagnet for magnetic resonance imaging |
US5382904A (en) * | 1992-04-15 | 1995-01-17 | Houston Advanced Research Center | Structured coil electromagnets for magnetic resonance imaging and method for fabricating the same |
US5304934A (en) * | 1993-01-04 | 1994-04-19 | General Electric Company | Superconducting magnet for imaging human limbs |
DE19638230C1 (de) | 1996-09-19 | 1998-05-28 | Bruker Analytische Messtechnik | Ferromagnetische Raumabschirmung für den supraleitenden Hochfeldmagneten eines NMR-Spektrometers |
US6416215B1 (en) | 1999-12-14 | 2002-07-09 | University Of Kentucky Research Foundation | Pumping or mixing system using a levitating magnetic element |
US6758593B1 (en) * | 2000-10-09 | 2004-07-06 | Levtech, Inc. | Pumping or mixing system using a levitating magnetic element, related system components, and related methods |
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ITSV20010034A1 (it) * | 2001-10-02 | 2003-04-02 | Esaote Spa | Magnete a superconduttore in particolare per macchine di rilevamento di immagini in risonanza magnetica nucleare |
US7019525B2 (en) | 2004-01-06 | 2006-03-28 | Ge Medical Systems Glogal Technology Company, Llc | Method and apparatus for magnetic resonance imaging |
JP4742502B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2011-08-10 | ソニー株式会社 | 磁気シールド体、磁気シールド構造及び磁気メモリ装置 |
CN100434038C (zh) * | 2004-03-05 | 2008-11-19 | 西门子(中国)有限公司 | 磁共振成像设备磁场的调节装置 |
GB0503622D0 (en) * | 2005-02-22 | 2005-03-30 | Siemens Magnet Technology Ltd | Shielding for mobile MRI systems |
US8514043B2 (en) * | 2005-09-14 | 2013-08-20 | General Electric Company | Systems and methods for passively shielding a magnetic field |
JP4796393B2 (ja) * | 2006-01-17 | 2011-10-19 | 株式会社日立製作所 | 超電導電磁石 |
US9177707B2 (en) | 2012-04-20 | 2015-11-03 | Mitsubishi Electric Corporation | Superconducting magnet and method for adjusting the same |
JP2017011236A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-12 | 株式会社神戸製鋼所 | 多層磁気シールド |
US10182652B1 (en) * | 2017-12-21 | 2019-01-22 | Google Llc | Interactive kiosk shelves |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS503498B2 (ja) * | 1971-09-18 | 1975-02-05 | ||
DE3333755A1 (de) * | 1983-09-19 | 1985-04-18 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Magneteinrichtung einer anlage der kernspin-tomographie mit einer abschirmvorrichtung |
DE3769194D1 (de) * | 1986-04-21 | 1991-05-16 | Siemens Ag | Rahmenstruktur fuer ein magnetsystem einer anlage zur kernspin-tomographie. |
US4931760A (en) * | 1986-10-08 | 1990-06-05 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Uniform magnetic field generator |
JP2603944B2 (ja) * | 1986-11-13 | 1997-04-23 | 株式会社東芝 | Mri装置用磁石の磁気遮蔽体 |
FR2611975B1 (fr) * | 1987-03-03 | 1995-02-17 | Commissariat Energie Atomique | Systeme d'aimants permanents pour un champ magnetique intense |
JPS63307711A (ja) * | 1987-06-10 | 1988-12-15 | Toshiba Corp | 磁石装置 |
US4822772A (en) * | 1987-08-14 | 1989-04-18 | Houston Area Research Center | Electromagnet and method of forming same |
US4743880A (en) * | 1987-09-28 | 1988-05-10 | Ga Technologies Inc. | MRI magnet system having shield and method of manufacture |
-
1989
- 1989-12-18 US US07/452,087 patent/US5001448A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-19 CA CA002021599A patent/CA2021599A1/en not_active Abandoned
- 1990-11-30 JP JP2337013A patent/JP2598838B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-30 EP EP19900313038 patent/EP0434247A3/en not_active Withdrawn
- 1990-12-05 IL IL96543A patent/IL96543A0/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5001448A (en) | 1991-03-19 |
JPH03191504A (ja) | 1991-08-21 |
CA2021599A1 (en) | 1991-06-19 |
EP0434247A3 (en) | 1991-10-30 |
IL96543A0 (en) | 1991-09-16 |
EP0434247A2 (en) | 1991-06-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |