JP2571740B2 - 真空紫外光による加工装置および加工方法 - Google Patents
真空紫外光による加工装置および加工方法Info
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- JP2571740B2 JP2571740B2 JP4238532A JP23853292A JP2571740B2 JP 2571740 B2 JP2571740 B2 JP 2571740B2 JP 4238532 A JP4238532 A JP 4238532A JP 23853292 A JP23853292 A JP 23853292A JP 2571740 B2 JP2571740 B2 JP 2571740B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光を利用した
加工装置および加工方法に係り、特に、真空紫外領域に
光の吸収が存在する物質の加工に好適な真空紫外光によ
る加工装置および加工方法に関する。
加工装置および加工方法に係り、特に、真空紫外領域に
光の吸収が存在する物質の加工に好適な真空紫外光によ
る加工装置および加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、レーザー光を利用して各種の
物質を加工することが行われている。このようなレーザ
ー光として真空紫外光を利用した場合次のような利点が
ある。 光の波長が短いことから高い加工精度が得られる。
物質を加工することが行われている。このようなレーザ
ー光として真空紫外光を利用した場合次のような利点が
ある。 光の波長が短いことから高い加工精度が得られる。
【０００３】 加工対象物質の光の吸収率の高い波長
を選択すると、光子のエネルギーが高いことから光によ
って物質を構成する分子の結合を切ることができ、熱加
工に見られるような損傷を与えることなく物質を加工で
きる。
を選択すると、光子のエネルギーが高いことから光によ
って物質を構成する分子の結合を切ることができ、熱加
工に見られるような損傷を与えることなく物質を加工で
きる。
【０００４】 光化学反応を利用した加工が可能であ
る。
る。
【０００５】従来、このような加工用の真空紫外光の実
用可能なコヒーレント光源としては、ＡｒＦレーザー
（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2 レーザー（波長１５７ｎｍ）
の２種がある。
用可能なコヒーレント光源としては、ＡｒＦレーザー
（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2 レーザー（波長１５７ｎｍ）
の２種がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
においては、実用可能な加工用の真空紫外光の光源が２
種類（２波長）しかなく、加工対象となる物質や加工方
法が限定されるという問題があった。
においては、実用可能な加工用の真空紫外光の光源が２
種類（２波長）しかなく、加工対象となる物質や加工方
法が限定されるという問題があった。
【０００７】また、このような真空紫外光の波長域を拡
大する方法として、完成度の高い紫外レーザーを非線形
波長変換法で真空紫外光に変換する方法が知られてい
る。しかしながら、この方法の場合、得られる真空紫外
光の出力が数キロワット程度と弱いこと、また、得られ
る真空紫外光ビームの空間強度分布（ビーム形状）がビ
ーム中心部の強度が弱いドーナツ状になる等の問題があ
り、加工用としては用いられていない。
大する方法として、完成度の高い紫外レーザーを非線形
波長変換法で真空紫外光に変換する方法が知られてい
る。しかしながら、この方法の場合、得られる真空紫外
光の出力が数キロワット程度と弱いこと、また、得られ
る真空紫外光ビームの空間強度分布（ビーム形状）がビ
ーム中心部の強度が弱いドーナツ状になる等の問題があ
り、加工用としては用いられていない。
【０００８】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、加工用に適したより多くの真空紫外光を
得ることができ、高精度かつ多彩な加工を行うことので
きる真空紫外光による加工装置および加工方法を提供し
ようとするものである。
されたもので、加工用に適したより多くの真空紫外光を
得ることができ、高精度かつ多彩な加工を行うことので
きる真空紫外光による加工装置および加工方法を提供し
ようとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の真空紫外光によ
る加工装置は、励起光を発生させるレーザー光源と、前
記レーザー光源からの前記励起光を波長変換する波長変
換物質が充填された波長変換セルと、前記波長変換セル
から放出される真空紫外光を、内部に収容した被加工物
に照射して加工を行う真空チャンバと、前記真空紫外光
を観察可能として、該真空紫外光のビーム形状をモニタ
するためのビームモニタ機構と、前記波長変換セル内の
圧力を変更し、前記真空紫外光のビームを加工に適する
よう調節するための圧力調節機構とを具備したことを特
徴とする。
る加工装置は、励起光を発生させるレーザー光源と、前
記レーザー光源からの前記励起光を波長変換する波長変
換物質が充填された波長変換セルと、前記波長変換セル
から放出される真空紫外光を、内部に収容した被加工物
に照射して加工を行う真空チャンバと、前記真空紫外光
を観察可能として、該真空紫外光のビーム形状をモニタ
するためのビームモニタ機構と、前記波長変換セル内の
圧力を変更し、前記真空紫外光のビームを加工に適する
よう調節するための圧力調節機構とを具備したことを特
徴とする。
【００１０】また、請求項２記載の本発明の真空紫外光
による加工装置は、上記構成に加えて、前記真空紫外光
の出力を測定するための出力測定機構と、前記真空紫外
光を前記ビームモニタ機構および前記出力測定機構に入
射させるビームスプリッターとを具備したことを特徴と
する。
による加工装置は、上記構成に加えて、前記真空紫外光
の出力を測定するための出力測定機構と、前記真空紫外
光を前記ビームモニタ機構および前記出力測定機構に入
射させるビームスプリッターとを具備したことを特徴と
する。
【００１１】また、本発明の真空紫外光による加工方法
は、レーザー光源からの励起光を波長変換物質が充填さ
れた波長変換セルに入射させて真空紫外光を発生させ、
この真空紫外光を被加工物に照射して加工を行う加工方
法であって、予め、前記真空紫外光を可視化してそのビ
ーム形状をモニタしつつ、前記波長変換セル内の波長変
換物質の圧力、および／または、前記レーザー光源から
の励起光の状態を変更し、前記真空紫外光のビーム形状
を加工に適した形状に調節しておくことを特徴とする。
は、レーザー光源からの励起光を波長変換物質が充填さ
れた波長変換セルに入射させて真空紫外光を発生させ、
この真空紫外光を被加工物に照射して加工を行う加工方
法であって、予め、前記真空紫外光を可視化してそのビ
ーム形状をモニタしつつ、前記波長変換セル内の波長変
換物質の圧力、および／または、前記レーザー光源から
の励起光の状態を変更し、前記真空紫外光のビーム形状
を加工に適した形状に調節しておくことを特徴とする。
【００１２】 本発明の真空紫外光による加工方法は、
真空紫外領域に光の吸収が存在する物質、例えばポリテ
トラフルオロエチレン「テフロン（登録商標）」、石英
ガラス等からなる被加工物の加工に好適である。
真空紫外領域に光の吸収が存在する物質、例えばポリテ
トラフルオロエチレン「テフロン（登録商標）」、石英
ガラス等からなる被加工物の加工に好適である。
【００１３】
【作用】高強度のレーザー光を水素ガス等のラマン活性
な媒質に入力すると、誘導ラマン散乱によりラマン媒質
特有のエネルギー量の整数倍だけ波長のシフトしたコヒ
ーレント光が発生する。この時、入射したレーザー光
（励起光）の周波数をωin、エネルギーのシフト量をω
r とすると短波長側で得られる変換光の周波数ω
ou t は、次式で与えられる。
な媒質に入力すると、誘導ラマン散乱によりラマン媒質
特有のエネルギー量の整数倍だけ波長のシフトしたコヒ
ーレント光が発生する。この時、入射したレーザー光
（励起光）の周波数をωin、エネルギーのシフト量をω
r とすると短波長側で得られる変換光の周波数ω
ou t は、次式で与えられる。
【００１４】 ωout ＝ωin＋Ｎωr （Ｎは正の整数） このことから、反ストークス誘導ラマン散乱により、真
空紫外領域に多くの波長成分の変換光を発生することが
できる。この時、変換効率は、位相整合条件と呼ばれる
変換に関与する光子の運動量の保存則に強く影響を受け
る。
空紫外領域に多くの波長成分の変換光を発生することが
できる。この時、変換効率は、位相整合条件と呼ばれる
変換に関与する光子の運動量の保存則に強く影響を受け
る。
【００１５】反ストークス誘導ラマン散乱によって発生
する真空紫外光を加工に適用するためには、高い光強度
が必要である。このような光強度を反ストークス光によ
って達成するためには、高出力化を図ることと、十分集
光できる空間強度分布（ビーム形状）の優れたビームを
発生させることが必要となるが、従来、このような反ス
トークス光を得ることは困難とされていた。
する真空紫外光を加工に適用するためには、高い光強度
が必要である。このような光強度を反ストークス光によ
って達成するためには、高出力化を図ることと、十分集
光できる空間強度分布（ビーム形状）の優れたビームを
発生させることが必要となるが、従来、このような反ス
トークス光を得ることは困難とされていた。
【００１６】しかしながら、本発明者等が鋭意研究を重
ねた結果、次のような知見を得ることができた。
ねた結果、次のような知見を得ることができた。
【００１７】すなわち、反ストークス光のビーム形状
は、出力（変換効率）と同様に、反ストークス誘導ラマ
ン散乱過程における位相整合条件に強く影響を受ける。
この位相整合条件は、励起レーザー光の状態（励起レー
ザー光の波長、集光状態等）と、ラマン媒質の状態（ラ
マン媒質の種類、圧力等）によって変化し、これらの条
件を調節することにより、加工に最適なビーム形状を得
ることができる。
は、出力（変換効率）と同様に、反ストークス誘導ラマ
ン散乱過程における位相整合条件に強く影響を受ける。
この位相整合条件は、励起レーザー光の状態（励起レー
ザー光の波長、集光状態等）と、ラマン媒質の状態（ラ
マン媒質の種類、圧力等）によって変化し、これらの条
件を調節することにより、加工に最適なビーム形状を得
ることができる。
【００１８】具体的には、励起レーザーおよびラマン媒
質に応じて、蛍光板等によって真空紫外光のビーム形状
をモニターしながら、集光光学系およびラマン媒質の圧
力を調整することにより、加工に最適なビーム形状を得
ることができる。
質に応じて、蛍光板等によって真空紫外光のビーム形状
をモニターしながら、集光光学系およびラマン媒質の圧
力を調整することにより、加工に最適なビーム形状を得
ることができる。
【００１９】なお、ある励起レーザー光の状態におい
て、ラマン媒質の圧力を変化させると、ある圧力で出力
は最大となる。これは、低圧側では、利得が減少し、高
圧側では位相不整合量が増加するためである。ところ
が、このように出力が最大となる条件と、上述した加工
に最適なビーム形状を得ることができる条件とは、必ず
しも一致しない。このため、ビーム形状と出力とを同時
にモニターしつつラマン媒質の圧力等を調整することに
より、加工に最適なビームを得ることが好ましい。ここ
で、ラマン媒質としては、水素、重水素を用いるのが好
ましい。
て、ラマン媒質の圧力を変化させると、ある圧力で出力
は最大となる。これは、低圧側では、利得が減少し、高
圧側では位相不整合量が増加するためである。ところ
が、このように出力が最大となる条件と、上述した加工
に最適なビーム形状を得ることができる条件とは、必ず
しも一致しない。このため、ビーム形状と出力とを同時
にモニターしつつラマン媒質の圧力等を調整することに
より、加工に最適なビームを得ることが好ましい。ここ
で、ラマン媒質としては、水素、重水素を用いるのが好
ましい。
【００２０】このようにして、本願発明では、真空紫外
領域の多くの波長において、加工に適用できるレベルの
強度を持つレーザービームを得ることができる。
領域の多くの波長において、加工に適用できるレベルの
強度を持つレーザービームを得ることができる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
【００２２】図１は、本発明の一実施例の真空紫外光に
よる加工装置の構成を示すもので、同図において１は励
起光を発生するためのレーザー光源である。このレーザ
ー光源１から発せられたレーザー光は、ミラー２、集光
レンズ３を介してラマン媒質が充填されたラマンセル４
に入射するよう構成されている。このラマンセル４に
は、ガス圧力調節機５が配設されており、ラマンセル４
内の圧力を調節可能に構成されている。
よる加工装置の構成を示すもので、同図において１は励
起光を発生するためのレーザー光源である。このレーザ
ー光源１から発せられたレーザー光は、ミラー２、集光
レンズ３を介してラマン媒質が充填されたラマンセル４
に入射するよう構成されている。このラマンセル４に
は、ガス圧力調節機５が配設されており、ラマンセル４
内の圧力を調節可能に構成されている。
【００２３】上記ラマンセル４から後のビーム光路部分
は、真空に保持されるよう構成されている。そして、ラ
マンセル４で発生した真空紫外光は、この真空雰囲気下
に配置された６０度分散プリズム６によって波長選択さ
れ、真空容器７内のレンズ８、スリット９、マスク１０
を介して、試料台１１に保持された試料１２に照射され
るよう構成されている。
は、真空に保持されるよう構成されている。そして、ラ
マンセル４で発生した真空紫外光は、この真空雰囲気下
に配置された６０度分散プリズム６によって波長選択さ
れ、真空容器７内のレンズ８、スリット９、マスク１０
を介して、試料台１１に保持された試料１２に照射され
るよう構成されている。
【００２４】この試料台１１は、図中矢印で示すよう
に、ラマンセル４からの真空紫外光の光路内と光路外の
間を移動可能に構成されており、試料台１１の後方に
は、ビームスプリッター１３が配設されている。そし
て、試料台１１を光路外に移動させた状態では、ラマン
セル４からの真空紫外光が、ビームスプリッター１３に
入射し、ここで２つに分けられて、ビームモニタ機構と
しての蛍光板１４と、ビーム出力を検出する出力検出機
１５に入射するよう構成されている。なお、ビームモニ
タ機構としては、蛍光板１４の換わりに、ＣＣＤカメラ
等を用いることもできる。
に、ラマンセル４からの真空紫外光の光路内と光路外の
間を移動可能に構成されており、試料台１１の後方に
は、ビームスプリッター１３が配設されている。そし
て、試料台１１を光路外に移動させた状態では、ラマン
セル４からの真空紫外光が、ビームスプリッター１３に
入射し、ここで２つに分けられて、ビームモニタ機構と
しての蛍光板１４と、ビーム出力を検出する出力検出機
１５に入射するよう構成されている。なお、ビームモニ
タ機構としては、蛍光板１４の換わりに、ＣＣＤカメラ
等を用いることもできる。
【００２５】本実施例では、レーザー光源１としてＮ
ｄ：ＹＡＧレーザーを用い、その第４高調波を励起光と
して用いた。また、ラマン媒質としては水素を用い、得
られた変換光から６０度分散プリズム６によって波長１
６０ｎｍの真空紫外光を取り出した。
ｄ：ＹＡＧレーザーを用い、その第４高調波を励起光と
して用いた。また、ラマン媒質としては水素を用い、得
られた変換光から６０度分散プリズム６によって波長１
６０ｎｍの真空紫外光を取り出した。
【００２６】そして、まず試料台１１を真空紫外光の光
路外に移動させた状態で、ラマンセル４からの真空紫外
光を、蛍光板１４および出力検出機１５に入射させ、そ
のビーム形状（空間強度分布）を蛍光板１４によって可
視化してモニターするとともに、出力検出機１５で出力
を測定しつつ、ガス圧力調節機５によってラマンセル４
内の圧力を調節した。
路外に移動させた状態で、ラマンセル４からの真空紫外
光を、蛍光板１４および出力検出機１５に入射させ、そ
のビーム形状（空間強度分布）を蛍光板１４によって可
視化してモニターするとともに、出力検出機１５で出力
を測定しつつ、ガス圧力調節機５によってラマンセル４
内の圧力を調節した。
【００２７】この時、蛍光板１４によって観察された真
空紫外光のビーム形状の変化の様子を図２に模式的に示
す。同図に示すように、ラマンセル４内のラマン媒質の
圧力を変化させると、ラマンセル４からの真空紫外光の
ビーム形状が変化し、ラマンセル４内のラマン媒質の圧
力が１．５〜３．０ｋｇ／ｃｍ2 の比較的低圧域ではほ
ぼ円形のビーム形状となり、７．０〜９．０ｋｇ／ｃｍ
2 の比較的高圧域では環状（ドーナツ状）のビーム形状
となり、その中間の５．０ｋｇ／ｃｍ2 付近では、これ
らの中間的な形状となっている。
空紫外光のビーム形状の変化の様子を図２に模式的に示
す。同図に示すように、ラマンセル４内のラマン媒質の
圧力を変化させると、ラマンセル４からの真空紫外光の
ビーム形状が変化し、ラマンセル４内のラマン媒質の圧
力が１．５〜３．０ｋｇ／ｃｍ2 の比較的低圧域ではほ
ぼ円形のビーム形状となり、７．０〜９．０ｋｇ／ｃｍ
2 の比較的高圧域では環状（ドーナツ状）のビーム形状
となり、その中間の５．０ｋｇ／ｃｍ2 付近では、これ
らの中間的な形状となっている。
【００２８】このようなビーム形状の変化を、ビームの
空間強度分布として、縦軸をビーム強度、横軸をビーム
位置とした図３のグラフに示すと、ラマンセル４内のラ
マン媒質の圧力が１．５ｋｇ／ｃｍ2 付近では、図中一
点鎖線Ａで示すように、空間強度分布がビーム中心をピ
ークとするガウス分布状の分布となっており、圧力が増
加するに従って図中実線Ｂで示すようにこの分布が広が
り、圧力が７．０ｋｇ／ｃｍ2 以上となると、図中点線
Ｃで示すように２つのピークを有するビーム中心の出力
が低下した分布となる。ここで、加工に適したビームと
しては、図３の一点鎖線Ａまたは実線Ｂで示すビームと
なる。
空間強度分布として、縦軸をビーム強度、横軸をビーム
位置とした図３のグラフに示すと、ラマンセル４内のラ
マン媒質の圧力が１．５ｋｇ／ｃｍ2 付近では、図中一
点鎖線Ａで示すように、空間強度分布がビーム中心をピ
ークとするガウス分布状の分布となっており、圧力が増
加するに従って図中実線Ｂで示すようにこの分布が広が
り、圧力が７．０ｋｇ／ｃｍ2 以上となると、図中点線
Ｃで示すように２つのピークを有するビーム中心の出力
が低下した分布となる。ここで、加工に適したビームと
しては、図３の一点鎖線Ａまたは実線Ｂで示すビームと
なる。
【００２９】そこで、蛍光板１４によって観察されるビ
ーム形状がほぼ円形となるようにガス圧力調節機５によ
ってラマンセル４内のラマン媒質の圧力を調節した。な
お、ラマンセル４内のラマン媒質の圧力を必要以上に低
下させると、利得が減少し、出力が低下してしまうの
で、この時、同時に出力検出機１５によってビーム出力
をモニタし、ビーム形状およびビーム出力が最適化され
るように圧力調節を行った。
ーム形状がほぼ円形となるようにガス圧力調節機５によ
ってラマンセル４内のラマン媒質の圧力を調節した。な
お、ラマンセル４内のラマン媒質の圧力を必要以上に低
下させると、利得が減少し、出力が低下してしまうの
で、この時、同時に出力検出機１５によってビーム出力
をモニタし、ビーム形状およびビーム出力が最適化され
るように圧力調節を行った。
【００３０】 この後、試料台１１をビームの光路内に
移動させ、２５μｍ×２５μｍの矩形状開口を有するニ
ッケル製マスク１０（厚さ１００μｍ、縦１０ｍｍ、横
１０ｍｍ）を介して、ポリテトラフルオロエチレン「テ
フロン（登録商標）」製の板（厚さ２ｍｍ、縦１０ｍ
ｍ、横１０ｍｍ）からなる試料１２に、上述のようにし
て最適化した真空紫外光のビームを照射した。
移動させ、２５μｍ×２５μｍの矩形状開口を有するニ
ッケル製マスク１０（厚さ１００μｍ、縦１０ｍｍ、横
１０ｍｍ）を介して、ポリテトラフルオロエチレン「テ
フロン（登録商標）」製の板（厚さ２ｍｍ、縦１０ｍ
ｍ、横１０ｍｍ）からなる試料１２に、上述のようにし
て最適化した真空紫外光のビームを照射した。
【００３１】 これにより、波長１６０ｎｍの真空紫外
光ビームによるレーザーアブレーションにより、テフロ
ン（登録商標）製の試料１２の２５μｍ×２５μｍの矩
形状の領域に対してエッチング加工が行われる。照射後
の試料１２を電子顕微鏡で観察したところ、加工縁部等
に熱的な損傷のない良好な形状の矩形状の凹部が形成さ
れており、良好な加工が施されていることが確認され
た。
光ビームによるレーザーアブレーションにより、テフロ
ン（登録商標）製の試料１２の２５μｍ×２５μｍの矩
形状の領域に対してエッチング加工が行われる。照射後
の試料１２を電子顕微鏡で観察したところ、加工縁部等
に熱的な損傷のない良好な形状の矩形状の凹部が形成さ
れており、良好な加工が施されていることが確認され
た。
【００３２】次に、反ストークス誘導ラマン散乱によっ
て発生した真空紫外光の全波長を、石英ガラス板（厚さ
１ｍｍ、縦１０ｍｍ、横１０ｍｍ）からなる試料１２に
照射し、上述した実施例と同様にして加工を行った。
て発生した真空紫外光の全波長を、石英ガラス板（厚さ
１ｍｍ、縦１０ｍｍ、横１０ｍｍ）からなる試料１２に
照射し、上述した実施例と同様にして加工を行った。
【００３３】そして、加工を施した試料を、触針法によ
るスタイラス・プロファイル・モニターで測定した。こ
の測定結果を、縦軸を深さ、横軸を面内位置とした図４
に示す。同図に示すように、石英ガラス板からなる試料
１２には深さ約０．７μｍの凹部が形成されており、こ
の凹部内側面の傾斜幅は３μｍ以内とシャープな開口エ
ッジ部が得られ、また凹部底面も平坦な良好な加工が施
されていることが確認できた。一方、ＹＡＧの４次高調
波である２６６ｎｍの波長のみで加工を行うと、加工形
状が悪化し、さらに加工速度も半減する。このことより
本真空紫外光を用いることの優位性が示された。
るスタイラス・プロファイル・モニターで測定した。こ
の測定結果を、縦軸を深さ、横軸を面内位置とした図４
に示す。同図に示すように、石英ガラス板からなる試料
１２には深さ約０．７μｍの凹部が形成されており、こ
の凹部内側面の傾斜幅は３μｍ以内とシャープな開口エ
ッジ部が得られ、また凹部底面も平坦な良好な加工が施
されていることが確認できた。一方、ＹＡＧの４次高調
波である２６６ｎｍの波長のみで加工を行うと、加工形
状が悪化し、さらに加工速度も半減する。このことより
本真空紫外光を用いることの優位性が示された。
【００３４】なお、従来のレーザー光による石英ガラス
の加工では、ほとんどの場合、照射部が溶融してしま
い、所望形状の加工を行うことができず、加工精度が非
常に悪かった。
の加工では、ほとんどの場合、照射部が溶融してしま
い、所望形状の加工を行うことができず、加工精度が非
常に悪かった。
【００３５】このように、本実施例では、加工用に適し
たより多くの真空紫外光を得ることができ、高精度かつ
多彩な加工を行うことができた。なお、縦軸を出力エネ
ルギー、横軸を波長とした図５のグラフに、本実施例の
加工装置によって得られたレーザー光の波長とその出力
エネルギーを示す。
たより多くの真空紫外光を得ることができ、高精度かつ
多彩な加工を行うことができた。なお、縦軸を出力エネ
ルギー、横軸を波長とした図５のグラフに、本実施例の
加工装置によって得られたレーザー光の波長とその出力
エネルギーを示す。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の真空紫外
光による加工装置および加工方法によれば、加工用に適
したより多くの真空紫外光を得ることができ、高精度か
つ多彩な加工を行うことができる。
光による加工装置および加工方法によれば、加工用に適
したより多くの真空紫外光を得ることができ、高精度か
つ多彩な加工を行うことができる。
【図１】本発明の一実施例の真空紫外光による加工装置
の構成を示す図。
の構成を示す図。
【図２】蛍光板によって観察されたビーム形状の変化を
説明するための図。
説明するための図。
【図３】ビームの空間強度分布の違いを説明するための
図。
図。
【図４】加工を行った石英ガラス板のスタイラス・プロ
ファイル・モニターの測定結果を示す図。
ファイル・モニターの測定結果を示す図。
【図５】図１の装置によって得られた各波長の真空紫外
光の出力を示す図。
光の出力を示す図。
１ レーザー光源 ２ ミラー ３ 集光レンズ ４ ラマンセル ５ ガス圧力調節機 ６ ６０度分散プリズム ７ 真空容器 ８ レンズ ９ スリット １０ マスク １１ 試料台 １２ 試料 １３ ビームスプリッター １４ 蛍光板 １５ 出力検出機
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−320085（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】 励起光を発生させるレーザー光源と、 前記レーザー光源からの前記励起光を波長変換する波長
変換物質が充填された波長変換セルと、 前記波長変換セルから放出される真空紫外光を、内部に
収容した被加工物に照射して加工を行う真空チャンバ
と、 前記真空紫外光を観察可能として、該真空紫外光のビー
ム形状をモニタするためのビームモニタ機構と、 前記波長変換セル内の圧力を変更し、前記真空紫外光の
ビームを加工に適するよう調節するための圧力調節機構
とを具備したことを特徴とする真空紫外光による加工装
置。 - 【請求項２】 励起光を発生させるレーザー光源と、 前記レーザー光源からの前記励起光を波長変換する波長
変換物質が充填された波長変換セルと、 前記波長変換セルから放出される真空紫外光を、内部に
収容した被加工物に照射して加工を行う真空チャンバ
と、 前記真空紫外光を観察可能として、該真空紫外光のビー
ム形状をモニタするためのビームモニタ機構と、 前記真空紫外光の出力を測定するための出力測定機構
と、 前記真空紫外光を前記ビームモニタ機構および前記出力
測定機構に入射させるビームスプリッターと、 前記波長変換セル内の圧力を変更し、前記真空紫外光の
ビームを加工に適するように調節するための圧力調節機
構とを具備したことを特徴とする真空紫外光による加工
装置。 - 【請求項３】 レーザー光源からの励起光を波長変換物
質が充填された波長変換セルに入射させて真空紫外光を
発生させ、この真空紫外光を被加工物に照射して加工を
行う加工方法であって、 予め、前記真空紫外光を可視化してそのビーム形状をモ
ニタしつつ、前記波長変換セル内の波長変換物質の圧
力、および／または、前記レーザー光源からの励起光の
状態を変更し、前記真空紫外光のビーム形状を加工に適
した形状に調節しておくことを特徴とする真空紫外光に
よる加工方法。 - 【請求項４】 レーザー光源からの励起光を波長変換物
質が充填された波長変換セルに入射させて真空紫外光を
発生させ、この真空紫外光をポリテトラフルオロエチレ
ンからなる被加工物に照射して加工を行う加工方法であ
って、 予め、前記真空紫外光を可視化してそのビーム形状を観
察しつつ、前記波長変換セル内の波長変換物質の圧力、
および／または、前記レーザー光源からの励起光の状態
を変更し、前記真空紫外光のビーム形状を加工に適した
形状に調節しておくことを特徴とする真空紫外光による
加工方法。 - 【請求項５】 レーザー光源からの励起光を波長変換物
質が充填された波長変換セルに入射させて真空紫外光を
発生させ、この真空紫外光を石英ガラスからなる被加工
物に照射して加工を行う加工方法であって、 予め、前記真空紫外光を可視化してそのビーム形状を観
察しつつ、前記波長変換セル内の波長変換物質の圧力、
および／または、前記レーザー光源からの励起光の状態
を変更し、前記真空紫外光のビーム形状を加工に適した
形状に調節しておくことを特徴とする真空紫外光による
加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4238532A JP2571740B2 (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 真空紫外光による加工装置および加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4238532A JP2571740B2 (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 真空紫外光による加工装置および加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0679478A JPH0679478A (ja) | 1994-03-22 |
| JP2571740B2 true JP2571740B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=17031654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4238532A Expired - Fee Related JP2571740B2 (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 真空紫外光による加工装置および加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2571740B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000205966A (ja) * | 1999-01-20 | 2000-07-28 | Komatsu Ltd | 真空紫外レ―ザの波長測定装置 |
| WO2016033343A1 (en) * | 2014-08-27 | 2016-03-03 | Nuburu, Inc. | Applications, methods and systems for materials processing with visible raman laser |
-
1992
- 1992-09-07 JP JP4238532A patent/JP2571740B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0679478A (ja) | 1994-03-22 |
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