JP2590200B2 - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
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- JP2590200B2 JP2590200B2 JP63128315A JP12831588A JP2590200B2 JP 2590200 B2 JP2590200 B2 JP 2590200B2 JP 63128315 A JP63128315 A JP 63128315A JP 12831588 A JP12831588 A JP 12831588A JP 2590200 B2 JP2590200 B2 JP 2590200B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラスチツク成形品たとえばポリエチレンテ
レフタレート（PET）フイルム、天然あるいは合成繊
維、また塗装鋼板などの被処理物を連続的に真空状態で
処理、たとえばプラズマ処理、蒸着時の処理を行なう装
置に関するものである。
レフタレート（PET）フイルム、天然あるいは合成繊
維、また塗装鋼板などの被処理物を連続的に真空状態で
処理、たとえばプラズマ処理、蒸着時の処理を行なう装
置に関するものである。
従来の真空処理装置には、米国特許第3,057,792号に
記載のように、予備真空室をスリツト状のシール装置で
シールする構造のものがある。また他に特開昭62−4866
号に記載のように、予備真空をスリツト状シール装置で
シールをし、シール装置の前後に被処理物を案内する案
内ロールを備えたものがある。
記載のように、予備真空室をスリツト状のシール装置で
シールする構造のものがある。また他に特開昭62−4866
号に記載のように、予備真空をスリツト状シール装置で
シールをし、シール装置の前後に被処理物を案内する案
内ロールを備えたものがある。
上記前者従来技術は、被処理物がシール部分に接触し
て被処理物が損傷することについて配慮されていなかつ
た。このため、透明導電膜等の高級被処理物の処理には
不適当であつた。また後者従来技術については、被処理
物を案ロールで圧着するため、処理後の被処理物の特性
に与える影響について配慮されていなかつた。
て被処理物が損傷することについて配慮されていなかつ
た。このため、透明導電膜等の高級被処理物の処理には
不適当であつた。また後者従来技術については、被処理
物を案ロールで圧着するため、処理後の被処理物の特性
に与える影響について配慮されていなかつた。
本発明の目的は、被処理物がシール部に接触すること
を防止し、又、案内ロールで圧着しない構造とすること
によつて被処理物を損傷せず、また処理後の被処理物の
特性に影響を与えない真空連続処理装置を提供すること
にある。
を防止し、又、案内ロールで圧着しない構造とすること
によつて被処理物を損傷せず、また処理後の被処理物の
特性に影響を与えない真空連続処理装置を提供すること
にある。
上記目的は、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なく
とも１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置
において、前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に
真空処理室を処理室外からシールするスリット状シール
を有し、前記シールの前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内手段を設け、前記予備真空室のうち最も大気
側の予備真空室に真空排気速度を調整する調整手段を設
けると共に被処理物の上部と下部の圧力を検出する検出
手段を設け、前記予備真空室の被処理物の上部と下部と
の圧力差により前記調整手段の真空排気速度を制御する
制御手段を設ける、ことによって達成される。
とも１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置
において、前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に
真空処理室を処理室外からシールするスリット状シール
を有し、前記シールの前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内手段を設け、前記予備真空室のうち最も大気
側の予備真空室に真空排気速度を調整する調整手段を設
けると共に被処理物の上部と下部の圧力を検出する検出
手段を設け、前記予備真空室の被処理物の上部と下部と
の圧力差により前記調整手段の真空排気速度を制御する
制御手段を設ける、ことによって達成される。
また上記目的は、予備真空室は被処理物を搬送すると
共に真空処理室を処理室外からシールするスリット状シ
ールを有し、前記シールの前後もしくは一方に被処理物
を案内する案内手段を設け、前記予備真空室のうち最も
大気側の予備真空室に真空排気速度を調整する調整手段
を設けると共に予備真空室に被処理物の上部と下部のス
リット状シールからの空気の流速を検出する検出手段を
設け、前記予備真空室内の被処理物の上部と下部との流
速の差により調整手段の真空排気速度を制御する制御手
段を設ける、ことによって達成される。
共に真空処理室を処理室外からシールするスリット状シ
ールを有し、前記シールの前後もしくは一方に被処理物
を案内する案内手段を設け、前記予備真空室のうち最も
大気側の予備真空室に真空排気速度を調整する調整手段
を設けると共に予備真空室に被処理物の上部と下部のス
リット状シールからの空気の流速を検出する検出手段を
設け、前記予備真空室内の被処理物の上部と下部との流
速の差により調整手段の真空排気速度を制御する制御手
段を設ける、ことによって達成される。
更にまた上記目的は、予備真空室は被処理物を搬送す
ると共に真空処理室を処理室外からシールするスリット
状シールを有し、前記シールの前後もしくは一方に被処
理物を案内する案内手段を設け、前記予備真空室のうち
最も大気側の予備真空室に真空排気速度を調整する調整
手段を設けると共に被処理物の位置を検出する検出手段
を設け、被処理物の位置により真空排気速度を制御する
制御手段を設ける、ことによって達成される。
ると共に真空処理室を処理室外からシールするスリット
状シールを有し、前記シールの前後もしくは一方に被処
理物を案内する案内手段を設け、前記予備真空室のうち
最も大気側の予備真空室に真空排気速度を調整する調整
手段を設けると共に被処理物の位置を検出する検出手段
を設け、被処理物の位置により真空排気速度を制御する
制御手段を設ける、ことによって達成される。
最も大気側の予備真空室に備えた真空排気量を調整す
る真空排気系により、最も大気側のスリツト状シール部
の被処理物とシール部上面及び下面のそれぞれの部分の
空気の流入量を調整できる。これより、前記被処理物の
上部と下部の空気の流入により生じた被処理物の上面と
下面とに働らく圧力差をとりのぞくことが可能となり、
圧力差により生じる被処理物のたわみ等の変形は防止で
き、したがつて被処理物とスリツト状シール部との接触
を防ぐことができ、接触による被処理物の損傷を防止で
きる。
る真空排気系により、最も大気側のスリツト状シール部
の被処理物とシール部上面及び下面のそれぞれの部分の
空気の流入量を調整できる。これより、前記被処理物の
上部と下部の空気の流入により生じた被処理物の上面と
下面とに働らく圧力差をとりのぞくことが可能となり、
圧力差により生じる被処理物のたわみ等の変形は防止で
き、したがつて被処理物とスリツト状シール部との接触
を防ぐことができ、接触による被処理物の損傷を防止で
きる。
また、被処理物の上部と下部のスリット状シールから
の空気の流速を検出し、その流速差から生じる被処理物
のたわみ、このたわみから起こる接触を防止できる。
の空気の流速を検出し、その流速差から生じる被処理物
のたわみ、このたわみから起こる接触を防止できる。
更にまた、被処理物の上下の位置の差を検出すること
によって接触を防止できる。
によって接触を防止できる。
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。第１
図及び第２図において、１はプラスチツクフイルム例え
ばPETフイルムのような可撓性の被処理物Ｆを真空状態
で連続的にプラズマ処理する真空処理室、2a,2bは真空
処理室１の前方側に複数個配置される予備真空室、3a,3
bは真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空
室で、前記真空処理室内はこれに接続する真空ポンプ４
により10-3トール程度の真空圧力に保持するように排気
導管５を介して真空排気される。
図及び第２図において、１はプラスチツクフイルム例え
ばPETフイルムのような可撓性の被処理物Ｆを真空状態
で連続的にプラズマ処理する真空処理室、2a,2bは真空
処理室１の前方側に複数個配置される予備真空室、3a,3
bは真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空
室で、前記真空処理室内はこれに接続する真空ポンプ４
により10-3トール程度の真空圧力に保持するように排気
導管５を介して真空排気される。
前記予備真空室2a,2b及び3a,3bはそれぞれ、これに接
続する排気導管7aとスロツトルバルブ等の排気量調整可
能な真空バルブ27を備えた排気導管7bとよりなる真空排
気系を通じて、ポンプ６により、前記真空処理室１内の
真空圧より高く、かつ大気圧より段階的に減じるように
真空排気される（大気の最も近いスリツト状シール部内
の被処理物Ｆとシール部上部の対向面との間を上シー
ル、又、被処理物Ｆとシール部下部の対向面との間を下
シールと以下称する。）この上シールと下シール間に圧
力差が生じた場合、その差により被処理物Ｆに力が働ら
き、被処理物Ｆの変形さらには振動が発生し、被処理物
Ｆがスリツト状シール部と接触するための被処理物Ｆが
損傷する。本実施例では前記上シールと下シールの圧力
差をなくすため、最も大気側の予備真空室2b,3bの圧力
を排気導管7bに備えたスロツトルバタフライバルブ等の
真空バルブ27により真空排気速度を調整し、上シールと
下シールの空気の流入量を適切なものとする。それによ
り、上シールと下シールの圧力は等しくなり、被処理物
Ｆとスリツト状シール部との接触による被処理物Ｆの損
傷を防止できる。ここで最も大気側のスリツト状シール
部のみ空気の流入量を調整したのは、他のスリツト状シ
ール部が前記最も大気側のスリツト状シール部に比べ、
空気の流入量がはるかに小さいため、圧力差が生じても
問題とならないからである。
続する排気導管7aとスロツトルバルブ等の排気量調整可
能な真空バルブ27を備えた排気導管7bとよりなる真空排
気系を通じて、ポンプ６により、前記真空処理室１内の
真空圧より高く、かつ大気圧より段階的に減じるように
真空排気される（大気の最も近いスリツト状シール部内
の被処理物Ｆとシール部上部の対向面との間を上シー
ル、又、被処理物Ｆとシール部下部の対向面との間を下
シールと以下称する。）この上シールと下シール間に圧
力差が生じた場合、その差により被処理物Ｆに力が働ら
き、被処理物Ｆの変形さらには振動が発生し、被処理物
Ｆがスリツト状シール部と接触するための被処理物Ｆが
損傷する。本実施例では前記上シールと下シールの圧力
差をなくすため、最も大気側の予備真空室2b,3bの圧力
を排気導管7bに備えたスロツトルバタフライバルブ等の
真空バルブ27により真空排気速度を調整し、上シールと
下シールの空気の流入量を適切なものとする。それによ
り、上シールと下シールの圧力は等しくなり、被処理物
Ｆとスリツト状シール部との接触による被処理物Ｆの損
傷を防止できる。ここで最も大気側のスリツト状シール
部のみ空気の流入量を調整したのは、他のスリツト状シ
ール部が前記最も大気側のスリツト状シール部に比べ、
空気の流入量がはるかに小さいため、圧力差が生じても
問題とならないからである。
なお、処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出さ
れ、案内ロール９により張力を制御される。この後予備
真空室2b,2aを経て、真空処理室１へ送られそこでプラ
ズマ処理される。
れ、案内ロール９により張力を制御される。この後予備
真空室2b,2aを経て、真空処理室１へ送られそこでプラ
ズマ処理される。
プラズマ処理された被処理物Ｆは、その後、後方側の
予備真空室3a,3b後方側予備真空室内の張力を制御する
案内ロール10を経て、巻取軸11に巻き取られる。12a,12
bは被処理物Ｆを搬送するための駆動用DCモータであ
り、前記案内ロール９および10の張力検出により、被処
理物にしわを発生させることなく搬送し、かつ搬送速度
を適宜制御する。
予備真空室3a,3b後方側予備真空室内の張力を制御する
案内ロール10を経て、巻取軸11に巻き取られる。12a,12
bは被処理物Ｆを搬送するための駆動用DCモータであ
り、前記案内ロール９および10の張力検出により、被処
理物にしわを発生させることなく搬送し、かつ搬送速度
を適宜制御する。
第３図，第４図及び第５図は予備真空室を構成するシ
ール装置の主要部を示すものであり、第４図は第３図の
Ａ−Ａ断面図、第５図は第３図のＢ−Ｂ断面図である。
13は上ケース、14は下ケース、15は上ケース13に案内支
持されるシールブロツクであり、被処理物Ｆは下ケース
14とシールブロツク15で形成されるスリツトの間を接触
しないで搬送される。16はハンドルであり、これを回転
させることにより減速機17,歯車18,ボールネジ19及びナ
ツト20を介してシールブロツク15と一体的に形成される
コラム21及びシールブロツク15を被処理物Ｆの厚さに応
じて上下方向に動かす。22はガイドであり、シールブロ
ツク15の上下方向の動きを案内する。23はＯリングであ
り、上ケース13とシールブロツク15の間のシールをす
る。Ｏリング23はシールブロツク15の上下方向の移動
（最大2mm）にもかかわらず上ケース13とシールブロツ
ク15間のシールを施すため十分な弾性体のものを使用し
ている。上ケース13とシールブロツク15のサイドの間隙
24はシールブロツク15が滑らかに上下し、かつ空気の漏
れ量が小さくなるように、可能な範囲で小さく（例えば
30ミクロン）している。25は被処理物を案内する案内ロ
ールであり、下ケース14のシール面と被処理物が接触し
ないよう、案内ロール25の外周面の高さを下ケース14よ
り高くしている。通常の使用では被処理物Ｆとシールブ
ロツク15の間隔及び被処理物Ｆとケースの間隔がいずれ
も0.1mmとなるように案内ロール25とシールブロツク15
の位置を決定している。張力付与用ロール26は、被処理
物Ｆの案内ロール25に対する巻き付け角度を大きくし、
シール部分で被処理物Ｆが振動し、壁面に接触するのを
防止している。予備真空室2a,2bあるいは3a,3bは互いに
相対するシール装置で構成されており、排気導管7a,7b
を介して真空ポンプ６で排気される。最も大気側の予備
真空室2bには圧力検出手段28を設け、この信号を制御手
段29に送り制御手段29により真空バルブ27の排気速度を
制御する。具体的には、圧力信号は比較器29aに入力さ
れ、基準器29bからの基準信号と比較され、圧力が基準
値より高い場合とは駆動器29cが真空バルブ27を開くよ
う駆動して圧力を低下させ、逆に圧力が基準値より低い
場合には圧力が上昇するように真空バルブ27を閉じる。
ール装置の主要部を示すものであり、第４図は第３図の
Ａ−Ａ断面図、第５図は第３図のＢ−Ｂ断面図である。
13は上ケース、14は下ケース、15は上ケース13に案内支
持されるシールブロツクであり、被処理物Ｆは下ケース
14とシールブロツク15で形成されるスリツトの間を接触
しないで搬送される。16はハンドルであり、これを回転
させることにより減速機17,歯車18,ボールネジ19及びナ
ツト20を介してシールブロツク15と一体的に形成される
コラム21及びシールブロツク15を被処理物Ｆの厚さに応
じて上下方向に動かす。22はガイドであり、シールブロ
ツク15の上下方向の動きを案内する。23はＯリングであ
り、上ケース13とシールブロツク15の間のシールをす
る。Ｏリング23はシールブロツク15の上下方向の移動
（最大2mm）にもかかわらず上ケース13とシールブロツ
ク15間のシールを施すため十分な弾性体のものを使用し
ている。上ケース13とシールブロツク15のサイドの間隙
24はシールブロツク15が滑らかに上下し、かつ空気の漏
れ量が小さくなるように、可能な範囲で小さく（例えば
30ミクロン）している。25は被処理物を案内する案内ロ
ールであり、下ケース14のシール面と被処理物が接触し
ないよう、案内ロール25の外周面の高さを下ケース14よ
り高くしている。通常の使用では被処理物Ｆとシールブ
ロツク15の間隔及び被処理物Ｆとケースの間隔がいずれ
も0.1mmとなるように案内ロール25とシールブロツク15
の位置を決定している。張力付与用ロール26は、被処理
物Ｆの案内ロール25に対する巻き付け角度を大きくし、
シール部分で被処理物Ｆが振動し、壁面に接触するのを
防止している。予備真空室2a,2bあるいは3a,3bは互いに
相対するシール装置で構成されており、排気導管7a,7b
を介して真空ポンプ６で排気される。最も大気側の予備
真空室2bには圧力検出手段28を設け、この信号を制御手
段29に送り制御手段29により真空バルブ27の排気速度を
制御する。具体的には、圧力信号は比較器29aに入力さ
れ、基準器29bからの基準信号と比較され、圧力が基準
値より高い場合とは駆動器29cが真空バルブ27を開くよ
う駆動して圧力を低下させ、逆に圧力が基準値より低い
場合には圧力が上昇するように真空バルブ27を閉じる。
このような制御が被処理物の上部と下部におこなわれ
るので、最も大気側の被処理物Ｆの上部と下部との圧力
は等しくなり、したがつて、被処理物Ｆがシール部と接
触することなく搬送される。
るので、最も大気側の被処理物Ｆの上部と下部との圧力
は等しくなり、したがつて、被処理物Ｆがシール部と接
触することなく搬送される。
第５図は他の実施例の断面図で、被処理物Ｆの位置を
検出することによつてシール部との接触の防止を図るも
のであつて、位置検出手段30を設け、位置検出手段30の
信号を制御手段31へ送り、この制御手段31によつて真空
バルブ27の真空排気速度を制御するものである。具体的
には、被処理物Ｆの位置信号は比較器31aに入力され、
基準器31bから基準信号と比較され、位置が基準値より
高い場合には駆動器31cが真空バルブ27を開くよう駆動
して圧力を低下させ、逆に位置が基準値より低い場合に
は圧力が上昇するように真空バルブ27を閉じる。
検出することによつてシール部との接触の防止を図るも
のであつて、位置検出手段30を設け、位置検出手段30の
信号を制御手段31へ送り、この制御手段31によつて真空
バルブ27の真空排気速度を制御するものである。具体的
には、被処理物Ｆの位置信号は比較器31aに入力され、
基準器31bから基準信号と比較され、位置が基準値より
高い場合には駆動器31cが真空バルブ27を開くよう駆動
して圧力を低下させ、逆に位置が基準値より低い場合に
は圧力が上昇するように真空バルブ27を閉じる。
上記実施例によつても、被処理物Ｆの上部と下部の圧
力を等しくすることができ、被処理物Ｆがシール部に接
触することによる損傷を防止できる。
力を等しくすることができ、被処理物Ｆがシール部に接
触することによる損傷を防止できる。
第６図は更に他の実施例の断面図で、シール部を形成
するケース14とシールブロツク15との開口部近傍32を図
に示すように、ガイドロール25の外周曲面及び被処理物
に沿つた形状に形成したものである。このように形成す
ることによつて、案内ロール25と被処理物Ｆとの接点と
前記開口部までの距離が短かくなる。
するケース14とシールブロツク15との開口部近傍32を図
に示すように、ガイドロール25の外周曲面及び被処理物
に沿つた形状に形成したものである。このように形成す
ることによつて、案内ロール25と被処理物Ｆとの接点と
前記開口部までの距離が短かくなる。
また、シールブロツク15が案内ロール25の上部まで伸
びていることにより、被処理物Ｆの上部の予備真空室内
での空気の膨張による被処理物の変形を防止できる。
びていることにより、被処理物Ｆの上部の予備真空室内
での空気の膨張による被処理物の変形を防止できる。
上記実施例によれば、従来、シール部で発生する被処
理物Ｆの損傷を防止できる。更に、同じシール長さを得
ようとする場合、装置の小形化が図れる。大気圧と最も
大気圧側の予備真空室2b及び3bとの圧力差は他の予備真
空室間あるいは予備真空室と真空処理室１との圧力差に
比べ大きい。スリツト状シール間を流れる流量はこの圧
力差により決定され、第７図に示すようにスリツト状シ
ールの両側の圧力をP1,P2（P1＞P2）コンダクタンスを
Ｃ、排気速度をＳとした時、スリツト状シール間を流れ
る空気の流量は次式で表わされる。
理物Ｆの損傷を防止できる。更に、同じシール長さを得
ようとする場合、装置の小形化が図れる。大気圧と最も
大気圧側の予備真空室2b及び3bとの圧力差は他の予備真
空室間あるいは予備真空室と真空処理室１との圧力差に
比べ大きい。スリツト状シール間を流れる流量はこの圧
力差により決定され、第７図に示すようにスリツト状シ
ールの両側の圧力をP1,P2（P1＞P2）コンダクタンスを
Ｃ、排気速度をＳとした時、スリツト状シール間を流れ
る空気の流量は次式で表わされる。
Ｑ＝Ｃ（P1−P2）＝P2S 上式からわかるようにP1−P2つまり圧力差が大きくな
るとスリツト状シール内の流量は大きくなる。これより
最も圧力差が大きいスリツト状シール2b,3b内ではこの
空気の流れによる被処理物の変形あるいは振動は他のス
リツト状シール内に比べ大きくなる。この為スリツト状
シール2b,3b内では、被処理物とスリツト状シールが接
触し被処理物に傷が発生し易くなる。このため、スリツ
ト状シール2b,3bは他のスリツト状シール2a,3aに比べ短
かく設定しており、このスリツト状シール2b,3bをはさ
む位置にある被処理物案内用の案内ロールの間隔が短か
くなるように設置され、被処理物Ｆの変形量及び振幅を
少なくすることができる。
るとスリツト状シール内の流量は大きくなる。これより
最も圧力差が大きいスリツト状シール2b,3b内ではこの
空気の流れによる被処理物の変形あるいは振動は他のス
リツト状シール内に比べ大きくなる。この為スリツト状
シール2b,3b内では、被処理物とスリツト状シールが接
触し被処理物に傷が発生し易くなる。このため、スリツ
ト状シール2b,3bは他のスリツト状シール2a,3aに比べ短
かく設定しており、このスリツト状シール2b,3bをはさ
む位置にある被処理物案内用の案内ロールの間隔が短か
くなるように設置され、被処理物Ｆの変形量及び振幅を
少なくすることができる。
上記実施例によれば、被処理物Ｆの変形量および振幅
が少なくなり、接触による被処理Ｆの損傷が防止され
る。
が少なくなり、接触による被処理Ｆの損傷が防止され
る。
更に、前述の第３図に示す実施例において、被処理物
Ｆの上部と下部の圧力検出手段を用いたが、これに代え
て上シールと下シールとに空気の流速を検出する空気流
速検出手段を用いても同様の効果が得られる。
Ｆの上部と下部の圧力検出手段を用いたが、これに代え
て上シールと下シールとに空気の流速を検出する空気流
速検出手段を用いても同様の効果が得られる。
本発明によれば、被処理物により分割されたスリツト
状シール部の上部及び下部とで圧力を調整することが可
能となり、上部と下部との圧力の違いによる被処理物の
変形を防ぐことができるので被処理物とシール部の接触
はなく、被処理物を損傷することなく搬送できる。
状シール部の上部及び下部とで圧力を調整することが可
能となり、上部と下部との圧力の違いによる被処理物の
変形を防ぐことができるので被処理物とシール部の接触
はなく、被処理物を損傷することなく搬送できる。
図面は本発明に係る真空連続処理装置の実施例の説明図
で、第１図は真空連続処理装置の縦断面図、第２図は平
面図、第３図はシール装置の主要部の縦断面図、第４図
は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図はシール装置の他の実
施例の主要部の縦断面図、第６図はシール装置の更に他
の実施例の主要部の縦断面図、第７図はシール部の流速
の説明図である。 Ｆ……被処理物、2a,2b,3a,3b……予備真空室、9,10,25
……案内ロール、13……上ケース、14……下ケース、15
……シールブロツク、25……張力付与用ロール、27……
真空バルブ、28……圧力検出手段、29,31……制御手
段、31……被処理物位置検出手段。
で、第１図は真空連続処理装置の縦断面図、第２図は平
面図、第３図はシール装置の主要部の縦断面図、第４図
は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図はシール装置の他の実
施例の主要部の縦断面図、第６図はシール装置の更に他
の実施例の主要部の縦断面図、第７図はシール部の流速
の説明図である。 Ｆ……被処理物、2a,2b,3a,3b……予備真空室、9,10,25
……案内ロール、13……上ケース、14……下ケース、15
……シールブロツク、25……張力付与用ロール、27……
真空バルブ、28……圧力検出手段、29,31……制御手
段、31……被処理物位置検出手段。
Claims (4)
- 【請求項１】真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくと
も１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置に
おいて、前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真
空処理室を処理室外からシールするスリット状シールを
有し、前記シールの前後もしくは一方に被処理物を案内
する案内手段を設け、前記予備真空室のうち最も大気側
の予備真空室に真空排気速度を調整する調整手段を設け
ると共に被処理物の上部と下部の圧力を検出する検出手
段を設け、前記予備真空室の被処理物の上部と下部との
圧力差により前記調整手段の真空排気速度を制御する制
御手段を設けたことを特徴とする真空連続処理装置。 - 【請求項２】真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくと
も１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置に
おいて、前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真
空処理室を処理室外からシールするスリット状シールを
有し、前記シールの前後もしくは一方に被処理物を案内
する案内手段を設け、前記予備真空室のうち最も大気側
の予備真空室に真空排気速度を調整する調整手段を設け
ると共に予備真空室に被処理物の上部と下部のスリット
状シールからの空気の流速を検出する検出手段を設け、
前記予備真空室内の被処理物の上部と下部との流速の差
により調整手段の真空排気速度を制御する制御手段を設
けたことを特徴とする真空連続処理装置。 - 【請求項３】真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくと
も１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置に
おいて、前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真
空処理室を処理室外からシールするスリット状シールを
有し、前記シールの前後もしくは一方に被処理物を案内
する案内手段を設け、前記予備真空室のうち最も大気側
の予備真空室に真空排気速度を調整する調整手段を設け
ると共に被処理物の位置を検出する検出手段を設け、被
処理物の位置により真空排気速度を制御する制御手段を
設けたことを特徴とする真空連続処理装置。 - 【請求項４】真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくと
も１個の予備真空室を配置してなる真空連続処理装置に
おいて、予備真空室は前後のスリット状シールにより構
成されており、最も大気圧側のスリット状シールが他の
スリット状シールより短かいことを特徴とする真空連続
処理装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128315A JP2590200B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 真空連続処理装置 |
| US07/357,123 US5102279A (en) | 1988-05-27 | 1989-05-26 | Continuous vacuum processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128315A JP2590200B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01298163A JPH01298163A (ja) | 1989-12-01 |
| JP2590200B2 true JP2590200B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=14981734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63128315A Expired - Lifetime JP2590200B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 真空連続処理装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5102279A (ja) |
| JP (1) | JP2590200B2 (ja) |
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| US3667626A (en) * | 1969-05-13 | 1972-06-06 | Sandco Ltd | Sealing means |
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1988
- 1988-05-27 JP JP63128315A patent/JP2590200B2/ja not_active Expired - Lifetime
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1989
- 1989-05-26 US US07/357,123 patent/US5102279A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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|---|---|
| US5102279A (en) | 1992-04-07 |
| JPH01298163A (ja) | 1989-12-01 |
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