JP2589304B2 - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
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- JP2589304B2 JP2589304B2 JP62046378A JP4637887A JP2589304B2 JP 2589304 B2 JP2589304 B2 JP 2589304B2 JP 62046378 A JP62046378 A JP 62046378A JP 4637887 A JP4637887 A JP 4637887A JP 2589304 B2 JP2589304 B2 JP 2589304B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
- G03G5/0627—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered
- G03G5/0629—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered containing one hetero atom
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- G03G5/0612—Acyclic or carbocyclic compounds containing nitrogen
- G03G5/0614—Amines
- G03G5/06142—Amines arylamine
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は電子写真用感光体に関するものであり、特に
導電性基体と感光層との間に特定の化合物を主成分とす
る共晶錯体層を設けたことを特徴とする電子写真用感光
体に関するものである。
導電性基体と感光層との間に特定の化合物を主成分とす
る共晶錯体層を設けたことを特徴とする電子写真用感光
体に関するものである。
従来技術 電子写真複写機に使用される感光体は、最近安価、生
産性、無公害性を利点とする有機系の感光材料を用いた
ものが使用され始めている。
産性、無公害性を利点とする有機系の感光材料を用いた
ものが使用され始めている。
有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾー
ル(PVK)に代表される光導電性樹脂、PVK−TNF(2,4,7
トリニトロフルオレノン)に代表される電荷移動錯体
型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散
型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組合せて用いる機
能分離型の感光体などが知られており、特に機能分離型
の感光体が注目されている。
ル(PVK)に代表される光導電性樹脂、PVK−TNF(2,4,7
トリニトロフルオレノン)に代表される電荷移動錯体
型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散
型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組合せて用いる機
能分離型の感光体などが知られており、特に機能分離型
の感光体が注目されている。
この様な機能分離型感光体を、カールソンプロセスに
適用した場合、帯電性が低く、電荷保持性が悪い(暗減
衰が大きい)上、繰返し使用による、これら特性の劣化
が大きく、画像上に、濃度ムラ、カブリ、また反転現象
の場合地汚れを生ずるという欠点を有している。
適用した場合、帯電性が低く、電荷保持性が悪い(暗減
衰が大きい)上、繰返し使用による、これら特性の劣化
が大きく、画像上に、濃度ムラ、カブリ、また反転現象
の場合地汚れを生ずるという欠点を有している。
一般に高感度感光体は、前露光疲労によって帯電性が
低下する。この前露光疲労は主に電荷発生材料が吸収す
る光によって起こることから、光吸収によって発生した
電荷が移動可能な状態で感光体内に残留している時間が
長い程、またその電荷の数が多い程、前露光疲労による
帯電性の低下が著しくなると考えられる。即ち、光吸収
によって発生した電荷が残留している状態で帯電操作を
しても、残留しているキャリアの移動で表面電荷が中和
される為、残留電荷が消費されるまで表面電位は上昇し
ない。従って、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅れ
ることになり、見かけ上の帯電々位は低くなる。
低下する。この前露光疲労は主に電荷発生材料が吸収す
る光によって起こることから、光吸収によって発生した
電荷が移動可能な状態で感光体内に残留している時間が
長い程、またその電荷の数が多い程、前露光疲労による
帯電性の低下が著しくなると考えられる。即ち、光吸収
によって発生した電荷が残留している状態で帯電操作を
しても、残留しているキャリアの移動で表面電荷が中和
される為、残留電荷が消費されるまで表面電位は上昇し
ない。従って、前露光疲労分だけ表面電位の上昇が遅れ
ることになり、見かけ上の帯電々位は低くなる。
上述の欠点に対して例えば、特開昭47−6341、48−35
44および48−12034号には硝酸セルロース系樹脂中間層
が、特開昭48−47344、52−25638、58−30757、58−639
45、58−95351、58−98739および60−66258号にはナイ
ロン系樹脂中間層が、特開昭48−26141には酢酸ビニル
系樹脂中間層が、特開昭49−69332および52−10138号に
はマレイン酸系樹脂中間層が、そして特開昭58−105155
号にはポリビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示
されている。
44および48−12034号には硝酸セルロース系樹脂中間層
が、特開昭48−47344、52−25638、58−30757、58−639
45、58−95351、58−98739および60−66258号にはナイ
ロン系樹脂中間層が、特開昭48−26141には酢酸ビニル
系樹脂中間層が、特開昭49−69332および52−10138号に
はマレイン酸系樹脂中間層が、そして特開昭58−105155
号にはポリビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示
されている。
また中間層の電気抵抗を制御するべく種々の導電性添
加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。例
えば、特開昭51−65942号にはカーボンまたはカルコゲ
ン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特開昭52−
82238号には四級アンモニウム塩を添加してイソシアネ
ート系硬化剤を用いた熱重合体中間層が、特開昭55−11
80451号には抵抗調節剤を添加した樹脂中間層が、特開
昭58−58556号にはアルミニウムまたはスズの酸化物を
分散した樹脂中間層が、特開昭58−93062号には有機金
属化合物を添加した樹脂中間層が、特開昭58−93063、6
0−97363および60−111255号には導電性粒子を分散した
樹脂中間層が、さらに特開昭59−84257、59−93453およ
び60−32054号にはTiO2とSnO2粉体とを分散した樹脂中
間層が開示されている。
加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている。例
えば、特開昭51−65942号にはカーボンまたはカルコゲ
ン系物質を硬化性樹脂に分散した中間層が、特開昭52−
82238号には四級アンモニウム塩を添加してイソシアネ
ート系硬化剤を用いた熱重合体中間層が、特開昭55−11
80451号には抵抗調節剤を添加した樹脂中間層が、特開
昭58−58556号にはアルミニウムまたはスズの酸化物を
分散した樹脂中間層が、特開昭58−93062号には有機金
属化合物を添加した樹脂中間層が、特開昭58−93063、6
0−97363および60−111255号には導電性粒子を分散した
樹脂中間層が、さらに特開昭59−84257、59−93453およ
び60−32054号にはTiO2とSnO2粉体とを分散した樹脂中
間層が開示されている。
さらにまた電気抵抗のかわりに電荷の移動性を制御し
ようという考え方から、マイナス電荷移動性の物質とし
ての電子受容性の有機化合物を含有した樹脂中間層が提
案されている。例えば、特開昭53−89433号には多環芳
香族ニトロ化合物を添加した有機高分子光導電体中間層
が、また特開昭54−4134、59−160147および59−170846
号には電子受容性有機物を含有する樹脂中間層が開示さ
れている。
ようという考え方から、マイナス電荷移動性の物質とし
ての電子受容性の有機化合物を含有した樹脂中間層が提
案されている。例えば、特開昭53−89433号には多環芳
香族ニトロ化合物を添加した有機高分子光導電体中間層
が、また特開昭54−4134、59−160147および59−170846
号には電子受容性有機物を含有する樹脂中間層が開示さ
れている。
しかしながら、繰返し使用による帯電性の低下、とり
わけ帯電電位の立上りの遅れに関しては未だに不充分で
あり、よりいっそうの改善が望まれていた。
わけ帯電電位の立上りの遅れに関しては未だに不充分で
あり、よりいっそうの改善が望まれていた。
目的 本発明の目的は感光体の帯電性を改良することにあ
り、詳しくは、繰返し使用後の帯電電位の立上りの遅れ
のない感光体を提供することである。
り、詳しくは、繰返し使用後の帯電電位の立上りの遅れ
のない感光体を提供することである。
構成 本発明者らは、導電性基体上に感光層を設けて成る電
子写真感光体において、導電性基体と感光層の間に、ピ
リリウム系染料、電気絶縁性重合体および下記一般式
(I)で示される化合物を主成分とする共晶錯体層を設
けることによって、繰返し使用後の帯電電位の立上りの
遅れのない電子写真感光体が得られることを見い出し本
発明に至った。
子写真感光体において、導電性基体と感光層の間に、ピ
リリウム系染料、電気絶縁性重合体および下記一般式
(I)で示される化合物を主成分とする共晶錯体層を設
けることによって、繰返し使用後の帯電電位の立上りの
遅れのない電子写真感光体が得られることを見い出し本
発明に至った。
〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基
を表わし、Arは (ただし、R2,R3,R6は水素原子、炭素数1〜4の置換又
は無置換のアルキル基あるいは置換又は無置換のベンジ
ル基を表わし、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜4のアルキル基あるいは炭素数1〜4のアルコキ
シ基又はジアルキルアミノ基を表わす) を表わす。〕 以下、添付図面に従って本発明を具体的に説明する。
数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基
を表わし、Arは (ただし、R2,R3,R6は水素原子、炭素数1〜4の置換又
は無置換のアルキル基あるいは置換又は無置換のベンジ
ル基を表わし、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜4のアルキル基あるいは炭素数1〜4のアルコキ
シ基又はジアルキルアミノ基を表わす) を表わす。〕 以下、添付図面に従って本発明を具体的に説明する。
第1図aおよびbは本発明の電子写真感光体の構成例
を示す断面図であり、導電性基体11上に共晶錯体層13を
設け、更にその上に、感光層15を設けたものである。感
光層15は単層の場合と、電荷発生層21および電荷輸送層
22より成る積層のものとがある。
を示す断面図であり、導電性基体11上に共晶錯体層13を
設け、更にその上に、感光層15を設けたものである。感
光層15は単層の場合と、電荷発生層21および電荷輸送層
22より成る積層のものとがある。
第2図は、本発明の別の構成例であり導電性基体と共
晶錯体層との間に下引層12を設けたものである。
晶錯体層との間に下引層12を設けたものである。
第3図aおよびbは本発明の別の構成例であり共晶錯
体層と感光層との間に目止め層14を設けたものである。
体層と感光層との間に目止め層14を設けたものである。
導電性基体11としては、体積抵抗1010Ωcm以下の導電
性を示すもの、例えばアルミニウム、ニッケル、クロ
ム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化ス
ズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着又はスパッ
タリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチ
ック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、ア
ルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板およびそ
れらをD.I.,I.I.,押出し、引抜き等の工法で素管化後、
切削、超仕上げ、研摩等で表面処理した管等を使用する
ことができる。
性を示すもの、例えばアルミニウム、ニッケル、クロ
ム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化ス
ズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着又はスパッ
タリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチ
ック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、ア
ルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板およびそ
れらをD.I.,I.I.,押出し、引抜き等の工法で素管化後、
切削、超仕上げ、研摩等で表面処理した管等を使用する
ことができる。
共晶錯体層13は、共晶錯体と、一般式(I)で示され
る導電性物質を主成分として形成されている。ここでの
共晶錯体はピリリウム系染料と、電気絶縁性重合体とか
らつくられるものである。
る導電性物質を主成分として形成されている。ここでの
共晶錯体はピリリウム系染料と、電気絶縁性重合体とか
らつくられるものである。
ピリリウム系染料には、ピリリウム塩、チアピリリウ
ム塩及びセレナピリリウム塩の3種があり、下記一般式
を有している。
ム塩及びセレナピリリウム塩の3種があり、下記一般式
を有している。
上式においてRa,Rb,Rc,Rd及びReは夫々、 (a)水素原子 (b)アルキル基、代表的にはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、アミル、イソ
アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルなどの
C1〜C15のアルキル基 (c)メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ア
ミロキシ、ヘキソキシ、オクトキシなどのアルコキシ基 (d)フエニル、4−ジフェニル、4−エチルフェニ
ル、4−プロピルフェニルなどのアルキルフェニル類;4
−エトキシフェニル、4−メトキシフェニル、4−アミ
ロキシフェニル、2−ヘキソキシフェニル、2−メトキ
シフェニル、3,4−ジメトキシフェニルなどのアルコキ
シフェニル類;2−ヒドロキシエトキシフェニル、3−ヒ
ドロキシエトキシフェニルなどのβ−ヒドロキシアルコ
キシフェニル類;4−ヒドロキシフェニル、2,4−ジクロ
ロフェニル、3,4−ジブロモフェニル、4−クロロフェ
ニル、3,4−ジクロロフェニルなどのハロフェニル類;
アジドフェニル、ニトロフェニル、4−ジエチルアミノ
フェニル、4−ジメチルアミノフェニルなどのアミノフ
ェニル類;ナフチル、スチリル、メトキシスチリル、ジ
エトキシスチリル、ジメチルアミノスチリル、1−ブチ
ル−4−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジェ
ニル、β−エチル−4−ジメチルアミノスチリル等のビ
ニル置換アリール基のような置換アリール基を含めたア
リール基 を表わし、Xは硫黄、酸素又はセレン原子であり、また
Z-はパークロレート、フルオロボレート、沃化物、塩化
物、臭化物、硫酸塩、過沃化物、p−トルエンスルホネ
ート、ヘキサフルオロホスフェートなどの陰イオン官能
基である。
ル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、アミル、イソ
アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルなどの
C1〜C15のアルキル基 (c)メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ア
ミロキシ、ヘキソキシ、オクトキシなどのアルコキシ基 (d)フエニル、4−ジフェニル、4−エチルフェニ
ル、4−プロピルフェニルなどのアルキルフェニル類;4
−エトキシフェニル、4−メトキシフェニル、4−アミ
ロキシフェニル、2−ヘキソキシフェニル、2−メトキ
シフェニル、3,4−ジメトキシフェニルなどのアルコキ
シフェニル類;2−ヒドロキシエトキシフェニル、3−ヒ
ドロキシエトキシフェニルなどのβ−ヒドロキシアルコ
キシフェニル類;4−ヒドロキシフェニル、2,4−ジクロ
ロフェニル、3,4−ジブロモフェニル、4−クロロフェ
ニル、3,4−ジクロロフェニルなどのハロフェニル類;
アジドフェニル、ニトロフェニル、4−ジエチルアミノ
フェニル、4−ジメチルアミノフェニルなどのアミノフ
ェニル類;ナフチル、スチリル、メトキシスチリル、ジ
エトキシスチリル、ジメチルアミノスチリル、1−ブチ
ル−4−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジェ
ニル、β−エチル−4−ジメチルアミノスチリル等のビ
ニル置換アリール基のような置換アリール基を含めたア
リール基 を表わし、Xは硫黄、酸素又はセレン原子であり、また
Z-はパークロレート、フルオロボレート、沃化物、塩化
物、臭化物、硫酸塩、過沃化物、p−トルエンスルホネ
ート、ヘキサフルオロホスフェートなどの陰イオン官能
基である。
更にRa,Rb,Rc,Rd及びReは共同してピリリウム核に融
合したアリール環を完成するに必要な原子であってもよ
い。
合したアリール環を完成するに必要な原子であってもよ
い。
このようなピリリウム系染料の代表例を下記に示す。
特に有用なピリリウム染料は下記一般式を有するもの
である。
である。
式中R1′及びR2′はC1〜C6のアルキル基及びC1〜C6の
アルコキシ基から選ばれた少なくとも1つの置換基を有
する置換フェニル基のようなアリール基であり、R3′は
アルキル部分がC1〜C6のアルキルアミノ置換フェニル基
で、ジアルキルアミノ置換及びハロアルキルアミノ置換
フェニル基でもよい。Xは酸素又は硫黄原子、Zは前述
の通りである。
アルコキシ基から選ばれた少なくとも1つの置換基を有
する置換フェニル基のようなアリール基であり、R3′は
アルキル部分がC1〜C6のアルキルアミノ置換フェニル基
で、ジアルキルアミノ置換及びハロアルキルアミノ置換
フェニル基でもよい。Xは酸素又は硫黄原子、Zは前述
の通りである。
電気絶縁性重合体としては主鎖(繰返し単位)中に下
記式で示されるアルキリデンジアリーレン部分を有する
ものが特に有用である。
記式で示されるアルキリデンジアリーレン部分を有する
ものが特に有用である。
式中R4′及びR5′は夫々、水素原子、トリフルオロメ
チルのような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルな
どアルキル基、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基のような
置換基を有する置換アリール基を含むフェニル及びナフ
チルなどのアリール基であり、またR4′とR5′とは共同
してシクロヘキシルのようなシクロアルカン類及びノル
ボルニルのようなポリシクロアルカン類を含む環式炭化
水素基を形成するに必要な炭素原子であってもよい。
R5′及びR7′は水素、C1〜C6のアルキル基又はクロル、
ブロル、沃素などのハロゲンであり、またR8′は 及び よりなる群から選択された2価の基である。
チルのような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルな
どアルキル基、ハロゲン、C1〜C5のアルキル基のような
置換基を有する置換アリール基を含むフェニル及びナフ
チルなどのアリール基であり、またR4′とR5′とは共同
してシクロヘキシルのようなシクロアルカン類及びノル
ボルニルのようなポリシクロアルカン類を含む環式炭化
水素基を形成するに必要な炭素原子であってもよい。
R5′及びR7′は水素、C1〜C6のアルキル基又はクロル、
ブロル、沃素などのハロゲンであり、またR8′は 及び よりなる群から選択された2価の基である。
また下記式の繰返し単位からなる疎水性炭酸塩重合体
類(ポリカーボネート)も有用で好ましいものである。
類(ポリカーボネート)も有用で好ましいものである。
式中、Rはハロ置換フェニレン基類及びアルキル置換
フェニレン基類を含むフェニレン基であり、またR4′及
びR5′は前述の通りである。これらの重合体はUSP3,02
8,365号、同3,317,466号に開示されている。好ましく
は、ビスフェノールAから製造されるような、繰返し単
位にアルキリデンジアリーレン部分を含有し、ジフェニ
ルカーボネートと2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンとの間のエステル交換によって生成した重
合体を含むポリカーボネート類が有用である。このよう
な重合体はUSP2,999,750号、同3,038,874号、同3,038,8
80号、同3,106,544号、同3,106,545号、同3,106,546号
等に開示されている。いずれにしてもフィルム形成性ポ
リカーボネート樹脂類は広範囲に使用できる。特に約0.
5〜1.8の固有粘度を有するものを使用すると、満足し得
る結果が得られる。
フェニレン基類を含むフェニレン基であり、またR4′及
びR5′は前述の通りである。これらの重合体はUSP3,02
8,365号、同3,317,466号に開示されている。好ましく
は、ビスフェノールAから製造されるような、繰返し単
位にアルキリデンジアリーレン部分を含有し、ジフェニ
ルカーボネートと2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンとの間のエステル交換によって生成した重
合体を含むポリカーボネート類が有用である。このよう
な重合体はUSP2,999,750号、同3,038,874号、同3,038,8
80号、同3,106,544号、同3,106,545号、同3,106,546号
等に開示されている。いずれにしてもフィルム形成性ポ
リカーボネート樹脂類は広範囲に使用できる。特に約0.
5〜1.8の固有粘度を有するものを使用すると、満足し得
る結果が得られる。
電気絶縁性重合体の具体例は下記の通りである。
また、一般式(I)で示される化合物の代表例を下記
表1−1、および表1−2に示す。
表1−1、および表1−2に示す。
本発明の共晶錯体層13をつくるには、上記のピリリウ
ム系染料、電気絶縁性重合体、および一般式(I)で示
される化合物を、適当な溶媒例えば、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、1,2−ジクロルエタン、塩化メチレン、
クロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、ベンゼンなどに溶解し、これを導電性基体11上に塗
布し、50〜130℃で乾燥して、膜厚0.05〜30μm好まし
くは0.2〜5μmの共晶錯体層を形成すればよい。
ム系染料、電気絶縁性重合体、および一般式(I)で示
される化合物を、適当な溶媒例えば、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、1,2−ジクロルエタン、塩化メチレン、
クロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、ベンゼンなどに溶解し、これを導電性基体11上に塗
布し、50〜130℃で乾燥して、膜厚0.05〜30μm好まし
くは0.2〜5μmの共晶錯体層を形成すればよい。
塗布は、浸漬塗工法、ビードコート法、スプレーコー
ト法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エアー
ナイフなどを用いて行なえる。
ト法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エアー
ナイフなどを用いて行なえる。
この塗布乾燥がなされる間に、ピリリウム系染料と電
気絶縁性重合体とで共晶錯体を形成する。
気絶縁性重合体とで共晶錯体を形成する。
共晶錯体層13における各成分の割合は、ピリリウム系
染料1重量部に対して、電気絶縁性重合体5〜80重量
部、一般式(I)で示される化合物1〜50重量部が適当
である。電気絶縁性重合体と一般式(I)の化合物との
重量比は電気絶縁性重合体1重量部に対して一般式
(I)の化合物0.1〜5重量部が適当である。
染料1重量部に対して、電気絶縁性重合体5〜80重量
部、一般式(I)で示される化合物1〜50重量部が適当
である。電気絶縁性重合体と一般式(I)の化合物との
重量比は電気絶縁性重合体1重量部に対して一般式
(I)の化合物0.1〜5重量部が適当である。
また、この層13を形成する際に、シリコーンオイルな
どのレベリング剤を、塗工液に添加してもよい。その使
用量は、電気絶縁性重合体に対して0〜1重量%程度が
適当である。ここで使用されるシリコーンオイルの例と
しては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシ
リコーンオイル、メチルクロロフェニルシリコーンオイ
ル、フロロシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシ
リコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオ
イル等がある。
どのレベリング剤を、塗工液に添加してもよい。その使
用量は、電気絶縁性重合体に対して0〜1重量%程度が
適当である。ここで使用されるシリコーンオイルの例と
しては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシ
リコーンオイル、メチルクロロフェニルシリコーンオイ
ル、フロロシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシ
リコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオ
イル等がある。
さらに共晶錯体層13を設けるに際して、結着剤が必要
により使用されてもよい。
により使用されてもよい。
ここでの結着剤材料としてはポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリブタジエン、スチレン−ブメジエン共重合
体、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重
合体及び共重合体、ポリエステル、ポリアミド、エポキ
シ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルキッド樹
脂、セルロース系樹脂やポリ−N−ビニルカルバゾール
及びその誘導体(例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素
などのハロゲン、メチル基、アミノ基などの置換基を有
するもの)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセ
ン、ピレン−ホルムアルデヒド系重合体及びその誘導体
(例えばピレン骨格に臭素などのハロゲン、ニトロ基な
どの置換基を有するもの)、ポリ−γ−カルバゾリルエ
チル−L−ダルタメート、スチロール樹脂、塩素化ポリ
エチレン、アセタール樹脂、メラミン樹脂などがあげら
れる。
レン、ポリブタジエン、スチレン−ブメジエン共重合
体、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重
合体及び共重合体、ポリエステル、ポリアミド、エポキ
シ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルキッド樹
脂、セルロース系樹脂やポリ−N−ビニルカルバゾール
及びその誘導体(例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素
などのハロゲン、メチル基、アミノ基などの置換基を有
するもの)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセ
ン、ピレン−ホルムアルデヒド系重合体及びその誘導体
(例えばピレン骨格に臭素などのハロゲン、ニトロ基な
どの置換基を有するもの)、ポリ−γ−カルバゾリルエ
チル−L−ダルタメート、スチロール樹脂、塩素化ポリ
エチレン、アセタール樹脂、メラミン樹脂などがあげら
れる。
本発明において第2図に示されるように導電性基体
と、共晶錯体層の間に下引層12を設けることにより、帯
電性、接着性を改良することができる。
と、共晶錯体層の間に下引層12を設けることにより、帯
電性、接着性を改良することができる。
下引層12にはSiO,Al2O3等の無機材料を蒸着、スパッ
タリング、陽極酸化などの方法で設けたものや、ポリア
ミド樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポ
リビニルアルコール樹脂などの樹脂層を用いることがで
きる。
タリング、陽極酸化などの方法で設けたものや、ポリア
ミド樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポ
リビニルアルコール樹脂などの樹脂層を用いることがで
きる。
また、上記樹脂下引層にZnO,TiO2,ZnS等の顔料粒子を
分散したものも、下引層として用いることができる。
分散したものも、下引層として用いることができる。
更に本発明の下引層12として、シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を
使用することもできる。
剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を
使用することもできる。
下引層12の膜厚は0〜5μmが適当である。
また、第3図a,bに示される様に共晶錯体層と感光層
との間に目止め層14を設けることもできる。即ち、共晶
錯体層の上に感光層を塗工するに際して感光層塗工液の
溶媒によっては、共晶錯体層を、溶解あるいは膨潤さ
せ、層形成上の障害となる場合がある。この場合、目止
め層を設けることにより、共晶錯体層を溶解、膨潤させ
ることなく、均一な感光層を設けることができる。
との間に目止め層14を設けることもできる。即ち、共晶
錯体層の上に感光層を塗工するに際して感光層塗工液の
溶媒によっては、共晶錯体層を、溶解あるいは膨潤さ
せ、層形成上の障害となる場合がある。この場合、目止
め層を設けることにより、共晶錯体層を溶解、膨潤させ
ることなく、均一な感光層を設けることができる。
ただし、感光層塗工液の溶媒が、共晶錯体層を溶解、
膨潤させない場合、溶媒が速乾性である場合、あるいは
スプレー塗工などの塗布時に含まれる溶媒量が少ない時
などは、目止め層を必ずしも設ける必要はない。
膨潤させない場合、溶媒が速乾性である場合、あるいは
スプレー塗工などの塗布時に含まれる溶媒量が少ない時
などは、目止め層を必ずしも設ける必要はない。
目止め層14には、ポリアミド樹脂、アルコール可溶性
ナイロン樹脂、水溶性ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂など
の樹脂層を用いることができる。
ナイロン樹脂、水溶性ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂など
の樹脂層を用いることができる。
次に感光層15について説明するが、先ず積層感光層に
ついて述べる。
ついて述べる。
電荷発生層21は、電荷発生物質を主材料とした層で、
必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。
必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。
バインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカ
ーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケト
ン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポ
リアクリルアミドなどが用いられる。
ン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカ
ーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケト
ン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポ
リアクリルアミドなどが用いられる。
電荷発生物質としては、例えば、シーアイピグメント
ブルー25〔カラーインデックス(CI)21180〕、シーア
イピグメントレッド41(CI 21200)、シーアイアシッド
レッド52(CI 45100)、シーアイベーシックレッド3
(CI 45210)、さらに、ポルフィリン骨格を有するフタ
ロシアニン系顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭53−95033号公報に記載)、ジスチリルベンゼ
ン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−133455号公報に記
載)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開
昭53−132547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格
を有するアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)、
オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−12
742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−22834号公報に記載)、ビススチルベン
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−17733号公報に記
載)、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−2129号公報に記載)、ジスチリルカルバ
ゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公報
に記載)、さらに、シーアイピグメントブルー16(CI 7
4100)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラ
ウン5(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI 73030)
等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットB(バイオレ
ット社製)、インダスレンスカーレットR(バイエル社
製)等のペリレン系顔料などが挙げられる。
ブルー25〔カラーインデックス(CI)21180〕、シーア
イピグメントレッド41(CI 21200)、シーアイアシッド
レッド52(CI 45100)、シーアイベーシックレッド3
(CI 45210)、さらに、ポルフィリン骨格を有するフタ
ロシアニン系顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭53−95033号公報に記載)、ジスチリルベンゼ
ン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−133455号公報に記
載)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開
昭53−132547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格
を有するアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)、
オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−12
742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−22834号公報に記載)、ビススチルベン
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−17733号公報に記
載)、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−2129号公報に記載)、ジスチリルカルバ
ゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公報
に記載)、さらに、シーアイピグメントブルー16(CI 7
4100)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラ
ウン5(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI 73030)
等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットB(バイオレ
ット社製)、インダスレンスカーレットR(バイエル社
製)等のペリレン系顔料などが挙げられる。
これら電荷発生物質の中でも特にアゾ顔料が好適であ
る。更にアゾ顔料の中でも下記一般式(II)に示される
トリスアゾ顔料、または一般式(III)で示されるジス
アゾ顔料が好ましい。
る。更にアゾ顔料の中でも下記一般式(II)に示される
トリスアゾ顔料、または一般式(III)で示されるジス
アゾ顔料が好ましい。
(式中、A1は であり、ここでX1,Ar1,Ar2,R1,R2は次の通りである。
X:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、もしくは
インドール環、カルバゾール環、ベンゾフラン環などの
ヘテロ環、またはそれらの置換体、 Ar1:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、もしく
はジベンゾブラン環などのヘテロ環またはそれらの置換
体、 Ar2:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族またはそれ
らの置換体、 R1:水素、低級アルキル基またはフェニル基あるいはそ
の置換体、 R2:低級アルキル基、フェニル基、カルボキシル基また
はそのエステル) (式中、A2は であり、ここでX,Ar1,Ar2,Ar3,R1,R2,R3は次の通りであ
る。
インドール環、カルバゾール環、ベンゾフラン環などの
ヘテロ環、またはそれらの置換体、 Ar1:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、もしく
はジベンゾブラン環などのヘテロ環またはそれらの置換
体、 Ar2:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族またはそれ
らの置換体、 R1:水素、低級アルキル基またはフェニル基あるいはそ
の置換体、 R2:低級アルキル基、フェニル基、カルボキシル基また
はそのエステル) (式中、A2は であり、ここでX,Ar1,Ar2,Ar3,R1,R2,R3は次の通りであ
る。
X:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、もしくは
インドール環、カルバゾール環、ベンゾフラン環などの
ヘテロ環、またはそれらの置換体、 Ar1,Ar3:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、も
しくはジベンゾラン環などのヘテロ環またはそれらの置
換体、 Ar2:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環またはそ
れらの置換体、 R1,R3:水素、低級アルキル基またはフェニル基あるいは
その置換体、 R2:低級アルキル基、フェニル基、カルボキシル基また
はそのエステル) これらトリスアゾ顔料およびジスアゾ顔料の具体例を
例示すれば次の第1表および第2表の通りである。
インドール環、カルバゾール環、ベンゾフラン環などの
ヘテロ環、またはそれらの置換体、 Ar1,Ar3:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環、も
しくはジベンゾラン環などのヘテロ環またはそれらの置
換体、 Ar2:ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族環またはそ
れらの置換体、 R1,R3:水素、低級アルキル基またはフェニル基あるいは
その置換体、 R2:低級アルキル基、フェニル基、カルボキシル基また
はそのエステル) これらトリスアゾ顔料およびジスアゾ顔料の具体例を
例示すれば次の第1表および第2表の通りである。
これらの電荷発生物質は単独で、あるいは2種以上併
用して用いられる。
用して用いられる。
バインダー樹脂は、電荷発生物質100重量部に対して
0〜100重量部用いるのが適当であり、好ましくは0〜5
0重量部である。
0〜100重量部用いるのが適当であり、好ましくは0〜5
0重量部である。
電荷発生層は、電荷発生物質を必要ならばバインダー
樹脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、
ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミ
ル、アトライター、サンドミルなどにより分散し、分散
液を適度に希釈して塗布することにより形成できる。塗
布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法な
どを用いて行なうことができる。
樹脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、
ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミ
ル、アトライター、サンドミルなどにより分散し、分散
液を適度に希釈して塗布することにより形成できる。塗
布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法な
どを用いて行なうことができる。
電荷発生層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であ
り、好ましくは、0.1〜2μmである。
り、好ましくは、0.1〜2μmである。
電荷輸送層22は、電荷輸送物質およびバインダー樹脂
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上
に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要に
より可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。
を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上
に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要に
より可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とが
ある。
ある。
正孔輸送物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾー
ルおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグ
ルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒ
ド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリル)アント
ラセン、1,1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
ルおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグ
ルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒ
ド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリル)アント
ラセン、1,1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニ
ル)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾ
リン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン
誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブ
ロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ンジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、
2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−
テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサ
ントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕
チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチ
オフェン−5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が
挙げられる。
ロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ンジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、
2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−
テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサ
ントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕
チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチ
オフェン−5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が
挙げられる。
これらの電荷輸送物質は、単独又は、2種以上混合し
て用いられる。
て用いられる。
バインダー樹脂としてはポリスチレン、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレ
ート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セ
ルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコ
ーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性また
は熱硬化性樹脂が挙げられる。
クリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレ
ート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セ
ルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコ
ーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹
脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性また
は熱硬化性樹脂が挙げられる。
溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ト
ルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メ
チレンなどが用いられる。
ルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メ
チレンなどが用いられる。
電荷輸送層22の厚さは、5〜50μm程度が適当であ
る。
る。
次に感光層15が単層構成の場合について述べる。この
場合も多くは電荷発生物質と電荷輸送物質よりなる機能
分離型のものが挙げられる。
場合も多くは電荷発生物質と電荷輸送物質よりなる機能
分離型のものが挙げられる。
即ち、電荷発生物質および電荷輸送物質には先に示し
た化合物を用いることができる。
た化合物を用いることができる。
単層感光層は、電荷発生物質および電荷輸送物質およ
びバインダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、こ
れを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必
要により、可塑剤やレベリング剤等を添加することもで
きる。
びバインダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、こ
れを塗布、乾燥することによって形成できる。また、必
要により、可塑剤やレベリング剤等を添加することもで
きる。
バインダー樹脂としては、先に電荷輸送層22で挙げた
バインダー樹脂をそのまま用いるほかに、電荷発生層21
で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。
バインダー樹脂をそのまま用いるほかに、電荷発生層21
で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。
単層感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質およびバ
インダー樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジク
ロルエタン、シクロヘキサノン等の溶媒を用いて、分散
機等で分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコー
ト、ビードコートなどで塗工して形成できる。
インダー樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジク
ロルエタン、シクロヘキサノン等の溶媒を用いて、分散
機等で分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコー
ト、ビードコートなどで塗工して形成できる。
単層感光層の膜厚は、5〜50μm程度が適当である。
なお、本発明において感光層15の上にさらに絶縁層や
保護層を設けることも可能である。
保護層を設けることも可能である。
次に実施例によって、本発明をさらに詳しく説明する
が、本発明は、以下の実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明は、以下の実施例に限定されるものではな
い。
実施例1 アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、下記組成の共晶錯体層塗工液をドクター
ブレードで塗布し、乾燥膜厚1μmの共晶錯体層を形成
した。
フィルム上に、下記組成の共晶錯体層塗工液をドクター
ブレードで塗布し、乾燥膜厚1μmの共晶錯体層を形成
した。
4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2,6−ジフェニ
ルチアピリリウム パークロレート 1重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)製パンライトk−13
00) 10重量部 化合物No.14の(I)式の化合物 9重量部 塩化メチレン 600重量部 この上に、下記組成の電荷発生層塗工液をスプレーコ
ート法で塗布し、乾燥膜厚0.2μmの電荷発生層を形成
した。
ルチアピリリウム パークロレート 1重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)製パンライトk−13
00) 10重量部 化合物No.14の(I)式の化合物 9重量部 塩化メチレン 600重量部 この上に、下記組成の電荷発生層塗工液をスプレーコ
ート法で塗布し、乾燥膜厚0.2μmの電荷発生層を形成
した。
顔料No.1−18のトリスアゾ顔料 3重量部 ポリビニルブチラール(積水化学工業(株)製エスレッ
クBL−1) 1重量部 シクロヘキサノン 300重量部 次に、この電荷発生層上に下記組成の塗工液をスプレ
ーコート法で塗布し、乾燥膜厚18μmの電荷輸送層を形
成し、本発明の電子写真感光体を得た。
クBL−1) 1重量部 シクロヘキサノン 300重量部 次に、この電荷発生層上に下記組成の塗工液をスプレ
ーコート法で塗布し、乾燥膜厚18μmの電荷輸送層を形
成し、本発明の電子写真感光体を得た。
下記構造式の電荷輸送物質 90重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)製、パンライトk−
1300) 100重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 実施例2 実施例1において、共晶錯体層塗工液に用いたNo.14
の(I)式の化合物の代りに、No.43の(I)式の化合
物を用いた他はすべて実施例1と同様にして、電子写真
感光体を作成した。
1300) 100重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 実施例2 実施例1において、共晶錯体層塗工液に用いたNo.14
の(I)式の化合物の代りに、No.43の(I)式の化合
物を用いた他はすべて実施例1と同様にして、電子写真
感光体を作成した。
比較例1 実施例1において、共晶錯体層を設けないほかは、す
べて実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
べて実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例3 実施例1に用いたのと同じ支持体上に下記組成の塗工
液をドクターブレードで塗布し、乾燥膜厚0.1μmの下
引層を形成した。
液をドクターブレードで塗布し、乾燥膜厚0.1μmの下
引層を形成した。
水溶性ポリビニルブチラール25%水溶液(積水化学工業
(株)製エスレックW201) 50重量部 水 150重量部 メタノール 200重量部 この上に下記組成の塗工液をスプレーコート法で塗布
し、乾燥膜厚0.5μmの共晶錯体層を形成した。
(株)製エスレックW201) 50重量部 水 150重量部 メタノール 200重量部 この上に下記組成の塗工液をスプレーコート法で塗布
し、乾燥膜厚0.5μmの共晶錯体層を形成した。
4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2,6−ジフェニ
ルチアピリリウムヘキサフルオロフォスフェート1重量
部 ポリカーボネート(GE社製レキサン−141) 15重量部 化合物No.33の(I)式の化合物 12重量部 塩化メチレン 450重量部 1,2−ジクロルエタン 150重量部 次にこの上に下記組成の塗工液をスプレーコート法で
塗布し、乾燥膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
ルチアピリリウムヘキサフルオロフォスフェート1重量
部 ポリカーボネート(GE社製レキサン−141) 15重量部 化合物No.33の(I)式の化合物 12重量部 塩化メチレン 450重量部 1,2−ジクロルエタン 150重量部 次にこの上に下記組成の塗工液をスプレーコート法で
塗布し、乾燥膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
顔料No.2−20のジスアゾ顔料 3重量部 ポリビニルブチラール(積水化学工業(株)製エスレッ
クBM−S) 0.5重量部 テトラヒドロフラン 300重量部 さらに、この上に下記組成の塗工液をスプレーコート
法で塗布し、乾燥膜厚18μmの電荷輸送層を形成し、本
発明の電子写真感光体を得た。
クBM−S) 0.5重量部 テトラヒドロフラン 300重量部 さらに、この上に下記組成の塗工液をスプレーコート
法で塗布し、乾燥膜厚18μmの電荷輸送層を形成し、本
発明の電子写真感光体を得た。
下記構造式の電荷輸送物質 80重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)パンライトK−130
0) 100重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 実施例4 実施例3において、共晶錯体層塗工液に用いてNo.33
の(I)式の化合物の代りにNo.8の(I)式の化合物を
用いた他はすべて実施例3と同様にして、電子写真感光
体を作成した。
0) 100重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 実施例4 実施例3において、共晶錯体層塗工液に用いてNo.33
の(I)式の化合物の代りにNo.8の(I)式の化合物を
用いた他はすべて実施例3と同様にして、電子写真感光
体を作成した。
比較例2 実施例3において、共晶錯体層を設けないほかは、す
べて実施例3と同様にして電子写真感光体を作成した。
べて実施例3と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例5 厚さ0.2mmのアルミニウム板上に下記組成の塗工液を
浸漬塗工法で塗布し、乾燥膜厚2μmの共晶錯体層を形
成した。
浸漬塗工法で塗布し、乾燥膜厚2μmの共晶錯体層を形
成した。
4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2,6−ジフェニ
ルチアピリリウムフルオロボレート 0.5重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)パンライトL−125
0) 7重量部 化合物No.25の(I)式の化合物 7重量部 塩化メチレン 600重量部 四塩化炭素 200重量部 この上に下記組成の塗工液を浸漬塗工法で塗布し、乾
燥膜厚0.3μmの目止め層を形成した。
ルチアピリリウムフルオロボレート 0.5重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)パンライトL−125
0) 7重量部 化合物No.25の(I)式の化合物 7重量部 塩化メチレン 600重量部 四塩化炭素 200重量部 この上に下記組成の塗工液を浸漬塗工法で塗布し、乾
燥膜厚0.3μmの目止め層を形成した。
アルコール可溶性ナイロン(帝国化学(株)製トレジ
ン) 3重量部 メタノール 200重量部 イソプロピルアルコール 100重量部 次に、この上に下記組成の塗工液を浸漬塗工法で塗布
し、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層を形成した。
ン) 3重量部 メタノール 200重量部 イソプロピルアルコール 100重量部 次に、この上に下記組成の塗工液を浸漬塗工法で塗布
し、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層を形成した。
顔料No.1−20のトリスアゾ顔料 3重量部 シクロヘキサノン 200重量部 テトラヒドロフラン 100重量部 さらに、この上に下記組成の塗工液を浸漬塗工法で塗
布し、乾燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成して、本発明
の電子写真感光体を得た。
布し、乾燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成して、本発明
の電子写真感光体を得た。
下記構造式の電荷輸送物質 90重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)製パンライトC−14
00) 100重量部 塩化メチレン 800重量部 実施例6 実施例5において、共晶錯体層塗工液に用いたNo.25
の(I)式の化合物の代りにNo.9の(I)式の化合物を
用いた他はすべて実施例5と同様にして、電子写真感光
体を作成した。
00) 100重量部 塩化メチレン 800重量部 実施例6 実施例5において、共晶錯体層塗工液に用いたNo.25
の(I)式の化合物の代りにNo.9の(I)式の化合物を
用いた他はすべて実施例5と同様にして、電子写真感光
体を作成した。
比較例3 実施例5において、共晶錯体層を設けないほかは、す
べて実施例5と同様にして電子写真感光体を作成した。
べて実施例5と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例7 厚さ0.2mmのアルミニウム板上に下記組成の下引層塗
工液、共晶錯体層塗工液および目止め層塗工液を順次、
浸漬塗工法で塗布、乾燥して下引層(膜厚0.2μm)、
共晶錯体層(膜厚0.7μm)および目止め層(膜厚0.2μ
m)を順次形成した。
工液、共晶錯体層塗工液および目止め層塗工液を順次、
浸漬塗工法で塗布、乾燥して下引層(膜厚0.2μm)、
共晶錯体層(膜厚0.7μm)および目止め層(膜厚0.2μ
m)を順次形成した。
(1)下引層塗工液 ポリビニルアルコール(電気化学工業(株)製デンカポ
バールH−20) 2重量部 水 200重量部 メタノール 100重量部 (2)共晶錯体層塗工液 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2,6−ジフェニ
ル ピリリウムヘキサフルオロフォスフェート1重量部 ポリカーボネート(GE社製レキサン−141) 8重量部 化合物No.21の(I)式の化合物 10重量部 塩化メチレン 650重量部 (3)目止め層塗工液 アルコール可溶性ナイロン(東レ(株)製アミランCM−
8000) 2重量部 エタノール 250重量部 次にこの上に、下記組成の塗工液を浸漬塗工法により
塗布し、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層を形成した。
バールH−20) 2重量部 水 200重量部 メタノール 100重量部 (2)共晶錯体層塗工液 4−(4−ジメチルアミノフェニル)−2,6−ジフェニ
ル ピリリウムヘキサフルオロフォスフェート1重量部 ポリカーボネート(GE社製レキサン−141) 8重量部 化合物No.21の(I)式の化合物 10重量部 塩化メチレン 650重量部 (3)目止め層塗工液 アルコール可溶性ナイロン(東レ(株)製アミランCM−
8000) 2重量部 エタノール 250重量部 次にこの上に、下記組成の塗工液を浸漬塗工法により
塗布し、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層を形成した。
顔料No.2−7のジスアゾ顔料 3重量部 ポリビニルブチラール(積水化学工業(株)製エスレッ
クBM−S) 0.5重量部 シクロヘキサノン 200重量部 テトラヒドロフラン 100重量部 さらにこの上に下記組成の塗工液を浸漬塗工法により
塗布し、乾燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成して、本発
明の電子写真感光体を得た。
クBM−S) 0.5重量部 シクロヘキサノン 200重量部 テトラヒドロフラン 100重量部 さらにこの上に下記組成の塗工液を浸漬塗工法により
塗布し、乾燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成して、本発
明の電子写真感光体を得た。
下記構造式の電荷輸送物質 90重量部 ポリカーボネート(帝人化成(株)製パンライトC−14
00) 100重量部 塩化メチレン 800重量部 実施例8 実施例7において、共晶錯体層塗工液に用いたNo.21
の(I)式の化合物の代りにNo.45の(I)式の化合物
を用いた他はすべて実施例7と同様にして、電子写真感
光体を作成した。
00) 100重量部 塩化メチレン 800重量部 実施例8 実施例7において、共晶錯体層塗工液に用いたNo.21
の(I)式の化合物の代りにNo.45の(I)式の化合物
を用いた他はすべて実施例7と同様にして、電子写真感
光体を作成した。
比較例4 実施例7において、共晶錯体層を設けないほかは、す
べて実施例7と同様にして電子写真感光体を作成した。
べて実施例7と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例9 実施例1において用いたNo.14の(I)式の化合物の
代りに、No.30の化合物を用いた以外はすべて実施例1
と同様にして電子写真感光体を作成した。
代りに、No.30の化合物を用いた以外はすべて実施例1
と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例10 実施例7において用いたNo.21の(I)式の化合物の
代りに、No.4の化合物を用いた以外はすべて実施例7と
同様にして電子写真感光体を作成した。
代りに、No.4の化合物を用いた以外はすべて実施例7と
同様にして電子写真感光体を作成した。
以上の様に作成した電子写真感光体は静電複写紙試験
装置(川口電機製作所製SP−428型)を用いて、次の様
に電子写真特性を評価した。
装置(川口電機製作所製SP−428型)を用いて、次の様
に電子写真特性を評価した。
まず、−5.5kVの放電電圧にてコロナ帯電を15秒間行
ない、次いで暗減衰を行ない表面電位が−800Vになった
ところで10l uxのタングステン光を照射した。
ない、次いで暗減衰を行ない表面電位が−800Vになった
ところで10l uxのタングステン光を照射した。
この時の帯電開始後2秒の表面電位V2(V)、光照射
の際、表面電位が−400Vになるのに必要な露光量E1/2
(l ux sec)を測定した。
の際、表面電位が−400Vになるのに必要な露光量E1/2
(l ux sec)を測定した。
更に、この感光体に色温度2856゜kのタングステン光
を100,000l ux sec照射して、光疲労させた後、再び前
記と同様にして帯電電位V2′(V)、露光量E′1/2(l
ux sec)を測定した この様にして測定した評価結果を次表に示す。
を100,000l ux sec照射して、光疲労させた後、再び前
記と同様にして帯電電位V2′(V)、露光量E′1/2(l
ux sec)を測定した この様にして測定した評価結果を次表に示す。
効果 本発明によれば、感光体の繰返し使用後の帯電特性の
劣化を防ぐことが可能となる。
劣化を防ぐことが可能となる。
すなわち、複写機、プリンター等の画像濃度低下、画
像濃度ムラ、カブリあるいは、反転現像時においては、
地肌汚れのない良好な画像を得ることができる。
像濃度ムラ、カブリあるいは、反転現像時においては、
地肌汚れのない良好な画像を得ることができる。
第1図a,b、第2図、及び第3図a,bは本発明の電子写真
感光体のそれぞれの構成例を示す断面図である。 11……導電性基体、15……感光層 12……下引層、21……電荷発生層 13……共晶錯体層、22……電荷輸送層 14……目止め層
感光体のそれぞれの構成例を示す断面図である。 11……導電性基体、15……感光層 12……下引層、21……電荷発生層 13……共晶錯体層、22……電荷輸送層 14……目止め層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 深貝 俊夫 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (72)発明者 谷口 淑 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特公 昭46−22518(JP,B1)
Claims (1)
- 【請求項1】導電性基体上に感光層を設けて成る電子写
真感光体において、前記導電性基体と感光層との間に、
ピリリウム系染料、電気絶縁性重合体および下記一般式
(I)、 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基
を表わし、Arは (ただし、R2,R3,R6は水素原子、炭素数1〜4の置換又
は無置換のアルキル基あるいは置換又は無置換のベンジ
ル基を表わし、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜4のアルキル基あるいは炭素数1〜4のアルコキ
シ基又はジアルキルアミノ基を表わす) を表わす。〕 で示される化合物を主成分とする共晶錯体層が設けられ
ていることを特徴とする電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62046378A JP2589304B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62046378A JP2589304B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63210940A JPS63210940A (ja) | 1988-09-01 |
JP2589304B2 true JP2589304B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=12745479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62046378A Expired - Lifetime JP2589304B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2589304B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2250742B (en) * | 1990-12-13 | 1995-07-12 | Ici Plc | Fluorene compounds |
-
1987
- 1987-02-27 JP JP62046378A patent/JP2589304B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63210940A (ja) | 1988-09-01 |
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