JP2583791B2 - Production method of halogenated ethylbenzene - Google Patents
Production method of halogenated ethylbenzeneInfo
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/16—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydroxyl groups
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、２−クロロベンズアルデヒドをアルキルス
ルホニウム塩又はアルキルスルホキソニウム塩と反応さ
せ、２−クロロスチレンオキサイドとし、更に該２−ク
ロロスチレンオキサイドをハロゲン化水素付加し、一般
式（III） （式中、Ｘはハロゲン原子を示す。） で表される化合物とし、該化合物（III）をハロゲン化
若しくは一般式（II） R1・Ｘ （II） （式中、R1はメシル基又はトシル基を示し、Ｘは前記に
同じ。） で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
（Ｉ） （式中、Ｒはハロゲン原子、メシルオキシ基又はトシル
オキシ基を示し、Ｘは前記に同じ。） で表されるハロゲン化エチルベンゼンの製造法に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention comprises reacting 2-chlorobenzaldehyde with an alkylsulfonium salt or an alkylsulfoxonium salt to form 2-chlorostyrene oxide, and further subjecting the 2-chlorostyrene oxide to hydrogen halide addition, General formula (III) Wherein X represents a halogen atom. The compound (III) is halogenated or represented by the general formula (II) R 1 .X (II) (wherein R 1 is a mesyl group or X is the same as defined above, and X is the same as defined above.) (In the formula, R represents a halogen atom, a mesyloxy group or a tosyloxy group, and X is the same as described above.)
本発明の製造法によるハロゲン化エチルベンゼン及び
その中間体化合物である２−クロロ−α−ハロゲノ−β
−ヒドロキシエチルベンゼン（以下本発明化合物とい
う）は、医薬、農薬、高分子化合物、化学品等の原料と
して有用な化合物である。Halogenated ethylbenzene prepared by the production method of the present invention and 2-chloro-α-halogeno-β as an intermediate compound thereof
-Hydroxyethylbenzene (hereinafter, referred to as the compound of the present invention) is a compound useful as a raw material for pharmaceuticals, agricultural chemicals, polymer compounds, chemicals, and the like.
従来、ハロゲン化エチルベンゼンの製造法としては下
記に図示する方法により製造されている。Conventionally, halogenated ethylbenzene has been produced by the method illustrated below.
しかし、工程の反応はグリニヤール反応であり、爆
発等の危険があり、工程の反応はハロゲン化スチレン
を製造する工程であるが、該ハロゲン化スチレンは重合
し易く、蒸留等の精製が難しく、且つ工程の反応は反
応規模を大きくすることは困難であり、反応規模拡大に
よる利点が少ない等の問題がある。 However, the reaction in the step is a Grignard reaction, and there is a risk of explosion, etc., and the reaction in the step is a step of producing halogenated styrene, but the halogenated styrene is easily polymerized, and purification such as distillation is difficult, and It is difficult to increase the reaction scale in the reaction of the process, and there are problems such as the fact that there is little advantage due to the expansion of the reaction scale.
本発明者等はこれらの課題を解決すべく鋭意研究を重
ねた結果、本発明を完成させたものである。本発明は反
応が容易で危険性もなく、生成物の精製も容易であり、
且つ反応規模も拡大でき経済性を向上させたものであ
る。The present inventors have made intensive studies to solve these problems and have completed the present invention. The present invention is easy and danger-free, and the product can be easily purified.
In addition, the scale of the reaction can be increased, and the economic efficiency is improved.
本発明を、例えば図式的に示すと下記のとおり示すこ
とができる。The present invention can be illustrated, for example, schematically as follows.
（式中、R1及びＸは前記に同じ。） 即ち、２−クロロベンズアルデヒドを塩基及び不活性
溶媒の存在下にアルキルスルホニウム塩又はアルキルス
ルホキソニウム塩と反応させることにより２−クロロス
チレンオキサイドを製造し、次いで該２−クロロスチレ
ンオキサイドを不活性溶媒の存在下又は不存在下に塩酸
等の付加反応を行い一般式（III）で表される化合物と
し、該化合物（III）を塩基の存在下及び不活性溶媒の
存在下又は不存在下にハロゲン化剤と反応させて一般式
（Ｉ−１）で表される化合物とするか、又は一般式（II
I）で表される化合物を塩基の存在下及び不活性溶媒の
存在下又は不存在下に一般式（II）で表される化合物と
反応させることにより一般式（Ｉ−２）で表される化合
物を製造することができる。 (Wherein R 1 and X are the same as above.) That is, 2-chlorostyrene oxide is reacted with an alkylsulfonium salt or an alkylsulfoxonium salt in the presence of a base and an inert solvent to convert 2-chlorostyrene oxide. And then subjecting the 2-chlorostyrene oxide to an addition reaction with hydrochloric acid or the like in the presence or absence of an inert solvent to give a compound represented by the general formula (III), and converting the compound (III) to the presence of a base Reaction with a halogenating agent in the presence or absence of an inert solvent, to give a compound represented by the general formula (I-1);
The compound represented by the general formula (I-2) is reacted with the compound represented by the general formula (II) in the presence of a base and in the presence or absence of an inert solvent. Compounds can be prepared.
又、同様にして２−クロロスチレンオキサイドを製造
し、該２−クロロスチレンオキサイドを塩基の存在下及
び不活性溶媒の存在下又は不存在下にハロゲン化反応を
行い一般式（Ｉ−１）で表される化合物を製造すること
ができる。Similarly, 2-chlorostyrene oxide is produced, and the 2-chlorostyrene oxide is subjected to a halogenation reaction in the presence of a base and in the presence or absence of an inert solvent to obtain a compound of the general formula (I-1). The compounds represented can be prepared.
以下に各工程の反応について説明する。 The reaction of each step will be described below.
（１）２−クロロベンズアルデヒド２−クロロスチレ
ンオキサイド 本反応で使用できるアルキルスルホニウム塩又はアル
キルスルホキソニウム塩としては、以下の一般式（IV）
で表される化合物を使用することができる。(1) 2-chlorobenzaldehyde 2-chlorostyrene oxide As the alkylsulfonium salt or alkylsulfoxonium salt that can be used in this reaction, the following general formula (IV)
Can be used.
一般式（IV） （式中、R2は炭素原子数１〜12のアルキル基を示し、ｎ
は０又は１の整数を示し、Ｙはハロゲン原子又はアルキ
ルスルホニウムを示す。） 一般式（IV）で表されるアルキルスルホニウム塩又は
アルキルスルホキソニウム塩としては、例えばトリメチ
ルスルホニウムアイオダイド、トリメチルスルホキソニ
ウムアイオダイド、トリメチルスルホニウムメチルスル
フェート、ｎ−ドデシルジメチルスルホニウムアイオダ
イド、ｎ−ドデシルジメチルスルホニウムメチルスルフ
ェート等のアルキルスルホニウム塩又はアルキルスルホ
キソニウム塩を例示することができる。General formula (IV) (Wherein, R 2 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms;
Represents an integer of 0 or 1, and Y represents a halogen atom or an alkylsulfonium. Examples of the alkylsulfonium salt or alkylsulfoxonium salt represented by the general formula (IV) include, for example, trimethylsulfonium iodide, trimethylsulfoxonium iodide, trimethylsulfonium methylsulfate, n-dodecyldimethylsulfonium iodide, n -Alkylsulfonium salts or alkylsulfoxonium salts such as -dodecyldimethylsulfoniummethylsulfate.
アルキルスルホニウム塩又はアルキルスルホキソニウ
ム塩の使用量は、２−クロロベンズアルデヒド１モルに
対して等モル乃至２モルの範囲から選択すれば良く、好
ましくは等モル乃至若干過剰量の範囲が良い。The amount of the alkylsulfonium salt or the alkylsulfoxonium salt to be used may be selected from the range of equimolar to 2 moles per 1 mole of 2-chlorobenzaldehyde, and is preferably in the range of equimolar to slightly excess.
本反応で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属原子の水酸化
物、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイ
ド、カリウムエトキサイド等のアルカリ金属原子のアル
コラート類、水素化ナトリウム等を例示することがで
き、これら塩基の使用量は２−クロロベンズアルデヒド
１モルに対して等モル乃至２モルの範囲から選択すれば
良く、好ましくは倍モル使用するのが良い。Examples of the base that can be used in this reaction include hydroxides of alkali metal atoms such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alcoholates of alkali metal atoms such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium ethoxide, and sodium hydride. And the like. The amount of the base used may be selected from the range of from equimolar to 2 moles relative to 1 mole of 2-chlorobenzaldehyde, and is preferably used twice as much.
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進
行を著しく阻害しないものであれば特に限定されるもの
ではなく、例えばアセトニトリル等のニトリル類、ジメ
チルスルホキシド、水等を例示することができ、これら
の不活性溶媒は単独で又は混合して使用することも可能
である。The inert solvent that can be used in this reaction is not particularly limited as long as it does not significantly inhibit the progress of this reaction, and examples thereof include nitriles such as acetonitrile, dimethyl sulfoxide, and water. These inert solvents can be used alone or as a mixture.
反応温度は０℃乃至150℃の範囲から選択すれば良
く、好ましくは50℃乃至100℃の範囲から選択するのが
良い。The reaction temperature may be selected from the range of 0 ° C to 150 ° C, preferably from 50 ° C to 100 ° C.
反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが１
乃至24時間の範囲から選択すれば良い。The reaction time is not fixed depending on the reaction amount, reaction temperature, etc.
It may be selected from a range of from 24 hours to 24 hours.
反応終了後、常法に従い、例えば溶媒抽出法等により
目的物を単離すれば良く、必要に応じて、蒸留法等の精
製操作を行うのも良く、精製操作を行わず次の反応に使
用することもできる。After completion of the reaction, the target substance may be isolated by a conventional method, for example, by a solvent extraction method or the like, and if necessary, a purification operation such as a distillation method may be performed. You can also.
（２）２−クロロスチレンオキサイド一般式（III） 本反応は、例えば塩酸、臭酸等の付加反応で、塩酸、
臭酸等の適当な溶液を使用しても良く、２−クロロスチ
レンオキサイドを不活性溶媒に溶解した溶液に、若しく
は溶媒を使用せずに塩酸ガス等を導入することにより製
造することもできる。(2) 2-chlorostyrene oxide general formula (III) This reaction is, for example, an addition reaction of hydrochloric acid, bromic acid, etc.
An appropriate solution such as bromic acid may be used, and it can also be produced by introducing hydrochloric acid gas or the like into a solution in which 2-chlorostyrene oxide is dissolved in an inert solvent or without using a solvent.
塩酸、臭酸等の溶液を使用する場合、その使用量は等
モル乃至過剰モルの範囲から選択すれば良く、塩酸ガス
等を使用する場合は、反応の進行を例えばガスクロマト
グラフィー等で確認し、原料の２−クロロスチレンオキ
サイドが消費された時点で導入を止めれば良い。When using a solution of hydrochloric acid, bromic acid, or the like, the amount of the solution may be selected from the range of equimolar to excess molar.When using hydrochloric acid gas, the progress of the reaction is confirmed by, for example, gas chromatography. The introduction may be stopped when 2-chlorostyrene oxide as the raw material is consumed.
本反応は不活性溶媒の存在下又は不存在下に行われ、
使用される不活性溶媒としては、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類を例示することが
できるが、これらの不活性溶媒に限定されるものではな
い。This reaction is carried out in the presence or absence of an inert solvent,
Examples of the inert solvent used include, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, but are not limited to these inert solvents.
反応温度は０℃乃至50℃の範囲から選択すれば良い。 The reaction temperature may be selected from the range of 0 ° C to 50 ° C.
反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが１
乃至24時間の範囲から選択すれば良い。The reaction time is not fixed depending on the reaction amount, reaction temperature, etc.
It may be selected from a range of from 24 hours to 24 hours.
反応終了後、常法に従い、例えば溶媒抽出法等により
目的物を単離すれば良く、必要に応じて、蒸留法等の精
製操作を行うのも良く、精製操作を行わず次の反応に使
用することもできる。After completion of the reaction, the target substance may be isolated by a conventional method, for example, by a solvent extraction method or the like, and if necessary, a purification operation such as a distillation method may be performed. You can also.
（３）一般式（III）一般式（Ｉ−１） 本反応はハロゲン化反応で、塩基の存在下及び不活性
溶媒の存在下又は不存在下にハロゲン化剤を反応させれ
ば良く、本反応で使用できるハロゲン化剤としては塩化
チオニル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等
のハロゲン化剤を使用することができ、その使用量は一
般式（III）で表される化合物１モルに対して等モル乃
至５モルの範囲から選択することができ、好ましくは過
剰モル使用するのが良い。(3) General formula (III) General formula (I-1) This reaction is a halogenation reaction, which may be carried out by reacting a halogenating agent in the presence of a base and in the presence or absence of an inert solvent. As the halogenating agent that can be used in the reaction, a halogenating agent such as thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, and phosphorus oxychloride can be used. The amount of the halogenating agent used is the compound 1 represented by the general formula (III). It can be selected from the range of equimolar to 5 moles with respect to moles, and it is preferable to use an excess mole.
本反応で使用できる塩基としては無機塩基又は有機塩
基を使用することができ、好ましくは例えばピリジン、
ピコリン、キノリン等の有機塩基を使用するのが良い。As the base that can be used in this reaction, an inorganic base or an organic base can be used, and preferably, for example, pyridine,
It is preferable to use organic bases such as picoline and quinoline.
塩基の使用量はハロゲン化剤１モルに対して等モル乃
至10モルの範囲から選択すれば良い。The amount of the base used may be selected from the range of from equimolar to 10 mol per mol of the halogenating agent.
本反応で使用できる不活性溶媒としては、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素化炭化
水素類、酢酸エチルエステル等のエステル類、アセトニ
トリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチルエ
ーテル、ジプロピルエーテル、メチルエチルエーテル等
の鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラハイドロフラン
等の環状エーテル類を使用することができるがこれらの
不活性溶媒に限定されるものではない。Examples of the inert solvent that can be used in this reaction include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; esters such as ethyl acetate; and acetonitrile. Nitriles, chain ethers such as methyl cellosolve, diethyl ether, dipropyl ether and methyl ethyl ether, and cyclic ethers such as dioxane and tetrahydrofuran can be used, but are limited to these inert solvents. Not something.
反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが１
乃至24時間の範囲から選定すれば良い。The reaction time is not fixed depending on the reaction amount, reaction temperature, etc.
It may be selected from a range of from 24 hours to 24 hours.
反応終了後、常法に従い、例えば溶媒抽出法等により
目的物を単離すれば良く、必要に応じて、蒸留法等の精
製操作を行うことによって一般式（Ｉ−１）で表される
化合物を製造することができる。After completion of the reaction, the target compound may be isolated by a conventional method, for example, by a solvent extraction method or the like. If necessary, a compound represented by the general formula (I-1) can be obtained by performing a purification operation such as a distillation method. Can be manufactured.
（４）一般式（III）一般式（Ｉ−２） 本反応はスルホニル反応で、塩基の存在下及び不活性
溶媒の存在下又は不存在下に、一般式（II）で表される
化合物を反応すれば良い。(4) General formula (III) General formula (I-2) This reaction is a sulfonyl reaction, and the compound represented by the general formula (II) is reacted in the presence of a base and in the presence or absence of an inert solvent. You just have to react.
本反応で使用できる不活性溶媒としては、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、ア
セトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチル
セロソルブ、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル等
の鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラハイドロフラン
等の環状エーテル類、スルホラン、ジメチルスルホン、
ジメチルスルホキシド等を例示することができる。Examples of the inert solvent that can be used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol;
Aliphatic ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; chain ethers such as methyl cellosolve, diethyl ether and dipropyl ether; cyclic ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; sulfolane and dimethyl sulfone ,
Dimethyl sulfoxide and the like can be exemplified.
本反応は等モル反応であるので、一般式（III）で表
される化合物と一般式（II）で表される化合物を等モル
使用すれば良いが、一般式（II）で表される化合物を過
剰モル使用することもできる。Since this reaction is an equimolar reaction, the compound represented by the general formula (III) and the compound represented by the general formula (II) may be used in equimolar amounts. Can also be used in molar excess.
本反応で使用できる塩基としては、無機塩基又は有機
塩基を使用することができ、好ましくは例えばピリジ
ン、ピコリン、キノリン等の有機塩基を使用するのが良
い。As the base that can be used in this reaction, an inorganic base or an organic base can be used, and for example, an organic base such as pyridine, picoline, and quinoline is preferably used.
塩基の使用量は一般式（II）で表される化合物１モル
に対して等モル乃至過剰に使用すれば良い。The base may be used in an equimolar amount or in excess with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (II).
反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが１
乃至24時間の範囲から選定すれば良い。The reaction time is not fixed depending on the reaction amount, reaction temperature, etc.
It may be selected from a range of from 24 hours to 24 hours.
反応終了後、常法に従い、例えば溶媒抽出法等により
目的物を単離すれば良く、必要に応じて、蒸留法等の精
製操作を行うことによって一般式（Ｉ−２）で表される
化合物を製造することができる。After completion of the reaction, the target compound may be isolated by a conventional method, for example, by a solvent extraction method or the like. If necessary, a compound represented by the general formula (I-2) can be obtained by performing a purification operation such as a distillation method. Can be manufactured.
（５）２−クロロスチレンオキサイド一般式（Ｉ−
１） 本反応はハロゲン化反応で、ハロゲン化剤としては
（３）で使用できるハロゲン化剤の他に塩素、臭素、塩
化スルフリル等のハロゲン化剤も使用することができ、
ハロゲン化剤の使用量は２−クロロスチレンオキサイド
１モルに対して２モル乃至10モルの範囲から選択すれば
良く、その他の反応条件は（３）と同様にして製造すれ
ば良い。(5) 2-chlorostyrene oxide general formula (I-
1) This reaction is a halogenation reaction. In addition to the halogenating agents used in (3), halogenating agents such as chlorine, bromine and sulfuryl chloride can be used as the halogenating agent.
The amount of the halogenating agent to be used may be selected from the range of 2 to 10 mol per 1 mol of 2-chlorostyrene oxide, and the other reaction conditions may be the same as in (3).
以下に本発明の代表的な実施例を例示するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。Hereinafter, typical examples of the present invention will be illustrated, but the present invention is not limited thereto.
実施例1. ２−クロロスチレンオキサイドの製造 １−１ アセトニトリル80ml中に、２−クロロベンズアルデヒ
ド5.62g（40ミリモル）、沃化トリメチルスルホニウム
8.16g（40ミリモル）及び85％水酸化カリウム5.28g（80
ミリモル）を入れ、60℃で２時間反応を行った。反応終
了後、反応液を放冷し、反応液に水を加え目的物をエー
テルで抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、抽出溶媒を減
圧留去することにより２−クロロスチレンオキサイド6.
08gを得た。Example 1. Production of 2-chlorostyrene oxide 1-1 5.62 g (40 mmol) of 2-chlorobenzaldehyde, trimethylsulfonium iodide in 80 ml of acetonitrile
8.16 g (40 mmol) and 85% potassium hydroxide 5.28 g (80
Mmol) and reacted at 60 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool, water was added to the reaction solution, and the desired product was extracted with ether. The extract was washed with water and dried, and the extraction solvent was distilled off under reduced pressure to give 2-chlorostyrene oxide 6.
08g was obtained.
得られた２−クロロスチレンオキサイドは必要に応じ
て蒸留等の方法により精製しても良く、精製せずに次の
反応に使用することもできる。The obtained 2-chlorostyrene oxide may be purified by a method such as distillation, if necessary, or may be used for the next reaction without purification.
物性 液状物 NMR値 （CDCl3/TMS,δ値,ppm） 2.5（dd,J＝3.6Hz,1H） 3.1（dd,J＝4.6Hz,1H） 4.1（dd,J＝2.4Hz,1H） 7.2（s,4H） 収率 98.3％ １−２ ベンゼン20ml中にｎ−ドデシルメチルスルフィド5.41
g（25ミリモル）及びジメチル硫酸3.51g（27.5ミリモ
ル）を加え、３時間加熱還流し反応を行った。反応終了
後、反応液を放冷し、析出した結晶を濾集し、エーテル
で洗浄し減圧乾燥することによりｎ−ドデシルジメチル
スルホニウムメチルスルフェート7.96g（収率 92.8
％）を得た。Physical properties Liquid substance NMR value (CDCl 3 / TMS, δ value, ppm) 2.5 (dd, J = 3.6 Hz, 1H) 3.1 (dd, J = 4.6 Hz, 1H) 4.1 (dd, J = 2.4 Hz, 1H) 7.2 (S, 4H) Yield 98.3% 1-2 5.41 n-dodecylmethyl sulfide in 20 ml of benzene
g (25 mmol) and 3.51 g (27.5 mmol) of dimethyl sulfate were added, and the mixture was heated under reflux for 3 hours to carry out a reaction. After the completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with ether, and dried under reduced pressure to give 7.96 g of n-dodecyldimethylsulfonium methyl sulfate (yield 92.8 g).
%).
得られたｎ−ドデシルジメチルスルホニウムメチルサ
ルフェート4.8g（14ミリモル）、２−クロロベンズアル
デヒド1.97g（14ミリモル）、水0.06g（3.3ミリモル）
及び85％水酸化カリウム1.85g（28ミリモル）を、アセ
トニトリル28ml中に加え、60℃で２時間加熱攪拌して反
応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、反応液に水
を加え目的物をエーテルで抽出した。抽出液を水洗、乾
燥後、抽出溶媒を減圧留去した。4.8 g (14 mmol) of the obtained n-dodecyldimethylsulfonium methyl sulfate, 1.97 g (14 mmol) of 2-chlorobenzaldehyde, 0.06 g (3.3 mmol) of water
Then, 1.85 g (28 mmol) of 85% potassium hydroxide was added to 28 ml of acetonitrile, and the reaction was carried out by heating and stirring at 60 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool, water was added to the reaction solution, and the desired product was extracted with ether. After the extract was washed with water and dried, the extraction solvent was distilled off under reduced pressure.
マロン酸エチルを内部標準としてガスクロマトグラフ
ィーにより分析し、目的とする２−クロロスチレンオキ
サイド2.01gの生成を確認した。Analysis by gas chromatography using ethyl malonate as an internal standard confirmed the production of 2.01 g of the desired 2-chlorostyrene oxide.
収率 92.9％ １−３ ｎ−ドデシルメチルスルフィド5.41g（25ミリモル）
と沃化メチル3.55g（25ミリモル）とを24時間室温で緩
やかに攪拌した。該反応液にアセトニトリル50ml、２−
クロロベンズアルデヒド3.5g（24.9ミリモル）、水0.11
g（6.1ミリモル）及び85％水酸化カリウム3.3g（50ミリ
モル）を加え、60℃で２時間加熱攪拌し反応を行った。
反応終了後、反応液を放冷し、反応液に水を加え目的物
をエーテルで抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、抽出溶
媒を減圧留去した。Yield 92.9% 1-3 5.41 g (25 mmol) of n-dodecylmethyl sulfide
And 3.55 g (25 mmol) of methyl iodide were gently stirred at room temperature for 24 hours. 50 ml of acetonitrile, 2-
Chlorobenzaldehyde 3.5 g (24.9 mmol), water 0.11
g (6.1 mmol) and 3.3 g (50 mmol) of 85% potassium hydroxide were added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 2 hours to carry out a reaction.
After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool, water was added to the reaction solution, and the desired product was extracted with ether. After the extract was washed with water and dried, the extraction solvent was distilled off under reduced pressure.
マロン酸エチルを内部標準としてガスクロマトグラフ
ィーにより分析し、目的とする２−クロロスチレンオキ
サイド2.73gの生成を確認した。Analysis by gas chromatography using ethyl malonate as an internal standard confirmed the formation of 2.73 g of the desired 2-chlorostyrene oxide.
収率 71.1％ 実施例2. α,2−ジクロロ−β−ヒドロキシエチルベンゼンの製造 実施例１で得られた２−クロロスチレンオキサイド3.
44g（22.1ミリモル）をベンゼン70mlに溶解し、該溶液
を10℃に冷却し、塩酸ガスを導入した。反応はガスクロ
マトグラフィーで追跡しながら行い、原料の２−クロロ
スチレンオキサイドのピークが消失した時点で塩酸ガス
の導入を止め反応を終了した。反応終了後、該反応液に
希炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ベンゼンで目的物
を抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し目的とする
α,2−ジクロロ−β−ヒドロキシエチルベンゼン4.08g2
を得た。Yield 71.1% Example 2. Production of α, 2-dichloro-β-hydroxyethylbenzene 2-chlorostyrene oxide obtained in Example 1 3.
44 g (22.1 mmol) was dissolved in 70 ml of benzene, the solution was cooled to 10 ° C., and hydrochloric acid gas was introduced. The reaction was carried out while tracking by gas chromatography. When the peak of 2-chlorostyrene oxide as the raw material disappeared, the introduction of hydrochloric acid gas was stopped to terminate the reaction. After completion of the reaction, a diluted aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added to the reaction solution, and the desired product was extracted with benzene. The extract is washed with water, dried, concentrated and the desired α, 2-dichloro-β-hydroxyethylbenzene 4.08 g2
I got
物性 液状物 NMR値 （CDCl3/TMS,δ値,ppm） 3.5（s,1H） 3.8（dd,Jvic＝5Hz,6.6Hz,2H） 5.4（dd,J＝5Hz,6.6Hz,1H） 6.9〜7.7（m,4H） 収率 92.9％ 実施例3. α，β,2−トリクロロエチルベンゼンの製造 ３−1. 実施例２で得られたα,2−ジクロロ−β−ヒドロキシ
エチルベンゼン3.14g（16.4ミリモル）とピリジン1.31g
（16.6ミリモル）を混合物５℃に冷却し、該溶液に塩化
チオニル2.32g（19.5ミリモル）を徐々に滴下した。滴
下終了後、徐々に反応温度を110℃まで加熱し、３時間
反応を同温度で行った。反応終了後、反応液を放冷し、
該反応液に希炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、目的物
をエーテルで抽出した。抽出液を水洗、乾燥後、濃縮し
目的とするα，β,2−トリクロロエチルベンゼン3.4gを
得た。Physical properties Liquid substance NMR value (CDCl 3 / TMS, δ value, ppm) 3.5 (s, 1H) 3.8 (dd, Jvic = 5Hz, 6.6Hz, 2H) 5.4 (dd, J = 5Hz, 6.6Hz, 1H) 6.9 ~ 7.7 (m, 4H) Yield 92.9% Example 3. Production of α, β, 2-trichloroethylbenzene 3-1. 3.14 g (16.4 mmol) of α, 2-dichloro-β-hydroxyethylbenzene obtained in Example 2 and 1.31 g of pyridine
(16.6 mmol) was cooled to 5 ° C. and 2.32 g (19.5 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise to the solution. After completion of the dropwise addition, the reaction temperature was gradually increased to 110 ° C., and the reaction was carried out at the same temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is allowed to cool,
Dilute aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the reaction solution, and the desired product was extracted with ether. The extract was washed with water, dried and concentrated to obtain 3.4 g of the target α, β, 2-trichloroethylbenzene.
物性 液状物 NMR値 （CDCl3/TMS,δ値,ppm） 3.9（d,J＝7.4Hz,2H） 5.5（t,J＝7.4Hz,1H） 7.0〜7.7（m,4H） 収率 99.4％ ３−2. 塩化スルフリル4.64g（33ミリモル）を75℃に加熱
し、これに２−クロロスチレンオキサイド2.45g（15.8
ミリモル）及びピリジン2.61g（33ミリモル）の混合物
を徐々に滴下した。滴下終了後、反応温度は100℃まで
上昇するが75℃まで下げ、同温度で１時間加熱攪拌し反
応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、該反応液に
希炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、目的物をエーテル
で抽出した。抽出液を水洗、乾燥した。目的物を含む該
溶液をガスクロマトグラフィーで分析し、面積百分率で
83.8％の割合で目的とするα，β,2−トリクロロエチル
ベンゼンの生成を確認した。Physical properties Liquid material NMR value (CDCl 3 / TMS, δ value, ppm) 3.9 (d, J = 7.4 Hz, 2H) 5.5 (t, J = 7.4 Hz, 1H) 7.0-7.7 (m, 4H) Yield 99.4% 3-2. 4.64 g (33 mmol) of sulfuryl chloride was heated to 75 ° C, and 2.45 g (15.8 g) of 2-chlorostyrene oxide was added thereto.
Mmol) and 2.61 g (33 mmol) of pyridine were slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction temperature rose to 100 ° C., but was lowered to 75 ° C., and the mixture was heated and stirred at the same temperature for 1 hour to carry out the reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool, a diluted aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added to the reaction solution, and the desired product was extracted with ether. The extract was washed with water and dried. The solution containing the target substance was analyzed by gas chromatography, and the
The formation of the desired α, β, 2-trichloroethylbenzene was confirmed at a rate of 83.8%.
実施例4. α,2−ジクロロ−β−メシルオキシエチルベンゼンの製
造 α,2−ジクロロ−β−ヒドロキシエチルベンゼン6.6g
（43.4ミリモル）とピリジン20g（0.253モル）の混合物
を０℃に冷却し、該溶液に塩化メシル5.1g（44.5ミリモ
ル）を徐々に滴下した。滴下終了後、温度を15℃まで上
げ、１時間同温度で反応を行い、更に３時間室温で反応
を行った。反応終了後、反応液を放冷し、該反応液に希
炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、目的物をエーテルで
抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、目的である
α,2−ジクロロ−β−メシルオキシエチルベンゼン8.81
gを得た。Example 4. Production of α, 2-dichloro-β-mesyloxyethylbenzene α, 2-dichloro-β-hydroxyethylbenzene 6.6 g
A mixture of (43.4 mmol) and 20 g (0.253 mol) of pyridine was cooled to 0 ° C., and 5.1 g (44.5 mmol) of mesyl chloride was slowly added dropwise to the solution. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to 15 ° C., the reaction was carried out at the same temperature for 1 hour, and the reaction was carried out at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was allowed to cool, a diluted aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added to the reaction solution, and the desired product was extracted with ether. The extract was washed with water, dried and concentrated, and the desired α, 2-dichloro-β-mesyloxyethylbenzene 8.81
g was obtained.
物性 液状物 NMR値 （CDCl3/TMS,δ値,ppm） 2.9（s,3H） 4.4（d,J＝6.5Hz,2H） 5.6（t,J＝6.5Hz,1H） 7.0〜7.7（m,4H） 収率 94.8％ 同様にして、α,2−ジクロロ−β−パラトシルオキシ
エチルベンゼンを製造した。Physical properties Liquid matter NMR value (CDCl 3 / TMS, δ value, ppm) 2.9 (s, 3H) 4.4 (d, J = 6.5 Hz, 2H) 5.6 (t, J = 6.5 Hz, 1H) 7.0 to 7.7 (m, 4H) Yield 94.8% Similarly, α, 2-dichloro-β-paratosyloxyethylbenzene was produced.
物性 結晶物 融点 77〜79℃ NMR値 （CDCl3/TMS,δ値,ppm） 2.4（s,3H） 4.3（dd,Jvic＝5.7Hz,2H） 5.5（dd,J＝5.7Hz,1H） 7.0〜7.8（m,8H） 収率 81.2％Physical properties Crystals Melting point 77-79 ° C NMR value (CDCl 3 / TMS, δ value, ppm) 2.4 (s, 3H) 4.3 (dd, Jvic = 5.7 Hz, 2H) 5.5 (dd, J = 5.7 Hz, 1H) 7.0 ~ 7.8 (m, 8H) Yield 81.2%
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 309/73 Ｃ０７Ｃ 309/73 // Ｃ０７Ｃ 29/62 29/62 33/46 33/46 Ｃ０７Ｄ 301/02 Ｃ０７Ｄ 301/02 303/08 303/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location C07C 309/73 C07C 309/73 // C07C 29/62 29/62 33/46 33/46 C07D 301 / 02 C07D 301/02 303/08 303/08
Claims (5)
ルホニウム塩又はアルキルスルホキソニウム塩と反応さ
せ、２−クロロスチレンオキサイドとし、更に該２−ク
ロロスチレンオキサイドをハロゲン化水素付加し、一般
式（III） （式中、Ｘはハロゲン原子を示す。） で表される化合物とし、該化合物（III）をハロゲン化
若しくは一般式（II） R1・Ｘ （II） （式中、R1はメシル基又はトシル基を示し、Ｘは前記に
同じ。） で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
（Ｉ） （式中、Ｒはハロゲン原子、メシルオキシ基又はトシル
オキシ基を示し、Ｘは前記に同じ。） で表されるハロゲン化エチルベンゼンの製造法。(1) 2-chlorobenzaldehyde is reacted with an alkylsulfonium salt or an alkylsulfoxonium salt to give 2-chlorostyrene oxide, and the 2-chlorostyrene oxide is hydrogenated to give a compound of the general formula (III) Wherein X represents a halogen atom. The compound (III) is halogenated or represented by the general formula (II) R 1 .X (II) (wherein R 1 is a mesyl group or X is the same as defined above, and X is the same as defined above.) (Wherein, R represents a halogen atom, a mesyloxy group or a tosyloxy group, and X is the same as described above).
化水素付加し、一般式（III） （式中、Ｘはハロゲン原子を示す。） で表される化合物とし、該化合物（III）をハロゲン化
若しくは一般式（II） R1・Ｘ （II） （式中、R1はメシル基又はトシル基を示し、Ｘは前記に
同じ。） で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
（Ｉ） （式中、Ｒはハロゲン原子、メシルオキシ基又はトシル
オキシ基を示し、Ｘは前記に同じ。） で表される請求項第１項記載のハロゲン化エチルベンゼ
ンの製造法。2. A compound of the formula (III) obtained by hydrogenating 2-chlorostyrene oxide. Wherein X represents a halogen atom. The compound (III) is halogenated or represented by the general formula (II) R 1 .X (II) (wherein R 1 is a mesyl group or X is the same as defined above, and X is the same as defined above.) (Wherein, R represents a halogen atom, a mesyloxy group or a tosyloxy group, and X is the same as described above.).
ンゼンである請求項第１項又は第２項記載の化合物。3. The compound according to claim 1, which is α, 2-dichloro-β-hydroxyethylbenzene.
ルホニウム塩又はアルキルスルホキソニウム塩と反応さ
せ、２−クロロスチレンオキサイドとし、次いで該２−
クロロスチレンオキサイドをハロゲン化水素付加し、一
般式（III） （式中、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物
とし、該化合物（III）をハロゲン化することを特徴と
する一般式（Ｉ−１） （式中、Ｘは同一又は異なっても良いハロゲン原子を示
す。） で表されるハロゲン化エチルベンゼンの製造法。4. The reaction of 2-chlorobenzaldehyde with an alkylsulfonium salt or an alkylsulfoxonium salt to form 2-chlorostyrene oxide,
Hydrochloride of chlorostyrene oxide has the general formula (III) Wherein X represents a halogen atom, wherein the compound (III) is halogenated. (Wherein, X represents a halogen atom which may be the same or different.) A method for producing a halogenated ethylbenzene represented by the formula:
化することを特徴とする一般式（Ｉ−１） （式中、Ｘは同一又は異なっても良いハロゲン原子を示
す。） で表される請求項第４項記載のハロゲン化エチルベンゼ
ンの製造法。5. A compound of the general formula (I-1), wherein 2-chlorostyrene oxide is halogenated. (X is a halogen atom which may be the same or different.) The method for producing halogenated ethylbenzene according to claim 4, wherein X is a halogen atom which may be the same or different.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63271391A JP2583791B2 (en) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | Production method of halogenated ethylbenzene |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63271391A JP2583791B2 (en) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | Production method of halogenated ethylbenzene |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02117630A JPH02117630A (en) | 1990-05-02 |
| JP2583791B2 true JP2583791B2 (en) | 1997-02-19 |
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ID=17499415
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63271391A Expired - Lifetime JP2583791B2 (en) | 1988-10-27 | 1988-10-27 | Production method of halogenated ethylbenzene |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2583791B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114634492A (en) * | 2022-04-14 | 2022-06-17 | 浙江东亚药业股份有限公司 | Preparation method of lanoconazole |
-
1988
- 1988-10-27 JP JP63271391A patent/JP2583791B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114634492A (en) * | 2022-04-14 | 2022-06-17 | 浙江东亚药业股份有限公司 | Preparation method of lanoconazole |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02117630A (en) | 1990-05-02 |
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